JP2007513943A - 光学的に純粋なフェネチルアミン誘導体の調製方法 - Google Patents

光学的に純粋なフェネチルアミン誘導体の調製方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2007513943A
JP2007513943A JP2006543742A JP2006543742A JP2007513943A JP 2007513943 A JP2007513943 A JP 2007513943A JP 2006543742 A JP2006543742 A JP 2006543742A JP 2006543742 A JP2006543742 A JP 2006543742A JP 2007513943 A JP2007513943 A JP 2007513943A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
salt
aminosulfonyl
methoxy
phenyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006543742A
Other languages
English (en)
Inventor
セオン−ホアン チョー
ドン−クウォン リン
クワン ハイエ リー
ヨン−シク ヤン
チューン−シル パーク
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
CJ Corp
Original Assignee
CJ Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by CJ Corp filed Critical CJ Corp
Publication of JP2007513943A publication Critical patent/JP2007513943A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C303/00Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
    • C07C303/36Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of amides of sulfonic acids
    • C07C303/40Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of amides of sulfonic acids by reactions not involving the formation of sulfonamide groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C303/00Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
    • C07C303/42Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C311/00Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C311/30Sulfonamides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by singly-bound nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C311/37Sulfonamides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by singly-bound nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups having the sulfur atom of at least one of the sulfonamide groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07BGENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
    • C07B2200/00Indexing scheme relating to specific properties of organic compounds
    • C07B2200/07Optical isomers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

光学的に純粋な式1の化合物またはその塩の調製方法を提供する。本方法は、クロロ酢酸、ブロモ酢酸、フルオロ酢酸、ヨード酢酸、α−ハロゲノ酢酸無水物、及びα−ハロゲノアセチルハライドからなる群より選択された化合物と、(R)−2−(4−メトキシ−3−アミノスルホニル−フェニル)−1−メチルエチルアミンまたはその塩とを塩基またはアシル化剤の存在下で反応させる工程を含む。

Description

本発明は、タムスロシンまたはその塩の調製用中間体として有用な光学的に純粋なフェネチルアミン誘導体の調製方法及びそれを利用したタムスロシンまたはその塩の調製方法に関する。
タムスロシンまたはその塩(例えば、塩酸塩)は、α−アドレナリン性遮断作用を表し、陽性前立腺肥大症、抗高血圧剤及び鬱血性心不全の治療剤として有用に使用される薬物として知られている。タムスロシンの化学名は、(R)−5−{2−[2−(2−エトキシフェノキシ)エチルアミノ]−プロピル}−2−メトキシベンゼンスルホンアミドであって、下記構造式で確認できるように、不斉炭素を含有する化合物であり、したがって、光学的に純粋な形態、すなわち(R)−形態が要求される。
Figure 2007513943
米国特許第4,217,305号及び第4,373,106号は、下記反応式1のように、ラセミ化合物を利用してタムスロシンまたはその塩酸塩の調製方法を開示した。しかし、これらの方法は、アキラル物質を出発物質として使用することによって、ラセミック形態の化合物が得られるので、これを単一異性体物質として分離するのは難しく、特に、純粋な単一異性体化合物を50%以上得られないため、収率が低下するという短所がある。
反応式1
Figure 2007513943
また、韓国特許公開第1994−7746号は、下記反応式2のように、キラルアミンを利用して、タムスロシンまたはその塩酸塩の調製方法を開示した。しかし、前記調製方法の主反応であるN−アルキル化反応工程においては、反応物が1次アミンであるので、全てアルキル化反応のような副反応が伴い、また、スルホンアミド基にもアルキル化反応が進行して副反応が発生しうるので、反応収率はさらに低下し、副反応物を除去する工程を行わねばならないという短所がある。
反応式2
Figure 2007513943
一方、特開平2−295967号及び2−306958号は、下記反応式3のように、アミノスルホニル基を含んでいない2−(4−メトキシフェニル)−1−メチルエチルアミンを出発物質として、塩化ブロモアセチルなどの化合物を反応させてN−アルキル化反応を行い、アミノスルホニル基を導入して中間体を調製し、これをエトキシフェノールと反応させた後に還元するという、タムスロシンまたはその塩酸塩の調製方法を開示した。
反応式3
Figure 2007513943
しかし、前記調製方法は、反応性の大きな酸クロライドなどの反応物を使用することによって、副反応を防止するためにアミノスルホニル基を含んでいない出発物質を使用し、別途にアミノスルホニル基を導入するので、反応工程が長くなるという短所がある。
したがって、副反応を最小化し、ラセミ化合物の生成を防止でき、工程の収率を極大化できる新たな調製方法が当業界に要求される。
本発明者らは、タムスロシンまたはその塩酸塩の改善された調製方法を開発するために研究を繰り返した結果、ハロゲノ酢酸(halogenoacetic acid)、α−ハロゲノ酢酸無水物またはα−ハロゲノアセチル(halogenoacetyl)ハライドを、アミノスルホニル基及びメトキシ基をいずれも有する光学的に純粋な化合物と反応させたとき、別途のアミノスルホニル基の導入工程が不要であり、かつ高収率及び光学的純度でタムスロシンまたはその塩酸塩の調製用の中間体として有用な化合物を調製できるということを見出し、本発明を完成した。
したがって、本発明は、タムスロシンまたはその塩の調製用の中間体として有用な光学的に純粋なフェネチルアミン誘導体の調製方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、前記調製方法により調製されたフェネチルアミン誘導体からタムスロシンまたはその塩の調製方法を提供することを目的とする。
本発明の一態様によって、クロロ酢酸、ブロモ酢酸、フルオロ酢酸、ヨード酢酸、α−ハロゲノ酢酸無水物、及びα−ハロゲノアセチルハライドからなる群より選択された化合物と、(R)−2−(4−メトキシ−3−アミノスルホニル−フェニル)−1−メチルエチルアミンまたはその塩とを塩基またはアシル化剤の存在下で反応させる工程を含む、光学的に純粋な式1の化合物またはその塩の調製方法が提供される:
Figure 2007513943
式中、Xは、ハロゲンである。
(R)−2−(4−メトキシ−3−アミノスルホニル−フェニル)−1−メチルエチルアミンまたはその塩は、商業的に購入可能である。また、クロロ酢酸、ブロモ酢酸、フルオロ酢酸、ヨード酢酸なども商業的に購入可能である。α−ハロゲノ酢酸無水物は、望ましくは、α−ハロゲノ酢酸及びカルボン酸との無水物である。α−ハロゲノ酢酸無水物は、α−ハロゲノ酢酸、例えば、フルオロ酢酸、クロロ酢酸、ブロモ酢酸またはヨード酢酸とカルボン酸との反応によって調製されうる。本発明のα−ハロゲノ酢酸無水物は、反応物として提供されるか、または反応中にインサイチューで調製されうる。例えば、α−ハロゲノ酢酸無水物は、α−ハロゲノ酢酸をクロロギ酸メチル、クロロギ酸エチル、クロロギ酸ブチル、クロロギ酸ベンジル及び塩化ピバロイルからなる群より選択されるカルボン酸を、不活性溶媒下の塩基触媒下で反応させることによって調製されうる。また、本発明において、α−ハロゲノアセチルハライドは、例えば、フッ化フルオロアセチル(fluoroacetyl fluoride)、塩化クロロアセチル、臭化ブロモアセチル及びヨウ化ヨードアセチル(iodoacetyl iodide)が含まれうるが、これらの例に限定されるものではない。α−ハロゲノアセチルハライドは、商業的に購入可能であるか、または当業界に公知の技術によって、α−ハロゲノ酢酸からカルボン酸基をハロゲン化することによって調製され得る。例えば、α−ハロゲノ酢酸にSOCl、PClまたはPClを反応させることによって、α−塩化ハロゲノアセチルを調製できる。
前記クロロ酢酸、ブロモ酢酸、フルオロ酢酸、ヨード酢酸、α−ハロゲノ酢酸無水物、及びα−ハロゲノアセチルハライドからなる群より選択された化合物は、相対的に高価な物質である(R)−2−ブロモ−N−[2−(4−メトキシ−3−アミノスルホニル−フェニル)−1−メチルエチル]アセトアミドまたはその塩に比べて若干過量を使用することが望ましく、例えば、(R)−2−(4−メトキシ−3−アミノスルホニル−フェニル)−1−メチルエチルアミンまたはその塩1当量に対して約1〜4当量の範囲で使用することが望ましい。
本発明の調製方法で使用可能な塩基は、トリアルキルアミンまたは無機塩基を含み、前記トリアルキルアミンは、トリメチルアミン、トリエチルアミンまたはジイソプロピルエチルアミンなどを含み、前記無機塩基は、KCO、NaCO、KHCO、NaHCOのような通常の無機塩基を含む。このうち、トリエチルアミンが本発明の調製方法に望ましく使用されうる。塩基は、(R)−2−(4−メトキシ−3−アミノスルホニル−フェニル)−1−メチルエチルアミンまたはその塩1当量に対して約1〜4当量の範囲で使用することが望ましい。
また、本発明の調製方法で使用可能なアシル化剤としては、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド、N,N’−ジイソプロピルカルボジイミド、N−[3−(ジメチルアミノプロピル)−N’−エチルカルボジイミド、ビス(2−オキソ−3−オキサゾリジニル)塩化ホスフィン、(ベンゾトリアゾール−1−イルオキシ)トリス(ジメチルアミノ)ホスホニウムヘキサフルオロホスファート、O−ベンゾトリアゾール−1−イル−N,N,N’,N’−ビス(テトラメチル)ウロニウムヘキサフルオロホスファート、O−(7−アザベンゾトリアゾール−1−イル)−N,N,N’,N’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスファート、クロロギ酸エチル、クロロギ酸メチル、クロロギ酸ブチル、またはクロロギ酸ベンジルを使用でき、このうち、クロロギ酸エチルが望ましく使用されうる。アシル化剤は、(R)−2−(4−メトキシ−3−アミノスルホニル−フェニル)−1−メチルエチルアミンまたはその塩1当量に対して約1〜4当量の範囲で使用することが望ましい。
本発明の調製方法は、通常の極性または非極性の有機溶媒、例えば、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、塩化メチレンなどを使用でき、このうち、テトラヒドロフランまたは塩化メチレンが望ましく使用されうる。また、反応温度は、約−50〜50℃、望ましくは、約0〜5℃でありうる。
本発明は、前記調製方法を用いて調製された光学的に純粋な式1の化合物またはその塩を、(i)塩基の存在下で2−エトキシフェノールと反応させるか、または(ii)ナトリウム2−エトキシフェノキシドまたはカリウム2−エトキシフェノキシドと反応させて、(R)−2−(2−エトキシフェノキシ)−N−[2−(4−メトキシ−3−アミノスルホニル−フェニル)−1−メチル−エチル]アセトアミドを調製する工程と、前記(R)−2−(2−エトキシフェノキシ)−N−[2−(4−メトキシ−3−アミノスルホニル−フェニル)−1−メチルエチル]アセトアミドを還元させる工程とを含む(R)−5−{2−[2−(2−エトキシフェノキシ)エチルアミノ]−プロピル}−2−メトキシベンゼンスルホンアミドまたはその塩の調製方法を含む。
前記調製工程は、特開平2−295967号及び2−306958号で開示した方法を利用して行うことができる。
前記(R)−2−(2−エトキシフェノキシ)−N−[2−(4−メトキシ−3−アミノスルホニル−フェニル)−1−メチルエチル]アセトアミドの調製工程は、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、アセトン、塩化メチレンなどの有機溶媒、望ましくは、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、またはアセトンなどの有機溶媒中で約−20〜100℃、望ましくは、約25〜60℃で反応を行うことができる。また、使用可能な塩基は、KCO、カリウムtert−ブトキシド、NaOH、NaH、KOH、KH、LiOH、LiHなどを含み、望ましくは、KCO、カリウムtert−ブトキシドなどを使用できる。
前記(R)−2−(2−エトキシフェノキシ)−N−[2−(4−メトキシ−3−アミノスルホニル−フェニル)−1−メチルエチル]アセトアミドを還元させる工程は、ホウ素ナトリウム−三フッ化ボロン(NaBH−BF etherate)または水酸化リチウムアルミニウムなどを約2〜6当量使用して行い、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、エタノール、メタノール、アセトン、塩化メチレンなどの有機溶媒、望ましくは、テトラヒドロフランを使用できる。還元反応の温度は、約0〜80℃で行うことができる。
前記のように調製された(R)−5−{2−[2−(2−エトキシフェノキシ)エチルアミノ]−プロピル}−2−メトキシベンゼンスルホンアミド(すなわち、タムスロシン)は、通常の無機酸(例えば、無水塩酸)を加えて無機酸塩の形態で得られる。
また、本発明の調製方法によって調製された前記中間体及びタムスロシンは、通常の方法、例えば、クロマトグラフィまたは再結晶などの方法で分離精製でき、このうち、再結晶方法を使用することがタムスロシンまたはその塩の経済的で工業的な量産にさらに望ましい。
前記本発明の調製方法を全体の反応式で表せば、下記反応式4の通りである。
反応式4
Figure 2007513943
発明を実施するための最良の形態
以下、本発明を実施例を通じてさらに詳細に説明する。しかし、これらの実施例は、本発明を例示するためのものであり、本発明がこれらの実施例によって制限されるものではない。
実施例
実施例1
(R)−2−ブロモ−N−[2−(4−メトキシ−3−アミノスルホニル−フェニル)−1−メチル−エチル]−アセトアミドの調製
(R)−2−(4−メトキシ−3−アミノスルホニル−フェニル)−1−メチルエチルアミン1.0gを塩化メチレン50mlに溶解した。反応溶液にトリエチルアミン0.72g(2.0eq)を加えて、0〜5℃に冷却した。臭化ブロモアセチル1.44g(2.0eq)を反応溶液に滴加し、0〜5℃で攪拌した。HPLCで出発物質がなくなったことを確認した後、酢酸エチル100mlを加えて、これに10%のHCl 50mlを加えて攪拌した後に層分離して、酢酸エチル層を取った。10%のKCO溶液50mlで酢酸エチル層を洗浄した後、MgSOで乾燥、ろ過及び濃縮した。濃縮物を酢酸エチルに溶解し、へキサンを加えて結晶化して表題化合物(1.2g)を得た。
収率:80.0%
NMR(DMSO−d):1.15(3H,d),2.6〜2.8(2H,m),3.8(2H,s),3.90(4H,s),7.0(2H,s),7.1(1H,d),7.4(1H,d),7.6(1H,d),8.21(2H,d).
[α]24D=+5.0(C=1,MeOH)
実施例2
(R)−2−ブロモ−N−[2−(4−メトキシ−3−アミノスルホニル−フェニル)−1−メチル−エチル]−アセトアミドの調製
酢酸ブロモ(3.4g)を塩化メチレン50mlに溶解し、トリエチルアミン2.3gを加えて、−40〜−45℃で冷却した後、クロロギ酸エチル2.66gを滴加した後、−40〜−45℃で4時間攪拌した。反応物に(R)−2−(4−メトキシ−3−アミノスルホニル−フェニル)−1−メチルエチルアミン3.0gを加え、−40〜−45℃で1.5時間攪拌した。これに、10%のHCl 50mlを加えて攪拌した後、層分離して有機層を取った。10%のKCO溶液50mlで有機層を洗浄した後、MgSOで乾燥、ろ過及び濃縮した。濃縮物をメタノールに溶解し、へキサンを加えて結晶化して、白色の固体の表題化合物(4.0g)を得た。
収率:89.2%
NMR:前記実施例1と同様
[α]24D=+5.0(C=1,MeOH)
実施例3
(R)−2−クロロ−N−[2−(4−メトキシ−3−アミノスルホニル−フェニル)−1−メチル−エチル]−アセトアミドの調製
臭化ブロモアセチルの代わりに塩化クロロアセチル1.05g(2.0eq.)を使用したことを除いては、実施例1と同じ方法で反応させて表題化合物(1.2g)を得た。
収率:92.3%
NMR(DMSO−d):1.15(3H,d),2.6〜2.8(2H,m),3.8(2H,s),3.90(4H,s),7.0(2H,s),7.1(1H,d),7.4(1H,d),7.6(1H,d),8.21(2H,d)
[α]24D=−2.0(C=1,MeOH)
実施例4
(R)−2−(2−エトキシフェノキシ)−N−[2−(4−メトキシ−3−アミノスルホニル−フェニル)−1−メチル−エチル]アセトアミドの調製
実施例2で調製した(R)−2−ブロモ−N−[2−(4−メトキシ−3−アミノスルホニル−フェニル)−1−メチル−エチル]−アセトアミド1.0gをテトラヒドロフラン10mlにカリウムt−ブトキシド1.25g及び2−エトキシフェノール1.5gを加え、攪拌中の溶液に加えて、25℃で1時間攪拌した。反応が完結した後、反応液に10%の塩酸水溶液50mlを加え、酢酸エチル50mlを加えて抽出した後、有機層を分離して濃縮した。濃縮残留物にメタノール10mlを加えて12時間攪拌し、ろ過及び乾燥して目的化合物である白色の固体0.9gを得た。
収率:77.8%
NMR(DMSO−d):1.15(3H,d),1.25(3H,t),2.8(1H,m),3.6(2H,s)3.90(3H,s),4.05(2H,q),6.9〜7.1(4H,m),7.0(2H,s),7.1(1H,d),7.4(1H,d),7.6(1H,S),8.2(2H,d)
[α]24D=−38.2(C=1.0,CHCN)
実施例5
(R)−5−{2−[2−(2−エトキシフェノキシ)エチルアミノ]−プロピル}−2−メトキシベンゼンスルホンアミドの調製
水素化ホウ素ナトリウム5.39gをテトラヒドロフラン200mlに溶解し、三フッ化ボロン23.4mlを常温で加え、15分間攪拌した。反応溶液に(R)−2−(2−エトキシフェノキシ)−N−[2−(4−メトキシ−3−アミノスルホニル−フェニル)−1−メチル−エチル]アセトアミド27.0gを少量ずつ加えた後、15分間還流した。反応混合物を冷却して、10%の塩酸水溶液70mlを加えた後、30分間追加的に還流した。反応混合物に10%のKCO溶液を加えて、反応液状をアルカリにした後、テトラヒドロフランを蒸留して除去した。酢酸エチルで水層を抽出して、乾燥及び濃縮して白色結晶(33.5g)を得た。得られた結晶をエタノールで溶解し、濃い塩酸水溶液を加えて生成された白色結晶をろ過して、25gの生成物を得た。エタノール−水(4:1)の混合溶液を使用して再結晶して、純粋な白色結晶の表題化合物の塩酸塩を得た。
収率:92.5%
NMR(DMSO−d):1.15(3H,d),1.25(3H,t),2.65〜3.25(2H,dd),3.40〜3.55(3H,m),3.90(3H,s),4.05(2H,q),4.25(2H,t),6.9(2H,s),6.9〜7.7(7H,Bz),9.2(2H,s)
M.P:226〜229℃
[α]24D=−4.1(C=0.35、メタノール)
産業上の利用可能性
本発明の調製方法により、タムスロシンまたはその塩酸塩の調製用の中間体として有用な中間体を、別途のアミノスルホニル基の導入工程を必要としない簡単な工程で副反応なく高収率及び光学的純度で調製可能であり、また、これを利用したタムスロシンまたはその塩酸塩の調製方法により、高収率及び光学的純度でタムスロシンまたはその塩酸塩を調製できる。

Claims (6)

  1. クロロ酢酸、ブロモ酢酸、フルオロ酢酸、ヨード酢酸、α−ハロゲノ酢酸(halogenoacetic acid)無水物、及びα−ハロゲノアセチル(halogenoacetyl)ハライドからなる群より選択される化合物と、(R)−2−(4−メトキシ−3−アミノスルホニル−フェニル)−1−メチルエチルアミンまたはその塩とを塩基またはアシル化剤の存在下で反応させる工程を含む、光学的に純粋な式1の化合物またはその塩の調製方法:
    Figure 2007513943
    式中、Xはハロゲンである。
  2. 塩基がトリアルキルアミンまたは無機塩基である、請求項1記載の方法。
  3. アシル化剤が、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド、N,N’−ジイソプロピルカルボジイミド、N−[3−(ジメチルアミノプロピル)−N’−エチルカルボジイミド、ビス(2−オキソ−3−オキサゾリジニル)塩化ホスフィン、(ベンゾトリアゾール−1−イルオキシ)トリス(ジメチルアミノ)ホスホニウムヘキサフルオロホスファート、O−ベンゾトリアゾール−1−イル−N,N,N’,N’−ビス(テトラメチル)ウロニウムヘキサフルオロホスファート、またはO−(7−アザベンゾトリアゾール−1−イル)−N,N,N’,N’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスファートである、請求項1記載の方法。
  4. α−ハロゲノ酢酸無水物が、クロロギ酸メチル、クロロギ酸エチル、クロロギ酸ブチル、クロロギ酸ベンジル、及び塩化ピバロイルからなる群より選択される少なくとも1つの化合物と、α−ハロゲノ酢酸との反応によって、反応中にインサイチューで得られる、請求項1記載の方法。
  5. α−ハロゲノアセチルハライドが、臭化ブロモアセチル、塩化ブロモアセチル、塩化クロロアセチル、及び臭化クロロアセチルからなる群より選択される、請求項1記載の方法。
  6. 請求項1〜5のいずれか一項記載の方法を用いて調製された光学的に純粋な式1の化合物またはその塩を、(i)塩基の存在下で2−エトキシフェノールと反応させるか、または(ii)ナトリウム2−エトキシフェノキシドまたはカリウム2−エトキシフェノキシドと反応させて、(R)−2−(2−エトキシフェノキシ)−N−[2−(4−メトキシ−3−アミノスルホニル−フェニル)−1−メチル−エチル]アセトアミドを調製する工程と、
    得られた(R)−2−(2−エトキシフェノキシ)−N−[2−(4−メトキシ−3−アミノスルホニル−フェニル)−1−メチルエチル]アセトアミドを還元させる工程とを含む、(R)−5−{2−[2−(2−エトキシフェノキシ)エチルアミノ]−プロピル}−2−メトキシベンゼンスルホンアミドまたはその塩の調製方法。
JP2006543742A 2003-12-09 2004-12-09 光学的に純粋なフェネチルアミン誘導体の調製方法 Pending JP2007513943A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20030089081 2003-12-09
PCT/KR2004/003226 WO2005056521A1 (en) 2003-12-09 2004-12-09 Method of preparing optically pure phenethylamine derivatives

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007513943A true JP2007513943A (ja) 2007-05-31

Family

ID=36676145

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006543742A Pending JP2007513943A (ja) 2003-12-09 2004-12-09 光学的に純粋なフェネチルアミン誘導体の調製方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7329780B2 (ja)
EP (1) EP1692100A4 (ja)
JP (1) JP2007513943A (ja)
KR (1) KR100596373B1 (ja)
WO (1) WO2005056521A1 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007086074A2 (en) * 2006-01-27 2007-08-02 Usv Limited A process for the preparation of r (-) tamsulosin hydrochloride

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02149554A (ja) * 1988-02-19 1990-06-08 Hokuriku Seiyaku Co Ltd フェノキシエチルアミン誘導体
JPH02295967A (ja) * 1989-05-10 1990-12-06 Hokuriku Seiyaku Co Ltd フェノキシエチルアミン誘導体の製造方法
JPH02306958A (ja) * 1989-05-22 1990-12-20 Hokuriku Seiyaku Co Ltd フェノキシアセトアミド誘導体

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1147342A (en) 1977-10-12 1983-05-31 Kazuo Imai Process of producing novel phenylethanolamine derivatives
JPS56110665A (en) 1980-02-08 1981-09-01 Yamanouchi Pharmaceut Co Ltd Sulfamoyl-substituted phenetylamine derivative and its preparation
DE3128117A1 (de) 1980-07-29 1982-03-11 Yamanouchi Pharmaceutical Co., Ltd., Tokyo Neue phenyl-aethylaminderivate, verfahren zu ihrer herstellung
JPS62114952A (ja) 1985-11-13 1987-05-26 Yamanouchi Pharmaceut Co Ltd 置換フエネチルアミン誘導体の製造法
JPH066565B2 (ja) * 1986-07-21 1994-01-26 山之内製薬株式会社 光学活性なベンゼンスルホンアミド誘導体の製造法
US4971990A (en) 1988-02-19 1990-11-20 Hokuriku Pharmaceutical Co., Ltd. Phenoxyethylamine derivatives, for preparing the same and composition for exhibiting excellent α1 -blocking activity containing the same
JP3662761B2 (ja) 1999-02-10 2005-06-22 アステラス製薬株式会社 フェノキシアルキルハライド誘導体の新規製造法
KR100466079B1 (ko) * 2002-07-26 2005-01-13 보령제약 주식회사 페녹시아세트아미드 유도체의 제조방법

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02149554A (ja) * 1988-02-19 1990-06-08 Hokuriku Seiyaku Co Ltd フェノキシエチルアミン誘導体
JPH02295967A (ja) * 1989-05-10 1990-12-06 Hokuriku Seiyaku Co Ltd フェノキシエチルアミン誘導体の製造方法
JPH02306958A (ja) * 1989-05-22 1990-12-20 Hokuriku Seiyaku Co Ltd フェノキシアセトアミド誘導体

Also Published As

Publication number Publication date
US20070197828A1 (en) 2007-08-23
KR100596373B1 (ko) 2006-07-04
EP1692100A4 (en) 2007-11-21
EP1692100A1 (en) 2006-08-23
WO2005056521A1 (en) 2005-06-23
KR20050056157A (ko) 2005-06-14
US7329780B2 (en) 2008-02-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1806340B1 (en) Indoline compound and process for producing the same
KR900001509B1 (ko) (트레오) - 1 - 아릴 - 2 - 아실아미도 - 3 - 플루오로 - 1 - 프로판올 및 그의 제조방법
EP0257787B1 (en) Process for producing optically active benzene-sulfonamide derivates
US8981095B2 (en) Intermediate compounds and process for the preparation of lurasidone and salts thereof
KR940007746B1 (ko) 치환된 펜에틸아민 유도체의 제조방법
JP3662761B2 (ja) フェノキシアルキルハライド誘導体の新規製造法
JP4323718B2 (ja) 置換アルキルアミン又はその塩の製造方法
JPS6013775A (ja) 光学活性3−(p−アルコキシフエニル)グリシツド酸アルカリ金属塩の製造法
US6914159B1 (en) Process for preparing sulfamoyl-substituted phenethylamine derivatives
JP2007513943A (ja) 光学的に純粋なフェネチルアミン誘導体の調製方法
US10689332B2 (en) Racemic beta-aminosulfone compounds
KR101525493B1 (ko) 고순도 탐술로신 또는 이의 염 제조방법
KR20010102569A (ko) 1,3,4-옥사디아졸 유도체 및 그 제조 방법
JPWO2002070477A1 (ja) 2−メチルインドール−4−酢酸、その製造方法およびその合成中間体の製造方法
TWI302911B (en) Process for production of substituted alkylamine derivative
JP2006232757A (ja) フェノキシエチルハライド及びその誘導体の製造法
JP2007532520A (ja) ベンゾオキサチエピンの合成方法とその中間体
KR910006126B1 (ko) N-[3-[3-(1-피페리디닐메틸)페녹시]프로필]아세톡시아세트아미드의 제조방법
JPS5946234A (ja) 光学活性アルコ−ルの製造方法
JPH09124610A (ja) 1,2−ジホルミルヘキサヒドロピリダジン、その製造法およびヘキサヒドロピリダジンの製造法
KR20020072303A (ko) 1,3,4-옥사디아졸 유도체 및 그 제조 방법
JPH10287642A (ja) N−アセチルシステイン誘導体の製造方法
JP2003342267A (ja) エポキシブタン酸エステル類の製造方法
JP2001072614A (ja) オレフィン化合物の製造法
JPH11116546A (ja) 7−メトキシ−2−アミノテトラリンカーバメート及びその製造方法並びにそれを用いた7−メトキシ−2−アミノテトラリンの光学純度向上方法

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091014

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20100113

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20100120

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100624