JP2007335539A - 両面配線基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】微細パターンの配線を高精度に形成することを可能とし、かつ製造工程に要する時間を短縮することを可能とする。
【解決手段】キャリア箔付き極薄銅箔22を絶縁性基材3の両面に極薄銅箔22を対面させてそれぞれ貼り付ける工程と、キャリア箔20を引き剥がす工程と、厚み方向に貫通する一連の配線孔4を形成する工程と、前記配線孔4の壁面のみに導電性皮膜5又は無電解めっき層を形成する工程と、前記極薄銅箔22の表面にドライフィルム6a,6bを貼り付けてドライフィルムパターンを形成する工程と、前記極薄銅箔22および前記導電性皮膜5又は無電解めっき層を電解用電極下地とする電解めっきにより、前記極薄銅箔22の露出面と前記配線孔4の壁面とを電解銅めっきによりめっきする工程と、前記極薄銅箔22からドライフィルム6a,6bを剥離する工程と、極薄銅箔22をフラッシュエッチングによって除去する工程と、を含むものである。
【選択図】図1
【解決手段】キャリア箔付き極薄銅箔22を絶縁性基材3の両面に極薄銅箔22を対面させてそれぞれ貼り付ける工程と、キャリア箔20を引き剥がす工程と、厚み方向に貫通する一連の配線孔4を形成する工程と、前記配線孔4の壁面のみに導電性皮膜5又は無電解めっき層を形成する工程と、前記極薄銅箔22の表面にドライフィルム6a,6bを貼り付けてドライフィルムパターンを形成する工程と、前記極薄銅箔22および前記導電性皮膜5又は無電解めっき層を電解用電極下地とする電解めっきにより、前記極薄銅箔22の露出面と前記配線孔4の壁面とを電解銅めっきによりめっきする工程と、前記極薄銅箔22からドライフィルム6a,6bを剥離する工程と、極薄銅箔22をフラッシュエッチングによって除去する工程と、を含むものである。
【選択図】図1
Description
本発明は、両面配線基板の製造方法に係り、特に、フィルム状の絶縁性基材の両面に微細な配線パターンを形成するための両面配線基板の製造方法に関するものである。
一般に、フレキシブル基材の表裏両面に微細な配線パターンを形成するための製造方法としては、ウェットエッチングを用いて配線パターンを形成する方法(サブトラクティブ法)と、無電解めっきと電解銅めっきとを併用して配線パターンの主要部を形成する方法(アディティブ法)とが知られている。
図4はサブトラクティブ法による配線パターンの製造方法の一例を示している。
この方法では、図4(a)に示されるように、まず、薄厚のポリイミドフィルムからなる絶縁性基材101の両面に銅箔102,103を貼り合せた両面銅貼テープ(テープ)100を形成する。
次に、図4(b)に示すように、前記両面銅貼テープ100に、例えばウェットエッチングまたはレーザビームによってブラインドビアホール104a,104bを形成し、続いて、図4(c)に示すように、無電解めっきによってブラインドビアホール104a,104bの壁面(内面)に、導電性皮膜105を形成する。導電性皮膜105の形成後は、図4(d)に示されるように、両面銅貼テープ100の片面(図4(d)では上面)の銅箔102および導電性皮膜105の表面に電解銅めっきを施すことによって銅めっき106を形成すると共に、ブラインドビアホール104a,104bの空所に銅めっきを充填することにより、いわゆる両面間接続導体109を形成する。
さらに、感光性ドライフィルムのラミネート工程およびその感光・現像工程を経て、図4(e)に示すように、銅めっき106の表面と銅箔103の表面とにドライフィルム107a,107bを貼り付けてそれぞれドライフィルムパターンを形成し、続いて、図4(f)に示すように、ウェットエッチングにより、不要な部分を取り除いて配線108a,108bを形成する。この後、図4(g)に示すように、各配線108a,108bからドライフィルム107a,107bを剥離して微細配線の作製を終了する。
このようなサブトラクティブ法により微細配線を形成する技術は、フレキシブル配線基板のみならず、リジッド配線基板にも利用されている。
この方法では、図4(a)に示されるように、まず、薄厚のポリイミドフィルムからなる絶縁性基材101の両面に銅箔102,103を貼り合せた両面銅貼テープ(テープ)100を形成する。
次に、図4(b)に示すように、前記両面銅貼テープ100に、例えばウェットエッチングまたはレーザビームによってブラインドビアホール104a,104bを形成し、続いて、図4(c)に示すように、無電解めっきによってブラインドビアホール104a,104bの壁面(内面)に、導電性皮膜105を形成する。導電性皮膜105の形成後は、図4(d)に示されるように、両面銅貼テープ100の片面(図4(d)では上面)の銅箔102および導電性皮膜105の表面に電解銅めっきを施すことによって銅めっき106を形成すると共に、ブラインドビアホール104a,104bの空所に銅めっきを充填することにより、いわゆる両面間接続導体109を形成する。
さらに、感光性ドライフィルムのラミネート工程およびその感光・現像工程を経て、図4(e)に示すように、銅めっき106の表面と銅箔103の表面とにドライフィルム107a,107bを貼り付けてそれぞれドライフィルムパターンを形成し、続いて、図4(f)に示すように、ウェットエッチングにより、不要な部分を取り除いて配線108a,108bを形成する。この後、図4(g)に示すように、各配線108a,108bからドライフィルム107a,107bを剥離して微細配線の作製を終了する。
このようなサブトラクティブ法により微細配線を形成する技術は、フレキシブル配線基板のみならず、リジッド配線基板にも利用されている。
一方、アディティブ法(例えば特許文献1、特許文献2参照)では、ビアホールまたはスルーホールが設けられた後に、ホールの壁面を含めて基板の表面全体に例えば銅系の無電解めっきを施して、無電解めっき皮膜(これを単に「無電解めっき」と呼ぶ場合も有る)を形成し、その表面に所望のドライフィルムパターンを形成する。そして、前述の無電解めっき皮膜をいわゆる電解用電極下地として用いた電解銅めっきを行って、ドライフィルムパターンで覆われていない部分の無電解めっき皮膜の上に電解銅めっきを付着させてこれを微細配線パターンとした後、ドライフィルムパターンを剥離する。
このようなアディティブ法によれば、一般に、微細配線パターンを高精度に作製することが可能とある。
このようなアディティブ法によれば、一般に、微細配線パターンを高精度に作製することが可能とある。
しかし、上述のサブトラクティブ法によって配線108a,108bをパターン形成すると、図4(f)に示すように、ウェットエッチング法によって銅箔102および銅めっき106を蝕刻して配線108a,108bを形成する際に、エッチングファクタに起因して、サイドエッチングが不可避的に発生してしまい、
完成した配線108a,108bの断面形状が台形となってしまう問題がある。
また、ブラインドビアホール104a,104bの空所を埋めて両面間接続導体109を形成するための電解めっきが行われるが、これに伴って銅めっき106が両面銅貼テープ100の表裏両面ほぼ全面に亘って比較的厚く形成され、電解銅めっきによって形成された銅めっき106の厚みに銅箔102,103の厚みが加えられて厚くなってしまい、配線108a,108bの断面のアスペクトレシオがさらに大きな値となってしまうので、微細配線の形成が困難となる問題がある。
なお、アスペクトレシオを小さくするには、配線108a,108bをウェットエッチング法でパターニングする前に、図4の(d)の状態にした後、銅箔102,103の表面を覆っている銅めっき106を、一種の機械的研削法であるダマシン法などによって除去(研削)することなどが想定されるが、工程が増加し製造工程の煩雑化してしまうので好ましくない。つまり、ダマシン法は、シリコンウェハのようなリジッドな基板の研削加工に適していてもフレキシブル基板のような柔軟性を有する基材の表裏に微細なブラインドビアホール等を形成したものには適してはおらず、面内均一性の高い研削加工をすることは困難で製造工程が煩雑化するという不都合がある。
完成した配線108a,108bの断面形状が台形となってしまう問題がある。
また、ブラインドビアホール104a,104bの空所を埋めて両面間接続導体109を形成するための電解めっきが行われるが、これに伴って銅めっき106が両面銅貼テープ100の表裏両面ほぼ全面に亘って比較的厚く形成され、電解銅めっきによって形成された銅めっき106の厚みに銅箔102,103の厚みが加えられて厚くなってしまい、配線108a,108bの断面のアスペクトレシオがさらに大きな値となってしまうので、微細配線の形成が困難となる問題がある。
なお、アスペクトレシオを小さくするには、配線108a,108bをウェットエッチング法でパターニングする前に、図4の(d)の状態にした後、銅箔102,103の表面を覆っている銅めっき106を、一種の機械的研削法であるダマシン法などによって除去(研削)することなどが想定されるが、工程が増加し製造工程の煩雑化してしまうので好ましくない。つまり、ダマシン法は、シリコンウェハのようなリジッドな基板の研削加工に適していてもフレキシブル基板のような柔軟性を有する基材の表裏に微細なブラインドビアホール等を形成したものには適してはおらず、面内均一性の高い研削加工をすることは困難で製造工程が煩雑化するという不都合がある。
一方、アディティブ法では、ウェットエッチング法によるパターン形成の場合にはエッチングファクタに起因したサイドエッチングや配線の断面形状におけるアスペクトレシオの増大が回避されるので、微細配線パターンを高精度に作製することが可能となるが、無電解めっきによって導電性皮膜が絶縁性基材の表面ほぼ全面に付着させると共にブラインドビアホールの壁面にも付着させるには無電解の工程時間が長くなり、製造時間の短縮が困難になる問題がある。このためこのような方法は、短時間で多量の製品を製造することが要請される、いわゆるリールトゥリールライン(供給側リールから巻取側リールへとインラインに並べられた自動化製造ライン)には適用が困難である。
そこで、本発明は、配線の厚みをより薄く、サイドエッチングの発生し難い両面配線基板の製造方法を提供することを目的とする。
請求項1に記載の発明は、極薄銅箔にキャリア箔を剥離可能に積層したキャリア箔付き極薄銅箔を絶縁性基材の両面に極薄銅箔を対面させてそれぞれ貼り付ける工程と、前記絶縁性基材の両面に貼り付けられたキャリア箔付き極薄銅箔からそれぞれキャリア箔を剥離する工程と、前記絶縁性基材の両面の極薄銅箔の少なくとも一方と絶縁性基材とに、厚み方向に貫通する一連の配線孔を形成する工程と、前記配線孔の壁面のみに導電性皮膜又は無電解めっき層を形成する工程と、前記極薄銅箔の表面にドライフィルムを貼り付けてドライフィルムパターンを形成する工程と、前記極薄銅箔および前記導電性皮膜又は無電解めっき層を電解用電極下地とする電解めっきにより、前記極薄銅箔の露出面と前記配線孔の壁面とを電解銅めっきによりめっきする工程と、前記極薄銅箔からドライフィルムを剥離する工程と、前記ドライフィルムの剥離により露出した極薄銅箔をフラッシュエッチングによって除去する工程と、を含む構成としたものである。
このようにすると、極薄銅箔および導電性皮膜又は無電解めっきを電解用電極下地として用いた電解銅めっきによって、配線孔を経由した基板両面の配線間の導通(両面間接続導体)と配線の形成とが同じ一つの工程中でなされる。
このようにすると、極薄銅箔および導電性皮膜又は無電解めっきを電解用電極下地として用いた電解銅めっきによって、配線孔を経由した基板両面の配線間の導通(両面間接続導体)と配線の形成とが同じ一つの工程中でなされる。
請求項2の発明は、請求項1に記載の両面配線基板の製造方法において、前記極薄銅箔の厚さが、0.5μm以上3.5μm以下に定められたものである。
これにより、配線の断面のアスペクトレシオが低減され、微細な配線が形成される。
これにより、配線の断面のアスペクトレシオが低減され、微細な配線が形成される。
請求項3の発明は、請求項1または2に記載の両面配線基板の製造方法において、前記配線孔の形成に際し、前記絶縁性基材に対してはレーザを用い、前記極薄銅箔に対してはレーザー又はエッチングを用いるものである。
このようにすると、微細な配線孔が精確よく形成される。
このようにすると、微細な配線孔が精確よく形成される。
また、請求項4の発明は、請求項1〜請求項3いずれかに記載の両面配線基板の製造方法において、前記ドライフィルムの厚さが、5μm以上20μm以下に定められ、且つ前記電解銅めっきの厚さがドライフィルムパターンの厚さ未満に定められたものである。
このようにすると、配線の断面のアスペクトレシオがさらに低減され、微細な配線の精度が向上する。
このようにすると、配線の断面のアスペクトレシオがさらに低減され、微細な配線の精度が向上する。
また、請求項5の発明は、前記各工程がリール又はロールを用いた搬送ライン中で実施するようにしたものである。このようにすると、リールトゥリールライン又はロールトゥロールラインによる両面配線基板の製造が可能となる。
また、請求項6記載の発明は、請求項1〜5いずれかに記載の発明において、前記導電性皮膜が錫−パラジウム、錫−パラジウムの化合物、導電性ポリマの中から選ばれたひとつから形成されるものである。
さらに、請求項7記載の発明は、請求項1〜7いずれかに記載の発明において、前記配線孔の穿孔後、導電性皮膜又は無電解めっき層の形成前に配線孔内面のスミアをデスミア加工により除去するようにしたものである。
本発明によれば、配線の断面形状が台形となることが回避されると共にその断面形状のアスペクトレシオが小さくなるので微細配線を精度よく形成することができる。
以下、本発明の最良の形態について図面を参照して説明する。
図1は本発明の最良の形態に係る両面基板の製造方法における主要な工程の流れを説明するための工程図であり、図2はキャリア箔付き極薄銅箔を示す模式図、図3は図2に示した構成のキャリア箔付き極薄銅箔を作製する工程の主要な流れを説明するための工程図である。
図1は本発明の最良の形態に係る両面基板の製造方法における主要な工程の流れを説明するための工程図であり、図2はキャリア箔付き極薄銅箔を示す模式図、図3は図2に示した構成のキャリア箔付き極薄銅箔を作製する工程の主要な流れを説明するための工程図である。
まず、図2に示すように、キャリア箔付き極薄銅箔1,2を、合計2巻、用意し、それぞれ絶縁性基材3の表裏両面に貼り合わせる。
キャリア箔付き極薄銅箔1,2は、図3(a)に示すように、例えば、数10μmの厚みの銅箔をキャリア箔20として、図3(b)に示すように、キャリア箔20と同程度の厚みの別の銅箔21をキャリア箔20に貼り合せたものである。そして、図3(c)に示すように、キャリア箔付き極薄銅箔1,2の銅箔21の厚みを研磨加工またはフラッシュエッチング加工などによって薄くしていき、数μm程度の所望の厚さの極薄銅箔22を形成する。
ここで、微細配線の形成を可能とするため、極薄銅箔22の厚みは、0.5μm以上3.5μm以下とすることが望ましい。
キャリア箔付き極薄銅箔1,2は、図3(a)に示すように、例えば、数10μmの厚みの銅箔をキャリア箔20として、図3(b)に示すように、キャリア箔20と同程度の厚みの別の銅箔21をキャリア箔20に貼り合せたものである。そして、図3(c)に示すように、キャリア箔付き極薄銅箔1,2の銅箔21の厚みを研磨加工またはフラッシュエッチング加工などによって薄くしていき、数μm程度の所望の厚さの極薄銅箔22を形成する。
ここで、微細配線の形成を可能とするため、極薄銅箔22の厚みは、0.5μm以上3.5μm以下とすることが望ましい。
次に、図1(a)に示すように、ポリイミドフィルムからなるフレキシブルな絶縁性基材3の表裏両面に2巻のキャリア箔付き極薄銅箔1,2を貼り付ける。この場合、キャリア箔付き極薄銅箔1,2は、極薄銅箔22側を裏側、キャリア箔側を表側として、各キャリア箔付き極薄銅箔1,2の極薄銅箔22を絶縁性機材3の両面に対面させて貼り付ける。そして、キャリア箔付き極薄銅箔1,2を貼り付けた絶縁性基材3の極薄銅箔22からキャリア箔20を引き剥がす。
これにより、図1(b)に示すように、絶縁性基材3の表裏両面に貼り合わされた極薄銅箔22の表面は外部に露出して剥き出しの状態となる。
これにより、図1(b)に示すように、絶縁性基材3の表裏両面に貼り合わされた極薄銅箔22の表面は外部に露出して剥き出しの状態となる。
続いて、図1(c)に示すように、片側(図1では上側)の極薄銅箔22と絶縁性基材3とを貫通する配線孔4、所謂、ブラインドビアホールを穿設する。この配線孔4は、レーザにより極薄銅箔22と絶縁性基材3とを貫通させて一気に形成してもよいし、絶縁性基材3に対してはレーザで穿孔し、極薄銅箔22に対してはエッチングにより穿孔することで形成してもよい。
配線孔4の穿設後は、穿設によって生じたスミアやバリをデスミア加工によって除去し、濡れ性を向上させる。この後、図1(d)に示すように、配線孔4の壁面を選択してこれに導電性皮膜5又は導電皮膜に代わる無電解めっき層を形成する。
導電性皮膜5の場合、例えば、ポリイミドフィルムからなる絶縁性基材3に対して予め触媒を吸着させるなどしておき、無電解めっきを形成(着膜)するようにしてもよいし、又は、他の方法によって形成してもよい。ここで、導電性皮膜5は、錫−パラジウムまたはその化合物の膜、グラファイト、導電性カーボン、あるいは導電性ポリマ(ポリピロール等)から選択したひとつを用いて形成する。
導電性皮膜5の場合、例えば、ポリイミドフィルムからなる絶縁性基材3に対して予め触媒を吸着させるなどしておき、無電解めっきを形成(着膜)するようにしてもよいし、又は、他の方法によって形成してもよい。ここで、導電性皮膜5は、錫−パラジウムまたはその化合物の膜、グラファイト、導電性カーボン、あるいは導電性ポリマ(ポリピロール等)から選択したひとつを用いて形成する。
続いて、図1(e)に示すように、表裏両面の極薄銅箔22,22のそれぞれの表面に、感光性のドライフィルム6a,6bをラミネートし、その感光、現像を行って、所望のドライフィルムパターンを形成する。
その後、図1(f)に示すように、極薄銅箔22,22をいわゆる電解用電極下地として用いた電解めっき法によって、極薄銅箔22,22の表面および配線孔4の壁面のうち、ドライフィルム6a,6bで覆われておらず露出している部分、すなわち、前記極薄銅箔22の露出面と前記配線孔4の壁面に、電解銅めっき法によって電解銅めっき7a,7b及び両面間接続導体8を成長させる。
この工程で成長した電解銅めっき7a,7bが図1(h)に示すように、両面間接続導体8や配線9a,9bとなる。ここで、より微細な配線パターンの配線9a,9bを形成するには、ドライフィルム6a,6bの厚さを5μm以上20μm以下とし、かつ電解銅めっき7a,7bの厚さをドライフィルム6a,6bの厚さ未満とすることが好ましい。
この工程で成長した電解銅めっき7a,7bが図1(h)に示すように、両面間接続導体8や配線9a,9bとなる。ここで、より微細な配線パターンの配線9a,9bを形成するには、ドライフィルム6a,6bの厚さを5μm以上20μm以下とし、かつ電解銅めっき7a,7bの厚さをドライフィルム6a,6bの厚さ未満とすることが好ましい。
配線9a,9bおよび両面間接続導体8を形成した後は、図1(g)に示すように、ドライフィルム6a,6bを剥離する。
そして、図1(h)に示すように、極薄銅箔22,22のうち、電解銅めっき法によって形成した電解銅めっき7a,7bおよび両面間接続導体8で覆われておらず露出している部分を、フラッシュエッチング法によって除去する。このようにして微細配線パターンの配線9や両面間接続導体8が形成して、両面配線基板10の主要部の作成を終了する。
このように、本発明の最良の形態に係る両面配線基板の製造方法では、絶縁性基材3の表裏両面にそれぞれ貼り合わされた所定の厚さのキャリア箔20,22をウェットエッチングによってパターニングして配線9a,9bを形成するのではなく、極薄銅箔22及び導電性皮膜又は無電解めっきを電解用電極下地として用いた電解めっきによって配線9a,9bを所望の厚さに形成し、配線9a,9bの形成後、両面配線基板10の表裏両面の全体に亘ってフラッシュエッチングを施すようにしている。
このようすると、配線9a,9bの断面形状をサイドエッチングのある台形ではなく矩形にすることができると共に配線9a,9bに余分な厚さを付加することが回避されるので、微細な配線9a,9bを高精度に形成することが可能となり、ドライフィルムパターンの精度と同じ精度で、所望の厚さに配線9a,9bのパターンを形成することが可能となる。
このようすると、配線9a,9bの断面形状をサイドエッチングのある台形ではなく矩形にすることができると共に配線9a,9bに余分な厚さを付加することが回避されるので、微細な配線9a,9bを高精度に形成することが可能となり、ドライフィルムパターンの精度と同じ精度で、所望の厚さに配線9a,9bのパターンを形成することが可能となる。
また、極薄銅箔22を電解銅めっき工程における電解用電極下地として用いて、その極薄銅箔22の上に、これと同種の金属である電解銅めっき7を成長させるようにしたので、電解銅めっき7の電解用電極下地を例えば無電解ニッケルめっき膜のような異種の金属とし、その上に電解銅めっきを成長させた場合と比べてフラッシュエッチングによって隣接する配線9a,9a、9b,9b同士の間を確実に分離することが容易となり、また、フラッシュエッチングの進行の精密な管理を容易に行うことが可能となる。
また、配線9a,9bと両面間接続導体8との主要部を構成する電解銅めっき7の形成は、同じ一つの電解めっき工程で行われるので、工程数の増加やそれに伴う工程の煩雑化を防ぐことができる。
また、電解銅めっきを行う際に用いられる電解用電極下地は、無電解めっき法によって無電解ニッケルめっき膜などから形成されるのではなく、極薄銅箔22を絶縁性基材3の表面に貼り合せて形成するので、その形成時間が長時間なものとなることを回避して、工程時間を短縮することができる。
なお、極薄銅箔22がまだ貼り合わされていない状態の絶縁性基材3、または極薄銅箔22が既に貼り合わせた状態の絶縁性基材3を、リールから(あるいはロール状で)引き出して製造ラインへと供給し、配線9a,9bが形成されドライフィルム7a,7bの剥離によりドライフィルムパターンが除去されて、製品としてほぼ完成状態にある絶縁性基材3を、リールで(又はロール状に)巻き取るようにすることも可能になる。また、本実施の形態では、配線孔4としてブラインドビアホールを例示したが、ブラインドビアホールに代えてスルーホールを形成した場合も同様の作用効果が得られる。
引剥装置は、図1(b)に示したキャリア箔20を極薄銅箔22から引き剥がして極薄銅箔22を露出させる工程を行う。孔穿設装置は、図1(c)に示した配線孔4を穿設する工程を行う。導電性皮膜着膜装置は、図1(d)に示した導電性皮膜5を形成する工程を行う。
ドライフィルムパターニング装置は、図1(e)に示したドライフィルム6a,6bのパターニングを行う。電解銅めっき装置は、図1(f)に示した電解銅めっき7a,7bの電解めっき法による成長を行う。
ドライフィルム剥離装置は、図1(g)に示したドライフィルム6a,6bの剥離を行う。フラッシュエッチング装置は、図1(h)に示したフラッシュエッチングを行う。
ドライフィルムパターニング装置は、図1(e)に示したドライフィルム6a,6bのパターニングを行う。電解銅めっき装置は、図1(f)に示した電解銅めっき7a,7bの電解めっき法による成長を行う。
ドライフィルム剥離装置は、図1(g)に示したドライフィルム6a,6bの剥離を行う。フラッシュエッチング装置は、図1(h)に示したフラッシュエッチングを行う。
上記の実施の形態で述べたような工程に従って、図1の(h)に示した構造の両面配線基板10を製造した。この実施例で製造した両面配線基板10は、線間最小ピッチが30μmに設定されたFBGA用のものとした。
絶縁性基材3としては、厚さ25μmのポリイミドフィルムを用い、キャリア箔20および極薄銅箔22を形成するための銅箔としてはどちらも厚さ18μmの銅箔を用いた。そして一方のキャリア箔20を、絶縁性基材3に貼り合せる前に、1μmの厚さまで化学研削して、極薄銅箔22とした。
配線孔4の穿設には、住友重機工業製のレーザ加工機UV2000を用いた。また、その際に生じるレーザの燃えかすや配線孔4の壁面のスミア除去および導電化処理を行うため、荏原ユージライト製の薬液を用いた。
また、ドライフィルムパターンを作るためのドライフィルム6a,6bとしては、旭化成製の厚さ15μmのものを用いた。
配線9を形成した後のフラッシュエッチングには、過酸化水素系の薬液を用いた。この場合、電解銅めっき7a,7bの厚さは、12μmとし、配線規格は15±3μm以内に設定した。
配線孔4の穿設には、住友重機工業製のレーザ加工機UV2000を用いた。また、その際に生じるレーザの燃えかすや配線孔4の壁面のスミア除去および導電化処理を行うため、荏原ユージライト製の薬液を用いた。
また、ドライフィルムパターンを作るためのドライフィルム6a,6bとしては、旭化成製の厚さ15μmのものを用いた。
配線9を形成した後のフラッシュエッチングには、過酸化水素系の薬液を用いた。この場合、電解銅めっき7a,7bの厚さは、12μmとし、配線規格は15±3μm以内に設定した。
このような条件設定で、上述の最良の形態で説明したような製造方法によってフレキシブルな両面配線基板10を作製し、配線9の線幅を30箇所で測定した。その結果、配線9の線幅は、15±3μmという規格に対して、Cpk>1.33が達成されることが確認できた。
1 キャリア箔付き極薄銅箔
2 キャリア箔付き極薄銅箔
3 絶縁性基材
4 配線孔
5 導電性皮膜
6a ドライフィルムパターン
6b ドライフィルムパターン
7a 電解銅めっき
7b 電解銅めっき
8 両面間接続導体
9a 配線
9b 配線
10 両面配線基板
20 キャリア箔
22 極薄銅箔
2 キャリア箔付き極薄銅箔
3 絶縁性基材
4 配線孔
5 導電性皮膜
6a ドライフィルムパターン
6b ドライフィルムパターン
7a 電解銅めっき
7b 電解銅めっき
8 両面間接続導体
9a 配線
9b 配線
10 両面配線基板
20 キャリア箔
22 極薄銅箔
Claims (7)
- 極薄銅箔にキャリア箔を剥離可能に積層したキャリア箔付き極薄銅箔を絶縁性基材の両面に極薄銅箔を対面させてそれぞれ貼り付ける工程と、
前記絶縁性基材の両面に貼り付けられたキャリア箔付き極薄銅箔からそれぞれキャリア箔を剥離する工程と、
前記絶縁性基材の両面の極薄銅箔の少なくとも一方と絶縁性基材とに、厚み方向に貫通する一連の配線孔を形成する工程と、
前記配線孔の壁面のみに導電性皮膜又は無電解めっき層を形成する工程と、
前記極薄銅箔の表面にドライフィルムを貼り付けてドライフィルムパターンを形成する工程と、
前記極薄銅箔および前記導電性皮膜又は無電解めっき層を電解用電極下地とする電解めっきにより、前記極薄銅箔の露出面と前記配線孔の壁面とを電解銅めっきによりめっきする工程と、
前記極薄銅箔からドライフィルムを剥離する工程と、
前記ドライフィルムの剥離により露出した極薄銅箔をフラッシュエッチングによって除去する工程と、
を含むことを特徴とする両面配線基板の製造方法。 - 前記極薄銅箔の厚さが、0.5μm以上3.5μm以下に定められた請求項1記載の両面配線基板の製造方法。
- 前記配線孔の形成に際し、絶縁性基材に対してはレーザを用い、前記極薄銅箔に対してはレーザー又はエッチングを用いる請求項1または2に記載の両面配線基板の製造方法。
- 前記ドライフィルムの厚さが、5μm以上20μm以下に定められ、且つ前記電解銅めっきの厚さがドライフィルムパターンの厚さ未満に定められた請求項1〜請求項3いずれかに記載の両面配線基板の製造方法。
- 前記各工程がリール又はロールを用いた搬送ライン中で実施される請求項1〜請求項4いずれかに記載の両面配線基板の製造方法。
- 前記導電性皮膜が錫−パラジウム、錫−パラジウムの化合物、導電性ポリマの中から選ばれたひとつから形成される請求項1〜5いずれかに記載の両面配線基板の製造方法。
- 前記配線孔の穿孔後、導電性皮膜又は無電解めっき層の形成前に配線孔内面のスミアをデスミア加工により除去するようにした請求項1〜7いずれかに記載の両面配線基板の製造方法。
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