JP2007329391A - 半導体ウェーハの結晶方位指示マーク検出機構 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ウェーハ1は、複数のデバイス3が表面に形成されるか形成される予定のデバイス領域4の周囲に円形の外周余剰領域5を有し、外周余剰領域5の外周縁部の面取り部の領域内に、ウエーハ1の結晶方位を示すマーク8として、ウエーハ1の面方向に直交する平坦面が面取り部の領域内に形成されている。ウェーハ1の面方向に平行な光軸Lを持つ光学式センサ43からウェーハ1の側面に光が投光され、マーク8で反射した光を光センサ43が検出することでマーク8を検出する。
【選択図】図9
Description
以下、図面を参照して本発明に係る一実施形態を説明する。
図1は、単結晶シリコン等からなる本実施形態において処理するウエーハ1を示している。円盤状で結晶方位性を有するこのウエーハ1の厚さは、例えば600μm程度である。ウエーハ1の表面には、格子状の分割予定ライン2によって矩形状の半導体チップ(デバイス)3が区画されている。これら半導体チップ3の表面には、電子回路が形成されている。複数の半導体チップ3が形成された領域は、ウエーハ1と同心の概ね円形状のデバイス領域4であり、このデバイス領域4の周囲に環状の外周余剰領域5が存在している。
次に、図8および図9を参照して本発明の一実施形態のマーク検出機構について説明する。図8において符号30はマーク検出機構のベースフレームである。ベースフレーム30には、例えばデバイス形成装置のフレームなどが利用される。ベースフレーム30には、エンコーダが内蔵されたACサーボモータ31が取り付けられ、ACサーボモータ31の出力軸にはテーブルポスト32を介して回転テーブル33が取り付けられている。回転テーブル33の上面には多孔質部34が配置されている。一方、テーブルポスト32および回転テーブル33の内部には、多孔質部34と連通する孔が形成され、孔に図示しない真空吸引装置が接続されることにより、多孔質部34にウェーハ1が吸着される。
次に、上記構成のマーク検出機構の動作を説明する。
先ず、ウェーハ1は、その中心を回転テーブル33の回転中心に一致させるように位置決めされ、回転テーブル33上に載置される。その時点で回転テーブル33の吸引は開始されているので、ウェーハ1は回転テーブル33に吸着される。次いで、ACサーボモータ31が回転し、回転テーブル33の方位はエンコーダの値として制御部44に入力される。また、光センサ43は投光部から光をウェーハ1の側面に投光しており、マーク8が光センサ43の真正面に来たときに、受光部に受光される反射光の量が最大となる。つまり、光センサ43から制御部44に入力される反射光量情報が最大となり、制御部44は、そのときの回転テーブル33の方位をエンコーダの値として記録する。
3…半導体チップ(デバイス)
4…デバイス領域
5…外周余剰領域
7…面取り部(外周端部)
8…マーク
9…肉厚部
33…回転テーブル(保持テーブル)
43…光センサ(光学式センサ)
L…光軸
Claims (2)
- 複数のデバイスが表面に形成されるか形成される予定のデバイス領域の周囲に円形の外周余剰領域を有し、前記外周余剰領域の外周縁部の面取り部の領域内に、該半導体ウエーハの結晶方位を示すマークとして、該半導体ウエーハの面方向に直交する平坦面が該面取り部の領域内に形成されている半導体ウエーハの該平坦面を検出する機構であって、
該半導体ウェーハの面方向に平行な光軸を持つ光学式センサと、
該半導体ウェーハを保持する回転可能な保持テーブルと、
を備えたことを特徴とする半導体ウェーハの結晶方位指示マーク検出機構。 - 前記保持テーブルの回転軸にはエンコーダが具備され、前記光学式センサが反射光に反応した位置の回転軸のエンコーダ値を記憶する記憶手段と、該反応した位置からあらかじめ指定された位置に合致するよう該保持テーブルを回転させて停止する回転手段とを備えたことを特徴とする請求項1に記載の半導体ウェーハの結晶方位指示マーク検出機構。
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