JP2007303903A - 表面検査装置 - Google Patents
表面検査装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007303903A JP2007303903A JP2006131118A JP2006131118A JP2007303903A JP 2007303903 A JP2007303903 A JP 2007303903A JP 2006131118 A JP2006131118 A JP 2006131118A JP 2006131118 A JP2006131118 A JP 2006131118A JP 2007303903 A JP2007303903 A JP 2007303903A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- degrees
- linearly polarized
- angle
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
【解決手段】 被検基板の表面に形成された繰り返しパターンを直線偏光により照明する手段と、直線偏光の振動面の方向と繰り返しパターンの方向との成す角度を任意の角度φに設定して、繰り返しパターンから発生した正反射光のうち直線偏光の振動面に垂直な偏光成分の光強度を測定する手段(S1,S2)と、上記の成す角度を、角度φとは異なる φ+45度 , φ−45度 , φ+135度 , φ−135度 の何れかの角度に設定して、繰り返しパターンから発生した正反射光のうち直線偏光の振動面に垂直な偏光成分の光強度を測定する手段(S3,S4)と、測定された各々の光強度を加算して、加算後の光強度に基づいて、繰り返しパターンの欠陥を検出する検出手段(S5,S6)とを備える。
【選択図】 図7
Description
また、検査用の照明光として直線偏光を用い、繰り返しパターンから発生する光のうち、繰り返しパターンでの偏光状態の変化に関わる成分を受光して、欠陥検査を行う装置も提案されている(例えば特許文献1を参照)。この装置では、高感度な欠陥検査を行うために、照明光の直線偏光の向きを繰り返しパターンの繰り返し方向に対して45度の方向に設定している。
本発明の目的は、繰り返しパターンの方向が分からなくても高感度な欠陥検査を行える表面検査装置を提供することにある。
本実施形態の表面検査装置10は、図1に示す通り、被検基板20を支持するステージ11と、アライメント系12と、照明系13と、受光系14と、画像処理部15とで構成される。本実施形態の表面検査装置10は、一括撮像型の装置である。
被検基板20は、例えば半導体ウエハや液晶ガラス基板などである。被検基板20の表面(レジスト層)の各点には、図2に示す通り、検査すべき繰り返しパターン22が形成されている。繰り返しパターン22は、配線パターンなどである。繰り返しパターン22のライン部の配列方向(X方向)を「繰り返しパターン22の繰り返し方向」という。
偏光フィルタ34は、ライトガイドファイバ33の射出端近傍に配置され、その透過軸が所定の方位に設定される。そして、ライトガイドファイバ33からの発散光束の照明光L0(非偏光)を、透過軸の方位に応じた偏光状態(つまり直線偏光)に変換する。このため、偏光フィルタ34から凹面反射鏡35には、発散光束の照明光L0(直線偏光)が導かれる。
繰り返しパターン22の欠陥検査の際には、繰り返しパターン22の繰り返し方向(X方向)を所望の方向に設定することで、被検基板20の表面における照明光L1の振動面の方向(図3,図4のV方向)と、繰り返しパターン22の繰り返し方向(X方向)との成す角度を、所望の角度(例えば斜めの角度φまたはφ+45度)に設定することができる。このような照明光L1と繰り返しパターン22との角度関係は、被検基板20の表面の全域において略均一である。
繰り返しパターン22の構造性複屈折による直線偏光の楕円化の詳細は、本出願人が既に出願した国際公開2005/040776号パンフレットに記載されているので、ここでは詳しい説明を省略する。
本実施形態の表面検査装置10は、直線偏光の照明光L1(図3,図4)によって被検基板20の表面の繰り返しパターン22を照明し、このとき繰り返しパターン22から発生する楕円偏光の正反射光L2を受光系14に導き、その偏光状態(つまり楕円化の程度)に基づいて、繰り返しパターン22の欠陥検査を行うものである。
凹面反射鏡36は、照明系13の凹面反射鏡35と同様の構成であり、被検基板20の表面の繰り返しパターン22から発生した正反射光L2を反射して集光光束(正反射光L3)に変換し、偏光フィルタ37の方に導く。そして、凹面反射鏡36からの光(L3)の一部(L4)は、偏光フィルタ37を透過した後、集光レンズ38を介して、撮像素子39の撮像面に入射する。
このため、凹面反射鏡36からの光(L3)は、偏光フィルタ37を透過する際に、その透過軸の方位に応じた偏光成分L4(すなわち直線偏光の照明光L1の振動面に垂直な偏光成分)のみが抽出される。この偏光成分L4は、繰り返しパターン22から発生した楕円偏光の正反射光L2の偏光状態(つまり楕円化の程度)に応じた大きさを有する。
偏光フィルタ37からの偏光成分L4は、集光レンズ38を介して撮像素子39の撮像面に入射する。このとき、撮像素子39の撮像面には、上記の偏光成分L4によって、被検基板20の表面の反射像が形成される。撮像素子39は、凹面反射鏡36と集光レンズ38とを介して、被検基板20の表面と共役な位置に配置される。撮像素子39は、例えばCCD撮像素子などであり、撮像面に形成された被検基板20の表面の反射像を光電変換し、各画素ごとの受光信号を画像処理部15に出力する。
画像処理部15は、被検基板20の反射画像を取り込むと、その輝度情報と例えば良品サンプルの反射画像の輝度情報とを比較する。良品サンプルとは、理想的な形状で欠陥のない繰り返しパターン22を表面全域に形成したものである。
そして、画像処理部15は、被検基板20の反射画像における輝度値の変化量に基づいて、繰り返しパターン22の欠陥を検出する。例えば、輝度値の変化量が予め定めた閾値(許容値)より大きければ「欠陥」と判定し、閾値より小さければ「正常」と判定すればよい。また、良品サンプルを使わずに、被検基板20の反射画像の中での輝度値の変化量を所定の閾値と比較してもよい。
IL4 = (EL4)2 = E2/4・(γX−γY)2・sin2(2φ) …(1)
式(1)において、EL4は偏光成分L4の振幅、Eは照明光L1の振幅、γXは繰り返しパターン22の繰り返し方向(X方向)の振幅反射率、γYは繰り返し方向(X方向)に垂直な方向(Y方向)の振幅反射率である。
EX' = γX・Ecosφ …(2)
EY' = γY・Esinφ …(3)
そして、正反射光L2の各成分の振幅EX',EY'を受光系14の偏光フィルタ37の透過軸の方位に投影し(図6(b))、これらを次の式(4)にしたがって加算すると、偏光成分L4の振幅EL4が得られる。さらに、この振幅EL4を二乗すれば、式(1)の偏光成分L4の大きさ(光強度IL4)を求めることができる。
式(1)において、被検基板20の繰り返しパターン22では、一般に、構造性複屈折のために、振幅反射率γX,γYが異なった値となり、この差(γX−γY)が繰り返しパターン22のライン&スペースに固有の値となる。
振幅反射率の差(γX−γY)を最も効率よく検出するには、式(1)から、2φ=90度(すなわちφ=45度)であればよいことが分かる(図5の状態)。角度φを45度に設定すれば、最も構造性複屈折の影響を受けやすく、偏光成分L4が最大となる。このとき、偏光成分L4の大きさ(光強度IL4(45度))は、式(5)のように表される。
検査対象となる繰り返しパターン22の繰り返し方向(X方向)が事前に分かっていれば、この繰り返し方向(X方向)と照明光L1の振動面の方向(V方向)との成す角度を45度に設定することができ(図5の状態)、高感度な欠陥検査を行うことができる。しかし、繰り返しパターン22の方向(X方向)は常に把握できるとは限らず、事前に分からない可能性も十分に考えられる。
ステップS1では、繰り返しパターン22の方向(X方向)を所望の方向に設定して、この方向(X方向)と照明光L1の振動面の方向(V方向)との成す角度を、例えば図3に示す斜めの角度φ(0度<φ<90度)に設定する。ただし、角度φを斜めにする必要はなく、0度や90度に設定しても同様の効果が得られる。つまり、ステップS1では、繰り返しパターン22の方向(X方向)と照明光L1の振動面の方向(V方向)との成す角度を任意の角度φに設定すればよい。
次に(ステップS2)、ステップS1で設定した角度φの状態を保ち、被検基板20の反射画像を画像処理部15に取り込む。このとき取り込んだ反射画像の各画素値は、繰り返しパターン22から発生した正反射光L2の偏光状態(つまり式(1)によって表される偏光成分L4の光強度IL4)に比例している。
このとき、繰り返しパターン22から発生した正反射光L2のうち、撮像素子39の撮像面に入射する偏光成分L4は、その振幅EL4(図8(b))および光強度IL4が、次の式(6),(7)によって表される。図8(a)には正反射光L2の振幅EX',EY'を示した。
= E/2・(γX−γY)・cos(2φ) …(6)
IL4(φ+45度) = (EL4(φ+45度))2 = E2/4・(γX−γY)2・cos2(2φ) …(7)
次に(ステップS4)、ステップS3で設定した角度φ+45度の状態を保ち、被検基板20の反射画像を画像処理部15に取り込む。このとき取り込んだ反射画像の各画素値は、繰り返しパターン22から発生した正反射光L2の偏光状態(つまり式(7)によって表される偏光成分L4の光強度IL4(φ+45度))に比例している。
Iadd = IL4 + IL4(φ+45度)… (8)
式(8)の右辺各項に式(1),(7)を代入して計算すると分かるように(式(9)を参照)、加算後の画素値(光強度Iadd)は、上記の式(5)に示す光強度IL4(45度)、つまり、繰り返しパターン22の方向(X方向)と照明光L1の振動面の方向(V方向)との成す角度を45度に設定にしたとき(図5)の光強度に等しい。
= E2/4・(γX−γY)2 …(9)
2枚の反射画像の画素値を対応点どうしで加算し終えると、画像処理部15では、次のステップS6の処理に進み、加算後の画素値(光強度Iadd)に基づいて繰り返しパターン22の欠陥を検出する。
したがって、加算後の画素値(光強度Iadd)と例えば良品サンプルの画素値とを比較し、繰り返しパターン22の欠陥を検出することで、仮想的に、繰り返しパターン22の方向(X方向)と照明光L1の振動面の方向(V方向)との成す角度を45度に設定した図5の場合と同等の高感度な欠陥検査を行うことができる。
繰り返しパターン22の方向(X方向)は、被検基板20の表面の各層(各工程)ごとに異なる場合があり、常に把握できるとは限らない。しかし、このような場合であっても、本実施形態の表面検査装置10を用いれば、全ての層(全工程)の繰り返しパターン22の欠陥検査を高感度に行うことができる。
(変形例)
上記した実施形態では、ステージ11の回転によって繰り返しパターンの方向(X方向など)を回転させ、その繰り返し方向(X方向など)と照明光L1の振動面の方向(V方向)との成す角度を設定したが、本発明はこれに限定されない。ステージ11を回転させる代わりに、照明系13と受光系14の偏光フィルタ34,37を回転させて、照明光L1の振動面の方向(V方向)を回転させ、同様の角度設定を行ってもよい。また、ステージ11の回転と偏光フィルタ34,37の回転とを組み合わせてもよい。偏光フィルタ34,37を回転させる場合には、それぞれ、クロスニコルの状態を保ちながら同期させて回転させることが必要になる。
14 受光系 ; 15 画像処理部 ; 20 被検基板 ; 22,23 繰り返しパターン ;
31 光源 ; 32 波長選択フィルタ ; 33 ライトガイドファイバ ;
34,37 偏光フィルタ ; 35,36 凹面反射鏡 ; 38 集光レンズ ; 39 撮像素子
Claims (2)
- 被検基板の表面に形成された繰り返しパターンを直線偏光により照明する照明手段と、
前記直線偏光の振動面の前記表面における方向と前記繰り返しパターンの繰り返し方向との成す角度を任意の角度φに設定して、前記繰り返しパターンから発生した正反射光のうち前記直線偏光の振動面に垂直な偏光成分の光強度を測定する第1測定手段と、
前記成す角度を、前記角度φとは異なる φ+45度 , φ−45度 , φ+135度 , φ−135度 の何れかの角度に設定して、前記繰り返しパターンから発生した正反射光のうち前記直線偏光の振動面に垂直な偏光成分の光強度を測定する第2測定手段と、
前記第1測定手段および前記第2測定手段によって測定された各々の光強度を加算して、加算後の光強度に基づいて、前記繰り返しパターンの欠陥を検出する検出手段とを備えた
ことを特徴とする表面検査装置。 - 被検基板の表面に形成された繰り返しパターンを直線偏光により照明する照明手段と、
前記直線偏光の振動面の前記表面における方向と前記繰り返しパターンの繰り返し方向との成す角度を任意の角度φに設定して、前記繰り返しパターンから発生した正反射光のうち前記直線偏光の振動面に垂直な偏光成分に基づいて、前記被検基板の画像を取り込む第1処理手段と、
前記成す角度を、前記角度φとは異なる φ+45度 , φ−45度 , φ+135度 , φ−135度 の何れかの角度に設定して、前記繰り返しパターンから発生した正反射光のうち前記直線偏光の振動面に垂直な偏光成分に基づいて、前記被検基板の画像を取り込む第2処理手段と、
前記第1処理手段および前記第2処理手段によって取り込まれた各々の画像の画素値を前記被検基板の同じ位置に対応する画素どうしで加算して、加算後の画素値に基づいて、前記繰り返しパターンの欠陥を検出する検出手段とを備えた
ことを特徴とする表面検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006131118A JP4462232B2 (ja) | 2006-05-10 | 2006-05-10 | 表面検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006131118A JP4462232B2 (ja) | 2006-05-10 | 2006-05-10 | 表面検査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007303903A true JP2007303903A (ja) | 2007-11-22 |
JP4462232B2 JP4462232B2 (ja) | 2010-05-12 |
Family
ID=38837951
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006131118A Expired - Fee Related JP4462232B2 (ja) | 2006-05-10 | 2006-05-10 | 表面検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4462232B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009300216A (ja) * | 2008-06-12 | 2009-12-24 | Nikon Corp | 観察装置 |
WO2010052934A1 (ja) * | 2008-11-10 | 2010-05-14 | 株式会社ニコン | 評価装置および評価方法 |
CN101923060A (zh) * | 2009-06-04 | 2010-12-22 | 松下电器产业株式会社 | 摄像检查方法 |
JP2014517914A (ja) * | 2011-04-18 | 2014-07-24 | イスメカ セミコンダクター ホールディング エス アー | 検査装置 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101835806B1 (ko) | 2016-11-18 | 2018-03-07 | 주식회사 오로스테크놀로지 | 기준 미러를 사용한 웨이퍼 표면의 형상 변화값을 검출하는 방법 |
-
2006
- 2006-05-10 JP JP2006131118A patent/JP4462232B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009300216A (ja) * | 2008-06-12 | 2009-12-24 | Nikon Corp | 観察装置 |
WO2010052934A1 (ja) * | 2008-11-10 | 2010-05-14 | 株式会社ニコン | 評価装置および評価方法 |
US8334977B2 (en) | 2008-11-10 | 2012-12-18 | Nikon Corporation | Evaluation device and evaluation method |
US8705034B2 (en) | 2008-11-10 | 2014-04-22 | Nikon Corporation | Evaluation device and evaluation method |
JP5489003B2 (ja) * | 2008-11-10 | 2014-05-14 | 株式会社ニコン | 評価装置および評価方法 |
CN101923060A (zh) * | 2009-06-04 | 2010-12-22 | 松下电器产业株式会社 | 摄像检查方法 |
JP2014517914A (ja) * | 2011-04-18 | 2014-07-24 | イスメカ セミコンダクター ホールディング エス アー | 検査装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4462232B2 (ja) | 2010-05-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4552859B2 (ja) | 表面検査装置および表面検査方法 | |
JP4548385B2 (ja) | 表面検査装置 | |
TWI409455B (zh) | Surface inspection device | |
JP5585615B2 (ja) | 検査装置および検査方法 | |
JP2013083672A (ja) | 観察装置、検査装置および検査方法 | |
JP4692892B2 (ja) | 表面検査装置 | |
JP2009192520A (ja) | 表面検査装置 | |
JP4462232B2 (ja) | 表面検査装置 | |
JP4506723B2 (ja) | 表面検査装置 | |
JP4696607B2 (ja) | 表面検査装置 | |
JP4605089B2 (ja) | 表面検査装置 | |
JP5212779B2 (ja) | 表面検査装置および表面検査方法 | |
JP4552202B2 (ja) | 表面検査装置 | |
JP2010096596A (ja) | 評価装置 | |
JP2009198396A (ja) | 表面検査装置および表面検査方法 | |
JP2008008777A (ja) | 表面検査装置 | |
JP4635939B2 (ja) | 表面検査装置 | |
JP5299764B2 (ja) | 評価装置および評価方法 | |
JP2006266817A (ja) | 表面検査装置 | |
JP4462222B2 (ja) | 表面検査装置 | |
JP2010107465A (ja) | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 | |
JP2009068892A (ja) | 検査装置 | |
JP5201443B2 (ja) | 表面検査装置および表面検査方法 | |
JP5354362B2 (ja) | 表面検査装置 | |
JP2011149951A (ja) | 表面検査装置および表面検査方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100112 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100126 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100208 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130226 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4462232 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130226 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130226 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140226 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |