JP2007301057A - 足用マッサージ機 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】足用マッサージ機1は、本体ケーシング2上に凹状受け部3及び脚受け部4が形成され、本体ケーシング2は底面から脚受け部4の背面側にかけて膨らみ湾曲面21を有し、本体ケーシング2、凹状受け部3及び脚受け部4は、該膨らみ湾曲面21によって一体的に前後方向に揺動可能である。マッサージ機1の傾き角度が変化しても、凹状受け部3と脚受け部4とが成す角度は不変であるから、マッサージ機1を後傾したときに、脹ら脛や足先の筋、筋肉が突っ張ることはなく、筋、筋肉が弛緩し、リラックスした状態を維持できる。
【選択図】図1
Description
例えば、特許文献1に記載の足用マッサージ機は、被施療者の足先を挿入する足先用ユニットと、被施療者の脹ら脛を挿入する脹ら脛用ユニットを具える。足先用ユニット及び脹ら脛用ユニットには、夫々エアバッグ等、被施療者にマッサージを施すマッサージ手段が配備されている。
特許文献1の足用マッサージ機は、床面に載置される足先用ユニットに対して、脹ら脛用ユニットを前後に傾動可能に連結しており、足先を足先用ユニットに載せた状態で、脹ら脛を後方に倒すと、脹ら脛の角度に応じて脹ら脛用ユニットが後方に傾くようにしている。
上記構成とすることで、被施療者が仰向けに寝転んだ状態でも、マッサージを受けることができる。
本体ケーシング(2)上に凹状受け部(3)及び脚受け部(4)が形成され、本体ケーシング(2)は、底面の後部から脚受け部の背面側にかけて膨らみ湾曲面(21)を有し、本体ケーシング(2)、凹状受け部(3)及び脚受け部(4)は、該膨らみ湾曲面(21)によって一体的に前後方向に揺動可能であることを特徴とする。
従って、血管が圧迫されたり、血流が阻害されることはなく、マッサージ効果を高い状態で受けることができる。
[実施例1]
図1、図2は、本発明の足用マッサージ機(1)の使用状態の説明図、図3はマッサージ機(1)を正面側から見た斜視図、図4は、背面側から見た斜視図である。図5は、マッサージ機(1)の平面図、図6は背面図である。
図1に示す如く、椅子に座った被施療者の足先を凹状受け部(3)に、脹ら脛を脚受け部(4)に収容した状態で足先の向く方向を、以下「前」とする。
凹状受け部(3)の底部(31)の前後方向の長さは30〜35cm程度、幅長さは13〜15cm程度で、大人の足裏長さ、足裏幅長さに対して十分余裕がある。
脚受け部(4)の高さは30〜40cm程度である。
背壁(17)上又は背壁内には、脹ら脛を後側から押圧してマッサージする脹ら脛マッサージ手段(13)が配備されている。
両側壁(10)(10)及び仕切り壁(12)には、エアー圧で膨らんで、足の甲や脛を側面から押圧して足の固定とマッサージ手段を兼用する足固定手段(15)(16)が配備されている。
マッサージ手段(11)(13)及び固定手段(15)(16)は、通常布カバーで覆われているので、図1乃至図6等では図示していない。
尚、本願発明においては、足裏マッサージ手段(11)、脹ら脛マッサージ手段(13)、マッサージ兼用の固定手段(15)(16)の少なくとも何れか一つを具えていればよい。
各脚部(20)は凹状受け部(3)の真下と脚受け部(4)の真後ろを通って延びている。
脚部(20)(20)の接地面である底部は湾曲して膨らんだ膨らみ湾曲面(21)に形成され、本体ケーシング(2)は該膨らみ湾曲面(21)によって前後方向に揺動可能である。
膨らみ湾曲面(21)は、前記凹状受け部(3)の前部と対応する本体ケーシング(2)底部の前部にて上向きに湾曲した前側膨らみ湾曲面(21b)と、本体ケーシング(2)底部の後寄りから背壁(17)の上部へ延びる後側膨らみ湾曲面(21a)を有し、両膨らみ湾曲面(21a)(21b)はフラット面(22)を介して連続している。
フラット面(22)の前後方向の中心位置は、凹状受け部(3)の前後方向の中心位置よりも少し後位置にある。
フラット面(22)が床面に着地した状態にて、凹状受け部(3)の底部(31)は後側が少し低く傾斜し、脚受け部(4)も少し後傾気味となる。このときのマッサージ機(1)の姿勢は、図1に示す如く、被施療者が椅子に坐ってマッサージ機(1)を使用する際に、施療者の足先が自然状態で凹状受け部(3)の底部(31)に接し、脹ら脛は自然な状態で脚受け部(4)に収容できる。
マッサージ機(1)の重心位置Pは、フラット面(22)が床面に着地した状態にて、フラット面(22)の前後方向の中心に対する垂直線の近傍にある。
このため、マッサージ機(1)自体は、傾き姿勢から自重でフラット面(22)が床面に着地する様に復帰する。
被施療者が足裏を凹状受け部(3)の後端に寄せて凹状受け部(3)上に起立状態で載った状態で、被施療者を含むマッサージ機(1)の重心Pも、フラット面(22)の真上位置内となる。言い換えると重心位置Pは、後側膨らみ湾曲面(21a)より前位置にあり、前側膨らみ湾曲面(21b)よりも後位置にある。
後側膨らみ湾曲面(21a)は、図7に示す如く、被施療者が脹ら脛を背壁(17)に付けて凹状受け部(3)に足裏を載せた状態で、足の甲近傍に半径中心R1が位置する。又、後側膨らみ湾曲面(21a)の半径中心R1は、フラット面(22)を床面に接地した状態で、フラット面(22)の後端の真上に位置する。
本体ケーシング(2)の前側膨らみ湾曲面(21b)の半径中心R2は、凹状受け部(3)の底部(31)より下位地にあり、フラット面(22)を床面に接地した状態で、フラット面(22)の前端の真上位置にある。
実施例の滑止め部(5)はゴム又は摩擦係数の大きな合成樹脂で形成されており、脚部の長手方向に直交する方向に延びるリブ(52)を長手方向に密なるピッチで突設したリブ列(51)を具えている。リブ列(51)の各リブ(52)は、図10の円内拡大部分に示す様に、マッサージ機(1)を前方に滑らす方向には大きな摩擦抵抗が作用し、後方に滑らすには小さな摩擦抵抗が作用する方向に傾いている。
後側膨らみ湾曲面(21a)は、足の甲の近傍の一点を中心とする円弧面であるから前後への揺動は極めて滑らかであり、足の上下方向の移動量が小さくて済むので、マッサージ機(1)は被施療者の施療姿勢に速やかに反応して最適に傾き、被施療者は楽な姿勢でマッサージを受けることができる。
従って、血管が圧迫されたり、血流が阻害されることはなく、マッサージ効果を高い状態で受けることができる。
又、マッサージ機(1)自体の重心位置及び、凹状受け部(3)上に起立した被施療者を含む重心位置は、脚部(20)(20)のフラット面(22)の真上の範囲内に位置しているから、被施療者が凹状受け部(3)上で起立したときに、被施療者の立ち姿勢を安定させ、転倒を防止できる。
マッサージ機自体の重心及び、被施療者が足を凹状受け部(3)及び脚受け部(4)に入れたときの重心Pは、図7、図8に示す如く、後側膨らみ湾曲面(21a)の円弧中心R1よりつま先側に位置しており、脹ら脛マッサージ手段(13)が脹ら脛に接触する方向にマッサージ機が円弧中心R1を中心に回動しようとするので、脹ら脛マッサージ手段(13)によって脹ら脛を常に良好にマッサージすることができる。
滑止め部(5)は前方への移動に対しては大きな摩擦抵抗が作用するから、マッサージ中に、滑止め部(5)が前方へ移動し、被施療者の脚が伸びきって適切なマッサージを受けることが出来ない事態を回避できる。
図11に示す如く、上記マッサージ機(1)において、脚受け部(4)の背面側に、マッサージ機(1)の後傾角度を規制するストッパ(6)が設けられている。
ストッパ(6)は前記脚部(20)(20)間を繋いで設けた丸軸(61)に筒状の弾性カバー(62)を被せて形成されている。
図2に示す如く、脚受け部(4)が床面に対して略垂直状態から45°程度後傾するとストッパ(6)が床面に当たって、それ以上の後傾は阻止される。
ストッパ(6)は、マッサージ機(1)を持ち上げる際の取っ手を兼用している。
ストッパ(6)は、弾性筒体(62)でカバーされているから、ストッパ(6)が床面に衝突したときの衝撃が緩和され、足に不快感を感じない。
又、ストッパ(6)を握ってマッサージ機(1)を持ち上げる際に、滑り難い。
図13及び図6は、上記マッサージ機(1)において、マッサージ機(1)の後傾を阻止する安全スタンド(7)を配備した例を示している。
安全スタンド(7)は、脚部(20)(20)間に架設された支軸(71)を中心に回動して脚部(20)(20)間から外側に出没可能であり、マッサージ機(1)を使用する際には、図14に示す如く、畳んで脚部(20)(20)間に収容することで、マッサージ機(1)の揺動を妨げることはない。
図13の矢印に示す如く、安全スタンド(7)を引き出すと、脚部(20)(20)のフラット面(22)が床面に接地した状態からの後傾が阻止される。
不用意にマッサージ機(1)の凹状受け部(3)に乗った際に、マッサージ機(1)の後傾による転倒を防止できる。
マッサージ機(1)の底部前側にも、脚受け部(4)の前傾を防止する安全スタンド(図示せず)を配備することができる。
安全スタンドは、必要に応じて、マッサージ機(1)の前側或いは後側の何れか一方だけでもよい。
図15、図16は、脹ら脛マッサージ手段(13)とマッサージ手段兼用の足固定手段(16)をユニット(19)としてマッサージ機(1)から独立させて、該ユニット(19)を脚受け部(4)上に高さ位置調節可能に配備した例を示している。
被施療者の脹ら脛の高さ位置の相違、脹ら脛の患部の高さ位置の相違に対応して、ユニット(19)の高さ位置を変更して、最適の脹ら脛マッサージを受けることができる。
図18は、上記実施例4のユニット(19)を最上位置にセットした状態を示している。このときの重心は、後側膨らみ湾曲面(21a)の半径中心R1より内側に位置している。
図18の状態の場合、マッサージ機(1)は無負荷状態では自然に後傾して、マッサージ機(1)の使用上での全高さを低く抑えることができる。
そのため、ユニット(19)を高くしても、凹状受け部(3)や脚受け部(4)に足先や脹ら脛を収容する際に、足を必要以上に高く上げることはない。
尚、図15乃至18では、ユニット(19)に脹ら脛マッサージ手段(13)と足固定手段(16)を具えているが、何れか一つ具えておればよく、ユニット(19)を脹ら脛マッサージ手段ということもできる。
図19は、マッサージ機(1)の脚部(20)(20)の後側膨らみ湾曲面(21a)を、平坦壁(23)が円弧に沿って連続する形状としている。
この場合、図2の寝ころび姿勢でマッサージ機(1)を使用する際、被施療者の脚の姿勢に対応して後側膨らみ湾曲面(21a)の何れか1つの平坦壁(23)が床面に接地し、マッサージ機(1)の姿勢が安定した状態でマッサージを受けることができ、マッサージ効果を高めることができる。
又、実施例1乃至4の何れの場合も、膨らみ湾曲面(21)は、床面に対して線当たりとなり、床面に対して力の掛かりが大きいので、床面を傷つける虞れがある。又、マッサージ機(1)を前後移動させる抵抗も大きくなる。
これに対して、実施例5では、床面に対して平坦壁(23)が面当たりとなるから、上記した、後側膨らみ湾曲面(21a)が床面に対して線当たりとなる問題は解消される。
(11) 足裏マッサージ手段
(13) 脹ら脛マッサージ手段
(2) 本体ケーシング
(20) 脚部
(21) 膨らみ湾曲面
(22) フラット面
(3) 凹状受け部
(4) 脚受け部
Claims (13)
- 被施療者の足先を挿入する凹状受け部を前後方向に略平行に具え、被施療者の脹ら脛を挿入する脚受け部を前記凹状受け部の後端から上向きに具え、凹状受け部と脚受け部の少なくとも一方にマッサージ手段を具えた足用マッサージ機において、
本体ケーシング上に凹状受け部及び脚受け部が形成され、本体ケーシングは底面に、凹状受け部の前部から脚受け部の背面側にかけて膨らみ湾曲面を有し、本体ケーシング、凹状受け部及び脚受け部は、該膨らみ湾曲面によって一体に前後方向に揺動可能であることを特徴とする足用マッサージ機。 - 被施療者の足先を挿入する凹状受け部を前後方向に略平行に具え、被施療者の脹ら脛を挿入する脚受け部を前記凹状受け部の後端から上向きに具え、凹状受け部と脚受け部の少なくとも一方にマッサージ手段を具えた足用マッサージ機において、
本体ケーシング上に凹状受け部及び脚受け部が形成され、本体ケーシングは底面の後部から脚受け部の背面側にかけて膨らみ湾曲面を有し、本体ケーシング、凹状受け部及び脚受け部は、該膨らみ湾曲面によって一体的に前後方向に揺動可能であることを特徴とする足用マッサージ機。 - マッサージ機自体の重心位置及び、凹状受け部に足裏を載せて起立した被施療者を含む重心位置が、本体ケーシング底面の後側膨らみ湾曲面よりも前側に位置する、請求項2に記載の足用マッサージ機。
- 本体ケーシングの底面には、後側膨らみ湾曲面に連続するフラット面が形成されており、フラット面を床面に接地させた状態において、マッサージ機自体の重心位置及び、凹状受け部に足裏を載せて起立した被施療者を含む重心位置が、前記フラット面の真上の範囲に位置する、請求項2又は3に記載の足用マッサージ機。
- 本体ケーシング底面前側には、フラット面に連続して上向きに延びる膨らみ湾曲面が形成されている、請求項4に記載の足用マッサージ機。
- 膨らみ湾曲面は、平坦壁が多角形状に連続して形成されている、請求項1乃至4の何れかに記載の足用マッサージ機。
- 膨らみ湾曲面は、一点を曲率中心とする円弧面である、請求項1乃至5の何れかに記載の足用マッサージ機。
- 膨らみ湾曲面に滑止め部材が設けられている、請求項1乃至7の何れかに記載の足用マッサージ機。
- 滑止め部材は膨らみ湾曲面に沿う方向に密なるピッチで配列されたリブ列であり、リブ列の各リブは本体ケーシングを後方に滑らせるには小さな摩擦抵抗が作用し、前方に滑らせるには大きな摩擦抵抗が作用する方向に傾斜している、請求項8に記載の足用マッサージ機。
- 脚受け部の背面側にマッサージ機の後傾角度を規制するストッパーが設けられている、請求項1乃至9の何れかに記載の足用マッサージ機。
- ストッパーは、マッサージ機を持つための取っ手を兼用している、請求項10記載の足用マッサージ機。
- 本体ケーシングには、本体ケーシングの後方への傾動及び/又は前方への傾動を阻止する安全スタンドが、本体ケーシングから出没可能に設けられている、請求項1乃至11の何れかに記載の足用マッサージ機。
- 脚受け部に、該脚受け部から独立した脹ら脛マッサージ手段が、取付け高さ位置調節可能に配備されている、請求項1乃至12の何れかに記載の足用マッサージ機。
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