JP2007297554A

JP2007297554A - セルロース体フィルム、光学補償シート、偏光板、液晶表示装置

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Publication number: JP2007297554A
Application number: JP2006128452A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Nozoe; 寛野副; Tei Daimatsu; 禎大松
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2006-05-02
Filing date: 2006-05-02
Publication date: 2007-11-15
Anticipated expiration: 2026-05-02
Also published as: JP4887072B2; US20070259134A1

Abstract

【課題】膜厚方向のレターデーションが負の発現性を有し、更に透水性や含水率の低いセルロース体フィルム、並びにこれを用いた光学補償フィルム、偏光板、及び液晶表示装置を提供する。
【解決手段】下記数式（１）により算出される分極率異方性の値Δαが異なる２つ以上の置換基を有するセルロース体であって、分極率異方性の値Δαが最小の置換基をＡ、分極率異方性の値Δαが最大の置換基をＢとしたとき、置換基Ａ及び置換基Ｂの置換度が下記関係式（Ａ１）を満たすセルロース体フィルム。

（式中、分極率テンソルを対角化後に得られる固有値の内、αｘは最大の成分であり、αｙは二番目に大きい成分であり、αｚは最小の成分である。）

（ここで、ＤＳ_B２、ＤＳ_B３、及びＤＳ_B６はそれぞれ、セルロースの構成単位であるβ−グルコース環の２位、３位、及び６位における前記置換基Ｂの置換度を表す。）
【選択図】なし

Description

本発明は、レターデーションが負であり、薄いフィルム厚みで所望のレターデーションを得られるセルロース体フィルム、これを用いた光学補償フィルム、偏光板及び液晶表示装置に関する。

セルロースアシレートフィルムは適度な透水性を有し、光学的等方性が高い（レターデーションの絶対値が低い）ことから、液晶表示装置向けの偏光板保護フィルムとして広く利用されてきた。
近年、液晶表示装置の普及に伴い、表示性能や耐久性に対する要求がより高くなり、応答速度の向上や、表示画像に対して斜め方向から観察した場合のコントラストやカラーバランスといった視野角をより広範囲で補償することが課題となっている。これらの課題を解決すべく、各種液晶モードが開発されており、それに伴って各モードに対応して視野角を補償する目的で位相差フィルムを光学補償フィルムとして開発することが急務となっている。
更に上記に加えて、パネルの薄型化やコストの低減化が液晶表示装置に求められており、液晶表示装置に用いられる偏光板の保護フィルムに上記の位相差フィルムの機能を併せ持たせる方法が検討されるようになってきている。

一方、液晶テレビの表示モードの多様化により、必要とされる位相差フィルムも多様化しており、その１つとして膜厚方向のレターデーションが負の位相差フィルムが望まれるようになった。例えば、横電界を液晶に対して印加する、いわゆるインプレーンスイッチング（ＩＰＳ）モードでは、色調や黒表示の視野角を改善する手段の一つとして、液晶層と偏光板の間に光学補償フィルムとして複屈折が正で光学軸がフィルムの面内にある膜と複屈折が正で光学軸がフィルムの法線方向にある膜とを組み合わせた複屈折特性を有する光学補償材料を配置することが提案されている（特許文献１参照）。
前記の要求に対し、膜厚方向のレターデーションが負であるセルロースアシレートフィルムとして、アシル置換度が低いセルロースアシレートを冷却溶解する方法（特許文献２参照）が提案されている。しかし、これらの方法ではＲｔｈが十分に低減せず、更にＲｔｈを小さくすることができる方法が求められていた。また、この方法により作製されたセルロースアシレートフィルムでは、フィルムの透水性や含水率が大きく、偏光板用の保護フィルムとして使用した場合の偏光板の耐久性、特に高温高湿条件における偏光板性能の劣化が大きいことが問題であった。

特開平１１−１３３４０８号公報特開２００５−１２０３５２号公報

本発明の目的は、膜厚方向のレターデーションが負の発現性を有し、更に透水性や含水率の低いセルロース体フィルム、並びにこれを用いた光学補償シート、偏光板、及び液晶表示装置を提供することである。

本発明者らは鋭意検討した結果、セルロース体において、置換基の置換位置がレターデーション発現性に大きく影響すること、特に分極率異方性の大きい置換基の場合、置換位置により前記レターデーション発現性が劇的に変化することを見出し、更にオクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）が特定の範囲であるレターデーション調節剤をセルロース体フィルムに含有させることで透水性や含水率が低減し、偏光板用の保護フィルムとして使用した場合の偏光板の耐久性を向上できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
すなわち本発明の課題は下記手段により解決できる。
＜１＞下記数式（１）により算出される分極率異方性の値Δαが異なる２つ以上の置換基を有するセルロース体を含有するセルロース体フィルムであって、前記セルロース体における分極率異方性の値Δαが最小の置換基をＡ、分極率異方性の値Δαが最大の置換基をＢとしたとき、置換基Ａ及び置換基Ｂの置換度が下記関係式（Ａ１）を満たすことを特徴とするセルロース体フィルム。

（式中、αｘは、分極率テンソルを対角化後に得られる固有値の内、最大の成分であり；αｙは、分極率テンソルを対角化後に得られる固有値の内、二番目に大きい成分であり；αｚは、分極率テンソルを対角化後に得られる固有値の内、最小の成分である。）

（ここで、ＤＳ_B２、ＤＳ_B３、及びＤＳ_B６はそれぞれ、セルロースの構成単位であるβ−グルコース環の２位、３位、及び６位における前記置換基Ｂの置換度を表す。）
＜２＞フィルムの膜厚方向のレターデーションＲｔｈが負であることを特徴とする＜１＞項に記載のセルロース体フィルム。
＜３＞前記置換基Ａ及び前記置換基Ｂの合計置換度が下記関係式（Ａ２）を満たすことを特徴とする＜１＞又は＜２＞項に記載のセルロース体フィルム。

（ここで、ＤＳ_A２、ＤＳ_A３、及びＤＳ_A６はそれぞれ、セルロースの構成単位であるβ−グルコース環の２位、３位、及び６位における前記置換基Ａの置換度を表し、ＤＳ_B２、ＤＳ_B３、及びＤＳ_B６はそれぞれ、セルロースの構成単位であるβ−グルコース環の２位、３位、及び６位における前記置換基Ｂの置換度を表す。）
＜４＞前記置換基Ａ及び前記置換基Ｂの合計置換度が下記関係式（Ａ３）を満たすことを特徴とする＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載のセルロース体フィルム。

（ここで、ＤＳ_A２、ＤＳ_A３、及びＤＳ_A６はそれぞれ、セルロースの構成単位であるβ−グルコース環の２位、３位、及び６位における前記置換基Ａの置換度を表し、ＤＳ_B２、ＤＳ_B３、及びＤＳ_B６はそれぞれ、セルロースの構成単位であるβ−グルコース環の２位、３位、及び６位における前記置換基Ｂの置換度を表す。）
＜５＞前記置換基Ｂの分極率異方性の値が２．５×１０^-24ｃｍ³以上であることを特徴とする＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載のセルロース体フィルム。
＜６＞前記の分極率異方性の値が２．５×１０^-24ｃｍ³以上である置換基Ｂが芳香族アシル基であることを特徴とする＜５＞項に記載のセルロース体フィルム。
＜７＞オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）が１．０〜１０．０であるレターデーション調節剤を含有することを特徴とする＜１＞〜＜６＞のいずれか１項に記載のセルロース体フィルム。
＜８＞フィルムの２５℃８０％ＲＨにおける平衡含水率が３．０％以下であることを特徴とする＜１＞〜＜７＞のいずれか１項に記載のセルロース体フィルム。
＜９＞フィルムの搬送方向、及び／又はこれと垂直な方向に１％以上１００％以下延伸されたことを特徴とする＜１＞〜＜８＞のいずれか１項に記載のセルロース体フィルム。
＜１０＞下記数式（１１−１）を満たすレターデーション調節剤を少なくとも１種含むことを特徴とする＜１＞〜＜９＞のいずれか１項に記載のセルロース体フィルム。

Ｒｔｈ(ａ)：当該レターデーション調節剤を、アセチル置換度２．８６のセルロースアセテートに対してａ質量％含有させた、膜厚８０μｍのセルロースアセテートフィルムの波長５８９ｎｍにおけるＲｔｈ（ｎｍ）
Ｒｔｈ(０)：当該レターデーション調節剤を含有しないアセチル置換度２．８６のセルロースアセテートのみからなる膜厚８０μｍのフィルムの波長５８９ｎｍにおけるＲｔｈ（ｎｍ）
ａ：セルロースアセテート１００質量部に対する当該レターデーション調節剤の質量部
＜１１＞前記レターデーション調節剤が、下記一般式（１）〜（１９）のいずれかで表される化合物のうち少なくとも１種であることを特徴とする＜１０＞項に記載のセルロース体フィルム。

（一般式（１）中、Ｒ¹¹〜Ｒ¹³はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０の脂肪族基を表し、該脂肪族基は置換基を有していてもよい。Ｒ¹¹〜Ｒ¹³は互いに連結して環を形成してもよい。）

（一般式（２）及び（３）中、Ｚは炭素原子、酸素原子、硫黄原子または−ＮＲ²⁵−を表し、Ｒ²⁵は水素原子またはアルキル基を表す。Ｚを含んで構成される５または６員環は置換基を有していても良い。Ｙ²¹、Ｙ²²はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０の、エステル基、アルコキシカルボニル基、アミド基またはカルバモイル基を表し、Ｙ²¹、Ｙ²²は互いに連結して環を形成してもよい。ｍは１〜５の整数を表し、ｎは１〜６の整数を表す。）

（一般式（４）〜（１２）中、Ｙ³¹〜Ｙ⁷⁰はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０の、エステル基、アルコキシカルボニル基、アミド基もしくはカルバモイル基、またはヒドロキシ基を表し、Ｖ³¹〜Ｖ⁴³はそれぞれ独立に水素原子または炭素原子数１〜２０の脂肪族基を表す。Ｌ³¹〜Ｌ⁸⁰はそれぞれ独立に、構成する原子数が０〜４０であって、かつ、炭素原子数０〜２０の２価の飽和の連結基を表す。ここで、Ｌ³¹〜Ｌ⁸⁰を構成する原子数が０であるということはＬ³¹〜Ｌ⁸⁰が単結合を表すことを意味する。Ｖ³¹〜Ｖ⁴³およびＬ³¹〜Ｌ⁸⁰は、さらに置換基を有していてもよい。）

（一般式（１３）中、Ｒ¹はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ²およびＲ³は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³の炭素原子数の総和は１０以上であり、各々、アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。）

（一般式（１４）中、Ｒ⁴およびＲ⁵は、それぞれ独立に、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ⁴およびＲ⁵の炭素原子数の総和は１０以上であり、各々、アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。）

（一般式（１５）中、Ｒ¹は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、Ｒ²は水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す。Ｌ¹は２価〜６価の連結基を表し、ｎはＬ¹の価数に応じた２〜６の整数を表す。）

（一般式（１６）中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表す。Ｘは下記の連結基群１から選ばれる１つ以上の基から形成される２価の連結基を表す。Ｙは水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す。
（連結基群１）単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ⁴−（Ｒ⁴は水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す。）、アルキレン基またはアリーレン基を表す。）

（一般式（１７）中、Ｑ¹、Ｑ²およびＱ³はそれぞれ独立に５または６員環を表す。ＸはＢ、Ｃ−Ｒ（Ｒは水素原子または置換基を表す。）、Ｎ、Ｐ、Ｐ＝Ｏを表す。）

（一般式（１９）中、Ｒ¹はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ²およびＲ³はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。また、アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。）

（一般式（１９）中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴は、それぞれ独立に、水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す。Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³およびＸ⁴は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−および−ＮＲ⁵−（Ｒ⁵は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す）からなる群から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。ａ、ｂ、ｃおよびｄは０以上の整数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは２以上である。Ｑ¹は（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）価の有機基を表す。）
＜１＞＜１＞〜＜１１＞のいずれか１項に記載のセルロース体フィルムを含むことを特徴とする光学補償シート。
＜１３＞＜１＞〜＜１１＞のいずれか１項に記載のセルロース体フィルム上に光学異方性層を有することを特徴とする光学補償シート。
＜１４＞偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる偏光板であって、透明保護膜の少なくとも一方が、＜１２＞または＜１３＞項に記載の光学補償シートであることを特徴とする偏光板。
＜１５＞液晶セルおよびその両側に配置された２枚の偏光板からなる液晶表示装置であって、少なくとも１枚の偏光板が＜１４＞項に記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。
＜１６＞表示モードがＩＰＳモードであることを特徴とする＜１５＞項に記載の液晶表示装置。

本発明のセルロース体フィルムは、膜厚方向のレターデーションが負の発現性を有し、更に透水性や含水率が低い。この本発明のフィルムは、偏光板用の保護フィルムとして使用した場合に、偏光板の耐久性、特に高温高湿条件における偏光板性能の劣化が小さいという優れた効果を奏する。
本発明のセルロース体フィルムは、光学補償シート、偏光板、及び液晶表示装置に好適に用いることができ、本発明によれば、コントラストが高く、視野角による色味変化の小さく、更に環境湿度による画質変化が小さく、耐久性に優れる液晶表示装置を提供することができる。

以下において、本発明について詳細に説明する。以下の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。尚、本願明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。

本発明は分極率異方性の値が異なる２種類以上の置換基を有し、セルロースの構成単位であるβ−グルコース環の２位、３位、６位における前記置換基の置換度が特定の関係を有するセルロース体を光学補償フィルムとして用いるものである。
［セルロース体フィルム］
以下に本発明のセルロース体フィルムについて、セルロース体、添加剤、製膜方法の順に説明する。

〔セルロース体〕
本発明のセルロース体フィルムに使用するセルロース体は、セルロースの構成単位であるβ−グルコース環上の３つの水酸基の内の少なくとも１つに結合する置換基として、分極率異方性の値が異なる２種類以上の置換基を有し、該分極率異方性の値Δαは下記数式（１）により算出される。

置換基はそれぞれ固有の分極率異方性の値Δαを有しており、このΔαについてはＧａｕｓｓｉａｎ０３（ＲｅｖｉｓｉｏｎＢ．０３、米ガウシアン社製ソフトウェア、商品名）を用いて計算できる。具体的には、Ｂ３ＬＹＰ／６−３１Ｇ＊レベルで最適化された構造を用いて、セルロースの構成単位であるβ−グルコース環上の水酸基に連結する置換基を水酸基の酸素原子を含む部分構造として（すなわち、セルロース側鎖置換基部を置換基−ＯＨ（例：ＡｃＯＨ）の形でモデル化し、構造最適化して）、Ｂ３ＬＹＰ／６−３１１＋Ｇ＊＊レベルでＤＦＴ計算することで分極率テンソルを計算し、得られた分極率テンソルを対角化した後、座標変換（Ｃ＝ＯをＸ軸としＹ軸に連結する原子を配置）を行ってαｘ、αｙ及びαｚを計算し、当該αｘ、αｙ及びαｚ成分を上記数式（１）に代入することにより分極率異方性の値Δαを算出することができる。
上記の方法によって計算した場合における各置換基の分極率異方性の値Δαを以下に例示する：アセチル基＝０．９１、プロピオニル基＝１．４４、ブチリル基＝２．２０、ベンゾイル基＝５．０８、２，４，５−トリメトキシベンゾイル基＝７．１２。

上記の計算により算出した分極率異方性の値Δαが最小の置換基をＡ、分極率異方性の値Δαが最大の置換基をＢとしたとき、本発明のセルロース体の置換基Ａ及び置換基Ｂの置換度は下記関係式（Ａ１）を満たす。また、本発明のセルロース体の置換基Ａ及び置換基Ｂの合計置換度は下記関係式（Ａ２）及び（Ａ３）を満たすことが好ましい。

（ここで、ＤＳ_A２、ＤＳ_A３、及びＤＳ_A６はそれぞれ、セルロースの構成単位であるβ−グルコース環の２位、３位、及び６位における前記置換基Ａの置換度を表し、ＤＳ_B２、ＤＳ_B３、及びＤＳ_B６はそれぞれ、セルロースの構成単位であるβ−グルコース環の２位、３位、及び６位における前記置換基Ｂの置換度を表す。）

前記式（Ａ１）は、本発明のセルロース体における分極率異方性の高い置換基Ｂにつき、セルロースの構成単位であるβ−グルコース環の２位及び３位の合計置換度が、６位における置換度から０．１を引いた値又はそれ以上大きいことを示す。
式（Ａ１）は、好ましくは、

であり、より好ましくは、

である。

前記式（Ａ２）は、本発明のセルロース体において、分極率異方性の低い置換基Ａの合計置換度が分極率異方性の高い置換基Ｂの合計置換度よりも高いことが好ましいことを示す。
式（Ａ２）はさらに好ましくは、

であり、最も好ましくは、

である。

前記式（Ａ３）は、本発明のセルロース体において、前記置換基Ａ及び前記置換基Ｂの置換度の合計が１．５以上３．０以下であることが好ましいことを示す。
式（Ａ３）はさらに好ましくは、

であり、最も好ましくは、

である。

本発明に用いられるセルロース体の前記置換基Ａ及び前記置換基Ｂの置換度が上記関係を満たすことにより、より膜厚方向のレターデーションが負となり、また透水性や含水率を低減させたセルロース体が得られる。

本発明に用いられるセルロース体としては、セルロースエステル、セルロースエーテル等様々なセルロース体を用いることが可能であるが、フィルムの透明性、柔軟性の点からセルロースアシレートが特に好ましい。
以下に本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートについて説明する。

本発明のセルロースアシレートフィルムに用いられるセルロースアシレートの原料綿は、公知の原料を用いることができる（例えば、発明協会公開技法２００１−１７４５）。また、セルロースアシレートの合成も公知の方法で行なうことができる（例えば、右田他、木材化学１８０〜１９０頁（共立出版、１９６８年））。セルロースアシレートの粘度平均重合度は３００〜７００が好ましく、３５０〜５００が更に好ましく、４００〜５００が最も好ましい。
重合度を大きくすることにより、セルロースアシレートフィルム製膜時の結晶化を抑制することができる。

本発明に用いられるセルロースアシレートは、２種類以上の分極率異方性の値が異なる置換基を有するセルロース体のうち少なくとも１種のアシル基が置換したものである。
本発明に用いられるセルロースアシレートが２種類の分極率異方性の値が異なるアシル基が置換したものである場合、分極率異方性の値が小さい置換基Ａとしてはアセチル基が好ましい。
また、分極率異方性の値が大きい置換基としては、炭素数３以上のアシル基であれば様々な置換基を用いることが可能であるが、脂肪族アシル基としてはプロピオニル基およびブチリル基が特に好ましい。

本発明に用いられるセルロースアシレートの置換基Ｂとしては、前記分極率異方性の値が２．５×１０^-24ｃｍ³以上である置換基が好ましい。前記の置換基Ｂにおける分極率異方性の値は、さらに好ましくは４．０×１０^-24ｃｍ³以上３００×１０^-24ｃｍ³以下であり、６．０×１０^-24ｃｍ³以上３００×１０^-24ｃｍ³以下が最も好ましい。分極率異方性の値が大きい置換基としては、疎水化効果が大きくかつフィルムの自由体積が広がりにくいため、芳香族アシル基が特に好ましい。

本発明において、セルロース体の置換度は、セルロース体を重水素置換されたジメチルスルフォキシド等の溶剤に溶解してＣ¹³−ＮＭＲスペクトルを測定し、アシル基中のカルボニル炭素のピーク強度から求めることにより算出することができる。

本発明に用いられるセルロースアシレートとしては、置換基Ａがアセチル基であり、置換基Ｂが下記一般式（Ａ）で表される芳香族アシル基である化合物が特に好ましい。

（式中、Ｘは置換基を表し、ｎは０〜５の整数を表す。）

まず、前記一般式（Ａ）について説明する。一般式（Ａ）中、Ｘは置換基を表す。前記置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、アラルキル基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、アシルオキシ基、アルケニル基、アルキニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルオキシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、アルキルスルホニルオキシ基およびアリールスルホニルオキシ基、−Ｓ−Ｒ、−ＮＨ−ＣＯ−ＯＲ、−ＰＨ−Ｒ、−Ｐ(−Ｒ)₂、−ＰＨ−Ｏ−Ｒ、−Ｐ(−Ｒ)(−Ｏ−Ｒ)、−Ｐ(−Ｏ−Ｒ)₂、−ＰＨ(＝Ｏ)−Ｒ、−Ｐ(＝Ｏ)(−Ｒ)₂、−ＰＨ(＝Ｏ)−Ｏ−Ｒ、−Ｐ(＝Ｏ)(−Ｒ)(−Ｏ−Ｒ)、−Ｐ(＝Ｏ)(−Ｏ−Ｒ)₂、−Ｏ−ＰＨ(＝Ｏ)−Ｒ、−Ｏ−Ｐ(＝Ｏ)(−Ｒ)₂、−Ｏ−ＰＨ(＝Ｏ)−Ｏ−Ｒ、−Ｏ−Ｐ(＝Ｏ)(−Ｒ)(−Ｏ−Ｒ)、−Ｏ−Ｐ(＝Ｏ)(−Ｏ−Ｒ)₂、−ＮＨ−ＰＨ(＝Ｏ)−Ｒ、−ＮＨ−Ｐ(＝Ｏ)(−Ｒ)(−Ｏ−Ｒ)、−ＮＨ−Ｐ(＝Ｏ)(−Ｏ−Ｒ)₂、−ＳｉＨ₂−Ｒ、−ＳｉＨ(−Ｒ)₂、−Ｓｉ(−Ｒ)₃、−Ｏ−ＳｉＨ₂−Ｒ、−Ｏ−ＳｉＨ(−Ｒ)₂および−Ｏ−Ｓｉ(−Ｒ)₃が含まれる。Ｘは更に他の置換基によって置換されていてもよい。上記Ｒは脂肪族基、芳香族基またはヘテロ環基である。

前記で表される置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、カルボンアミド基、スルホンアミド基およびウレイド基が好ましく、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基およびカルボンアミド基がより好ましく、ハロゲン原子、シアノ、アルキル基、アルコキシ基およびアリールオキシ基がさらに好ましく、ハロゲン原子、アルキル基およびアルコキシ基が最も好ましい。

上記ハロゲン原子には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子が含まれる。
上記アルキル基は直鎖に限定されず、環状構造または分岐を有していてもよい。アルキル基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがより好ましく、１〜６であることがさらに好ましく、１〜４であることが最も好ましい。アルキル基の例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基および２−エチルヘキシル基が含まれる。
上記アルコキシ基は直鎖に限定されず、環状構造あるいは分岐を有していてもよい。アルコキシ基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがより好ましく、１〜６であることがさらに好ましく、１〜４であることが最も好ましい。アルコキシ基は、さらに別のアルコキシ基で置換されていてもよい。アルコキシ基の例には、メトキシ基、エトキシ基、２−メトキシエトキシ基、２−メトキシ−２−エトキシエトキシ基、ブチルオキシ基、ヘキシルオキシ基およびオクチルオキシ基が含まれる。

上記アリール基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましく、６〜１２であることがさらに好ましい。アリール基の例には、フェニル基およびナフチル基が含まれる。
上記アリールオキシ基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましく、６〜１２であることがさらに好ましい。アリールオキシ基の例には、フェノキシ基およびナフトキシ基が含まれる。
上記アシル基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがさらに好ましい。アシル基の例には、ホルミル基、アセチル基およびベンゾイル基が含まれる。
上記カルボンアミド基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがさらに好ましい。カルボンアミド基の例には、アセトアミド基およびベンズアミド基が含まれる。
上記スルホンアミド基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがさらに好ましい。スルホンアミド基の例には、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基およびｐ−トルエンスルホンアミド基が含まれる。
上記ウレイド基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがさらに好ましい。ウレイド基の例には、（無置換）ウレイドが含まれる。

上記アラルキル基の炭素原子数は、７〜２０であることが好ましく、７〜１２であることがさらに好ましい。アラルキル基の例には、ベンジル基、フェネチル基およびナフチルメチル基が含まれる。上記アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがさらに好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニルが含まれる。
上記アリールオキシカルボニル基の炭素原子数は、７〜２０であることが好ましく、７〜１２であることがさらに好ましい。アリールオキシカルボニル基の例には、フェノキシカルボニル基が含まれる。
上記アラルキルオキシカルボニル基の炭素原子数は、８〜２０であることが好ましく、８〜１２であることがさらに好ましい。アラルキルオキシカルボニル基の例には、ベンジルオキシカルボニル基が含まれる。
上記カルバモイル基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがさらに好ましい。カルバモイル基の例には、（無置換）カルバモイル基およびＮ−メチルカルバモイル基が含まれる。
上記スルファモイル基の炭素原子数は、２０以下であることが好ましく、１２以下であることがさらに好ましい。スルファモイル基の例には、（無置換）スルファモイル基およびＮ−メチルスルファモイル基が含まれる。
上記アシルオキシ基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがさらに好ましい。アシルオキシ基の例には、アセトキシ基およびベンゾイルオキシ基が含まれる。

上記アルケニル基の炭素原子数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがさらに好ましい。アルケニル基の例には、ビニル基、アリル基およびイソプロペニル基が含まれる。
上記アルキニル基の炭素原子数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがさらに好ましい。アルキニル基の例には、チエニル基が含まれる。
上記アルキルスルホニル基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがさらに好ましい。アルキルスルホニル基の例には、メタンスルホニル基が含まれる。
上記アリールスルホニル基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましく、６〜１２であることがさらに好ましい。アリールスルホニル基の例には、p-トルエンスルホニル基が含まれる。
上記アルキルオキシスルホニル基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがさらに好ましい。アルキルオキシスルホニル基の例には、メチル硫酸基が含まれる。
上記アリールオキシスルホニル基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましく、６〜１２であることがさらに好ましい。アリールオキシスルホニル基の例には、フェニル硫酸基が含まれる。
上記アルキルスルホニルオキシ基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがさらに好ましい。アルキルスルホニルオキシ基の例には、メタンスルホニルオキシ基が含まれる。
上記アリールスルホニルオキシ基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましく、６〜１２であることがさらに好ましい。アリールスルホニルオキシ基の例には、p-トルエンスルホニルオキシ基が含まれる。

また、一般式（Ａ）中、ｎは置換基の数であり、０〜５の整数を表す。芳香族環に置換する置換基Ｘの数（ｎ）は、１〜５個であることが好ましく、１〜４個であることがより好ましく、１〜３個であることがさらに好ましく、特に好ましいのは１または２個である。

芳香族環に置換する置換基の数が２個以上の時、該置換基は互いに同じでも異なっていてもよいし、互いに連結して縮合多環化合物（例えば、ナフタレン基、インデン基、インダン基、フェナントレン基、キノリン基、イソキノリン基、クロメン基、クロマン基、フタラジン基、アクリジン基、インドール基、インドリン基など）を形成してもよい。
一般式（Ａ）で表される芳香族アシル基の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。以下の具体例のうち好ましいものは、Ｎｏ．１、３、５、６、８、１３、１８及び２８であり、より好ましいものはＮｏ．１、３、６及び１３である。

２種類のアシル基が置換したセルロース混合アシレートを得る方法としては、アシル化剤として２種のカルボン酸無水物を混合または逐次添加により反応させる方法、２種のカルボン酸の混合酸無水物（例えば、酢酸・プロピオン酸混合酸無水物）を用いる方法、カルボン酸と別のカルボン酸の酸無水物（例えば、酢酸とプロピオン酸無水物）を原料として反応系内で混合酸無水物（例えば、酢酸・プロピオン酸混合酸無水物）を合成してセルロースと反応させる方法、置換度が３に満たないセルロースアシレートを一旦合成し、酸無水物や酸ハライドを用いて、残存する水酸基を更にアシル化する方法などを用いることができる。
具体的には、本発明に用いられるセルロース体は、例えばアルドリッチ社製セルロースアセテート（アセチル置換度２．４５）、もしくはダイセル社製セルロースアセテート（アセチル置換度２．４１（商品名：Ｌ−７０）、２．１４（商品名：ＬＭ−８０））を出発原料として、対応する酸クロリドとの反応により得ることができる。また、アセチル置換度の低いセルロースアセテートは、アルドリッチ製微結晶セルロースを出発原料とし、後述する合成例１に記載の方法にてアセチル置換度１．８０の中間体を合成した後、対応する酸クロリドとの反応により得ることができる。

本発明に用いられるセルロースアシレートは、１００〜７００の質量平均重合度を有することが好ましく、１８０〜５５０の質量平均重合度を有することがさらに好ましい。また本発明に用いられるセルロースアシレートは、７００００〜２３００００の数平均分子量を有することが好ましく、７５０００〜２３００００の数平均分子量を有することがさらに好ましく、７８０００〜１２００００の数平均分子量を有することが最も好ましい。
また、本発明に使用するセルロース体は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは重量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜５．０であることが好ましく、１．５〜３．５であることがさらに好ましく、２．０〜３．０であることが最も好ましい。

〔添加剤〕
（レターデーション調節剤）
本発明ではレターデーション調節剤をセルロース体フィルムに添加することが好ましい。ここで、レターデーション調節剤とは、フィルムにおける膜厚方向のレターデーションを低減させる化合物であり、以下の数式（１１−１）を満たす化合物であることが好ましい。

Ｒｔｈ(ａ)：当該レターデーション調節剤を、アセチル置換度２．８６のセルロースアセテートに対してａ質量％含有させた、膜厚８０μｍのセルロースアセテートフィルムの波長５８９ｎｍにおけるＲｔｈ（ｎｍ）
Ｒｔｈ(０)：当該レターデーション調節剤を含有しないアセチル置換度２．８６のセルロースアセテートのみからなる膜厚８０μｍのフィルムの波長５８９ｎｍにおけるＲｔｈ（ｎｍ）
ａ：セルロースアセテート１００質量部に対する当該レターデーション調節剤の質量部

上記数式（１１−１）を満たす化合物をレターデーション調節剤として使用することにより、充分なＲｔｈ低減性が得られ、レターデーション調節剤を過剰に使用することなく、所望のＲｔｈを示すフィルムを作製することができる。なお、後述するように、Ｒｔｈは厚さ方向のレターデーションを表す。
本発明においては、分極率異方性の大きい（「分極率異方性の高い」とも言う）置換基を有するセルロース体と、Ｒｔｈを低減させる上記数式（１１−１）を満たす化合物をレターデーション調節剤とを組み合わせることで、Ｒｔｈをより低減させることができる。

レターデーション調節剤は数式（１１−２）を満足することがより好ましく、数式（１１−３）を満足することがさらに好ましい。

また、本発明において用いられるレターデーション調節剤は、アセチル置換度２．８６のセルロースアセテートフィルムに添加した場合の波長５８９ｎｍにおけるＲｅが下記数式（１０）を満足する化合物であるのが好ましい。なお、後述するように、Ｒｅは正面のレターデーションを表す。

Ｒｅ(ａ)：当該レターデーション調節剤を、アセチル置換度２．８６のセルロースアセテートに対してａ質量％含有させた、膜厚８０μｍのセルロースアセテートフィルムの波長５８９ｎｍにおけるＲｅ（ｎｍ）
Ｒｅ(０)：当該レターデーション調節剤を含有しないアセチル置換度２．８６のセルロースアセテートのみからなる膜厚８０μｍのフィルムの波長５８９ｎｍにおけるＲｅ（ｎｍ）
ａ：セルロースアセテート１００質量部に対する当該レターデーション調節剤の質量部

以下に、上記数式（１１−１）を満たすレターデーション調節剤の例として、まず一般式（１）〜（１９）のいずれかで表される化合物を示すが、本発明はこれら化合物に限定されない。

（一般式（４）〜（１２）中、Ｙ³¹〜Ｙ⁷⁰はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０の、エステル基、アルコキシカルボニル基、アミド基、もしくはカルバモイル基、またはヒドロキシ基を表し、Ｖ³¹〜Ｖ⁴³はそれぞれ独立に水素原子または炭素原子数１〜２０の脂肪族基を表す。Ｌ³¹〜Ｌ⁸⁰はそれぞれ独立に、構成する原子数が０〜４０であって、かつ、炭素原子数０〜２０の２価の飽和の連結基を表す。ここで、Ｌ³¹〜Ｌ⁸⁰を構成する原子数が０であるということは、Ｌ³¹〜Ｌ⁸⁰が単結合を表すことを意味する。Ｖ³¹〜Ｖ⁴³およびＬ³¹〜Ｌ⁸⁰は、さらに置換基を有していてもよい。）

（一般式（１６）中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表す。Ｘは下記の（連結基群１）から選ばれる１つ以上の基から形成される２価の連結基を表す。Ｙは水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す。
（連結基群１）単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ⁴−（Ｒ⁴は水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す。）、アルキレン基またはアリーレン基を表す。）

前記一般式（１７）で表される化合物としては、好ましくは下記一般式（１７ａ）で表される化合物が挙げられる。

（一般式（１７ａ）中、Ｘ²はＢ、Ｃ−Ｒ（Ｒは水素原子または置換基を表す。）、Ｎを表す。Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ²¹、Ｒ²²、Ｒ²³、Ｒ²⁴、Ｒ²⁵、Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³、Ｒ³⁴およびＲ³⁵はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。）

（一般式（１８）中、Ｒ¹はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ²およびＲ³はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。また、アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。）

一般式（１８）で表される化合物としては、好ましくは下記一般式（１８ａ）で表される化合物が挙げられる。

（一般式（１８ａ）中、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶はそれぞれ独立にアルキル基またはアリール基を表す。ここで、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数が１〜２０のものが好ましく、１〜１５のものがさらに好ましく、１〜１２のものが最も好ましい。環状のアルキル基としては、シクロヘキシル基が特に好ましい。アリール基は炭素原子数が６〜３６のものが好ましく、６〜２４のものがより好ましい。また、アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。）

（一般式（１９）中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴は、それぞれ独立に、水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す。Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³およびＸ⁴は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−および−ＮＲ⁵−（Ｒ⁵は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す）からなる群から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。ａ、ｂ、ｃおよびｄは０以上の整数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは２以上である。Ｑ¹は（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）価の有機基を表す。）

一般式（１）の化合物について説明する。

一般式（１）において、Ｒ¹¹〜Ｒ¹³はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０の脂肪族基を表し、該脂肪族基は置換基を有していてもよい。Ｒ¹¹〜Ｒ¹³は互いに連結して環を形成してもよい。
Ｒ¹¹〜Ｒ¹³について詳しく説明する。Ｒ¹¹〜Ｒ¹³は好ましくは炭素原子数１〜２０、さらに好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２の脂肪族基である。ここで、脂肪族基とは、好ましくは脂肪族炭化水素基であり、さらに好ましくは、アルキル基（鎖状、分岐状および環状のアルキル基を含む。）、アルケニル基又はアルキニル基である。例として、アルキル基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｔ−アミル、ｎ−ヘキシル、ｎ−オクチル、デシル、ドデシル、エイコシル、２−エチルヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、２，６−ジメチルシクロヘキシル、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル、シクロペンチル、１−アダマンチル、２−アダマンチル、ビシクロ［２.２.２］オクタン−３−イルなどが挙げられ、アルケニル基としては、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イルなどが挙げられ、アルキニル基としては、例えば、エチニル、プロパルギルなどが挙げられる。

Ｒ¹¹〜Ｒ¹³で表される脂肪族基は置換されていてもよく、置換基の例としては、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子）、アルキル基（直鎖、分岐、環状のアルキル基で、ビシクロアルキル基、活性メチン基を含む）、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基（置換する位置は問わない）、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロ環オキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アシルカルバモイル基、Ｎ−スルホニルカルバモイル基、Ｎ−カルバモイルカルバモイル基、Ｎ−スルファモイルカルバモイル基、カルバゾイル基、カルボキシ基又はその塩、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、カルボンイミドイル基（Ｃａｒｂｏｎｉｍｉｄｏｙｌ基）、ホルミル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基（エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む）、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、（アルコキシもしくはアリールオキシ）カルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、（アルキル、アリール又はヘテロ環）アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、イミド基、（アルコキシもしくはアリールオキシ）カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、アンモニオ基、オキサモイルアミノ基、Ｎ−（アルキルもしくはアリール）スルホニルウレイド基、Ｎ−アシルウレイド基、Ｎ−アシルスルファモイルアミノ基、４級化された窒素原子を含むヘテロ環基（例えばピリジニオ基、イミダゾリオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基）、イソシアノ基、イミノ基、（アルキル又はアリール）スルホニル基、（アルキル又はアリール）スルフィニル基、スルホ基またはその塩、スルファモイル基、Ｎ−アシルスルファモイル基、Ｎ−スルホニルスルファモイル基またはその塩、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基等が挙げられる。

これらの基はさらに組み合わされて複合置換基を形成してもよく、このような置換基の例としては、エトキシエトキシエチル基、ヒドロキシエトキシエチル基、エトキシカルボニルエチル基などを挙げることができる。また、Ｒ¹¹〜Ｒ¹³は置換基としてリン酸エステル基を含有することもでき、一般式（１）で表される化合物は同一分子中に複数のリン酸エステル基を有することも可能である。

以下に一般式（１）で表される化合物の具体例（Ｃ−１〜Ｃ−７６）を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）は、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．，２７，２１（１９８７））により求めた。

（式中、Ｒ¹〜Ｒ³は前記一般式（１）のＲ¹¹〜Ｒ¹³と同義であり、下記のＣ−１〜Ｃ−７６で具体例を例示する。）

一般式（２）又は（３）で表される化合物について説明する。

一般式（２）及び（３）において、Ｚは炭素原子、酸素原子、硫黄原子、−ＮＲ²⁵−を表し、Ｒ²⁵は水素原子またはアルキル基を表す。Ｚを含んで構成される５または６員環は置換基を有していても良く、複数の置換基が互いに結合して環を形成していてもよい。Ｚを含んで構成される５または６員環の例としては、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロチオフェン、チアン、ピロリジン、ピペリジン、インドリン、イソインドリン、クロマン、イソクロマン、テトラヒドロ−２−フラノン、テトラヒドロ−２−ピロン、４−ブタンラクタム、６−ヘキサノラクタムなどを挙げることができる。
また、Ｚを含んで構成される５または６員環は、ラクトン構造またはラクタム構造、すなわち、Ｚの隣接炭素にオキソ基を有する環状エステルまたは環状アミド構造を含む。このような環状エステルまたは環状アミド構造の例としては、２−ピロリドン、２−ピペリドン、５−ペンタノリド、６−ヘキサノリドを挙げることができる。

Ｒ²⁵は水素原子または、好ましくは炭素原子数１〜２０、さらに好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２のアルキル基（鎖状、分岐状および環状のアルキル基を含む。）を表す。Ｒ²⁵で表されるアルキル基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｔ−アミル、ｎ−ヘキシル、ｎ−オクチル、デシル、ドデシル、エイコシル、２−エチルヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、２，６−ジメチルシクロヘキシル、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル、シクロペンチル、１−アダマンチル、２−アダマンチル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−３−イルなどを挙げることができる。Ｒ²⁵で表されるアルキル基はさらに置換基を有していてもよく、置換基の例としては前記のＲ¹¹〜Ｒ¹³に置換していても良い基を挙げることができる。

Ｙ²¹、Ｙ²²はそれぞれ独立に、エステル基、アルコキシカルボニル基、アミド基またはカルバモイル基を表す。
エステル基としては、好ましくは炭素原子数が１〜２０、さらに好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えば、アセトキシ、エチルカルボニルオキシ、プロピルカルボニルオキシ、ｎ−ブチルカルボニルオキシ、ｉｓｏ−ブチルカルボニルオキシ、ｔ−ブチルカルボニルオキシ、ｓｅｃ−ブチルカルボニルオキシ、ｎ−ペンチルカルボニルオキシ、ｔ−アミルカルボニルオキシ、ｎ−ヘキシルカルボニルオキシ、シクロヘキシルカルボニルオキシ、１−エチルペンチルカルボニルオキシ、ｎ−ヘプチルカルボニルオキシ、ｎ−ノニルカルボニルオキシ、ｎ−ウンデシルカルボニルオキシ、ベンジルカルボニルオキシ、１−ナフタレンカルボニルオキシ、２−ナフタレンカルボニルオキシ、１−アダマンタンカルボニルオキシなどが例示できる。

アルコキシカルボニル基としては、好ましくは炭素原子数が１〜２０、さらに好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−プロピルオキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、ｎ−ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｉｓｏ−ブチルオキシカルボニル、ｓｅｃ−ブチルオキシカルボニル、ｎ−ペンチルオキシカルボニル、ｔ−アミルオキシカルボニル、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、２−エチルヘキシルオキシカルボニル、１−エチルプロピルオキシカルボニル、ｎ−オクチルオキシカルボニル、３，７−ジメチル−３−オクチルオキシカルボニル、３，５，５−トリメチルヘキシルオキシカルボニル、４−ｔ−ブチルシクロヘキシルオキシカルボニル、２，４−ジメチルペンチル−３−オキシカルボニル、１−アダマンタンオキシカルボニル、２−アダマンタンオキシカルボニル、ジシクロペンタジエニルオキシカルボニル、ｎ−デシルオキシカルボニル、ｎ−ドデシルオキシカルボニル、ｎ−テトラデシルオキシカルボニル、ｎ−ヘキサデシルオキシカルボニルなどが例示できる。

アミド基としては、好ましくは炭素原子数が１〜２０、さらに好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えば、アセタミド、エチルカルボキサミド、ｎ−プロピルカルボキサミド、イソプロピルカルボキサミド、ｎ−ブチルカルボキサミド、ｔ−ブチルカルボキサミド、ｉｓｏ−ブチルカルボキサミド、ｓｅｃ−ブチルカルボキサミド、ｎ−ペンチルカルボキサミド、ｔ−アミルカルボキサミド、ｎ−ヘキシルカルボキサミド、シクロヘキシルカルボキサミド、１−エチルペンチルカルボキサミド、１−エチルプロピルカルボキサミド、ｎ−ヘプチルカルボキサミド、ｎ−オクチルカルボキサミド、１−アダマンタンカルボキサミド、２−アダマンタンカルボキサミド、ｎ−ノニルカルボキサミド、ｎ−ドデシルカルボキサミド、ｎ−ペンタカルボキサミド、ｎ−ヘキサデシルカルボキサミドなどが例示できる。

カルバモイル基としては、好ましくは炭素原子数が１〜２０、さらに好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えば、メチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、ｎ−プロピルカルバモイル、イソプロピルカルバモイル、ｎ−ブチルカルバモイル、ｔ−ブチルカルバモイル、ｉｓｏ−ブチルカルバモイル、ｓｅｃ−ブチルカルバモイル、ｎ−ペンチルカルバモイル、ｔ−アミルカルバモイル、ｎ−ヘキシルカルバモイル、シクロヘキシルカルバモイル、２−エチルヘキシルカルバモイル、２−エチルブチルカルバモイル、ｔ−オクチルカルバモイル、ｎ−ヘプチルカルバモイル、ｎ−オクチルカルバモイル、１−アダマンタンカルバモイル、２−アダマンタンカルバモイル、ｎ−デシルカルバモイル、ｎ−ドデシルカルバモイル、ｎ−テトラデシルカルバモイル、ｎ−ヘキサデシルカルバモイルなどが例示できる。
Ｙ²¹、Ｙ²²は互いに連結して環を形成してもよい。Ｙ²¹、Ｙ²²はさらに置換基を有していてもよく、例としては前記のＲ¹¹〜Ｒ¹³に置換していても良い基を挙げることができる。

以下に一般式（２）または（３）で表される化合物の例（Ｃ−２０１〜Ｃ−２３１）を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、括弧内に記載のオクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）は、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．，２７，２１（１９８７））により求めた。

一般式（４）〜（１２）のいずれかで表される化合物について説明する。

一般式（４）〜（１２）において、Ｙ³¹〜Ｙ⁷⁰はそれぞれ独立に、エステル基、アルコキシカルボニル基、アミド基、カルバモイル基またはヒドロキシ基を表す。
エステル基としては、好ましくは炭素原子数が１〜２０、さらに好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えば、アセトキシ、エチルカルボニルオキシ、プロピルカルボニルオキシ、ｎ−ブチルカルボニルオキシ、ｉｓｏ−ブチルカルボニルオキシ、ｔ−ブチルカルボニルオキシ、ｓｅｃ−ブチルカルボニルオキシ、ｎ−ペンチルカルボニルオキシ、ｔ−アミルカルボニルオキシ、ｎ−ヘキシルカルボニルオキシ、シクロヘキシルカルボニルオキシ、１−エチルペンチルカルボニルオキシ、ｎ−ヘプチルカルボニルオキシ、ｎ−ノニルカルボニルオキシ、ｎ−ウンデシルカルボニルオキシ、ベンジルカルボニルオキシ、１−ナフタレンカルボニルオキシ、２−ナフタレンカルボニルオキシ、１−アダマンタンカルボニルオキシなどが挙げられる。
アルコキシカルボニル基としては、好ましくは炭素原子数が１〜２０、さらに好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−プロピルオキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、ｎ−ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｉｓｏ−ブチルオキシカルボニル、ｓｅｃ−ブチルオキシカルボニル、ｎ−ペンチルオキシカルボニル、ｔ−アミルオキシカルボニル、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、２−エチルヘキシルオキシカルボニルなど、１−エチルプロピルオキシカルボニル、ｎ−オクチルオキシカルボニル、３，７−ジメチル−３−オクチルオキシカルボニル、３，５，５−トリメチルヘキシルオキシカルボニル、４−ｔ−ブチルシクロヘキシルオキシカルボニル、２，４−ジメチルペンチル−３−オキシカルボニル、１−アダマンタンオキシカルボニル、２−アダマンタンオキシカルボニル、ジシクロペンタジエニルオキシカルボニル、ｎ−デシルオキシカルボニル、ｎ−ドデシルオキシカルボニル、ｎ−テトラデシルオキシカルボニル、ｎ−ヘキサデシルオキシカルボニルなどが挙げられる。

アミド基としては、好ましくは炭素原子数が１〜２０、さらに好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えば、アセタミド、エチルカルボキサミド、ｎ−プロピルカルボキサミド、イソプロピルカルボキサミド、ｎ−ブチルカルボキサミド、ｔ−ブチルカルボキサミド、ｉｓｏ−ブチルカルボキサミド、ｓｅｃ−ブチルカルボキサミド、ｎ−ペンチルカルボキサミド、ｔ−アミルカルボキサミド、ｎ−ヘキシルカルボキサミド、シクロヘキシルカルボキサミド、１−エチルペンチルカルボキサミド、１−エチルプロピルカルボキサミド、ｎ−ヘプチルカルボキサミド、ｎ−オクチルカルボキサミド、１−アダマンタンカルボキサミド、２−アダマンタンカルボキサミド、ｎ−ノニルカルボキサミド、ｎ−ドデシルカルボキサミド、ｎ−ペンタカルボキサミド、ｎ−ヘキサデシルカルボキサミドなどが挙げられる。
カルバモイル基としては、好ましくは炭素原子数が１〜２０、さらに好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えば、メチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、ｎ−プロピルカルバモイル、イソプロピルカルバモイル、ｎ−ブチルカルバモイル、ｔ−ブチルカルバモイル、ｉｓｏ−ブチルカルバモイル、ｓｅｃ−ブチルカルバモイル、ｎ−ペンチルカルバモイル、ｔ−アミルカルバモイル、ｎ−ヘキシルカルバモイル、シクロヘキシルカルバモイル、２−エチルヘキシルカルバモイル、２−エチルブチルカルバモイル、ｔ−オクチルカルバモイル、ｎ−ヘプチルカルバモイル、ｎ−オクチルカルバモイル、１−アダマンタンカルバモイル、２−アダマンタンカルバモイル、ｎ−デシルカルバモイル、ｎ−ドデシルカルバモイル、ｎ−テトラデシルカルバモイル、ｎ−ヘキサデシルカルバモイルなどが挙げられる。
Ｙ³¹〜Ｙ⁷⁰はさらに置換基を有していてもよく、例としては前記のＲ¹¹〜Ｒ¹³に置換していても良い基を挙げることができる。

Ｖ³¹〜Ｖ⁴³はそれぞれ独立に水素原子または、好ましくは炭素原子数１〜２０、さらに好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２の脂肪族基を表す。ここで、脂肪族基とは、好ましくは脂肪族炭化水素基であり、さらに好ましくは、アルキル基（鎖状、分岐状および環状のアルキル基を含む。）、アルケニル基またはアルキニル基である。アルキル基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｔ−アミル、ｎ−ヘキシル、ｎ−オクチル、デシル、ドデシル、エイコシル、２−エチルヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、２，６−ジメチルシクロヘキシル、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル、シクロペンチル、１−アダマンチル、２−アダマンチル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−３−イルなどが挙げられ、アルケニル基としては、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イルなどが挙げられ、アルキニル基としては、例えば、エチニル、プロパルギルなどを挙げることができる。Ｖ³¹〜Ｖ⁴³はさらに置換基を有していてもよく、例としては前記のＲ¹¹〜Ｒ¹³に置換していても良い基を挙げることができる。

Ｌ³¹〜Ｌ⁸⁰はそれぞれ独立に、構成する原子数が０〜４０であって、かつ、炭素原子数０〜２０の２価の飽和の連結基を表す。ここで、Ｌ³¹〜Ｌ⁸⁰を構成する原子数が０であるということはＬ³¹〜Ｌ⁸⁰が単結合を表すことを意味する。Ｌ³¹〜Ｌ⁸⁰の好ましい例としては、アルキレン基（例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、メチルエチレン、エチルエチレンなど）、環式の２価の基（例えば、ｃｉｓ−１，４−シクロヘキシレン、ｔｒａｎｓ−１，４−シクロヘキシレン、１，３−シクロペンチリデンなど）、エーテル、チオエーテル、エステル、アミド、スルホン、スルホキシド、スルフィド、スルホンアミド、ウレイレン、チオウレイレンなどを挙げることができる。これらの２価の基は互いに結合して二価の複合基を形成してもよく、複合置換基の例としては、−(ＣＨ₂)₂Ｏ(ＣＨ₂)₂−、−(ＣＨ₂)₂Ｏ(ＣＨ₂)₂Ｏ(ＣＨ₂)−、−(ＣＨ₂)₂Ｓ(ＣＨ₂)₂−、−(ＣＨ₂)₂Ｏ₂Ｃ(ＣＨ₂)₂−などを挙げることができる。Ｌ³¹〜Ｌ⁸⁰は、さらに置換基を有していてもよく、置換基の例としては、前記のＲ¹¹〜Ｒ¹³に置換していても良い基を挙げることができる。

一般式（４）〜（１２）においてＹ³¹〜Ｙ⁷⁰、Ｖ³¹〜Ｖ⁴³およびＬ³¹〜Ｌ⁸⁰の組み合わせにより形成される化合物の好ましい例としては、クエン酸エステル（例えば、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル、Ｏ−アセチルクエン酸トリブチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル、Ｏ−アセチルクエン酸トリ（エチルオキシカルボニルメチレン）エステルなど）、オレイン酸エステル（例えば、オレイン酸エチル、オレイン酸ブチル、オレイン酸２−エチルヘキシル、オレイン酸フェニル、オレイン酸シクロヘキシル、オレイン酸オクチルなど）、リシノール酸エステル（例えばリシノール酸メチルアセチルなど）、セバシン酸エステル（例えばセバシン酸ジブチルなど）、グリセリンのカルボン酸エステル（例えば、トリアセチン、トリブチリンなど）、グリコール酸エステル（例えば、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、メチルフタリルメチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレートなど）、ペンタエリスリトールのカルボン酸エステル（例えば、ペンタエリスリトールテトラアセテート、ペンタエリスリトールテトラブチレートなど）、ジペンタエリスリトールのカルボン酸エステル（例えば、ジペンタエリスリトールヘキサアセテート、ジペンタエリスリトールヘキサブチレート、ジペンタエリスリトールテトラアセテートなど）、

トリメチロールプロパンのカルボン酸エステル類（トリメチロールプロパントリアセテート、トリメチロールプロパンジアセテートモノプロピオネート、トリメチロールプロパントリプロピオネート、トリメチロールプロパントリブチレート、トリメチロールプロパントリピバロエート、トリメチロールプロパントリ（ｔ−ブチルアセテート）、トリメチロールプロパンジ２−エチルヘキサネート、トリメチロールプロパンテトラ２−エチルヘキサネート、トリメチロールプロパンジアセテートモノオクタネート、トリメチロールプロパントリオクタネート、トリメチロールプロパントリ（シクロヘキサンカルボキシレート）など）、特開平１１−２４６７０４号公報に記載のグリセロールエステル類、特開２０００−６３５６０号公報に記載のジグリセロールエステル類、特開平１１−９２５７４号公報に記載のクエン酸エステル類、ピロリドンカルボン酸エステル類（２−ピロリドン−５−カルボン酸メチル、２−ピロリドン−５−カルボン酸エチル、２−ピロリドン−５−カルボン酸ブチル、２−ピロリドン−５−カルボン酸２−エチルヘキシル）、シクロヘキサンジカルボン酸エステル（ｃｉｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸ジブチル、ｔｒａｎｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸ジブチル、ｃｉｓ−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジブチル、ｔｒａｎｓ−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジブチルなど）、キシリトールカルボン酸エステル（キシリトールペンタアセテート、キシリトールテトラアセテート、キシリトールペンタプロピオネートなど）などが挙げられる。

以下に一般式（４）〜（１２）のいずれかで表される化合物の例（Ｃ−４０１〜Ｃ−４４８）を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、括弧内に記載のオクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）は、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．，２７，２１（１９８７））により求めた。

一般式（１３）又は（１４）で表される化合物について説明する。

上記一般式（１３）において、Ｒ¹はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ²およびＲ³は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。また、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³の炭素原子数の総和が１０以上であり、各々、アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。また、一般式（１４）中、Ｒ⁴およびＲ⁵は、それぞれ独立に、アルキル基またはアリール基を表す。また、Ｒ⁴およびＲ⁵の炭素原子数の総和は１０以上であり、各々、アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。

置換基としてはフッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基が特に好ましい。また、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数１〜２５のものが好ましく、６〜２５のものがより好ましく、６〜２０のもの（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、アミル、イソアミル、ｔ−アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、オクチル、ビシクロオクチル、ノニル、アダマンチル、デシル、ｔ−オクチル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、ジデシル）が特に好ましい。アリール基としては炭素原子数が６〜３０のものが好ましく、６〜２４のもの（例えば、フェニル、ビフェニル、テルフェニル、ナフチル、ビナフチル、トリフェニルフェニル）が特に好ましい。
一般式（１３）または一般式（１４）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

一般式（１５）で表される化合物について説明する。

上記一般式（１５）において、Ｒ¹は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、Ｒ²は水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す。置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられる。Ｌ¹は２〜６価の連結基を表す。Ｌ¹の価数として好ましくは２〜４、より好ましくは２または３である。ｎはＬ¹の価数に応じた２〜６の整数を表し、２〜４がより好ましく、２または３が特に好ましい。
１つの化合物の中に含まれる２つ以上のＲ¹およびＲ²は、それぞれ、同一であってもよいし、異なっていてもよい。好ましくは同一である。

上記一般式（１５）で表される化合物としては、好ましくは下記一般式（１５ａ）で表される化合物である。

上記一般式（１５ａ）において、Ｒ⁴は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す。Ｒ⁴として好ましくは置換若しくは無置換の芳香族基であり、さらに好ましくは無置換の芳香族基である。Ｒ⁵は水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す。Ｒ⁵として好ましくは水素原子または置換若しくは無置換の脂肪族基であり、さらに好ましくは水素原子である。Ｌ²は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ³−（Ｒ³は水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す。）、アルキレン基およびアリーレン基から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。連結基の組み合わせは特に限定されないが、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ³−およびアルキレン基から選ばれるのが好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−およびアルキレン基から選ばれるのが特に好ましい。また、連結基は、−Ｏ−、−Ｓ−およびアルキレン基から選ばれる２以上からなる連結基が好ましい。各基における置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。

置換若しくは無置換の脂肪族基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数１〜２５のものが好ましく、６〜２５のものがより好ましく、６〜２０のものが特に好ましい。脂肪族基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、アミル基、イソアミル基、ｔｅｒｔ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ビシクロオクチル基、アダマンチル基、ｎ−デシル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、ジデシル基などが挙げられる。

芳香族基は芳香族炭化水素基でも芳香族ヘテロ環基でもよく、より好ましくは芳香族炭化水素基である。芳香族炭化水素基としては、炭素原子数が６〜２４のものが好ましく、６〜１２のものがさらに好ましい。芳香族炭化水素基の具体例な環としては、例えば、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、ビフェニル、ターフェニルなどが挙げられる。芳香族炭化水素基としては、ベンゼン、ナフタレン、ビフェニルが特に好ましい。芳香族ヘテロ環基としては、酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のうち少なくとも１つを含むものが好ましい。ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環基としては、ピリジン、トリアジン、キノリンが特に好ましい。

また、上記一般式（１５）で表される化合物としては、下記一般式（１５ｃ）で表される化合物をより好ましく挙げることができる。

上記一般式（１５ｃ）において、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ²¹、Ｒ²²、Ｒ²³、Ｒ²⁴およびＲ²⁵はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ²¹、Ｒ²²、Ｒ²³、Ｒ²⁴およびＲ²⁵としては、好ましくはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素原子数１〜３０、より好ましくは１〜１２のものであり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子が挙げられ、具体的には例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる。）、シリル基であり、より好ましくは、アルキル基、アリール基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、特に好ましくはアルキル基、アリール基、アリールオキシカルボニルアミノ基である。これらの置換基はさらに置換されてもよく、置換基が２つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。Ｒ¹¹とＲ²¹、Ｒ¹²とＲ²²、Ｒ¹³とＲ²³、Ｒ¹⁴とＲ²⁴およびＲ¹⁵とＲ²⁵はそれぞれ同一であることが好ましい。さらに、Ｒ¹¹〜Ｒ²⁵はいずれも水素原子である場合がより好ましい。

Ｌ³は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ³−（Ｒ³は水素原子、脂肪族基または芳香族基を表す。）、アルキレン基、アリーレン基から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。連結基の組み合わせは特に限定されないが、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ³−、およびアルキレン基から選ばれるのが好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−およびアルキレン基から選ばれるのが特に好ましい。
また、連結基は、−Ｏ−、−Ｓ−およびアルキレン基から選ばれる２以上からなる連結基がさらに好ましい。
一般式（１５）、特に一般式（１５ａ）又は一般式（１５ｃ）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

本発明に用いられる化合物はいずれも既知の化合物より製造することができる。一般式（１５）、特に一般式（１５ａ）又は（１５ｃ）で表される化合物は、一般的には、スルホニルクロリドと多官能アミンとの縮合反応により得られる。

一般式（１６）の化合物について説明する。

上記一般式（１６）において、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³は、それぞれ独立に、水素原子または炭素原子数が１〜５のアルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、アミル、イソアミル）であることが好ましく、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³の少なくとも１つ以上が炭素原子数１〜３のアルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル）であることが特に好ましい。
Ｘは、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ⁴−（Ｒ⁴は水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す。）、アルキレン基（好ましくは炭素原子数１〜６、より好ましくは１〜３のもの、例えばメチレン、エチレン、プロピレン）またはアリーレン基（好ましくは炭素原子数６〜２４、より好ましくは６〜１２のもの。例えば、フェニレン、ビフェニレン、ナフチレン）からなる群から選ばれる１つ以上の基から形成される２価の連結基であることが好ましく、−Ｏ−、アルキレン基またはアリーレン基から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基であることが特に好ましい。

Ｙは、水素原子、アルキル基（好ましくは炭素原子数２〜２５、より好ましくは２〜２０のもの。例えば、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ヘキシル、２−エチルヘキシル、ｔ−オクチル、ドデシル、シクロヘキシル、ジシクロヘキシル、アダマンチル）、アリール基（好ましくは炭素原子数６〜２４、より好ましくは６〜１８のもの。例えば、フェニル、ビフェニル、テルフェニル、ナフチル）またはアラルキル基（好ましくは炭素原子数７〜３０、より好ましくは７〜２０のもの。例えば、ベンジル、クレジル、ｔ−ブチルフェニル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル）であることが好ましく、アルキル基、アリール基またはアラルキル基であることが特に好ましい。−Ｘ−Ｙの組み合わせとしては、−Ｘ−Ｙの総炭素数が０〜４０であることが好ましく、１〜３０であることがさらに好ましく、１〜２５であることが最も好ましい。
これら一般式（１６）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

一般式（１７）の化合物について説明する。

上記一般式（１７）において、Ｑ¹、Ｑ²およびＱ³はそれぞれ独立に５または６員環を表し、炭化水素環でもへテロ環でもよく、また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。炭化水素環として好ましくは、置換または無置換のシクロヘキサン環、置換または無置換のシクロペンタン環、芳香族炭化水素環であり、より好ましくは芳香族炭化水素環である。へテロ環として好ましくは５または６員環の酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のうち少なくとも１つを含む環である。へテロ環としてより好ましくは酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のうち少なくとも１つを含む芳香族ヘテロ環である。

Ｑ¹、Ｑ²およびＱ³として好ましくは芳香族炭化水素環または芳香族へテロ環である。芳香族炭化水素環として好ましくは炭素数６〜３０の単環または二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。更に好ましくはベンゼン環である。
芳香族ヘテロ環として好ましくは酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。Ｑ¹、Ｑ²およびＱ³としてより好ましくは好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはベンゼン環である。またＱ¹、Ｑ²およびＱ³は置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられる。

ＸはＢ、Ｃ−Ｒ（Ｒは水素原子または置換基を表す。）、Ｎ、Ｐ、Ｐ＝Ｏを表し、Ｘとして好ましくはＢ、Ｃ−Ｒ（Ｒとして好ましくはアリール基、置換又は未置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、カルボキシル基であり、より好ましくはアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくはアルコキシ基、ヒドロキシ基であり、特に好ましくはヒドロキシ基である。）、Ｎであり、Ｘとしてより好ましくはＣ−Ｒ、Ｎであり、特に好ましくはＣ−Ｒである。
一般式（１７）で表される化合物としては、好ましくは下記一般式（１７ａ）で表される化合物が挙げられる。

（一般式（１７ａ）中、Ｘ²はＢ、Ｃ−Ｒ（Ｒは水素原子または置換基を表す。）、Ｎ、Ｐ、Ｐ＝Ｏを表す。Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ²¹、Ｒ²²、Ｒ²³、Ｒ²⁴、Ｒ²⁵、Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³、Ｒ³⁴およびＲ³⁵はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。）

Ｘ²はＢ、Ｃ−Ｒ（Ｒは水素原子または置換基を表す。）、Ｎ、Ｐ、Ｐ＝Ｏを表し、Ｘ²として好ましくはＢ、Ｃ−Ｒ（Ｒとして好ましくはアリール基、置換又は未置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、カルボキシル基であり、より好ましくはアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくはアルコキシ基、ヒドロキシ基であり、特に好ましくはヒドロキシ基である。）、Ｎ、Ｐ＝Ｏであり、更に好ましくはＣ−Ｒ、Ｎであり、特に好ましくはＣ−Ｒである。

Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ²¹、Ｒ²²、Ｒ²³、Ｒ²⁴、Ｒ²⁵、Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³、Ｒ³⁴およびＲ³⁵はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ²¹、Ｒ²²、Ｒ²³、Ｒ²⁴、Ｒ²⁵、Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³、Ｒ³⁴およびＲ³⁵として好ましくはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は未置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。）、シリル基であり、より好ましくはアルキル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、更に好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基である。
これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。

以下に一般式（１７）または（１７ａ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されるものではない。

一般式（１８）で表される化合物について説明する。

一般式（１８）中、Ｒ¹はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ²およびＲ³はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。また、アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。
一般式（１８）として好ましくは下記一般式（１８ａ）で表される化合物である。

上記一般式（１８ａ）において、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶はそれぞれ独立にアルキル基またはアリール基を表す。ここで、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数が１〜２０のものが好ましく、１〜１５のものがさらに好ましく、１〜１２のものが最も好ましい。環状のアルキル基としては、シクロヘキシル基が特に好ましい。アリール基は炭素原子数が６〜３６のものが好ましく、６〜２４のものがより好ましい。

上記の一般式（１８）又は（１８ａ）において、アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよく、置換基としてはハロゲン原子（例えば、塩素、臭素、フッ素およびヨウ素）、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、シアノ基、アミノ基およびアシルアミノ基が好ましく、より好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホニルアミノ基およびアシルアミノ基であり、特に好ましくはアルキル基、アリール基、スルホニルアミノ基およびアシルアミノ基である。

以下に、一般式（１８）または一般式（１８ａ）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

次に、下記一般式（１９）で表される化合物について、説明する。

一般式（１９）中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴は、それぞれ独立に、水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す。Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³およびＸ⁴は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−および−ＮＲ⁵−（Ｒ⁵は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す）からなる群から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。ａ、ｂ、ｃおよびｄは０以上の整数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは２以上である。Ｑ¹は（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）価の有機基を表す。
前記（１９）で表される化合物は、更に下記一般式（１９ａ）〜（１９ｄ）のいずれかで表される化合物であることが好ましい。

一般式（１９ａ）中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³およびＲ¹⁴は、それぞれ、水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す。Ｘ¹¹、Ｘ¹²、Ｘ¹³およびＸ¹⁴は、それぞれ、単結合、−ＣＯ−および−ＮＲ¹⁵−（Ｒ¹⁵は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す）からなる群から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。ｋ、ｌ、ｍおよびｎは０または１であり、ｋ＋ｌ＋ｍ＋ｎは２、３または４である。Ｑ²は２〜４価の有機基を表す。

一般式（１９ｂ）中、Ｒ²¹およびＲ²²は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す。Ｙ¹およびＹ²は、それぞれ独立に、−ＣＯＮＲ²³−または−ＮＲ²⁴ＣＯ−を表す（Ｒ²³およびＲ²⁴は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す）。Ｌ¹は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−ＣＯ−、−ＮＲ²⁵−（Ｒ²⁵は水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す。）、アルキレン基およびアリーレン基からなる群から選ばれる１種以上の基から形成される２価の有機基を表す。

一般式（１９ｃ）中、Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³およびＲ³⁴はそれぞれ独立に、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す。Ｌ²は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−ＣＯ−、−ＮＲ³⁵−（Ｒ³⁵は水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す。）、アルキレン基およびアリーレン基からなる群から選ばれる１種以上の基から形成される２価の有機基を表す。

一般式（１９ｄ）中、Ｒ⁵¹、Ｒ⁵²、Ｒ⁵³およびＲ⁵⁴はそれぞれ独立に、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す。Ｌ⁴は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−ＣＯ−、−ＮＲ⁵⁵−（Ｒ⁵⁵は水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す。）、アルキレン基およびアリーレン基からなる群から選ばれる１種以上の基から形成される２価の有機基を表す。

以下、一般式（１９）で表される化合物についてさらに説明する。
上記一般式（１９）において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴は、それぞれ独立に、水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、脂肪族基が好ましい。脂肪族基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、環状であることがより好ましい。脂肪族基および芳香族基が有していてもよい置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられるが、無置換のものが好ましい。
Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³およびＸ⁴は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−、−ＮＲ⁵−（Ｒ⁵は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、無置換のものおよび／または脂肪族基がより好ましい。）からなる群から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³およびＸ⁴の組み合わせは特に限定されないが、−ＣＯ−、−ＮＲ⁵−から選ばれるのがより好ましい。
ａ、ｂ、ｃおよびｄは０以上の整数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは２以上である。ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは、２〜８であることが好ましく、より好ましくは２〜６、さらに好ましくは２〜４である。Ｑ¹は（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）価の有機基（環状のものを除く）を表す。Ｑ¹の価数は２〜８が好ましく、２〜６がより好ましく、２〜４が最も好ましい。ここで有機基とは、有機化合物からなる基をいう。

上記一般式（１９ａ）において、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³およびＲ¹⁴は、それぞれ独立に、水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、脂肪族基が好ましい。脂肪族基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、環状であることがより好ましい。脂肪族基および芳香族基が有していてもよい置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられるが、無置換のものが好ましい。
Ｘ¹¹、Ｘ¹²、Ｘ¹³およびＸ¹⁴はそれぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−、−ＮＲ¹⁵−（Ｒ¹⁵は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、無置換のものおよび／または脂肪族基がより好ましい。）から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。それぞれＸ¹¹、Ｘ¹²、Ｘ¹³およびＸ¹⁴の組み合わせは特に限定されないが、−ＣＯ−、−ＮＲ¹⁵−から選ばれるのがより好ましい。
ｋ、ｌ、ｍおよびｎは０または１であり、ｋ＋ｌ＋ｍ＋ｎ＝２、３または４である。Ｑ¹は２〜４価の有機基（環状のものを除く）を表す。Ｑ¹の価数は２または３が好ましい。

上記一般式（１９ｂ）において、Ｒ²¹およびＲ²²は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、脂肪族基が好ましい。脂肪族基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、環状であることがより好ましい。脂肪族基および芳香族基が有していてもよい置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられるが、無置換のものが好ましい。
Ｙ¹およびＹ²はそれぞれ独立に−ＣＯＮＲ²³−または−ＮＲ²⁴ＣＯ−を表し、Ｒ²³およびＲ²⁴は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表表し、無置換のものおよび／または脂肪族基がより好ましい。Ｌ¹は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−ＣＯ−、−ＮＲ²⁵−、アルキレン基およびアリーレン基から選ばれる１種以上の基から形成される２価の有機基（環状のものを除く）を表す。
Ｌ¹の組み合わせは特に限定されないが、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ²⁵−、およびアルキレン基から選ばれるのが好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−およびアルキレン基から選ばれるのがさらに好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−およびアルキレン基から選ばれるのが最も好ましい。

上記一般式（１９ｃ）において、Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³およびＲ³⁴はそれぞれ独立に、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、脂肪族基が好ましい。脂肪族基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、環状であることがより好ましい。脂肪族基および芳香族基が有していてもよい置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられるが、無置換のものが好ましい。
Ｌ²は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−ＣＯ−、−ＮＲ³⁵−（Ｒ³⁵は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、無置換のものおよび／または脂肪族基がより好ましい。）、アルキレン基、アリーレン基から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。Ｌ²の組み合わせは特に限定されないが、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ³⁵−、およびアルキレン基から選ばれるのが好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−およびアルキレン基から選ばれるのがさらに好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−およびアルキレン基から選ばれるのが最も好ましい。

上記一般式（１９ｄ）において、Ｒ⁵¹、Ｒ⁵²、Ｒ⁵³およびＲ⁵⁴はそれぞれ独立に、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、脂肪族基が好ましい。脂肪族基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、環状であることがより好ましい。脂肪族基および芳香族基が有していてもよい置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられるが、無置換のものが好ましい。
Ｌ⁴は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−ＣＯ−、−ＮＲ⁵⁵−（Ｒ⁵⁵は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、無置換のものおよび／または脂肪族基がより好ましい。）、アルキレン基、アリーレン基から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。Ｌ⁴の組み合わせは特に限定されないが、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ⁵⁵−、およびアルキレン基から選ばれるのが好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−およびアルキレン基から選ばれるのがさらに好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−およびアルキレン基から選ばれるのが最も好ましい。

以下に一般式（１９）及び一般式（１９ａ）〜（１９ｄ）においてＲ¹〜Ｒ⁵、Ｒ¹¹〜Ｒ¹⁵、Ｒ²¹〜Ｒ²⁵、Ｒ³¹〜Ｒ³⁵、Ｒ⁵¹〜Ｒ⁵⁵で表される脂肪族基について説明する。脂肪族基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数１〜２５のものが好ましく、６〜２５のものがより好ましく、６〜２０のものが特に好ましい。脂肪族基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、アミル基、イソアミル基、ｔｅｒｔ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基ビシクロオクチル基、アダマンチル基、ｎ−デシル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、ジデシル基などが挙げられる。

以下に一般式（１９）及び一般式（１９ａ）〜（１９ｄ）においてＲ¹〜Ｒ⁵、Ｒ¹¹〜Ｒ¹⁵、Ｒ²¹〜Ｒ²⁵、Ｒ³¹〜Ｒ³⁵、Ｒ⁵¹〜Ｒ⁵⁵で表される芳香族基について説明する。芳香族基は芳香族炭化水素基でも芳香族ヘテロ環基でもよく、より好ましくは芳香族炭化水素基である。芳香族炭化水素基としては、炭素原子数が６〜２４のものが好ましく、６〜１２のものがさらに好ましい。芳香族炭化水素基の具体例な環としては、例えば、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、ビフェニル、ターフェニルなどの各環基が挙げられる。芳香族炭化水素基としては、ベンゼン、ナフタレン、ビフェニルの各基が特に好ましい。芳香族ヘテロ環基としては、酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のうち少なくとも１つを含むものが好ましい。ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどの各環が挙げられる。芳香族ヘテロ環基としては、ピリジン環、トリアジン環、キノリン環が特に好ましい。

また、以下に上記の一般式（１５）、（１５ａ）、（１５ｃ）、（１７）、（１７ａ）、（１９）、（１９ａ）〜（１９ｄ）に係る前述の置換基Ｔに関して詳細に説明する。
置換基Ｔとしては、例えばアルキル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８のものであり、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素原子数６〜３０、より好ましくは６〜２０、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは０〜１０、特に好ましくは０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。）、

アルコキシ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。）、

アシルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは０〜１６、特に好ましくは０〜１２であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。）、

アルキルチオ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルチオ基などが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素原子数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素原子数３〜４０、より好ましくは３〜３０、特に好ましくは３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）などが挙げられる。
これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。

一般式（１９）、一般式（１９ａ）〜（１９ｄ）のいずれかで表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

本発明に用いられる化合物はいずれも既知の化合物より製造することができる。一般式（１９）または（１９ａ）〜（１９ｄ）のいずれかで表される化合物は、例えば、カルボニルクロリドとアミンとの縮合反応により得られる。

本発明においては、上記分極率異方性の大きい（「分極率異方性の高い」とも言う）置換基を有するセルロース体と、上記レターデーション調節剤とを組み合わせることで、Ｒｔｈをよりさらに低減させることができる。Ｒｔｈをより低減させる作用機構は明確になってはいないが、セルロース体上の分極率の高い置換基に対し、置換基と相溶性の高い上記レターデーション調節剤を用いることで、製膜時の置換基の配向の自由度を高め、膜厚方向へ配向する置換基の割合を高めることで、結果的にフィルムのＲｔｈを低減できるものと推定している。

＜ｌｏｇＰ値＞
本発明のセルロース体フィルムを作製するにあたっては、上述のように分極率異方性の高い置換基とレターデーション調節剤の相溶性が高くなることで、フィルム中のセルロース体上の置換基が膜厚方向へ配向する割合をより高める目的で、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）が１〜１０である化合物をレターデーション調節剤として使用することが好ましい。ｌｏｇＰ値が１０以下であることにより、セルロース体上の置換基との相溶性が良好であり、Ｒｔｈを充分に低減させる効果を有し、またフィルムの白濁や粉吹きを生じるといった問題が起こらず、好ましい。また、ｌｏｇＰ値が１以上であることにより、親水性が高くなり過ぎず、セルロース体フィルムの耐水性を悪化させるという問題が生じず、好ましい。ｌｏｇＰ値としてさらに好ましい範囲は１〜６であり、特に好ましい範囲は１．５〜５である。
オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）の測定は、ＪＩＳ日本工業規格Ｚ７２６０−１０７（２０００）に記載のフラスコ浸とう法により実施することができる。また、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）は実測に代わって、計算化学的手法あるいは経験的方法により見積もることも可能である。計算方法としては、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．，２７，２１（１９８７））、Ｖｉｓｗａｎａｄｈａｎ’ｓｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．，２９，１６３（１９８９））、Ｂｒｏｔｏ’ｓｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法（Ｅｕｒ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．−Ｃｈｉｍ．Ｔｈｅｏｒ．，１９，７１（１９８４））などが好ましく用いられるが、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．，２７，２１（１９８７））がより好ましい。ある化合物のｌｏｇＰの値が測定方法あるいは計算方法により異なる場合に、該化合物が本発明の範囲内であるかどうかは、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法により判断することが好ましい。

＜レターデーション調節剤の物性＞
レターデーション調節剤は、前述のとおり、芳香族基を含有しても良いし、含有しなくても良い。またレターデーション調節剤は、分子量が３０００以下であることが好ましく、分子量が１５０以上３０００以下であることがより好ましく、１７０以上２０００以下であることがさらに好ましく、２００以上１０００以下であることが特に好ましい。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であっても良いし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でも良い。
レターデーション調節剤は、好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２５０℃の固体であり、さらに好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２００℃の固体である。またレターデーション調節剤は、セルロース体フィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。
レターデーション調節剤の添加量は、セルロース体の０．０１〜３０質量％であることが好ましく、１〜２５質量％であることがより好ましく、３〜２０質量％であることが特に好ましい。
レターデーション調節剤は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。
レターデーション調節剤を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。

（その他の光学異方性低下剤）
オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）が０〜７である、多価アルコールエステル化合物、カルボン酸エステル化合物、多環カルボン酸化合物、ビスフェノール誘導体をセルロース体に添加することによっても、光学異方性を低下させることができる。すなわち、これらの化合物も、セルロース体フィルムの光学異方性を低下させる化合物であり、本発明においては、これらの化合物を上記レターデーション調節剤に加えて更に添加することもできる。

オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）が０〜７である、多価アルコールエステル化合物、カルボン酸エステル化合物、多環カルボン酸化合物、ビスフェノール誘導体の具体例を以下に示す。

＜多価アルコールエステル化合物＞
本発明に好適に用いられる多価アルコールエステルは、２価以上の多価アルコールと１種以上のモノカルボン酸とのエステルである。多価アルコールエステル化合物としては以下のものが例としてあげられるが、本発明はこれらに限定されない。

「多価アルコール」
好ましい多価アルコールの例としては、例えばアドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることができる。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。

「モノカルボン酸」
好ましいモノカルボン酸としては、特に制限はなく公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いるとよりセルロース体フィルムの透湿度、含水率、保留性を向上させる点で好ましい。
好ましいモノカルボン酸の例としては、以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。
脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数は１〜２０であることが更に好ましく、１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を含有するとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。これらは更に置換基を有しても良い。
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。特に安息香酸が好ましい。

本発明に用いられる多価アルコールエステルにおけるカルボン酸は一種類でも、二種以上の混合でもよい。また、多価アルコール中のＯＨ基は全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。好ましくは、分子内に芳香環もしくはシクロアルキル環を３つ以上有することが好ましい。
多価アルコールエステル化合物としては、以下の化合物を例としてあげることができるが、本発明はこれらに限定されない。

＜カルボン酸エステル化合物＞
カルボン酸エステル化合物としては、以下の化合物を例としてあげることができるが、本発明はこれらに限定されない。具体的には、フタル酸エステル及びクエン酸エステル等、フタル酸エステルとしては、例えばジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート及びジエチルヘキシルフタレート等、またクエン酸エステルとしてはクエン酸アセチルトリエチル及びクエン酸アセチルトリブチルを挙げることが出来る。またその他、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバチン酸ジブチル、トリアセチン、トリメチロールプロパントリベンゾエート等も挙げられる。アルキルフタリルアルキルグリコレートもこの目的で好ましく用いられる。アルキルフタリルアルキルグリコレートのアルキルは炭素原子数１〜８のアルキル基である。アルキルフタリルアルキルグリコレートとしてはメチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、プロピルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等を挙げることが出来、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレートが好ましく、特にエチルフタリルエチルグリコレートが好ましく用いられる。またこれらアルキルフタリルアルキルグリコレート等を２種以上混合して使用してもよい。
カルボン酸エステル化合物としては、以下の化合物を例としてあげることができるが、本発明はこれらに限定されない。

＜多環カルボン酸化合物＞
本発明において用いられる多環カルボン酸化合物は分子量が３０００以下の化合物であることが好ましく、特に２５０〜２０００以下の化合物であることが好ましい。環状構造に関して、環の大きさについて特に制限はないが、３〜８個の原子から構成されていることが好ましく、特に６員環及び／又は５員環であることが好ましい。これらが炭素、酸素、窒素、ケイ素あるいは他の原子を含んでいてもよく、環の結合の一部が不飽和結合であってもよく、例えば６員環がベンゼン環、シクロヘキサン環でもよい。本発明に用いられる化合物は、このような環状構造が複数含まれているものであり、例えば、ベンゼン環とシクロヘキサン環をどちらも分子内に有していたり、２個のシクロヘキサン環を有していたり、ナフタレンの誘導体あるいはアントラセン等の誘導体であってもよい。より好ましくはこのような環状構造を分子内に３個以上含んでいる化合物であることが好ましい。また、少なくとも環状構造の１つの結合が不飽和結合を含まないものであることが好ましい。具体的には、アビエチン酸、デヒドロアビエチン酸、パラストリン酸などのアビエチン酸誘導体が代表的であり、以下にこれら化合物の化学式を示すが、特にこれらに限定されるものではない。

上記Ｋ−５において、Ｒは、水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、脂肪族基が好ましい。脂肪族基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、環状であることがより好ましい。また、ｎは１以上の整数であれば良く、１≦ｎ≦２０であることが好ましく、１≦ｎ≦１０であることがより好ましい。

＜ビスフェノール誘導体＞
本発明において用いられるビスフェノール誘導体は分子量が１００００以下であることが好ましく、この範囲であれば単量体でも良いし、オリゴマー、ポリマーでも良い。また他のポリマーとの共重合体でも良いし、末端に反応性置換基が修飾されていても良い。
以下にこれら化合物の化学式を示すが、特にこれらに限定されるものではない。

なお、ビスフェノール誘導体の上記具体例中で、Ｒ１〜Ｒ４は水素原子、または炭素数１〜１０のアルキル基を表す。ｌ、ｍ、ｎは繰り返し単位を表し、特に限定はしないが、１〜１００の整数が好ましく、１〜２０の整数がさらに好ましい。
上記ｌｏｇＰ値が０〜７である多価アルコールエステル化合物、カルボン酸エステル化合物、多環カルボン酸化合物、ビスフェノール誘導体の配合量は、上記セルロース体１００質量部に対して０．１〜３０質量部とするのが好ましく、１〜２０質量部とするのが更に好ましい。

（可塑剤）
セルロースアシレートフィルムには、機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。ＤＥＰおよびＤＰＰが特に好ましい。
可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１〜２５質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがさらに好ましく、３〜１５質量％であることが最も好ましい。

（紫外線吸収剤）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、紫外線吸収剤を含有することができる。
紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号公報、特開平８−３３７５７４号公報記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号公報記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。本発明のセルロースアシレートフィルムを、偏光板の保護フィルムとして用いる場合、紫外線吸収剤としては、偏光子や液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、且つ、液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。

本発明に有用なベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例として、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（３”，４”，５”，６”−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５’−メチルフェニル］ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−［３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−［３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。

また、市販品として、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２６」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２８」｛何れも商品名、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製｝を好ましく使用できる。
紫外線吸収剤の添加量は、セルロース体に対して０．１〜５．０質量％であることが好ましく、０．５〜５．０質量％であることがさらに好ましい。

（劣化防止剤）
セルロースアシレートフィルムには、劣化防止剤（例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、劣化防止剤添加による効果が発現し、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）を抑制する観点から、調製する溶液（ドープ）の０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０１〜０．２質量％であることがさらに好ましい。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げることができる。

（マット剤微粒子）
本発明のセルロースアシレートフィルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウムを挙げることができる。これらの微粒子の中ではケイ素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化ケイ素が好ましい。二酸化ケイ素の微粒子は、１次平均粒子サイズが１ｎｍ〜２０ｎｍであり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径は１ｎｍ〜２０ｎｍであることが好ましく、５ｎｍ〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができて、より好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットルが好ましく、１００〜２００ｇ／リットルがさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。

これらの微粒子は、通常平均粒子サイズが０．０５〜２．０μｍの２次粒子を形成し、これらの微粒子はフィルム中では、１次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に０．０５〜２．０μｍの凹凸を形成させる。２次平均粒子サイズは０．０５μｍ〜１．０μｍが好ましく、０．１μｍ〜０．７μｍがさらに好ましく、０．１μｍ〜０．４μｍが最も好ましい。１次、２次粒子サイズはフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒子サイズとした。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子サイズとする。

二酸化ケイ素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上、日本アエロジル社製、商品名）などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６およびＲ８１１（以上、日本アエロジル社製）の商品名で市販されており、使用することができる。

これらの中でアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが、１次平均粒子サイズが２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化ケイ素の微粒子であり、光学フィルムのヘイズを低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。

本発明で用いるマット剤は以下の方法により調製することが好ましい。すなわち、溶剤と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液をあらかじめ作成し、この微粒子分散液を別途用意したセルロースアシレート濃度が５質量％未満で分子量２００〜２０００の第１の添加剤溶液に加えて攪拌溶解した後、さらに第２の添加剤溶液を加えて攪拌溶解した後、さらにメインのセルロースアシレートドープ液と混合する方法が好ましい。

マット剤の表面は疎水化処理されているため、疎水的な添加剤が添加されると、マット剤の表面に添加剤が吸着され、これを核として、添加剤の凝集物が発生しやすい。相対的に親水的な添加剤を予めマット剤分散液と混合したのち、疎水的な添加剤を混合することにより、マット剤表面での添加剤の凝集を抑制することができ、ヘイズが低く、液晶表示装置に組み込んだ際の黒表示における光漏れが少なく好ましい。

マット剤分散剤と添加剤溶液の混合、およびセルロースアシレート液との混合にはインラインミキサーを使用することが好ましい。本発明はこれらの方法に限定されないが、二酸化ケイ素微粒子を溶剤などと混合して分散するときの二酸化ケイ素の濃度は５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％が更に好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度が高い方が同量の添加量に対する濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なセルロースアシレートのドープ溶液中でのマット剤の添加量は０．００１〜１．０質量％が好ましく、０．００５〜０．５質量％が更に好ましく、０．０１〜０．１質量％が最も好ましい。

〔セルロースアシレートフィルムの製造〕
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ソルベントキャスト法により製造する。ソルベントキャスト法では、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムを製造する。

有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエステル及び炭素原子数が１〜６のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。
エーテル、ケトン及びエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトン及びエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−及び−ＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する溶媒の上記した好ましい炭素原子数範囲内であることが好ましい。

炭素原子数が３〜１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソール及びフェネトールが含まれる。
炭素原子数が３〜１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノンが含まれる。
炭素原子数が３〜１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート及びペンチルアセテートが含まれる。

２種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノール及び２−ブトキシエタノールが含まれる。
ハロゲン化炭化水素の炭素原子数は、１又は２であることが好ましく、１であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、２５〜７５モル％であることが好ましく、３０〜７０モル％であることがより好ましく、３５〜６５モル％であることがさらに好ましく、４０〜６０モル％であることが最も好ましい。メチレンクロリドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。

本発明において有機溶媒はメチレンクロリドとアルコールを混合して用いることが好ましく、メチレンクロリドに対するアルコールの比率は１質量％以上５０質量％以下が好ましく、１０質量％以上４０質量％以下が好ましく、１２質量％以上３０質量％以下が最も好ましい。アルコールとしてはメタノール、エタノール、ｎ−ブタノールが好ましく、２種類以上のアルコールを混合して使用してもよい。

０℃以上の温度（常温又は高温）で処理することからなる一般的な方法で、セルロースアシレート溶液を調製することができる。溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法及び装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素（特にメチレンクロリド）を用いることが好ましい。

セルロースアシレートの量は、得られる溶液中に１０〜４０質量％含まれるように調整する。セルロースアシレートの量は、１０〜３０質量％であることがさらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。

セルロースアシレート溶液は、常温（０〜４０℃）でセルロースアシレートと有機溶媒とを攪拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧及び加熱条件下で攪拌してもよい。具体的には、セルロースアシレートと有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌する。
加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好ましくは６０〜２００℃であり、さらに好ましくは８０〜１１０℃である。

各成分は予め粗混合してから容器に入れてもよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の不活性気体を注入して容器を加圧することができる。また、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加してもよい。

加熱する場合、容器の外部より加熱することが好ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。

容器内部に攪拌翼を設けて、これを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。

容器には、圧力計、温度計等の計器類を設置してもよい。容器内で各成分を溶媒中に溶解する。調製したドープは冷却後容器から取り出すか、又は取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。

冷却溶解法により、溶液を調製することもできる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させることが困難な有機溶媒中にも、セルロースアシレートを溶解させることができる。なお、通常の溶解方法でセルロースアシレートを溶解できる溶媒であっても、冷却溶解法によると迅速に均一な溶液が得られるとの効果がある。

冷却溶解法では最初に、室温で有機溶媒中にセルロースアシレートを撹拌しながら徐々に添加する。セルロースアシレートの量は、この混合物中に１０〜４０質量％含まれるように調整することが好ましい。セルロースアシレートの量は、１０〜３０質量％であることがさらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。

次に、混合物を−１００〜−１０℃（好ましくは−８０〜−１０℃、さらに好ましくは−５０〜−２０℃、最も好ましくは−５０〜−３０℃）に冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０〜−２０℃）中で実施できる。冷却によりセルロースアシレートと有機溶媒の混合物は固化する。

冷却速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。冷却速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、冷却速度は、冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を、冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間で割った値である。

さらに、これを０〜２００℃（好ましくは０〜１５０℃、さらに好ましくは０〜１２０℃、最も好ましくは０〜５０℃）に加温すると、有機溶媒中にセルロースアシレートが溶解する。昇温は、室温中に放置するだけでもよく、温浴中で加温してもよい。

加温速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。加温速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始する時の温度と最終的な加温温度との差を、加温を開始してから最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値である。

以上のようにして、均一な溶液が得られる。なお、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察するだけで判断することができる。

冷却溶解法においては、冷却時の結露による水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが好ましい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、加温時に減圧すると、溶解時間を短縮することができる。加圧及び減圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが好ましい。

なお、セルロースアセテート（酢化度：６０．９％、粘度平均重合度：２９９）を冷却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した２０質量％の溶液は、示差走査熱量計（ＤＳＣ）での測定によると、３３℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移温度プラス１０℃程度の温度で保する必要がある。ただし、この疑似相転移温度は、セルロースアセテートの酢化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒により異なる。

調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを製造する。ドープにはレターデーション上昇剤を添加することが好ましい。

ドープは、ドラム又はバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８〜３５％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ドープは、表面温度が１０℃以下のドラム又はバンド上に流延することが好ましい。

ソルベントキャスト法における乾燥方法については、米国特許第２３３６３１０号、同第２３６７６０３号、同第２４９２０７８号、同第２４９２９７７号、同第２４９２９７８号、同第２６０７７０４号、同第２７３９０６９号及び同第２７３９０７０号の各明細書、英国特許第６４０７３１号及び同第７３６８９２号の各明細書、並びに特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号及び同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。バンド又はドラム上での乾燥は空気、窒素などの不活性ガスを送風することにより行うことができる。

本発明のセルロースアシレートフィルムのバンドまたはドラム上の乾燥はできるだけ低温でおこなうことが好ましい。残量溶剤含量が３０質量％以上における乾燥温度は１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がさらに好ましく、９０℃以下が最も好ましい。
上記範囲で乾燥を行うことにより、フィルム中の微結晶の生成を低減することができる。

調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）を用いて二層以上の流延を行いフィルム化することもできる。この場合、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを作製することが好ましい。ドープは、ドラム又はバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１０〜４０％の範囲となるように濃度を調整することが好ましい。ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。

二層以上の複数のセルロースアシレート液を流延する場合、複数のセルロースアシレート溶液を流延することが可能で、支持体の進行方向に間隔をおいて設けられた複数の流延口からセルロースアシレートを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製してもよい。例えば、特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、及び特開平１１−１９８２８５号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、２つの流延口からセルロースアシレート溶液を流延することによってもフィルム化することもできる。例えば、特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、及び特開平６−１３４９３３号の各公報に記載の方法を用いることができる。さらに特開昭５６−１６２６１７号公報に記載の、高粘度セルロースアシレート溶液の流れを低粘度のセルロースアシレート溶液で包み込み、その高・低粘度のセルロースアシレート溶液を同時に押し出すセルロースアシレートフィルムの流延方法を用いることもできる。

また、２個の流延口を用いて、第一の流延口により支持体に成形したフィルムを剥ぎ取った後、そのフィルムの支持体面に接していた側に第二の流延を行うことにより、フィルムを作製することもできる。例えば、特公昭４４−２０２３５号公報に記載の方法を挙げることができる。

流延するセルロースアシレート溶液は同一の溶液を用いてもよいし、異なるセルロースアシレート溶液を用いてもよい。複数のセルロースアシレート層に機能をもたせるために、その機能に応じたセルロースアシレート溶液を、それぞれの流延口から押し出せばよい。さらに本発明に用いられるセルロースアシレート溶液は、他の機能層（例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、紫外線吸収層、偏光層など）と同時に流延することもできる。

従来の単層液では、必要なフィルムの厚さにするためには、高濃度で高粘度のセルロースアシレート溶液を押し出すことが必要である。その場合セルロースアシレート溶液の安定性が悪くて固形物が発生し、ブツ故障となったり、平面性が不良となったりして問題となることが多かった。この問題の解決方法として、複数のセルロースアシレート溶液を流延口から流延することにより、高粘度の溶液を同時に支持体上に押し出すことができ、平面性も良化し優れた面状のフィルムが作製できるばかりでなく、濃厚なセルロースアシレート溶液を用いることで乾燥負荷の低減化が達成でき、フィルムの生産スピードを高めることができる。

（延伸処理）
本発明の延伸セルロースアシレートフィルムはフィルム搬送方向（長手方向）、及び/あるいはこれと垂直な方向（幅方向）に延伸処理を行う。

幅方向に延伸する方法は、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、同４−２８４２１１号、同４−２９８３１０号、同１１−４８２７１号などの各公報に記載されている。長手方向の延伸の場合、例えば、フィルムの搬送ローラーの速度を調節して、フィルムの剥ぎ取り速度よりもフィルムの巻き取り速度の方を速くするとフィルムは延伸される。幅方向の延伸の場合、フィルムの巾をテンターで保持しながら搬送して、テンターの巾を徐々に広げることによってもフィルムを延伸できる。フィルムの乾燥後に、延伸機を用いて延伸すること（好ましくはロング延伸機を用いる一軸延伸）もできる。
Ｒｅ発現性とＲｔｈ発現性をともに向上させるためには、搬送方向及び幅方向の双方に延伸することが特に好ましい。

本発明のセルロースアシレートフィルムは、一定以下の残留溶媒含量で一定の延伸速度で延伸することが好ましい。延伸開始時の残留溶媒含量は１質量％以上８０質量％以下であり、１質量％以上７０質量％以下が好ましく、１質量％以上６０質量％以下がさらに好ましい。

また延伸温度は、（フィルムのガラス転移温度−２０℃）以上（フィルムのガラス転移温度＋２０℃）以下が好ましい。
フィルムの延伸倍率は、１％〜１００％が好ましく、５％〜９０％がさらに好ましい。なお本発明においてフィルムの延伸倍率とは、下記数式（６）で求められる数値を指すものとする。

（幅方向の延伸倍率/長手方向の延伸倍率）の比は１以上１０以下が好ましく、２以上８以下がさらに好ましい。

〔セルロースアシレートフィルムの特性〕
（フィルムの厚み）
本発明のセルロースアシレートフィルムの厚みは３０μｍ以上１２０μｍ以下が好ましい。さらに好ましくは４０μｍ以上１００μｍ以下であり、最も好ましくは４０μｍ以上７０μｍ以下である。

（フィルムのレターデーション）
本明細書において、Ｒｅ(λ)、Ｒｔｈ(λ)は各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ(λ)はKOBRA 21ADH又はWR（いずれも商品名、王子計測機器社製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
測定されるフィルムが１軸または２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ(λ)は算出される。
Ｒｔｈ(λ)は、前記Ｒｅ(λ)、面内の遅相軸（KOBRA 21ADH又はWRにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長５９０ｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にKOBRA 21ADH又はWRにおいて算出される。
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、KOBRA 21ADH又はWRにおいて算出される。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１３）及び式（１４）によりＲｔｈを算出することもできる。

式（１３）中、Ｒｅ(θ)は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。

測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸(optic axis)がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ(λ)は算出される。
Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸（KOBRA 21ADH又はWRにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にKOBRA 21ADH又はWRにおいて算出される。
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、「ポリマーハンドブック」（JOHN WILEY＆SONS，INC）や、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、KOBRA 21ADH又はWRにおいてｎｘ、ｎｙ、ｎｚが算出される。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚによりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。

本発明のセルロースアシレートフィルムのＲｔｈ（５９０）は負であることが好ましい。より好ましくは−４００ｎｍ以上−２０ｎｍ以下が好ましく、−３００ｎｍ以上−３０ｎｍ以下がさら好ましい。
また、Ｒｅ（５９０）は−２００ｎｍ以上−５ｎｍ以下が好ましく、−１５０ｎｍ以上−１０ｎｍ以下がさらに好ましい。

（ヘイズ）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、例えば、ヘイズ計（１００１ＤＰ型、商品名、日本電色工業社製）を用いて測定した値が０．１以上０．８以下であることが好ましい。さらに好ましくは、０．１以上０．７以下であり、最も好ましくは０．１以上０．６０以下である。前記範囲にヘイズを制御することにより、光学補償フィルムとして液晶表示装置に組み込んだ際に高コントラストの画像が得られる。

（フィルムの平衡含水率）
セルロースアシレートフィルムの吸水率は一定温湿度における平衡含水率を測定することにより評価することができる。平衡含水率は一定温湿度に２４時間放置した後、平衡に達した試料の水分量をカールフィッシャー法で測定し、水分量（ｇ）を試料質量（ｇ）で除して算出したものである。
本発明のセルロースアシレートフィルムの２５℃８０％ＲＨにおける平衡含水率が３．０質量％以下であることが好ましい。さらに好ましくは、２．５質量％以下であり、最も好ましくは２．０質量％以下である。
フィルムの平衡含水率を上記範囲にすることにより、フィルムのレターデーション変化小さくすることができる。

（環境湿度によるレターデーション変化）
本発明のセルロースアシレートフィルムは環境湿度による変化レターデーション変化が小さいことが好ましく、Ｒｅ及びＲｔｈは下記式（７）及び（８）の関係を満たすことが好ましい。

式（７）はさらに好ましくは、

であり、最も好ましくは、

である。

また、式（８）はさらに好ましくは、

であり、最も好ましくは、

である。

環境湿度によるレターデーション変化を上記範囲に制御することにより、これ液晶表示装置に組み込んだ際、環境湿度による色味変化の小さい液晶表示装置が得られる。

（面状故障）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、例えば、セルロースエステルフィルムをサンプリングし、得られたフィルムの両端部３０ｃｍ幅、長さ１ｍ上に存在する３０μｍ以上の異物あるいは凝集物の数を数えて求めた値が０〜５０であることが好ましい。さらに好ましくは０〜４０、特に好ましくは０〜３０である。

（セルロースアシレートフィルムの表面処理）
セルロースアシレートフィルムの表面エネルギーを５５〜７５ｍＮ／ｍとするには、表面処理を施すことが好ましい。表面処理の例として、ケン化処理、プラズマ処理、火炎処理、および紫外線照射処理が挙げられる。ケン化処理には、酸ケン化処理およびアルカリケン化処理が含まれる。プラズマ処理にはコロナ放電処理およびグロー放電処理が含まれる。フィルムの平面性を保つために、これらの表面処理においては、セルロースアシレートフィルムの温度をガラス転移温度（Ｔｇ）以下、具体的には１５０℃以下とすることが好ましい。これらの表面処理後のセルロースアセテートフィルムの表面エネルギーは５５〜７５ｍＮ／ｍであることが好ましい。
グロー放電処理は、１０^-3〜２０Ｔｏｒｒ（０．１３３Ｐａ〜２．６７ｋＰａ）の低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体は、上記のような条件においてプラズマ励起される気体であり、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類およびそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）３０頁〜３２頁に詳細に記載されている。なお、近年注目されている大気圧でのプラズマ処理は、例えば１０〜１０００ｋｅＶ下で２０〜５００ｋＧｙの照射エネルギーが用いられ、より好ましくは３０〜５００ｋｅＶ下で２０〜３００ｋＧｙの照射エネルギーが用いられる。これらの中でも特に好ましくは、アルカリ鹸化処理でありセルロースアシレートフィルムの表面処理としては極めて有効である。

アルカリ鹸化処理は、セルロースアシレートフィルムを鹸化液の槽に直接浸漬する方法または鹸化液をセルロースアシレートフィルム塗布する方法で実施することが好ましい。塗布方法としては、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法およびＥ型塗布法を挙げることができる。アルカリ鹸化処理塗布液の溶媒は、鹸化液の透明支持体に対して塗布するために濡れ性が良く、また鹸化液溶媒によって透明支持体表面に凹凸を形成させずに、面状を良好なまま保つ溶媒を選択することが好ましい。具体的には、アルコール系溶媒が好ましく、イソプロピルアルコールが特に好ましい。また、界面活性剤の水溶液を溶媒として使用することもできる。アルカリ鹸化塗布液のアルカリは、上記溶媒に溶解するアルカリが好ましく、ＫＯＨ、ＮａＯＨがさらに好ましい。鹸化塗布液のｐＨは１０以上が好ましく、１２以上がさらに好ましい。アルカリ鹸化時の反応条件は、室温で１秒〜５分が好ましく、５秒〜５分がさらに好ましく、２０秒〜３分が特に好ましい。アルカリ鹸化反応後、鹸化液塗布面を水洗あるいは酸で洗浄したあと水洗することが好ましい。

これらの方法で得られた固体の表面エネルギーは「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社、１９８９．１２．１０発行）に記載のように接触角法、湿潤熱法、および吸着法により求めることができる。本発明のセルロースアシレートフィルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。具体的には、表面エネルギーが既知である２種類の溶液をセルロースアシレートフィルムに滴下し、液滴の表面とフィルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフィルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフィルムの表面エネルギーを算出できる。

セルロースアシレートフィルムに上記の表面処理を実施することにより、フィルムの表面エネルギーが５５〜７５ｍＮ／ｍであるセルロースアシレートフィルムを得ることができる。このセルロースアシレートフィルムを偏光板の透明保護膜とすることにより、偏光膜とセルロースアシレートフィルムの接着性を向上させることができる。また、本発明のセルロースアシレートフィルムをＯＣＢモードの液晶表示装置に用いる場合、本発明の光学補償シートは、セルロースアシレートフィルム上に配向膜を形成し、その上に円盤状化合物もしくは棒状液晶化合物を含む光学異方性層を設けても良い。光学異方性層は、配向膜上に円盤状化合物（もしくは棒状液晶化合物）を配向させ、その配向状態を固定することにより形成する。このようにセルロースアシレートフィルム上に光学異方性層を設ける場合、従来ではセルロースアシレートフィルムと配向膜との接着性を確保するために、両者の間にゼラチン下塗り層を設ける必要があったが、本発明の、表面エネルギーが５５〜７５ｍＮ／ｍであるセルロースアシレートフィルムを用いることにより、ゼラチン下塗り層を不要とすることができる。

［セルロースアシレートフィルムを用いた光学材料］
〔光学補償シート〕
以上説明した少なくとも一種のレターデーション発現剤を含んで延伸され、上記レターデーション値Ｒｅ、Ｒｔｈ、およびＲｅ／Ｒｔｈ比を満たし、膜厚が４０μｍ〜１１０μｍのセルロースアシレートフィルムは、一枚だけで光学補償シートとして機能する。
本発明のセルロースアシレートフィルムは、光学補償シートとして用いることが好ましい。

〔偏光板〕
偏光板は、偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる。一方の保護膜として、上記のセルロースアシレートフィルムからなる光学補償シートを用いることができる。他方の保護膜は、通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよい。
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。
セルロースアシレートフィルムからなる光学補償シートの遅相軸と偏光膜の透過軸とは、実質的に平行になるように配置する。

（反射防止層）
偏光板の、液晶セルと反対側に配置される透明保護膜には反射防止層を設けることが好ましい。特に本発明では、（１）透明保護膜上に少なくとも光散乱層と低屈折率層がこの順で積層した反射防止層、または、（２）透明保護膜上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層した反射防止層が好適に用いられる。以下にそれらの好ましい例を順に記載する。

（１）透明保護膜上に光散乱層と低屈折率層を設けた反射防止層
本発明における光散乱層には、マット粒子が分散しており、光散乱層のマット粒子以外の部分の素材の屈折率は１．５０〜２．００の範囲にあることが好ましく、低屈折率層の屈折率は１．３５〜１．４９の範囲にあることが好ましい。本発明において光散乱層は防眩性とハードコート性を兼ね備えており、１層でもよいし、複数層、例えば２層〜４層で構成されていてもよい。

反射防止層は、その表面凹凸形状として、中心線平均粗さＲａが０．０８〜０．４０μｍ、１０点平均粗さＲｚがＲａの１０倍以下、平均山谷距離Ｓｍが１〜１００μｍ、凹凸最深部からの凸部高さの標準偏差が０．５μｍ以下、中心線を基準とした平均山谷距離Ｓｍの標準偏差が２０μｍ以下、傾斜角０〜５度の面が１０％以上となるように設計することで、十分な防眩性と目視での均一なマット感が達成され、好ましい。また、Ｃ光源下での反射光の色味がａ^*値−２〜２、ｂ^*値−３〜３、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内での反射率の最小値と最大値の比０．５〜０．９９であることで、反射光の色味がニュートラルとなり、好ましい。またＣ光源下での透過光のｂ^*値が０〜３とすることで、表示装置に適用した際の白表示の黄色味が低減され、好ましい。また、面光源上と本発明における反射防止フィルムの間に１２０μｍ×４０μｍの格子を挿入してフィルム上で輝度分布を測定した際の輝度分布の標準偏差が２０以下であると、高精細パネルに本発明のフィルムを適用したときのギラツキが低減され、好ましい。

本発明における反射防止層は、その光学特性として、鏡面反射率２．５％以下、透過率９０％以上、６０度光沢度７０％以下とすることで、外光の反射を抑制でき、視認性が向上するため好ましい。特に鏡面反射率は１％以下がより好ましく、０．５％以下であることが最も好ましい。ヘイズ２０％〜５０％、内部ヘイズ／全ヘイズ値０．３〜１、光散乱層までのヘイズ値から低屈折率層を形成後のヘイズ値の低下が１５％以内、くし幅０．５ｍｍにおける透過像鮮明度２０％〜５０％、垂直透過光／垂直から２度傾斜方向の透過率比が１．５〜５．０とすることで、高精細ＬＣＤパネル上でのギラツキ防止、文字等のボケの低減が達成され、好ましい。

＜低屈折率層＞
反射防止フィルムの低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．４９であり、好ましくは１．３０〜１．４４の範囲にある。さらに、低屈折率層は下記数式（９）を満たすことが低反射率化の点で好ましい。

（式中、ｍは正の奇数であり、ｎ1は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ1は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５０ｎｍの範囲の値である。）

本発明における低屈折率層を形成する素材について以下に説明する。
本発明における低屈折率層には、低屈折率バインダーとして、含フッ素ポリマーを含む。フッ素ポリマーとしては動摩擦係数０．０３〜０．２０、水に対する接触角９０〜１２０°、純水の滑落角が７０°以下の熱または電離放射線により架橋する含フッ素ポリマーが好ましい。本発明の反射防止フィルムを画像表示装置に装着した時、市販の接着テープとの剥離力が低いほどシールやメモを貼り付けた後に剥がれ易くなり好ましく、５００ｇｆ以下が好ましく、３００ｇｆ以下がより好ましく、１００ｇｆ以下が最も好ましい。また、微小硬度計で測定した表面硬度が高いほど、傷がつき難く、０．３ＧＰａ以上が好ましく、０．５ＧＰａ以上がより好ましい。

低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーとしてはパーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン）の加水分解、脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性付与のための構成単位を構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。

含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製、商品名）やＭ−２０２０（ダイキン製、商品名）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。

架橋反応性付与のための構成単位としてはグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等）の重合によって得られる構成単位、これらの構成単位に高分子反応によって（メタ）アクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位（例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる）が挙げられる。

また上記含フッ素モノマー単位、架橋反応性付与のための構成単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。

上記のポリマーに対しては特開平１０−２５３８８号および特開平１０−１４７７３９号各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用しても良い。

＜光散乱層＞
光散乱層は、表面散乱および／または内部散乱による光拡散性と、フィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。従って、ハードコート性を付与するためのバインダー、光拡散性を付与するためのマット粒子、および必要に応じて高屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための無機フィラーを含んで形成される。

光散乱層の膜厚は、ハードコート性を付与する目的で、１〜１０μｍが好ましく、１．２〜６μｍがより好ましい。薄すぎるとハード性が不足し、厚すぎるとカールや脆性が悪化して加工適性が不足となる。

散乱層のバインダーとしては、飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。また、バインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマーの重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの（共）重合体が好ましい。バインダーポリマーを高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、および窒素原子から選ばれた少なくとも１種の原子を含むものを選択することもできる。

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、上記のエチレンオキサイド変性体、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例えば、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例えば、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例えば、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。上記モノマーは２種以上併用してもよい。

高屈折率モノマーの具体例としては、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４’−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも２種以上併用してもよい。

これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、エチレン性不飽和基を有するモノマー、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤、マット粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して反射防止膜を形成することができる。これらの光ラジカル開始剤等は公知のものを使用することができる。

ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポシキ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、多官能エポシキシ化合物、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤、マット粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して反射防止膜を形成することができる。

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。

光散乱層には、防眩性付与の目的で、フィラー粒子より大きく、平均粒子サイズが１〜１０μｍ、好ましくは１．５〜７．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子または樹脂粒子が含有される。
上記マット粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、ＴｉＯ₂粒子等の無機化合物の粒子；アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋アクリル粒子、架橋アクリルスチレン粒子、シリカ粒子が好ましい。
マット粒子の形状は、球状あるいは不定形のいずれも使用できる。

また、粒子サイズの異なる２種以上のマット粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子サイズのマット粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子サイズのマット粒子で別の光学特性を付与することが可能である。

さらに、上記マット粒子の粒子サイズ分布としては単分散であることが最も好ましく、各粒子の粒子サイズは、それぞれ同一に近ければ近いほど良い。例えば平均粒子サイズよりも２０％以上粒子サイズが大きな粒子を粗大粒子と規定した場合には、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１%以下であり、さらに好ましくは０．０１％以下である。このような粒子サイズ分布を持つマット粒子は通常の合成反応後に、分級によって得られ、分級の回数を上げることやその程度を強くすることにより、より好ましい分布のマット剤を得ることができる。

上記マット粒子は、形成された光散乱層のマット粒子量が好ましくは１０〜１０００ｍｇ／ｍ²、より好ましくは１００〜７００ｍｇ／ｍ²となるように光散乱層に含有される。
マット粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。

光散乱層には、層の屈折率を高めるために、上記のマット粒子に加えて、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物からなり、平均粒子サイズが０．２μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０６μｍ以下である無機フィラーが含有されることが好ましい。
また逆に、マット粒子との屈折率差を大きくするために、高屈折率マット粒子を用いた光散乱層では層の屈折率を低目に保つためにケイ素の酸化物を用いることも好ましい。好ましい粒子サイズは前述の無機フィラーと同じである。
光散乱層に用いられる無機フィラーの具体例としては、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＩＴＯとＳｉＯ₂等が挙げられる。ＴｉＯ₂およびＺｒＯ₂が高屈折率化の点で特に好ましい。該無機フィラーは表面をシランカップリング処理またはチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
これらの無機フィラーの添加量は、光散乱層の全質量の１０〜９０％であることが好ましく、より好ましくは２０〜８０％であり、特に好ましくは３０〜７５％である。
なお、このようなフィラーは、粒子サイズが光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質として振舞う。

光散乱層のバインダーおよび無機フィラーの混合物のバルクの屈折率は、１．４８〜２．００であることが好ましく、より好ましくは１．５０〜１．８０である。屈折率を上記範囲とするには、バインダーおよび無機フィラーの種類および量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。

光散乱層は、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、あるいはその両者を防眩層形成用の塗布組成物中に含有する。特にフッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量において、本発明の反射防止フィルムの塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いられる。面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせることにより生産性を高めることが目的である。

（２）透明保護膜上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層した反射防止層
基体上に少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層（最外層）の順序の層構成から成る反射防止膜は、以下の関係を満足する屈折率を有する様に設計される。
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
また、透明支持体と中屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。更には、中屈折率ハードコート層、高屈折率層および低屈折率層からなってもよい。
例えば、特開平８−１２２５０４号公報、同８−１１０４０１号公報、同１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等が挙げられる。又、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例えば、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）等が挙げられる。
反射防止膜のヘイズは、５％以下あることが好ましく、３％以下がさらに好ましい。又膜の強度は、ＪＩＳＫ５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。

＜高屈折率層および中屈折率層＞
反射防止膜の高い屈折率を有する層は、平均粒子サイズ１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子およびマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化性膜から成る。
高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物が挙げられ、好ましくは屈折率１．９以上のものが挙げられる。例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げられる。
このような超微粒子とするには、粒子表面が表面処理剤で処理されること（例えば、シランカップリング剤等：特開平１１−２９５５０３号公報、同１１−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８号公報、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤：特開２００１−３１０４３２号公報等）、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とすること（特開２００１−１６６１０４号公報等）、特定の分散剤併用（例えば、特開平１１−１５３７０３号公報、米国特許第６，２１０，８５８号明細書、特開２００２−２７７６０６９号公報等）等が挙げられる。
マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。
更に、ラジカル重合性および／またはカチオン重合性の重合性基を少なくとも２個以上含有の多官能性化合物含有組成物、加水分解性基を含有の有機金属化合物およびその部分縮合体組成物から選ばれる少なくとも１種の組成物が好ましい。例えば、特開２０００−４７００４号公報、同２００１−３１５２４２号公報、同２００１−３１８７１号公報、同２００１−２９６４０１号公報等に記載の化合物が挙げられる。
また、金属アルコキドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜も好ましい。例えば、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載されている。
高屈折率層の屈折率は、一般に１．７０〜２．２０である。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。
中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。また、厚さは５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。

＜低屈折率層＞
低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層して成る。低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５である。好ましくは１．３０〜１．５０である。
耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知のシリコーンの導入、フッ素の導入等から成る薄膜層の手段を適用できる。
含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７である。また、含フッ素化合物はフッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含む架橋性若しくは重合性の官能基を含む化合物が好ましい。
例えば、特開平９−２２２５０３号公報段落［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報段落［００１９］〜［００３０］、特開２００１−４０２８４号公報段落［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報等に記載の化合物が挙げられる。
シリコーン化合物としてはポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基あるいは重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造を有するものが好ましい。例えば、反応性シリコーン（例えば、サイラプレーン（商品名、チッソ社製）等）、両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報等）等が挙げられる。
架橋または重合性基を有する含フッ素および／またはシロキサンのポリマーの架橋または重合反応は、重合開始剤、増感剤等を含有する最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時または塗布後に光照射や加熱することにより実施することが好ましい。

また、シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化するゾルゲル硬化膜も好ましい。
例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物またはその部分加水分解縮合物（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、同１１−１０６７０４号公報記載等記載の化合物）、フッ素含有長鎖基であるポリ「パーフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物（特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）等が挙げられる。

低屈折率層は、上記以外の添加剤として充填剤（例えば、二酸化ケイ素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム）等の一次粒子平均径が１〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物、特開平１１−３８２０公報の段落番号［００２０］〜［００３８］に記載の有機微粒子等）、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。
低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されても良い。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。
低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。

（３）反射防止層の他の層
さらに、ハードコート層、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。

＜ハードコート層＞
ハードコート層は、反射防止層を設けた透明保護膜に物理強度を付与するために、透明支持体の表面に設ける。特に、透明支持体と前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。
ハードコート層は、光および／または熱の硬化性化合物の架橋反応、または、重合反応により形成されることが好ましい。
硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、又加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。
これらの化合物の具体例としては、高屈折率層で例示したと同様のものが挙げられる。
ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、国際公開第００／４６６１７号パンフレット等に記載のものが挙げられる。

高屈折率層はハードコート層を兼ねることができる。このような場合、高屈折率層で記載した手法を用いて微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが好ましい。
ハードコート層は、平均粒子サイズ０．２〜１０μｍの粒子を含有させて防眩機能（アンチグレア機能）を付与した防眩層を兼ねることもできる。
ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、０．２〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜７μｍである。
ハードコート層の強度は、ＪＩＳＫ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。又、ＪＩＳＫ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

＜帯電防止層＞
帯電防止層を設ける場合には体積抵抗率が１０^-8（Ωｃｍ^-3）以下の導電性を付与することが好ましい。吸湿性物質や水溶性無機塩、ある種の界面活性剤、カチオンポリマー、アニオンポリマー、コロイダルシリカ等の使用により１０^-8（Ωｃｍ^-3）の体積抵抗率の付与は可能であるが、温湿度依存性が大きく、低湿では十分な導電性を確保できない問題がある。そのため、導電性層素材としては金属酸化物が好ましい。金属酸化物には着色しているものがあるが、これらの金属酸化物を導電性層素材として用いるとフィルム全体が着色してしまい好ましくない。着色のない金属酸化物を形成する金属としてＺｎ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｍｇ、Ｂａ、Ｍｏ、ＷまたはＶをあげることができ、これらを主成分とした金属酸化物を用いることが好ましい。具体的な例としては、ＺｎＯ，ＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ₃、Ｖ₂Ｏ₅等、あるいはこれらの複合酸化物がよく、特にＺｎＯ、ＴｉＯ₂およびＳｎＯ₂が好ましい。異種原子を含む例としては、例えばＺｎＯに対してはＡｌ、Ｉｎ等の添加物、ＳｎＯ₂に対してはＳｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素等の添加、またＴｉＯ₂に対してはＮｂ、Ｔａ等の添加が効果的である。更にまた、特公昭５９−６２３５号公報に記載の如く、他の結晶性金属粒子あるいは繊維状物（例えば酸化チタン）に上記の金属酸化物を付着させた素材を使用しても良い。尚、体積抵抗値と表面抵抗値は別の物性値であり単純に比較することはできないが、体積抵抗値で１０^-8（Ωｃｍ^-3）以下の導電性を確保するためには、該導電層が概ね１０^-10（Ω／□）以下の表面抵抗値を有していればよく更に好ましくは１０^-8（Ω／□）である。導電層の表面抵抗値は帯電防止層を最表層としたときの値として測定されることが必要であり、本明細書に記載の積層フィルムを形成する途中の段階で測定することができる。

［液晶表示装置］
本発明のセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板は、液晶表示装置に有利に用いられる。本発明の偏光板は、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Twisted Nematic）、ＩＰＳ（In-Plane Switching）、ＦＬＣ（Ferroelectric Liquid Crystal）、ＡＦＬＣ（Anti-ferroelectric Liquid Crystal）、ＯＣＢ（Optically Compensatory Bend）、ＳＴＮ（Supper Twisted Nematic）、ＶＡ（Vertically Aligned）およびＨＡＮ（Hybrid Aligned Nematic）のような様々な表示モードが提案されている。このうち、ＯＣＢモードまたはＶＡモードに好ましく用いることができる。

ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置である。ＯＣＢモードの液晶セルは、米国特許第４，５８３，８２５号、同５，４１０，４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Optically Compensatory Bend）液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。

ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Digest of tech. Papers（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
ＯＣＢモードおよびＶＡモードの液晶表示装置は、液晶セルおよびその両側に二枚の偏光板を配置してもよいし、ＶＡモードの場合、偏光板をセルのバックライト側に配置してもよい。液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。

以下、本発明を実施例に基づき更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

実施例１
＜セルロース体＞
表５に示すセルロース体をそれぞれ、下記の方法により合成した。本発明に用いられるセルロース体は、アルドリッチ社製セルロースアセテート（アセチル置換度２．４５）もしくはダイセル社製セルロースアセテート（アセチル置換度２．４１（商品名：Ｌ−７０）、２．１４（商品名：ＬＭ−８０））を出発原料として、対応する酸クロリドとの反応により得た。また、アセチル置換度の低いセルロースアセテートは、アルドリッチ社製微結晶セルロースを出発原料とし、下記合成例１に記載の方法にてアセチル置換度１．８０の中間体を合成した後、対応する酸クロリドとの反応により得た。
表５中、ＴＡＣ１及びＴＡＣ２はそれぞれ、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の７頁〜１２頁に記載された方法により作製した。
なお、各セルロース体の置換基の分極率異方性の値Δαを、Ｇａｕｓｓｉａｎ０３（ＲｅｖｉｓｉｏｎＢ．０３、米ガウシアン社製ソフトウェア、商品名）により計算した。具体的には、Ｂ３ＬＹＰ／６−３１Ｇ＊レベルで最適化された構造を用いて、セルロースの構成単位であるβ−グルコース環上の水酸基に連結する置換基を水酸基の酸素原子を含む部分構造としてＢ３ＬＹＰ／６−３１１＋Ｇ＊＊レベルで分極率テンソルを計算し、得られた分極率テンソルを対角化した後、対角成分を前記数式（１）に代入することにより算出した。表５中の置換度の（）内には置換されたアシル基の基名を示し、更に各基名に続けて（）内に上記方法により計算した各基の分極率異方性を示した。
また、セルロース体の２位、３位及び６位における高分極率置換基の置換度について、それぞれ¹³Ｃ−ＮＭＲにより測定した。結果を表５に示す。

［合成例１：セルロースアセテート（アセチル置換度１．８０）の合成］
セルロース（アルドリッチ社製微結晶セルロース、広葉樹パルプ）５０質量部に酢酸５０質量部を噴霧し、室温で３時間放置した。別途、アシル化剤として酢酸３１９質量部、無水酢酸３３１質量部、硫酸３．５質量部の混合物を作製し、−１０℃に冷却した後に、前記の前処理を行ったセルロースを収容する反応容器に添加した。１時間経過後、内部温度を４０℃まで上昇させて１時間攪拌した後に液温を３０℃に調節し、３０℃で測定した溶液粘度が１９００ｃＰになるまで攪拌を続けた。
反応容器を０℃の氷水浴にて冷却し、０℃に冷却した５０％酢酸水溶液１８３質量部を添加した。内温を８５℃に昇温し、さらに９時間攪拌した。
次いで反応容器に、酢酸マグネシウム４水和物１２．２質量部、酢酸１２．２質量部、水１２．２質量部の混合溶液を添加し、６０℃で２時間攪拌した。酢酸と水の混合物を徐々に水の比率を上昇させながら、合計で酢酸２５００質量部、水６５００質量部を加えてセルロースアセテートを沈殿させた。得られたセルロースアセテートの沈殿は７５℃の温水にて、洗浄液を交換しながら４時間洗浄を行った。洗浄後、０．００２質量％水酸化カルシウム水溶液中で０．５時間攪拌した後に脱液を行い、７０℃で真空乾燥させた。
得られたセルロースアセテートは、アセチル化度１．８０、数平均分子量６３０００、重量平均分子量１７８０００、粘度平均重合度２８０であった。

［合成例２：Ｍ−００１の合成］
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた１Ｌの三ツ口フラスコにアルドリッチ社製セルロースアセテート（アセチル置換度２．４５）４０ｇ、ピリジン４６．０ｍｌ、塩化メチレン３００ｍｌを量り取り、室温で攪拌した。ここにベンゾイルクロリド６２．４ｍＬをゆっくりと滴下し、添加後さらに室温にて６時間攪拌した。反応後、反応溶液をメタノール４Ｌへ激しく攪拌しながら投入すると、白色固体が析出した。白色固体を吸引ろ過によりろ別し、大量のメタノールで３回洗浄を行った。得られた白色固体を６０℃で終夜乾燥した後、９０℃で６時間真空乾燥することにより目的のセルロース体（Ｍ−００１）を白色粉体として得た（４５．８ｇ、収率９８％）。

［合成例３：Ｍ−００２の合成］
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた１Ｌの三ツ口フラスコにアルドリッチ社製セルロースアセテート（アセチル置換度２．４５）４０ｇ、ピリジン４６．０ｍｌ、アセトン３００ｍｌを量り取り、室温で攪拌した。ここにベンゾイルクロリド６２．４ｍＬをゆっくりと滴下し、添加後さらに室温にて４時間攪拌した。反応後、反応溶液をメタノール４Ｌへ激しく攪拌しながら投入すると、白色固体が析出した。白色固体を吸引ろ過によりろ別し、大量のメタノールで３回洗浄を行った。得られた白色固体を６０℃で終夜乾燥した後、９０℃で６時間真空乾燥することにより目的のセルロース体（Ｍ−００２）を白色粉体として得た（４５．８ｇ、収率９９％）。

［合成例４：Ｍ−００３の合成］
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた１Ｌの三ツ口フラスコにアルドリッチ社製セルロースアセテート（アセチル置換度２．４５）４０ｇ、ピリジン４６．０ｍｌ、アセトン３００ｍｌを量り取り、室温で攪拌した。ここにベンゾイルクロリド６２．４ｍＬをゆっくりと滴下し、添加後さらに室温にて４時間攪拌した。反応後、反応溶液をメタノール４Ｌへ激しく攪拌しながら投入すると、白色固体が析出した。白色固体を吸引ろ過によりろ別し、大量のメタノールで３回洗浄を行った。得られた白色固体を６０℃で終夜乾燥した後、９０℃で６時間真空乾燥することにより目的のセルロース体（Ｍ−００３）を白色粉体として得た（４４．２ｇ、収率９７％）。

［合成例５：アサロン酸クロリドの合成］
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた１Ｌの三ツ口フラスコにアサロン酸（２，４，５−トリメトキシ安息香酸）１０６．１ｇ、トルエン４００ｍｌを量り取り、８０℃で攪拌した。ここに塩化チオニル４０．１ｍＬをゆっくりと滴下し、添加後さらに８０℃にて２時間攪拌した。反応後、アスピレーターを用いて反応溶媒を溜去すると白色固体が得られた。得られた白色固体にヘキサン３００ｍｌを加えて激しく攪拌・分散し、吸引ろ過により白色固体をろ別し、さらに大量のヘキサンで３回洗浄を行った。得られた白色固体を６０℃で４時間真空乾燥することにより目的のアサロン酸クロリドを白色粉体として得た（１１５．３ｇ、収率９９％）。

［合成例６：Ｍ−００４の合成］
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた１Ｌの三ツ口フラスコにアルドリッチ社製セルロースアセテート（アセチル置換度２．４５）４０ｇ、ピリジン４６．０ｍｌ、アセトン３００ｍｌを量り取り、室温で攪拌した。ここにアサロン酸クロリド８４．０ｇを数回に分割して粉体添加し、添加後さらに室温にて６時間攪拌した。反応後、反応溶液をメタノール４Ｌへ激しく攪拌しながら投入すると、白桃色固体が析出した。白桃色固体を吸引ろ過によりろ別し、大量のメタノールで３回洗浄を行った。得られた白桃色固体を６０℃で終夜乾燥した後、９０℃で６時間真空乾燥することにより目的のセルロース体（Ｍ−００４）を白色粉体として得た（４７．０ｇ、収率９６％）。

［合成例７：Ｍ−００５の合成］
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた１Ｌの三ツ口フラスコにダイセル社製セルロースアセテート（アセチル置換度２．４１）４０ｇ、ピリジン４６．０ｍｌ、塩化メチレン３００ｍｌを量り取り、室温で攪拌した。ここにベンゾイルクロリド６２．４ｍＬをゆっくりと滴下し、添加後さらに室温にて４時間攪拌した。反応後、反応溶液をメタノール４Ｌへ激しく攪拌しながら投入すると、白色固体が析出した。白色固体を吸引ろ過によりろ別し、大量のメタノールで３回洗浄を行った。得られた白色固体を６０℃で終夜乾燥した後、９０℃で６時間真空乾燥することにより目的のセルロース体（Ｍ−００５）を白色粉体として得た（４３．８ｇ、収率９７％）。

［合成例８：Ｍ−００６の合成］
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた１Ｌの三ツ口フラスコにアルドリッチ社製セルロースアセテート（アセチル置換度２．４５）４０ｇ、ピリジン４６．０ｍｌ、塩化メチレン３００ｍｌを量り取り、室温で攪拌した。ここにアサロン酸クロリド８４．０ｇを数回に分割して粉体添加し、添加後さらに室温にて６時間攪拌した。反応後、反応溶液をメタノール４Ｌへ激しく攪拌しながら投入すると、白桃色固体が析出した。白桃色固体を吸引ろ過によりろ別し、大量のメタノールで３回洗浄を行った。得られた白桃色固体を６０℃で終夜乾燥した後、９０℃で６時間真空乾燥することにより目的のセルロース体（Ｍ−００６）を白桃色粉体として得た（４５．０ｇ、収率９７％）。

［合成例９：Ｍ−００７の合成］
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた１Ｌの三ツ口フラスコにダイセル社製セルロースアセテート（アセチル置換度２．４１）４０ｇ、ピリジン４６．０ｍｌ、アセトン３００ｍｌを量り取り、室温で攪拌した。ここにベンゾイルクロリド６２．４ｍＬをゆっくりと滴下し、添加後さらに室温にて４時間攪拌した。反応後、反応溶液をメタノール４Ｌへ激しく攪拌しながら投入すると、白色固体が析出した。白色固体を吸引ろ過によりろ別し、大量のメタノールで３回洗浄を行った。得られた白色固体を６０℃で終夜乾燥した後、９０℃で６時間真空乾燥することにより目的のセルロース体（Ｍ−００７）を白色粉体として得た（４５．０ｇ、収率９９％）。

［合成例１０：Ｍ−００８の合成］
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた１Ｌの三ツ口フラスコにダイセル社製セルロースアセテート（アセチル置換度２．４１）４０ｇ、ピリジン４６．０ｍｌ、アセトン３００ｍｌを量り取り、室温で攪拌した。ここにベンゾイルクロリド６２．４ｍＬをゆっくりと滴下し、添加後さらに室温にて６時間攪拌した。反応後、反応溶液をメタノール４Ｌへ激しく攪拌しながら投入すると、白色固体が析出した。白色固体を吸引ろ過によりろ別し、大量のメタノールで３回洗浄を行った。得られた白色固体を６０℃で終夜乾燥した後、９０℃で６時間真空乾燥することにより目的のセルロース体（Ｍ−００８）を白色粉体として得た（４２．０ｇ、収率９２％）。

［合成例１１：Ｍ−００９の合成］
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた１Ｌの三ツ口フラスコにダイセル社製セルロースアセテート（アセチル置換度２．４１）４０ｇ、ピリジン４００ｍｌを量り取り、室温で攪拌した。ここにベンゾイルクロリド６２．４ｍＬをゆっくりと滴下し、添加後さらに室温にて６時間攪拌した。反応後、反応溶液をメタノール４Ｌへ激しく攪拌しながら投入すると、白色固体が析出した。白色固体を吸引ろ過によりろ別し、大量のメタノールで３回洗浄を行った。得られた白色固体を６０℃で終夜乾燥した後、９０℃で６時間真空乾燥することにより目的のセルロース体（Ｍ−００９）を白色粉体として得た（４１．０ｇ、収率９１％）。

［合成例１２：Ｍ−０１０の合成］
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた１Ｌの三ツ口フラスコにアルドリッチ社製セルロースアセテート（アセチル置換度２．４５）４０ｇ、ピリジン４００ｍｌを量り取り、室温で攪拌した。ここにベンゾイルクロリド６２．４ｍＬをゆっくりと滴下し、添加後さらに５０℃にて２時間攪拌した。反応後、反応溶液をメタノール４Ｌへ激しく攪拌しながら投入すると、白色固体が析出した。白色固体を吸引ろ過によりろ別し、大量のメタノールで３回洗浄を行った。得られた白色固体を６０℃で終夜乾燥した後、９０℃で６時間真空乾燥することにより目的のセルロース体（Ｍ−０１０）を白色粉体として得た（４４．８ｇ、収率９７％）。

［合成例１３：Ｍ−０１１の合成］
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた１Ｌの三ツ口フラスコにダイセル社製セルロースアセテート（アセチル置換度２．４１）４０ｇ、ピリジン４６．０ｍｌ、アセトン３００ｍｌを量り取り、室温で攪拌した。ここにベンゾイルクロリド６２．４ｍＬをゆっくりと滴下し、添加後さらに室温にて６時間攪拌した。反応後、反応溶液をメタノール４Ｌへ激しく攪拌しながら投入すると、白色固体が析出した。白色固体を吸引ろ過によりろ別し、大量のメタノールで３回洗浄を行った。得られた白色固体を６０℃で終夜乾燥した後、９０℃で６時間真空乾燥することにより目的のセルロース体（Ｍ−０１１）を白色粉体として得た（４２．０ｇ、収率９２％）。

［合成例１４：Ｍ−０１２の合成］
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた１Ｌの三ツ口フラスコにダイセル社製セルロースアセテート（アセチル置換度２．１４）４０ｇ、ピリジン４６．０ｍｌ、アセトン３００ｍｌを量り取り、室温で攪拌した。ここにベンゾイルクロリド６２．４ｍＬをゆっくりと滴下し、添加後さらに室温にて６時間攪拌した。反応後、反応溶液をメタノール４Ｌへ激しく攪拌しながら投入すると、白色固体が析出した。白色固体を吸引ろ過によりろ別し、大量のメタノールで３回洗浄を行った。得られた白色固体を６０℃で終夜乾燥した後、９０℃で６時間真空乾燥することにより目的のセルロース体（Ｍ−０１２）を白色粉体として得た（４８．０ｇ、収率９７％）。

［合成例１５：Ｍ−０１３の合成］
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた１Ｌの三ツ口フラスコにダイセル社製セルロースアセテート（アセチル置換度２．１４）４０ｇ、ピリジン４６．０ｍｌ、塩化メチレン３００ｍｌを量り取り、室温で攪拌した。ここにベンゾイルクロリド６２．４ｍＬをゆっくりと滴下し、添加後さらに室温にて６時間攪拌した。反応後、反応溶液をメタノール４Ｌへ激しく攪拌しながら投入すると、白色固体が析出した。白色固体を吸引ろ過によりろ別し、大量のメタノールで３回洗浄を行った。得られた白色固体を６０℃で終夜乾燥した後、９０℃で６時間真空乾燥することにより目的のセルロース体（Ｍ−０１３）を白色粉体として得た（４９．２ｇ、収率９８％）。

［合成例１６：Ｍ−０１４の合成］
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた１Ｌの三ツ口フラスコにダイセル社製セルロースアセテート（アセチル置換度２．１４）４０ｇ、ピリジン４６．０ｍｌ、アセトン３００ｍｌを量り取り、室温で攪拌した。ここにベンゾイルクロリド６２．４ｍＬをゆっくりと滴下し、添加後さらに室温にて６時間攪拌した。反応後、反応溶液をメタノール４Ｌへ激しく攪拌しながら投入すると、白色固体が析出した。白色固体を吸引ろ過によりろ別し、大量のメタノールで３回洗浄を行った。得られた白色固体を６０℃で終夜乾燥した後、９０℃で６時間真空乾燥することにより目的のセルロース体（Ｍ−０１４）を白色粉体として得た（４８．１ｇ、収率９７％）。

［合成例１７：Ｍ−０１５の合成］
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた１Ｌの三ツ口フラスコにダイセル社製セルロースアセテート（アセチル置換度２．１４）４０ｇ、ピリジン４６．０ｍｌ、アセトン３００ｍｌを量り取り、室温で攪拌した。ここにベンゾイルクロリド６２．４ｍＬをゆっくりと滴下し、添加後さらに室温にて４時間攪拌した。反応後、反応溶液をメタノール４Ｌへ激しく攪拌しながら投入すると、白色固体が析出した。白色固体を吸引ろ過によりろ別し、大量のメタノールで３回洗浄を行った。得られた白色固体を６０℃で終夜乾燥した後、９０℃で６時間真空乾燥することにより目的のセルロース体（Ｍ−０１５）を白色粉体として得た（４８．２ｇ、収率９９％）。

［合成例１８：Ｍ−０１６の合成］
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた１Ｌの三ツ口フラスコにダイセル社製セルロースアセテート（アセチル置換度２．１４）４０ｇ、ピリジン４００ｍｌを量り取り、室温で攪拌した。ここにベンゾイルクロリド６２．４ｍＬをゆっくりと滴下し、添加後さらに室温にて２時間攪拌した。反応後、反応溶液をメタノール４Ｌへ激しく攪拌しながら投入すると、白色固体が析出した。白色固体を吸引ろ過によりろ別し、大量のメタノールで３回洗浄を行った。得られた白色固体を６０℃で終夜乾燥した後、９０℃で６時間真空乾燥することにより目的のセルロース体（Ｍ−０１６）を白色粉体として得た（４９．０ｇ、収率９６％）。

［合成例１９：Ｍ−０１７の合成］
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた１Ｌの三ツ口フラスコに合成例１に記載のセルロースアセテート（アセチル置換度１．８０）３６ｇ、ピリジン４００ｍｌを量り取り、室温で攪拌した。ここにベンゾイルクロリド９３．０ｍＬをゆっくりと滴下し、添加後さらに室温にて４時間攪拌した。反応後、反応溶液をメタノール４Ｌへ激しく攪拌しながら投入すると、白色固体が析出した。白色固体を吸引ろ過によりろ別し、大量のメタノールで３回洗浄を行った。得られた白色固体を６０℃で終夜乾燥した後、９０℃で６時間真空乾燥することにより目的のセルロース体（Ｍ−０１７）を白色粉体として得た（４６．０ｇ、収率８８％）。

［合成例２０：Ｍ−０１８の合成］
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた１Ｌの三ツ口フラスコに合成例１に記載のセルロースアセテート（アセチル置換度１．８０）３６ｇ、ピリジン４００ｍｌを量り取り、室温で攪拌した。ここにアサロン酸クロリド８４．０ｇを数回に分割して粉体添加し、添加後さらに室温にて６時間攪拌した。反応後、反応溶液をメタノール４Ｌへ激しく攪拌しながら投入すると、黄色固体が析出した。黄色固体を吸引ろ過によりろ別し、大量のメタノールで３回洗浄を行った。得られた黄白色固体を６０℃で終夜乾燥した後、９０℃で６時間真空乾燥することにより目的のセルロース体（Ｍ−０１８）を黄白色粉体として得た（５３．６ｇ、収率８５％）。

［合成例２１：Ｍ−０１９の合成］
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた１Ｌの三ツ口フラスコに合成例１に記載のセルロースアセテート（アセチル置換度１．８０）３６ｇ、ピリジン４６．０ｍｌ、アセトン３００ｍｌを量り取り、室温で攪拌した。ここにベンゾイルクロリド９３．０ｍＬをゆっくりと滴下し、添加後さらに５０℃にて２時間攪拌した。反応後、反応溶液をメタノール４Ｌへ激しく攪拌しながら投入すると、白色固体が析出した。白色固体を吸引ろ過によりろ別し、大量のメタノールで３回洗浄を行った。得られた白色固体を６０℃で終夜乾燥した後、９０℃で６時間真空乾燥することにより目的のセルロース体（Ｍ−０１９）を白色粉体として得た（４１．３ｇ、収率８５％）。

［合成例２２：Ｍ−０２０の合成］
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた１Ｌの三ツ口フラスコに合成例１に記載のセルロースアセテート（アセチル置換度１．８０）３６ｇ、ピリジン４６．０ｍｌ、アセトン５００ｍｌを量り取り、室温で攪拌した。ここにアサロン酸クロリド１２０．０ｇを数回に分割して粉体添加し、添加後さらに室温にて６時間攪拌した。反応後、反応溶液をメタノール４Ｌへ激しく攪拌しながら投入すると、黄色固体が析出した。黄色固体を吸引ろ過によりろ別し、大量のメタノールで３回洗浄を行った。得られた黄白色固体を６０℃で終夜乾燥した後、９０℃で６時間真空乾燥することにより目的のセルロース体（Ｍ−０２０）を黄白色粉体として得た（５０．９ｇ、収率８７％）。

＜セルロース体溶液の調製＞
表６に記載の組成物を耐圧性のミキシングタンクに投入し６時間攪拌して各成分を溶解し、セルロース体溶液（以下、ドープともいう）Ｔ−１〜Ｔ−３０を調製した。

（前記数式（１１−１）の計算）
セルロース体溶液Ｔ−１〜Ｔ−３０に用いられた添加剤（可塑剤及びレターデーション調節剤）に関し、前記数式（１１−１）の左辺の数値を以下のようにして算出した。
まず、下記組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液をそれぞれ調製した。
セルロースアシレート（アセチル置換度２．８６）１００質量部
表６記載の各添加剤１２質量部
メチレンクロライド３１７質量部
メタノール４８質量部
一方、下記組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、レターデーション調節剤を含有しない比較用セルロースアシレート溶液を調製した。
セルロースアシレート（アセチル置換度２．８６）１００質量部
メチレンクロライド３１７質量部
メタノール４８質量部
調製したセルロースアシレート溶液を、後述するセルロースアシレートフィルム試料００１と同様の方法により製膜し、それぞれ膜厚８０μｍのセルロースアシレートフィルムを作製した。
各セルロースアシレートフィルムのレターデーション（５８９ｎｍにおけるＲｔｈ）を、ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨ（商品名、王子計測機器社製）を用いて本明細書に記載の方法と同様にして測定し、得られたＲｔｈ値をそれぞれＲｔｈ（ａ）、Ｒｔｈ（０）とした。ａ＝１２、および測定したＲｔｈ（ａ）、Ｒｔｈ（０）より、数式（１１−１）の左辺の数値を算出した。結果を表６に示す。

（オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）の測定）
セルロース体溶液Ｔ−１〜Ｔ−３０に用いられた添加剤（可塑剤及びレターデーション調節剤）に関し、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）は実測に代わって、計算化学的手法により算出した。計算ソフトは、ＣｈｅｍＤｒａｗＵｌｔｒａ５．０を用いた。測定結果を表６に示す。

ＴＰＰ：トリフェニルフォスフェート
ＢＤＰ：ビフェニルジフェニルフォスフェート
ＥＰＥＧ：エチルフタリルエチルグリコレート
ＵＶＢ−３：２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶＢ−７：２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニル）−ベンゾトリアゾール

＜セルロース体フィルム試料００１の作製＞
調製したセルロース体溶液Ｔ−１をバンド流延機にて金属支持体上に流延した後に乾燥を行い、自己支持性のあるドープ流延膜をバンドより剥離した。剥離したドープ膜をテンターでフィルム幅が維持されるように把持しながら乾燥した後、ロールに巻き取り、厚み８０μｍのセルロース体フィルム試料００１を、幅方向が１．３ｍの長さとなるように作製した。

＜セルロース体フィルム試料００２〜０１８、０２０〜０２６の作製＞
セルロース体フィルム試料００１の作製方法において、セルロース体溶液をＴ−２〜Ｔ−１８又はＴ−２０〜Ｔ−２６に変更したこと以外は同様の方法により、セルロース体フィルム試料００２〜０１８及び０２０〜０２６を、フィルムの厚み及び幅方向の長さが表７に記載のとおりとなるように作製した。

＜セルロース体フィルム試料０１９、０２７〜０３０の作製＞
セルロース体フィルム試料００１の作製方法において、セルロース体溶液をＴ−１９又はＴ−２７〜Ｔ−３０に変更し、またバンドより剥離した自己支持性のドープ膜の乾燥する工程にて、テンターで把持しながらＴＤ方向（搬送方向と垂直な方向）に表７に記載の倍率で延伸する工程を追加したこと以外は同様の方法により、セルロース体フィルム試料０１９及び０２７〜０３０を、フィルムの厚み及び幅方向の長さが表７に記載のとおりとなるように作製した。

＜表面処理＞
次に、作製したフィルム試料００１に対し下記表面処理を行った。
作製したフィルム試料００１を、１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で２分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．１規定の硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、セルロース体フィルムの表面をアルカリケン化した試料を作製した。
また、作製した他のフィルム試料００２〜０３０についても同様に表面処理をした試料を作製した。

＜光学性能の評価＞
作製した各試料フィルムについて、ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨ（商品名、王子計測機器社製）を用いて本明細書に記載の方法と同様にして、Ｒｅ（５８９）及びＲｔｈ（５８９）を測定した。その結果を表７に示す。

＜フィルムの平衡含水率の測定＞
作製した各試料フィルムについて、本明細書に記載の方法にて、２５℃８０％ＲＨにおけるフィルムの平衡含水率を測定した。その結果を表７に示す。

＜偏光板作製＞
上記の表面処理済みフィルム試料００１〜０３０を用い、下記の偏光板作製を行った。すなわち、厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して偏光膜を得た。作製した表面処理済みフィルム試料を２枚用意し、それぞれの片方の面（表面処理済の面）を偏光膜側にしながら偏光膜を間にして両側から挟むようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合わせ、両面がセルロース体フィルム００１によって保護された偏光板を得た。この際両側のセルロース体フィルム試料００１の遅相軸が偏光膜の透過軸と平行になるように貼り付けた。同様にして作製した表面処理済のフィルム試料００２〜０３０についても偏光板を作製した。

＜偏光板耐久性の評価＞
作製した各偏光板試料について、クロスニコルでの透過率の４００ｎｍ〜７００ｎｍの平均値について、６０℃、９５％ＲＨの条件下に１３００時間静置する前後の差を求めることで、偏光板耐久性を評価した。得られた結果を表７に示す。

表７の結果から明らかなように、分極率異方性が異なる２つ以上の置換基を有していないセルロース体を用いた試料００１及び００２は平衡含水率が高く偏光板の耐久性に劣り、また、分極率異方性が高い置換基が前記数式（Ａ１）を満たしていないセルロース体を用いた試料００４〜００６、００９、０１０、０１３、０１４、０１６、０１７、０２１、０２２はいずれもＲｔｈがプラスの値でありＩＰＳモードの液晶表示装置に好適に用いることができない。
これらに対し、分極率異方性が高い置換基が前記数式（Ａ１）を満たすセルロース体からなる本発明のフィルム試料は、Ｒｔｈがマイナスの値となることがわかった。また、更に平衡含水率を低くすることができ、偏光板用の保護フィルムとして使用した場合の高温高湿条件における耐久性試験後の偏向度の低下を抑制することができ、結果的に偏光板耐久性を向上できることがわかった。
また、同じセルロース体を用いた試料同士を比較すると、本明細書に記載された特定のレターデーション調節剤を用いた試料０２３〜０３０はそれぞれ、レターデーション調節剤を用いていない試料００７、００８、０１１、０１２、０１５、０１８、０１９、０２０よりもさらにＲｔｈを低減させることができることがわかった。
また、同じセルロース体Ｍ−００５を用いた試料同士を比較すると、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）が１〜１０である化合物をレターデーション調節剤として用いた試料０２３、０３１〜０３５は、ｌｏｇＰ値が１０を超える化合物をレターデーション調節剤として用いた試料００７よりもさらにＲｔｈを低減させることができることがわかった。

実施例２
＜偏光板一体型光学補償フィルム試料００１の作製＞
実施例１で作製したセルロース体フィルム試料００１の表面を実施例１と同様の方法によりケン化処理した後、このフィルム上に下記の組成の配向膜塗布液をワイヤーバーコータで２０ｍｌ／ｍ²塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、膜を形成した。次に、形成した膜にフィルムの遅相軸方向と平行の方向にラビング処理を施して配向膜を形成した。
（配向膜塗布液の組成）
下記の変性ポリビニルアルコール１０質量部
水３７１質量部
メタノール１１９質量部
グルタルアルデヒド０．５質量部
テトラメチルアンモニウムフルオライド０．３質量部

次に、配向膜上に、下記のディスコチック液晶性化合物１．８ｇ、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、商品名、大阪有機化学社製）０．２ｇ、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、商品名、チバガイギー社製）０．０６ｇ、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、商品名、日本化薬社製）０．０２ｇ、下記の空気界面側垂直配向剤（Ｐ−６）０．０１ｇをメチルエチルケトン３．９ｇに溶解した溶液を、＃５．４のワイヤーバーコータで塗布した。これを金属の枠に貼り付けて、１２５℃の恒温槽中で３分間加熱し、ディスコチック液晶化合物を配向させた。次に、９０℃で１２０Ｗ／ｃｍ²高圧水銀灯を用いて、３０秒間ＵＶ照射しディスコチック液晶化合物を架橋し、その後、室温まで放冷してディスコチック液晶位相差層を形成した。このようにして作製したセルロース体フィルム試料００１からなる支持体とディスコチック液晶位相差層とからなるフィルムを、光学異方性層付きセルロース体フィルム試料００１とした。

自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、商品名、王子計測機器社製）を用いて、光学異方性層付きセルロース体フィルム００１のＲｅの光入射角度依存性を測定し、予め測定したセルロース体フィルム試料００１の寄与分を差し引くことによって、ディスコチック液晶位相差層のみの光学特性を算出したところ、５８９．３ｎｍにおけるＲｅが１９５ｎｍ、Ｒｔｈが−９７ｎｍであり、液晶の平均傾斜角は８９．９°であり、ディスコチック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることが確認できた。なお遅相軸の方向は配向膜のラビング方向と平行であった。上記作製したディスコチック液晶位相差層は、屈折率異方性が負で光軸が層面に対して実質的に平行方向にある位相差層であった。このディスコチック液晶位相差層を、光学補償層１とした。

実施例１と同様の方法により、延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作した。ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、光学異方性層付きセルロース体フィルム試料００１の表面に実施例１と同様の方法によりケン化処理を行い、セルロース体フィルムが偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付けた。偏光膜の透過軸と光学異方性層付きセルロース体フィルム試料００１の遅相軸（光学補償層１の遅相軸もこれに一致する）とは直交になるように配置した。更に市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、商品名、富士写真フイルム社製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付け、偏光板一体型光学補償フィルム００１を製作した。

＜偏光板一体型光学補償フィルム試料０２３、０２５の作製＞
セルロース体フィルム試料００１の代わりに実施例１で作製したセルロース体フィルム試料０２３、０２５を用いる以外は偏光板一体型光学補償フィルム試料００１の作製方法と同様の方法により偏光板一体型光学補償フィルム０２３、０２５を作製した。

＜ＩＰＳモード液晶セルの作製＞
図１は、ＩＰＳモード液晶セルを示す模式図である。一枚のガラス基板上に、図１に示す様に、液晶素子画素領域１において、隣接する電極間の距離が２０μｍとなるように電極（図１中、画素電極２及び表示電極３）を配設し、その上にポリイミド膜を配向膜として設け、ラビング処理を行なった。図１中に示すラビング方向４に、ラビング処理を行なった。別に用意した一枚のガラス基板の一方の表面にポリイミド膜を設け、ラビング処理を行なって配向膜とした。二枚のガラス基板を、配向膜同士を対向させて、基板の間隔（ギャップ；ｄ）を３．９μｍとし、二枚のガラス基板のラビング方向が平行となるようにして重ねて貼り合わせ、次いで屈折率異方性（Δｎ）が０．０７６９及び誘電率異方性（Δε）が正の４．５であるネマチック液晶組成物（図１中、黒表示時の液晶化合物のダイレクター５ａ及び５ｂ、並びに白表示時の液晶化合物のダイレクター６ａ及び６ｂ）を封入した。液晶層のｄ・Δｎの値は３００ｎｍであった。

＜ＩＰＳモード液晶表示装置における光漏れの評価＞
次に上記で作製した偏光板一体型光学補償フィルムを用いて液晶表示装置を作製し、光漏れを評価した。なお、長尺状に作製した偏光板一体型光学補償フィルムについては、所定の大きさに裁断した後、液晶表示装置に組み込んだ。
接着剤を用いて、偏光板一体型光学補償フィルム００１を、作製したＩＰＳモード液晶セルの一方に、光学異方性層付きセルロース体フィルム試料００１の遅相軸が液晶セルのラビング方向と直交になるように（即ち、光学補償層１の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と直交になるように）、且つディスコチック液晶位相差層面側が液晶セル側になるように貼り付けた。続いて、ＩＰＳモード液晶セル１のもう一方の側に、市販の偏光板（ＨＬＣ２−５６１８、商品名、サンリッツ社製）をクロスニコルの配置で貼り付け、液晶表示装置００１を作製した。
偏光板一体型光学補償フィルム０２３、０２５についても、同様の方法によりＩＰＳモード液晶表示装置に組み込んだ液晶表示装置０２３、０２５を作製した。

＜作製した液晶表示装置の視野角依存性評価＞
作成した液晶表示装置の透過率の視野角依存性を測定した。抑角は正面から斜め方向へ１０°毎に８０°まで、方位角は水平右方向（０°）を基準として１０°毎に３６０°まで測定した。黒表示時の輝度は正面方向から抑角が増すにつれ漏れ光による上昇が見られ、抑角７０°近傍で最大値をとることがわかった。また黒表示時の輝度が増すことで、コントラストが悪化することもわかった。
そこで、黒表示時にて抑角６０°、方位角が液晶セルのラビング方向から左方向に４５°回転した方向から測定した輝度ＬＡおよび白表示時にて抑角６０°、方位角が液晶セルのラビング方向から左方向に４５°回転した方向から測定した輝度ＬＢを測定し、漏れ光（％）をＬＡのＬＢに対する割合として求めることで、コントラストを評価した。
（漏れ光）＝ＬＡ／ＬＢ
その結果を表８に示す。

＜作製した液晶表示装置の耐久性評価＞
作成した液晶表示装置の画像中央部における正面の黒輝度と耐久性試験後の黒輝度を測定し、経時前の白輝度に対する黒輝度の経時前後の黒輝度の差の割合（％）を耐久性前後の黒輝度上昇率として、液晶表示装置の耐久性を評価した。
（耐久性評価）＝（(経時後の黒輝度)−(経時前の黒輝度)）／(経時前の白輝度)
評価した結果を表８に示す。

表８の結果から明らかなように、本発明のフィルム試料（フィルム試料０２３、０２５）を偏光板用保護フィルムとして使用した偏光板を用いた液晶表示装置は、視野角特性に優れ、且つ高温高湿の耐久性試験後の黒輝度の上昇を抑制し、耐久性に優れることがわかった。

図１は、実施例で作製したＩＰＳモード液晶セルを示す模式図である。

符号の説明

１ＩＰＳモード液晶セル中の液晶素子画素領域
２画素電極
３表示電極
４ラビング方向
５ａ、５ｂ黒表示時の液晶化合物のダイレクター
６ａ、６ｂ白表示時の液晶化合物のダイレクター

Claims

下記数式（１）により算出される分極率異方性の値Δαが異なる２つ以上の置換基を有するセルロース体を含有するセルロース体フィルムであって、前記セルロース体における分極率異方性の値Δαが最小の置換基をＡ、分極率異方性の値Δαが最大の置換基をＢとしたとき、置換基Ａ及び置換基Ｂの置換度が下記関係式（Ａ１）を満たすことを特徴とするセルロース体フィルム。

（式中、αｘは、分極率テンソルを対角化後に得られる固有値の内、最大の成分であり；αｙは、分極率テンソルを対角化後に得られる固有値の内、二番目に大きい成分であり；αｚは、分極率テンソルを対角化後に得られる固有値の内、最小の成分である。）

（ここで、ＤＳ_B２、ＤＳ_B３、及びＤＳ_B６はそれぞれ、セルロースの構成単位であるβ−グルコース環の２位、３位、及び６位における前記置換基Ｂの置換度を表す。）
フィルムの膜厚方向のレターデーションＲｔｈが負であることを特徴とする請求項１記載のセルロース体フィルム。
前記置換基Ａ及び前記置換基Ｂの合計置換度が下記関係式（Ａ２）を満たすことを特徴とする請求項１又は２に記載のセルロース体フィルム。

（ここで、ＤＳ_A２、ＤＳ_A３、及びＤＳ_A６はそれぞれ、セルロースの構成単位であるβ−グルコース環の２位、３位、及び６位における前記置換基Ａの置換度を表し、ＤＳ_B２、ＤＳ_B３、及びＤＳ_B６はそれぞれ、セルロースの構成単位であるβ−グルコース環の２位、３位、及び６位における前記置換基Ｂの置換度を表す。）
前記置換基Ａ及び前記置換基Ｂの合計置換度が下記関係式（Ａ３）を満たすことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のセルロース体フィルム。

（ここで、ＤＳ_A２、ＤＳ_A３、及びＤＳ_A６はそれぞれ、セルロースの構成単位であるβ−グルコース環の２位、３位、及び６位における前記置換基Ａの置換度を表し、ＤＳ_B２、ＤＳ_B３、及びＤＳ_B６はそれぞれ、セルロースの構成単位であるβ−グルコース環の２位、３位、及び６位における前記置換基Ｂの置換度を表す。）
前記置換基Ｂの分極率異方性の値が２．５×１０^-24ｃｍ³以上であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のセルロース体フィルム。
前記の分極率異方性の値が２．５×１０^-24ｃｍ³以上である置換基Ｂが芳香族アシル基であることを特徴とする請求項５に記載のセルロース体フィルム。
オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）が１．０〜１０．０であるレターデーション調節剤を含有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のセルロース体フィルム。
フィルムの２５℃８０％ＲＨにおける平衡含水率が３．０％以下であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載のセルロース体フィルム。
フィルムの搬送方向、及び／又はこれと垂直な方向に１％以上１００％以下延伸されたことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載のセルロース体フィルム。
下記数式（１１−１）を満たすレターデーション調節剤を少なくとも１種含むことを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載のセルロース体フィルム。

Ｒｔｈ(ａ)：当該レターデーション調節剤を、アセチル置換度２．８６のセルロースアセテートに対してａ質量％含有させた、膜厚８０μｍのセルロースアセテートフィルムの波長５８９ｎｍにおけるＲｔｈ（ｎｍ）
Ｒｔｈ(０)：当該レターデーション調節剤を含有しないアセチル置換度２．８６のセルロースアセテートのみからなる膜厚８０μｍのフィルムの波長５８９ｎｍにおけるＲｔｈ（ｎｍ）
ａ：セルロースアセテート１００質量部に対する当該レターデーション調節剤の質量部
前記レターデーション調節剤が、下記一般式（１）〜（１９）のいずれかで表される化合物のうち少なくとも１種であることを特徴とする請求項１０記載のセルロース体フィルム。

（一般式（１）中、Ｒ¹¹〜Ｒ¹³はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０の脂肪族基を表し、該脂肪族基は置換基を有していてもよい。Ｒ¹¹〜Ｒ¹³は互いに連結して環を形成してもよい。）

（一般式（２）及び（３）中、Ｚは炭素原子、酸素原子、硫黄原子または−ＮＲ²⁵−を表し、Ｒ²⁵は水素原子またはアルキル基を表す。Ｚを含んで構成される５または６員環は置換基を有していても良い。Ｙ²¹、Ｙ²²はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０の、エステル基、アルコキシカルボニル基、アミド基またはカルバモイル基を表し、Ｙ²¹、Ｙ²²は互いに連結して環を形成してもよい。ｍは１〜５の整数を表し、ｎは１〜６の整数を表す。）

（一般式（４）〜（１２）中、Ｙ³¹〜Ｙ⁷⁰はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０の、エステル基、アルコキシカルボニル基、アミド基もしくはカルバモイル基、またはヒドロキシ基を表し、Ｖ³¹〜Ｖ⁴³はそれぞれ独立に水素原子または炭素原子数１〜２０の脂肪族基を表す。Ｌ³¹〜Ｌ⁸⁰はそれぞれ独立に、構成する原子数が０〜４０であって、かつ、炭素原子数０〜２０の２価の飽和の連結基を表す。ここで、Ｌ³¹〜Ｌ⁸⁰を構成する原子数が０であるということはＬ³¹〜Ｌ⁸⁰が単結合を表すことを意味する。Ｖ³¹〜Ｖ⁴³およびＬ³¹〜Ｌ⁸⁰は、さらに置換基を有していてもよい。）

（一般式（１３）中、Ｒ¹はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ²およびＲ³は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³の炭素原子数の総和は１０以上であり、各々、アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。）

（一般式（１４）中、Ｒ⁴およびＲ⁵は、それぞれ独立に、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ⁴およびＲ⁵の炭素原子数の総和は１０以上であり、各々、アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。）

（一般式（１５）中、Ｒ¹は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、Ｒ²は水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す。Ｌ¹は２価〜６価の連結基を表し、ｎはＬ¹の価数に応じた２〜６の整数を表す。）

（一般式（１６）中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表す。Ｘは下記の（連結基群１）から選ばれる１つ以上の基から形成される２価の連結基を表す。Ｙは水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す。
（連結基群１）単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ⁴−（Ｒ⁴は水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す。）、アルキレン基またはアリーレン基を表す。）

（一般式（１７）中、Ｑ¹、Ｑ²およびＱ³はそれぞれ独立に５または６員環を表す。ＸはＢ、Ｃ−Ｒ（Ｒは水素原子または置換基を表す。）、Ｎ、Ｐ、Ｐ＝Ｏを表す。）

（一般式（１８）中、Ｒ¹はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ²およびＲ³はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。また、アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。）

（一般式（１９）中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴は、それぞれ独立に、水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す。Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³およびＸ⁴は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−および−ＮＲ⁵−（Ｒ⁵は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す）からなる群から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。ａ、ｂ、ｃおよびｄは０以上の整数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは２以上である。Ｑ¹は（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）価の有機基を表す。）
請求項１〜１１のいずれか１項に記載のセルロース体フィルムを含むことを特徴とする光学補償シート。
請求項１〜１１のいずれか１項に記載のセルロース体フィルム上に光学異方性層を有することを特徴とする光学補償シート。
偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる偏光板であって、透明保護膜の少なくとも一方が、請求項１２または１３に記載の光学補償シートであることを特徴とする偏光板。
液晶セルおよびその両側に配置された２枚の偏光板からなる液晶表示装置であって、少なくとも１枚の偏光板が請求項１４記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。
表示モードがＩＰＳモードであることを特徴とする請求項１５記載の液晶表示装置。