JP2007295006A - 基板洗浄方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】 基板に対する洗浄ブラシの押し込み量の設定に当って、その基準となる洗浄ブラシの基準位置を容易に確定でき、作業者の負担を軽減し、基板の洗浄処理品質の向上が達成できるような基板洗浄装置を用いた基板洗浄方法を提供する。
【解決手段】 基板洗浄装置は、洗浄すべき基板2を保持するホルダ1と、洗浄ブラシ7を保持しこれを基板の主面の法線方向に移動させかつ基板の主面に平行な方向に移動させて基板に対する洗浄ブラシの相対的位置を定める位置決め機構4,21を有している。この基板洗浄装置は、さらに、基板の主面の存在する平面Pにおいて基板から離れて配置され平面における洗浄ブラシの有無を検知する検知手段16,17を備える。
【選択図】 図3

Description

本発明は、半導体ウエハ、液晶表示装置(以下、LCDという)用またはフォトマスク用のガラス基板、光ディスク用基板などの基板の主面を洗浄する基板洗浄方法に関する。
基板洗浄装置には、半導体ウエハなどの基板の主面を水平に保持して鉛直軸周りに回転させながら、その基板上に純水などの洗浄液を供給して、回転する洗浄ブラシにより基板の主面を洗浄する、いわゆるブラシスクラブ洗浄する装置(以下、ブラシスクラブ装置という)がある。
この種のブラシスクラブ装置としては、従来、例えば特開平8−141518号に開示されたスイング式ブラシスクラブ装置が知られている。この装置では、回転自在のホルダ上に水平に保持された半導体ウエハなどの基板を鉛直軸周りに回転させつつ、基板の主面上に洗浄液を滴下し、アーム本体の自由端部にて懸吊状態に保持された円形の洗浄ブラシを自転させながらその下端の毛先面を基板の主面に接触させ、アーム本体の他方端部を中心にアーム本体自体を揺動させ、基板の主面に沿って洗浄ブラシを移動させることにより、基板の主面の洗浄を行っている。
このような基板洗浄装置においては、基板の種類や洗浄の前工程の種類などによって基板の主面に対する洗浄ブラシの押し込み量を最適に調整する必要がある。そのために、ブラシスクラブ装置においては、洗浄ブラシ押し込み量を制御するために、アーム本体全体の高さを調節する機構が設けられている。基板の主面に対する洗浄ブラシの押し込み量を設定する場合、まず高さ位置の基準となる洗浄ブラシの基準位置を決定しておき、アーム高さ調節機構により押し込み量を最適に調整する。洗浄ブラシ下端の毛先面とウエハ表面との間隙すなわち相対距離が重要である。この相対距離を小さくまたは相距離ゼロすなわち、洗浄ブラシの毛先面とウエハ表面が接触してから、洗浄ブラシの毛先面の押し込み量を大きくすることにより、パーティクルの除去率は上がるが、一方、ウエハへの損傷が大きくなるので、両者のバランスが取れる洗浄ブラシの押し込み量の最適値が存在する。この最適値からのずれの許容幅は、洗浄ブラシ材質、ウエハ表面の膜種によって異なるが、一般に±0.2〜0.5mm程度と言われており、これは洗浄ブラシ寸法の個体差、使用時の洗浄ブラシ寸法の経時変化量より小さな値である。したがって、洗浄ブラシ交換時は必ず、また、洗浄ブラシ使用時も定期的に洗浄ブラシの基準位置からの押し込み量を調節しなければならない。
特開平8−141518号公報
この基準位置の決定は、従来、アーム本体に洗浄ブラシを取り付けた際に、作業者が、アーム本体を昇降させて、ホルダに保持された基板に対し洗浄ブラシを上下方向へ移動させ、目視によって洗浄ブラシ下端の毛先面が基板の主面に軽く接触する位置を確認し、その位置をもって基準位置としている。
このように、押し込み量の調節の基準位置は、理想的には、洗浄ブラシの毛先面がウエハ表面に接触し始める面、つまり相対距離ゼロとなる位置にあるが、この位置を設定するための作業は、目視または感触といった作業者個人の感覚に頼った手作業とならざるを得なかった。そのため、その基準位置決定の作業に手間がかかり、作業者による基準位置の差が大きく、また複数回にわたる基準位置の再現性にも問題があった。その結果、基板の洗浄処理品質に影響が出ることも考えられ、また、押し込み量の調節作業を自動化することも困難であった。
そこで、基板に対する洗浄ブラシの押し込み量の設定に当って、その基準となる洗浄ブラシの基準位置を容易に確定でき、作業者の負担を軽減し、基板の洗浄処理品質の向上が達成できるような基板洗浄方法が望まれている。
本発明の基板洗浄方法は、洗浄すべき基板を保持するホルダと、洗浄ブラシを保持しこれを該基板の主面の法線方向に移動させかつ該基板の主面に平行な方向に移動させて該基板に対する該洗浄ブラシの相対的位置を定める位置決め機構と、を備えた基板洗浄装置を用いた基板洗浄方法であって、前記位置決め機構に前記洗浄ブラシを取り付ける工程と、前記ホルダから離間して配置され、前記基板の主面に対して所定の位置関係にある平面に前記洗浄ブラシを接触させ、該基板の該主面から該洗浄ブラシを徐々に離し、前記平面における該洗浄ブラシの接触の有無を検知し検知結果を出力する検知手段を用いて、該検知手段が該基板と該洗浄ブラシとの接触がなくなった旨の検出結果を出力した位置を基準位置とする基準位置設定工程と、前記洗浄ブラシを前記基板の前記主面上に移動させ、前記基準位置から所定の量だけ前記基板の前記主面方向へ該洗浄ブラシを押し込み、該基板の該主面を洗浄する工程と、を含む。
(作用)基板洗浄装置の位置決め機構によってアーム本体を駆動し基板に対する洗浄ブラシの相対的位置を設定する場合に、洗浄ブラシの毛先面の基準位置の高さを客観的に決定できるように、基板の主面に対して所定の位置関係にある平面において基板から離れて配置され平面における洗浄ブラシの有無を検知する検知手段を設けたために、作業者により設定された基準位置の高低差が生じない。
以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ説明する。図1は、本発明による第1実施例としての洗浄ブラシ揺動式の基板洗浄装置の平面図である。この基板洗浄装置は、装置本体15の上面部に、ホルダ1を備えた基板回転部と、アーム軸支シャフト21の周りを揺動し洗浄ブラシ7がそのヘッド部に装着されているアーム本体4と、ヘッド部の軌跡下方に位置する荷重計の荷重受け面17と、を備えている。洗浄すべき基板として、半導体ウエハ(以下、単にウエハという)の処理の場合を説明する。
さらに、ホルダ1によって保持されたウエハ2の周囲は、昇降駆動機構(図示せず)によって昇降自在な飛沫回収カバー25で覆われている。飛沫回収カバー25の横側外方に、ウエハ2の回転中心側に向けて純水などの洗浄液を噴出供給するノズル3が設けられている。図2は、図1の基板洗浄装置の全体断面図である。この基板洗浄装置は、洗浄すべきウエハを上面側に水平に保持して鉛直軸回りに回転させる円形のホルダ1と、その自由端部に洗浄ブラシ7を鉛直姿勢に吊設し鉛直軸回りに回転自在に保持したアーム本体4とを備え、保持された洗浄ブラシ7をウエハ2の主面の法線方向に移動させかつウエハの主面に平行な方向に移動させるようになっている。
このように、ウエハの主面に対して所定の位置関係、例えば、ウエハの主面に一致する平面、ウエハの主面から一定距離離れた平面において洗浄ブラシ7及びウエハ2の少なくとも一方を相対的に移動させるようにして、ホルダ1に保持されたウエハ2の主面が洗浄される。相対的移動のために、基板回転機構が設けられ、図1に示すように、ホルダ1の下面側中央部の回転軸51を介して鉛直軸回りに回転させるスピンドルモータ52が設けられている。ウエハ保持は、真空吸着式を採用し、ホルダ1及び回転軸51の回転中心部を貫通するように吸着孔及び吸引路(図示せず)を形成し、公知方法により、吸引路に気密的に連通した真空ポンプの吸引により達成されている。なお、ウエハ保持は、真空吸着式に限られるものではなく、例えば、ホルダ上にウエハ2の外縁を支持する複数の爪部材を設け、爪部材でウエハ2を固定し回転自在に保持させることもできる。
アーム本体4を回動させるアーム回動機構が設けられているが、これも、洗浄ブラシ7をウエハ2の主面上で相対的に移動させるウエハ洗浄に用いられる。アーム回動機構は、その上端部にアーム本体4の軸支側が固定されたアーム軸支シャフト21と、装置本体に固定されかつアーム軸支シャフト21を上下方向に摺動自在にかつ軸心線回りに回動自在に支持するベアリング部210と、を有する。さらに、アーム軸支シャフト21の下端部はスプライン211となっており、アーム回動機構は、装置本体に固定されたパルスモータ5と、このパルスモータ5の回動駆動軸39に固定された駆動ギア40と、スプライン211にスプラインスリーブを介して摺動自在に嵌合されかつベアリング部210を介して装置本体に対して回転自在に支持された被動ギア42と、駆動ギア及び被動ギアを連接する伝動ベルト41と、を有している。パルスモータ5を正転または反転駆動させて、アーム軸支シャフト21をその軸心線回りに回動させる。
さらに、洗浄ブラシ7を自転させる手段として、ブラシ回転駆動機構を有している。このブラシ回転駆動機構は、アーム本体4の軸支側に設けられたブラシ回転モータ8と、このブラシ回転モータ8の回転駆動軸9に固定された駆動ギア10と、洗浄ブラシ7の被動軸13に固定された被動ギア12と、駆動ギア及び被動ギアを連接する伝動ベルト11と、を有している。洗浄ブラシ7は、ナイロンブラシ、モヘアブラシ、スポンジ状、羽毛状など、基板やウエアの種類や洗浄処理の種類などに応じて適当な材質のものが選択されて使用される。
実施例の基板洗浄装置は、さらに、アーム本体4を駆動しウエハに対する洗浄ブラシの相対的位置を定める位置決め機構、例えば、アーム昇降機構や、アーム高さ調節機構を備えている。上記のアーム回動機構の一部もかかる位置決め機構に含まれる。アーム昇降機構は、装置本体に固定された液圧または気圧シリンダ6を含み、その加圧により、シリンダ6の出力ロッド61の上端面をアーム軸支シャフト21の下端面に当接押圧させて出力ロッド61を上昇させ、また減圧により、出力ロッド61を下降させることにより、アーム軸支シャフト21及びアーム本体4を昇降させるように構成されている。
アーム高さ調節機構は、装置本体に固定されたパルスモータ14と、装置本体に摺動自在に螺合支持されたネジ部材シャフト144とを有し、ネジ部材シャフト144の上昇下降によって洗浄ブラシ7を保持するアーム本体4の全体の高さを調節する。パルスモータ14の出力軸141にヘリカルギア142が固定され、ヘリカルギア142は、ネジ部材シャフト144が鉛直軸周りに回転するようにその下端部に螺刻されているクロスヘリカルギア143に係合されている。ネジ部材シャフト144の上方部には本体に所定ピッチで螺合支持されるネジ部145が設けられ、その上端部にはアーム本体4の荷重を受け止める衝止端部146が設けられている。パルスモータ14のヘリカルギア142と、これと交差して歯合したクロスヘリカルギア143が設けられているので、パルスモータ14の回転によりネジ部材シャフト144が軸周りに回転し鉛直方向に移動自在となっている。アーム軸支シャフト21の下降の際に、これに固定されたシャフト係止フランジ22が衝止端部146に当接し、アーム軸支シャフト21が停止する。よって、洗浄ブラシ7の下面の基準位置及び押し込み量がネジ部材シャフト144の衝止端部146位置で規定される。シャフト係止フランジ22が衝止端部146に当接しているとき、パルスモータ14の回転によってネジ部材シャフト144が上下動するので、アーム軸支シャフト21及びアーム本体4の全体の高さを調節できる。洗浄装置の動作初期段階では、衝止端部146は最下部にあり、シャフト係止フランジ22に当接しない。衝止端部146は、洗浄装置の作動中、押し込み量の基準位置を含む設定位置または最大値位置に対応する位置に置かれる。係止フランジ22の下部衝止面との摺動及び摩耗防止のためにローラや、ショックアブソーバなどを設けてもよい。
パルスモータ14は本体制御装置(図示せず)に接続されている。また、本体制御装置は、ウエハ2の表面に対する洗浄ブラシ7の押し込み量を設定入力するための操作部を有している。そして、基板の種類や洗浄処理の種類などが変わるときに、作業者が操作部を操作して新たな設定値を本体制御装置に入力すると、本体制御装置によってパルスモータ14が駆動制御され、衝止端部が所望位置へ変位して停止する。
なお、基板の種類や洗浄処理の種類に対応して洗浄ブラシ7の押し込み量、衝止端部の変位量をメモリに記憶させておき、作業者が基板の種類や洗浄処理の種類を本体制御装置の操作部から選択入力すると、衝止端部が所望の位置へ自動的に変位するような構成としておくこともできる。本実施例の基板洗浄装置は、ウエハ2の主面に対して所定の位置関係にある平面例えばウエハの主面が存在する平面Pにおける洗浄ブラシ7の有無を検知しかつ検知結果を出力する検知手段、例えば、荷重計16を備えている。荷重計の半球面状の荷重受け面17は、ウエハ2から離れて配置され、その頂点は、洗浄ブラシ7のスイング動作の途中位置下方に位置するように、ウエハ2の主面平面Pに配置される。なお、荷重計16は、LCDまたは針メータなどのディジタルまたはアナログ表示器を有し、荷重を例えばmgオーダで出力表示することにより、作業者が荷重出力値の変化を監視できるようになっている。また、荷重計16には、電気的外部出力端子をも設けることができる。
荷重計16の検知部分の荷重受け面17は、例えば、図示しないがラック-ピニオンギア機構のラック側に担持される一方、該ピニオンギアを手動にて正逆回転させるなどして、ウエハ2の主面の法線方向において装置本体に対し位置調整自在に取り付けられている。ウエハまたは基板の厚さに対応させるためである。よって、荷重受け面17は、洗浄前に、ウエハ2の主面平面Pと実質的に同一面となるように、すなわち、洗浄ブラシの荷重がゼロのとき荷重受け面17の頂上がウエハ2の表面の高さにできるだけ正確に一致するように、設定する。このように、洗浄ブラシ7の押し込み量を決定する際の基準位置として、ウエハ2の表面の高さを直接用いずに、独立した荷重計16の表示値または出力値がゼロとなる荷重受け面17の頂上の高さを用いる。
なお、荷重受け面17はウエハ2の主面に対して一定の位置関係にある平面例えば、ウエハ主面から上方へ微小一定距離離れた平面にあってもよい。荷重計16側の出力値を調節できるからである。この場合、ウエハ主面に接触させた洗浄ブラシの最大押し込み量からのパルスモータからのカウント数をあらかじめ記憶させておき、次に、記憶したカウント数に対応した高さに洗浄ブラシを固定して荷重受け面17をその洗浄ブラシへ接触させ荷重計16側の出力値を調節する。
具体的に基準位置決定の手順を説明すると、先ず、アーム本体4が図1の符号Xで示す待機位置に配置された状態で、アーム本体4に新しく洗浄ブラシ7を取り付ける。ここで、アーム軸支シャフト21のシャフト係止フランジ22は、装置本体の支持部上に載った状態で停止している。ホルダ1の上面側にウエハ2を載置し、真空ポンプにより真空吸引し、ホルダ1にウエハ2を吸着保持する。
次に、アーム昇降機構及びアーム回動機構を用い本体制御装置によるスイッチング動作によって、エアシリンダ6の出力ロッド61を上方に進出させて、出力ロッド61でアーム軸支シャフト21を押し上げ、洗浄ブラシ7の下端は、ホルダ1に保持されたウエハ2の上面よりも高い位置になるように、アーム本体4を上方位置まで持ち上げ、次に、パルスモータ5を正転駆動させて、アーム軸支シャフト21をその軸心線回りに回動させることにより、アーム本体4を回動させ、図1の符号Yで示す洗浄ブラシ7を荷重受け面17の真上に持ってくる。
ここで、エアシリンダ6の出力ロッド61を下方に退行させて、アーム本体4及びアーム軸支シャフト21及びアーム本体4を下降させ、洗浄ブラシ7を荷重受け面17に接触させ、適当に押し込む。または、アーム高さ調節機構のパルスモータ14の駆動によって、あらかじめ、衝止端部146を、洗浄ブラシ7を荷重受け面17に対して最大押し込み量以内の適当な距離の押し込む位置に配置しておき、洗浄ブラシ7を荷重受け面17におくだけでもよい。そして、パルスモータ14の回転によって洗浄ブラシ7を徐々に引き上げて行き、荷重計16の表示値がゼロとなる洗浄ブラシ高さを基準位置とする。
その後に、従来の手順に従ってこの基準位置から洗浄ブラシ押し込み量を調節する。例えば、基準位置からの洗浄ブラシの毛先面の押し込み量を1.5mmに設定する。再度、アーム昇降機構及びアーム回動機構を用い本体制御装置によるスイッチング動作によって、エアシリンダ6の出力ロッド61を上方に進出させて、出力ロッド61でアーム軸支シャフト21を押し上げ、パルスモータ5を正転駆動させて、アーム軸支シャフト21を回動させることにより、アーム本体4を回動させ、先端に取り付けられた洗浄ブラシ7を図1の符号Zで示すウエハ2の上方へ移動、停止させる。アーム本体4の下降させ、洗浄ブラシ7の下端がウエハ2の表面に緩やかに接触して、洗浄が行われる。
以上のように、第1実施例によれば、洗浄ブラシの毛先面の基準位置の高さを客観的に決定できる手段を設けたために、従来のように、作業者による基準位置の高低差が生じることがなく、また、基準位置の再現性も確保できる。なお、実施例においては、パルスモータ5及び14、シリンダ6などが本体制御装置によって制御されているが、装置本体に上面部に光センサを設け本体制御装置に接続して洗浄ブラシ7の位置を検出して、その出力に応じて本体制御装置が洗浄ブラシ7の位置制御を行うようにしたり、シリンダ出力ロッド61の上下位置を検出するセンサをその伸長方向に沿って設け、その位置検出出力に応じて本体制御装置がシリンダ6の位置制御を行うようにしてもよい。第1実施例の基板洗浄装置は、位置決め機構、アーム昇降機構、アーム高さ調節機構、アーム回動機構、ホルダ回転駆動機構及びブラシ回転駆動機構において、センサ及び本体制御装置を用いて電気的制御をおこなう構成としても、各機構を独立に作業者が手動で制御してもよく、ブラシ回転駆動機構を除外してもよい。
図3は第2実施例を示し、図2に示すものと同一符号で示される部材は同一であるから特に説明はしない。第2実施例は、第1実施例に加えて、更に、荷重計16の出力値に応じてアーム高さ調節機構のパルスモータ14を制御する位置決め制御部20、荷重計16の測定値を位置決め制御部20へ出力する信号線18、位置決め制御部20の信号のパルスモータ14への出力及びパルスモータ14の信号の位置決め制御部20への出力を行う信号線19を設けたものである。このパルスモータ14は、それ自体で、その回転数に応じたカウント数を出力するものを用いる。また、パルスモータ14には、カウント数を出力するように、その回転数に応じた信号を発生する機構を有するものでもよい。その回転数発生機構は例えば、半径方向に放射状に伸びる複数のスリットを等間隔に有する回転板を同心に出力軸141に取付け、そのスリットに対応する位置に対向した一対の発光素子及び受光素子を設けられたものである。これよって受光素子の出力信号により回転数に応じたパルス信号が得られる。さらに、位置決め制御部20は本体制御装置に内蔵できる。
第2実施例において、所望の洗浄ブラシ押し込み量の調節は次のように行われる。先ず、アーム本体のスイング動作により、洗浄ブラシ7を荷重受け面17の真上へ移動させる。これに前後して、パルスモータ14によりネジ部材シャフト144をあげて、その衝止端部146を、洗浄ブラシ7の下面を荷重受け面17に対して適当な距離を押し込むような、押し込み量の最大値以内の位置に配置する。そしてシリンダ6の動作によりアーム本体4を下降させ、洗浄ブラシ7の下面を荷重受け面17に置く。
次に、位置決め制御部20によりパルスモータ14を駆動し、洗浄ブラシ7を徐々に引き上げて行く。洗浄ブラシ7の上昇の際、荷重計16の測定値は常に位置決め制御部20へ出力され、位置決め制御部20は、荷重計16の測定値がゼロとなる瞬間のパルスモータ14のカウント数を基準位置として記憶する。そして、実際のウエハの洗浄処理時には、上記の手順で決定された基準位置に対して、所望の洗浄ブラシ押し込み量まで、アーム本体調節機構14のパルスモータの駆動により、洗浄ブラシ7を上下動させる。
以上のように、第2実施例によれば、位置決め制御部20が自動的に荷重計16の出力値を読み取り記憶して、パルスモータ14の駆動を制御するようにしたため、洗浄ブラシ押し込み量の調節に手作業を必要とせず、自動で行えるようになる。更には、自動化することによって、洗浄ブラシ押し込み量の調整が頻繁に行えるようになるため、例えば、処理バッチ毎に調整を行うようにすれば、使用時の洗浄ブラシ寸法の経時変化に対しても充分追従できるようになる。
図4は、第2実施例の位置決め制御部20を示すブロック図であり、荷重計16のデジタル出力には、アーム本体4が基準位置に維持されたときに荷重ゼロに対応する低いレベル値の第1信号が発生され、荷重があるときには第1信号より大きいレベルの第2信号が発生されるとする。この出力信号はスイッチ121を介してモータ駆動回路122に入力され、駆動回路122の出力によりパルスモータ14が回転する。
回転数検出回路123は、パルスモータ14からのパルス出力、または、パルスモータ軸の回転板及び発光受光素子により構成された上記回転検出機構の受光素子のパルス出力を増幅整形する増幅回路を含んでいる。この回転数検出回路123のパルス信号はn分周回路125に入力される。この分周回路125の出力にはモータの回転数に応じたパルス信号が発生される。このパルス信号は次段のアップダウンカウンタ127に入力される。アップダウンカウンタ127はそのアップダウン指令端子U/Dに印加された指令信号により入力パルスをアップまたはダウンカウントする。パルスモータ14の正または逆回転に対応して先の指令信号が変化しその結果それぞれアップまたはダウンカウント状態となるために、このカウンタの内容はパルスモータ14の基準位置すなわちアーム本体が基準位置になった時点からの正及び逆回転数を積算して正及び逆回転数の差に応じた信号を記憶することになる。よって、回転数検出回路123、分周回路125及びアップダウンカウンタ127により差信号発生回路が形成される。
カウンタ127の差信号出力はディジタル比較回路124の入力となる。ディジタル比較回路124は、この差信号出力とプリセット手段126のディジタル出力とを比較する。プリセット手段126は所望洗浄ブラシ押し込み量のカウント値に応じたディジタル信号を予め発生し、例えばディジタルスイッチやメモリ回路などにより形成され得る。比較回路124の比較出力はスイッチ121を介して駆動回路122の入力に印加されると共にアップダウンカウンタ127のアップダウン指令信号U/Dとなっている。
CPU128は、荷重計16の第1信号に応答して所定信号Rを分周回路125に入力し、この所定信号Rにより分周回路125のリセット状態が解除されると共に、CPU128がスイッチ121を制御して駆動回路122の入力を比較回路124の出力信号に切替える。よってCPU128とスイッチ121により駆動回路122の入力信号切替手段が構成される。
かかる構成により、アーム本体を基準位置にする場合、暫定的に押し込まれている荷重計16の出力信号は上記の第2信号であるからCPU128の出力には制御信号は発生せず、スイッチ121は荷重計の第2信号を駆動回路122に入力し、よって駆動回路122はパルスモータ14を回転させる。この回転により、ネジ部材シャフト144の衝止端部146を上昇させ、シャフト係止フランジ22、アーム軸支シャフト21及びアーム本体4を介して洗浄ブラシ7の下面を引き上げる。このとき分周回路125はリセット状態にあるから回転数検出回路123の出力バルスは次段回路へ伝達されることはない。
パルスモータ14の回転によりネジ部材シャフト144が摺動し、よってアーム本体が基準位置(ゼロ荷重)になると上記した第1信号が荷重計16から出力されるから、スイッチ121は比較回路124の出力信号を駆動回路122に入力し、パルスモータ14を回転させる。と同時に分周回路125がリセット解除されて回転数検出回路123のパルス信号が次段回路へ入力される状態となる。
ここで比較回路124は、その入力すなわちカウンタ127の出力がその他入力すなわちプリセット手段126の出力より小のときにA信号を、又逆のときにB信号を、更に等しいときにはC信号をそれぞれ発生するものとする。カウンタ127は比較回路124の出力がA信号のときアップカウントを、B信号のときはダウンカウントを行うものとする。更にモータ駆動回路122は、比較回路124の出力がA信号のときネジ部材シャフト144を上方へ、またB信号のとき下方へ、更にC信号のときには停止するように、それぞれモータの正回転、逆回転及び停止の指令信号を発生するものとする。
従って、アーム本体が上記の基準位置になった直後は、プリセット手段126の所望洗浄ブラシ押し込み量のカウント値を表わすプリセット値がカウンタ127の出力、一般に初期値がゼロにリセットされており、よってそれより大であるのが普通であるから、比較回路124はA信号を出力しており、従ってカウンタ127はアップカウントをすると共に、モータはネジ部材シャフト144を上方へ摺動するよう正回転する。そして比較回路124の両入力が一致したとき、比較回路はC信号を発生したモータを停止させ、よってネジ部材シャフト144が停止する。従って所望洗浄ブラシ押し込み量のカウント値が得られることになる。このとき、洗浄ブラシ押し込み量のカウント値を変化すべくプリセット手段126のプリセット値を変更したとして、その設定値がカウンタの出力より小なる場合には、比較回路124はB信号を出力するからモータは逆転しネジ部材シャフト144は下方へ摺動し始めると共に、カウンタ127はダウンカウントを開始する。従って、比較回路124の2つの入力が等しくなるまでこの動作は行われ、等しくなると比較回路124の出力はC信号となりモータが停止し、そこで洗浄ブラシ押し込み量が変更後のプリセット値に調整されたことになる。また変更後のプリセット値がカウンタ127の出力より大なる場合には上述の逆の動作が行われ、同様に洗浄ブラシ押し込み量の変更が行われる。
ここで、分周回路125の分周比をnとして、洗浄ブラシ押し込み量の設定が0.1mm毎に設定可能であるとすると、ネジ部材シャフト144が1mmに対応するだけ移動する間に1(mm)×10×n個のパルスが回転回転数検出回路123より発生されるようにすればよい。すなわち洗浄ブラシ押し込み量の設定が細かく正確に行われ得る。
以上の基準位置決定の操作が終了すると、ウエハの洗浄操作を開始する前に、作業者が本体制御装置の操作部から、これから洗浄処理しようとするウエハの種類や洗浄処理の種類などに応じてウエハ2の表面に対する洗浄ブラシ7の押し込み量の設定値を本体制御装置の位置決め制御部20に入力する。操作部から本体制御装置へ設定値が入力されると、上記したように、位置決め制御部20によってパルスモータ14が駆動制御され、衝止端部が所望位置へ変位して停止する。このようにして衝止端部の位置が自動調整されることにより、洗浄ブラシ7の押し込み量が設定値通りに速やかに調節される。
ウエハの洗浄操作は、上記した第1実施例と同様に洗浄ブラシ7が駆動されて、洗浄ブラシ7の下端がウエハ2の表面へ接近し当接することによって行われる。すなわち、洗浄ブラシ7が下降する以前に、スピンドルモータが駆動されてホルダ1に基準位置で保持されたウエハ2が鉛直軸回りに回転させられ、その回転中のウエハ2の表面へ洗浄液供給ノズル3から純水などの洗浄液が供給される。そして、回転ウエハ2の表面に、回転している洗浄ブラシ7が当接し、洗浄ブラシ7は、その下端が設定されたウエハ主面への押し込み量に自動調整された高さ位置で下降動作を停止する。そして、回転ウエハ2の表面に自転洗浄ブラシ7の下端が接触した状態で、アーム本体4が回動し、洗浄ブラシ7がウエハ2の表面に沿ってウエハ2の表面上を移動することにより、ウエハ2の洗浄が行われる。
(発明の効果)以上の如く、本発明によれば、洗浄すべき基板を保持するホルダと、洗浄ブラシを保持しこれを基板の主面の法線方向に移動させかつ基板の主面に平行な方向に移動させて基板に対する洗浄ブラシの相対的位置を定める位置決め機構と、を備えた基板洗浄装置は、基板の主面に対して所定の位置関係にある平面において基板から離れて配置され平面における洗浄ブラシの有無を検知しかつ検知結果を出力する検知手段を備えているので、基板に対する洗浄ブラシの押し込み量の設定の際に、その基準となる洗浄ブラシの基準位置を容易に確定でき、作業者の負担を軽減し、作業者による基準位置の高低差が減少し、基板の洗浄処理品質の向上が達成できる。
本発明の第1実施例としての基板洗浄装置の平面図である。 図1に示した基板洗浄装置の全体断面図である。 本発明の第2実施例としての基板洗浄装置の全体断面図である。 図3に示した基板洗浄装置の位置決め制御部を示すブロック図である。
符号の説明
P ウエハの主面の存在する平面
1 ホルダ
2 ウエハ
3 ノズル
4 アーム本体
5 パルスモータ
6 液圧または気圧シリンダ
7 洗浄ブラシ
8 ブラシ回転モータ
9 回転駆動軸
10、40 駆動ギア
11、41 伝動ベルト
12、42 被動ギア
13 被動軸
51 回転軸
14 パルスモータ
15 基板洗浄装置本体
16 荷重計
17 荷重受け面
18、19 信号線
20 位置決め制御部
21 アーム軸支シャフト
22 シャフト係止フランジ
25 飛沫回収カバー
39 回動駆動軸
52 スピンドルモータ
61 出力ロッド
121 スイッチ
122 モータ駆動回路
123 回転数検出回路
124 ディジタル比較回路
125 分周回路
126 プリセット手段
127 アップダウンカウンタ
128 CPU
141 出力軸
142 ヘリカルギア
143 クロスヘリカルギア
144 ネジ部材シャフト
145 ネジ部
146 衝止端部
211 スプライン

Claims (4)

  1. 洗浄すべき基板を保持するホルダと、洗浄ブラシを保持しこれを該基板の主面の法線方向に移動させかつ該基板の主面に平行な方向に移動させて該基板に対する該洗浄ブラシの相対的位置を定める位置決め機構と、を備えた基板洗浄装置を用いた基板洗浄方法であって、
    前記位置決め機構に前記洗浄ブラシを取り付ける工程と、
    前記ホルダから離間して配置され、前記基板の主面に対して所定の位置関係にある平面に前記洗浄ブラシを接触させ、該基板の該主面から該洗浄ブラシを徐々に離し、前記平面における該洗浄ブラシの接触の有無を検知し検知結果を出力する検知手段を用いて、該検知手段が該基板と該洗浄ブラシとの接触がなくなった旨の検出結果を出力した位置を基準位置とする基準位置設定工程と、
    前記洗浄ブラシを前記基板の前記主面上に移動させ、前記基準位置から所定の量だけ前記基板の前記主面方向へ該洗浄ブラシを押し込み、該基板の該主面を洗浄する工程と、
    を有することを特徴とする基板洗浄方法。
  2. 請求項1に記載の基板洗浄方法において、
    前記検知手段は前記平面に対する前記洗浄ブラシの荷重を測定し荷重に応じた信号を出力するものであって、
    該洗浄ブラシの荷重がゼロになる該洗浄ブラシの高さを前記基準位置として設定することを特徴とする基板洗浄方法。
  3. 請求項1又は2に記載の基板洗浄方法において、
    前記基板洗浄装置は、前記検知手段の前記検知結果に基づいた基準位置を算出して記憶する位置決め制御部をさらに有し、
    前記基準位置設定工程にて新たに算出された前記基準位置を記憶し、該新たな基準位置に基づき前記位置決め機構を制御することを特徴とする基板洗浄方法。
  4. 請求項3に記載の基板洗浄方法において、
    位置決め機構は該位置決め機構を上下方向へ移動させるパルスモータを有し、前記位置決め機構制御部は前記パルスモータの回転数を検出してその結果に基づき新たに決定された基準位置を算出して記憶することを特徴とする基板洗浄方法。
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