JP2007291002A - 高純度アミノメチレンホスホン酸の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】高純度アミノメチレンホスホン酸の製造方法において、粗アミノメチレンホスホン酸を塩酸濃度が17〜37重量%の水溶液として、該水溶液を塩化物イオン型アニオン交換樹脂に通液することを特徴とする高純度アミノメチレンホスホンの製造方法。
【選択図】なし
Description
陰イオン交換樹脂PA318(三菱化学製、塩化物イオン型)を10ml、充填した内径10mmφ、高さ230mmのテフロン(登録商標)製のカラムに空間速度(流量を樹脂体積で除した値、以下SVと略す)10の流速で、鉄を5.8ppm含むDEQUST2060Sと特級塩酸を重量比2:1で混合して、DTPP33重量%、塩酸22重量%のDTPP水溶液を、20通液倍数まで通液した。通液後の鉄濃度は、DTPP50重量%換算で0.3ppmとなった。
陰イオン交換樹脂PA318(三菱化学製、塩化物イオン型)を10ml、充填した内径10mmφ、高さ230mmのテフロン(登録商標)製のカラムにSV10の流速で、鉄を5.8ppm含むDEQUST2060Sと特級塩酸を重量比1:1で混合して、DTPP25重量%、塩酸26重量%のDTPP水溶液を、20通液倍数まで通液した。通液後の鉄濃度は、DTPP50重量%換算で0.6ppmとなった。
陰イオン交換樹脂PA318(三菱化学製、塩化物イオン型)を10ml、充填した内径10mmφ、高さ230mmのテフロン(登録商標)製のカラムにSV10の流速で、鉄を5.8ppm含むDEQUST2060Sと特級塩酸を重量比1:2で混合して、DTPP17重量%、塩酸30重量%のDTPP水溶液を、20通液倍数まで通液した。通液後の鉄濃度は、DTPP50重量%換算で0.2ppmとなった。
陰イオン交換樹脂SA10A(三菱化学製、塩化物イオン型)を10ml、充填した内径10mmφ、高さ230mmのテフロン(登録商標)製のカラムにSV20の流速で、鉄を10.5ppm含むDEQUST2060Sと特級塩酸を重量比1:1で混合して、DTPP25重量%、塩酸26重量%のDTPP水溶液を、250通液倍数まで通液した。通液後の鉄濃度は、DTPP50重量%換算で1.6ppmとなった。
陰イオン交換樹脂PA318(三菱化学製、塩化物イオン型)を10ml、充填した内径10mmφ、高さ230mmのテフロン(登録商標)製のカラムにSV10の流速で、鉄を5.8ppm含むDEQUST2060Sと特級塩酸と純水を重量比4:1:1で混合して、DTPP33重量%、塩酸16重量%のDTPP水溶液を、20通液倍数まで通液した。通液後の鉄濃度は、DTPP50重量%換算で6.3ppmとなった。
陰イオン交換樹脂PA318(三菱化学製、塩化物イオン型)を10ml、充填した内径10mmφ、高さ230mmのテフロン(登録商標)製のカラムにSV10の流速で、鉄を5.8ppm含むDEQUST2060S(DTPP50重量%、塩酸15重量%)を、20通液倍数まで通液した。通液後の鉄濃度は、7.5ppmとなった。
Claims (3)
- 高純度アミノメチレンホスホン酸の製造方法において、粗アミノメチレンホスホン酸を塩酸濃度が17〜37重量%の水溶液として、該水溶液を塩化物イオン型アニオン交換樹脂に通液することを特徴とする高純度アミノメチレンホスホンの製造方法。
- 粗アミノメチレンホスホン酸の濃度が15〜50重量%である請求項1記載の高純度アミノメチレンホスホン酸の製造方法。
- アミノメチレンホスホン酸がジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸である請求項1記載の高純度アミノメチレンホスホン酸の製造方法。
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JP2011256146A (ja) * | 2010-06-11 | 2011-12-22 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 高純度アミノメチレンホスホン酸の製造方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5969152A (ja) * | 1982-10-14 | 1984-04-19 | Nippon Rensui Kk | Cl型の強塩基性陰イオン交換樹脂の再生方法 |
JPH10204554A (ja) * | 1997-01-22 | 1998-08-04 | Dowa Mining Co Ltd | ジルコニウムおよび/またはハフニウム化合物の精製方法 |
JP2000144305A (ja) * | 1998-11-12 | 2000-05-26 | Japan Energy Corp | 薄膜形成用高純度鉄材料及びその製造方法 |
JP2002097193A (ja) * | 2000-09-20 | 2002-04-02 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 有機ホスホン酸の精製方法 |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5969152A (ja) * | 1982-10-14 | 1984-04-19 | Nippon Rensui Kk | Cl型の強塩基性陰イオン交換樹脂の再生方法 |
JPH10204554A (ja) * | 1997-01-22 | 1998-08-04 | Dowa Mining Co Ltd | ジルコニウムおよび/またはハフニウム化合物の精製方法 |
JP2000144305A (ja) * | 1998-11-12 | 2000-05-26 | Japan Energy Corp | 薄膜形成用高純度鉄材料及びその製造方法 |
JP2002097193A (ja) * | 2000-09-20 | 2002-04-02 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 有機ホスホン酸の精製方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011256146A (ja) * | 2010-06-11 | 2011-12-22 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 高純度アミノメチレンホスホン酸の製造方法 |
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