JP6792206B2 - 精製された珪酸水溶液の製造方法 - Google Patents
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- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 title claims description 28
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 27
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 82
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 37
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 31
- 239000013522 chelant Substances 0.000 claims description 28
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 28
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 28
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 27
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 claims description 23
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 19
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 19
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 16
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 16
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 16
- 229920001429 chelating resin Polymers 0.000 description 15
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 8
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 8
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 8
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 6
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 5
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 4
- NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N iminodiacetic acid Chemical group OC(=O)CNCC(O)=O NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 2
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZTPOMIFAFKKSK-UHFFFAOYSA-N O-phosphonohydroxylamine Chemical compound NOP(O)(O)=O JZTPOMIFAFKKSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 229940023913 cation exchange resins Drugs 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 1
- 238000002354 inductively-coupled plasma atomic emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 1
- -1 silicic acid ester Chemical class 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/122—Lepidoic silicic acid
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D15/00—Separating processes involving the treatment of liquids with solid sorbents; Apparatus therefor
- B01D15/08—Selective adsorption, e.g. chromatography
- B01D15/26—Selective adsorption, e.g. chromatography characterised by the separation mechanism
- B01D15/36—Selective adsorption, e.g. chromatography characterised by the separation mechanism involving ionic interaction
- B01D15/361—Ion-exchange
- B01D15/362—Cation-exchange
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- B01D15/00—Separating processes involving the treatment of liquids with solid sorbents; Apparatus therefor
- B01D15/08—Selective adsorption, e.g. chromatography
- B01D15/26—Selective adsorption, e.g. chromatography characterised by the separation mechanism
- B01D15/38—Selective adsorption, e.g. chromatography characterised by the separation mechanism involving specific interaction not covered by one or more of groups B01D15/265 - B01D15/36
- B01D15/3804—Affinity chromatography
- B01D15/3828—Ligand exchange chromatography, e.g. complexation, chelation or metal interaction chromatography
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J39/00—Cation exchange; Use of material as cation exchangers; Treatment of material for improving the cation exchange properties
- B01J39/04—Processes using organic exchangers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
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- B01J39/00—Cation exchange; Use of material as cation exchangers; Treatment of material for improving the cation exchange properties
- B01J39/04—Processes using organic exchangers
- B01J39/07—Processes using organic exchangers in the weakly acidic form
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J39/00—Cation exchange; Use of material as cation exchangers; Treatment of material for improving the cation exchange properties
- B01J39/08—Use of material as cation exchangers; Treatment of material for improving the cation exchange properties
- B01J39/16—Organic material
- B01J39/18—Macromolecular compounds
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J45/00—Ion-exchange in which a complex or a chelate is formed; Use of material as complex or chelate forming ion-exchangers; Treatment of material for improving the complex or chelate forming ion-exchange properties
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J47/00—Ion-exchange processes in general; Apparatus therefor
- B01J47/02—Column or bed processes
- B01J47/026—Column or bed processes using columns or beds of different ion exchange materials in series
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/14—Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
- C01B33/141—Preparation of hydrosols or aqueous dispersions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/14—Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
- C01B33/141—Preparation of hydrosols or aqueous dispersions
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- C01B33/1435—Preparation of hydrosols or aqueous dispersions by acidic treatment of silicates of aqueous solutions of silicates using ion exchangers
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- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
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Description
本発明は、高純度コロイダルシリカを製造するための原料となる精製された珪酸水溶液の製造に関する。
高純度コロイダルシリカは、研磨組成物、触媒担体、樹脂用フィラー等、様々な用途に用いられてきた。従来、このような高純度コロイダルシリカの製法としては、四塩化珪素を原料に気相反応で製造する方法や、珪酸エステルを原料に湿式反応で製造する方法が知られているが、いずれも高価なシリカ源を用いるため、製造コストを高くする要因となっている。
高純度コロイダルシリカを安価に製造する方法として、水ガラスを原料とし、珪酸水溶液を得る工程で、Ｃu、Ｎi等の金属不純物を除去し、精製する方法がある。近年、特定の金属に対し、キレート構造を形成する官能基に接触させることで、より効率的に金属不純物を除去する方法が見出されている。
特許文献１には、珪酸アルカリ水溶液にイミノ二酢酸骨格を有する化合物を混合して、次いで水素型陽イオン交換体に接触させたのち陰イオン交換体に接触させることで、高純度活性珪酸水溶液を得る方法が開示されている。しかし、キレート化合物に捕捉された金属不純物を分離させるために、キレート化合物を陰イオン交換体に接触させて除去する必要があり、工程を増やす結果となっている。
また特許文献２には、珪酸アルカリ水溶液を限外濾過して精製珪酸アルカリ水溶液を得て、イオン交換法により精製珪酸液を得た後、過酸化水素水、塩酸を添加し、更にキレート樹脂を通液させて高純度珪酸液を得る方法が開示されている。しかし、過酸化水素水のような強力な酸化剤や塩酸のような腐食性の高い強酸を用いており、装置の腐食等の観点から工業生産上好ましくない。
本発明は、水ガラスを原料として、従来よりも精製工程数が少なく、かつ不要な添加物を用いることなく、Ｃu、Ｎi等の金属不純物の含有量が少ない精製された珪酸水溶液を得ることを課題とする。
本発明は発明の精製された珪酸水溶液の製造方法は、第１の観点として、次の工程（ａ）、（ｂ）を含む精製された珪酸水溶液の製造方法：
（ａ）：ポリアミン型、イミノジ酢酸型又はアミノリン酸型のキレート樹脂が充填されたカラムにシリカ濃度０．５質量％以上１０質量％以下の珪酸アルカリ水溶液を通液する工程、
（ｂ）：水素型陽イオン交換樹脂が充填されたカラムに前記工程（ａ）で通液された水溶液を通液する工程、
第２観点として、前記工程（ａ）及び（ｂ）の通液速度が空間速度０．１以上１５以下である第１観点に記載の精製された珪酸水溶液の製造方法、である。
（ａ）：ポリアミン型、イミノジ酢酸型又はアミノリン酸型のキレート樹脂が充填されたカラムにシリカ濃度０．５質量％以上１０質量％以下の珪酸アルカリ水溶液を通液する工程、
（ｂ）：水素型陽イオン交換樹脂が充填されたカラムに前記工程（ａ）で通液された水溶液を通液する工程、
第２観点として、前記工程（ａ）及び（ｂ）の通液速度が空間速度０．１以上１５以下である第１観点に記載の精製された珪酸水溶液の製造方法、である。
本発明の製造方法を用いることにより、水ガラスを原料として、従来よりも精製工程数が少なく、かつ不要な添加物を用いることなく、金属不純物の少ない精製された珪酸水溶液を得ることができる。また、これを原料として金属不純物の少ないコロイダルシリカを得ることができる。
本発明の精製された珪酸水溶液の製造方法は、工程（ａ）において、ポリアミン型、イミノジ酢酸型又はアミノリン酸型のキレート樹脂を充填したカラムにシリカ濃度０．５質量％以上１０質量％以下の珪酸アルカリ水溶液を通液し、さらに工程（ｂ）において、水素型陽イオン交換樹脂を充填したカラムに前記工程（ａ）で通液された水溶液を通液することで、精製された珪酸水溶液を得るものである。
本発明に用いられるキレート樹脂は、Ｎ、Ｏ、Ｐ等の電子供与元素を含み、金属イオンとキレート結合を形成する官能基を有するビーズ状樹脂の中で、ポリアミン型、イミノジ酢酸型又はアミノリン酸型のものであり、ポリアミン型が好ましい。市販品としては、例えば三菱化学社製ダイヤイオン（登録商標）ＣＲ−２０が好適である。
これらのキレート樹脂に存在するキレート官能基は、多座配位子として、珪酸アルカリ水溶液中のＣu、Ｎi等の金属不純物イオンと結合することで金属不純物イオンを除去する。キレート官能基は金属不純物イオンの陽電荷を中和できる陰電荷を有する必要があるため、陰電荷の価数は２以上である。
本発明に用いられるキレート樹脂の量は、珪酸アルカリ水溶液中のＣu、Ｎi等の金属不純物イオン量に対し、キレート樹脂の有するＣｕ換算の吸着容量が、又は総交換容量が過剰となるよう設定することが好ましい。
これらのキレート樹脂に存在するキレート官能基は、多座配位子として、珪酸アルカリ水溶液中のＣu、Ｎi等の金属不純物イオンと結合することで金属不純物イオンを除去する。キレート官能基は金属不純物イオンの陽電荷を中和できる陰電荷を有する必要があるため、陰電荷の価数は２以上である。
本発明に用いられるキレート樹脂の量は、珪酸アルカリ水溶液中のＣu、Ｎi等の金属不純物イオン量に対し、キレート樹脂の有するＣｕ換算の吸着容量が、又は総交換容量が過剰となるよう設定することが好ましい。
これらのキレート樹脂は、繰り返し使用するため、通常、塩酸、硝酸、硫酸などの酸と接触させて、捕捉した金属不純物イオンを脱離させた後、水酸化ナトリウムと接触させてＮa型とする方法により再生される。
本発明に用いられる珪酸アルカリ水溶液とは、水ガラスとも呼ばれ、珪酸ナトリウム水溶液（例えば、ＪＩＳ規格１〜５号、モル比２．０〜３．８）や珪酸カリウム水溶液（例えば、ＪＩＳ規格１、２号、モル比１．８〜３．７）であり、これらを水で希釈したものを用いるのが好適である。また、固体のメタ珪酸ナトリウムを水に溶解させた珪酸アルカリ水溶液を用いることもできる。
本発明に用いられる珪酸アルカリ水溶液のシリカ濃度は、０．５質量％以上１０質量％以下であり、０．５質量％以上５質量％以下が好ましい。
珪酸アルカリ水溶液をキレート樹脂が充填されたカラムに通液させる際の空間速度は０．１以上、１５.０以下が好ましく、０．１以上、９.０以下がより好ましい。空間速度が０．１より低いと生産効率の観点で好ましくなく、１５.０より高いと珪酸アルカリ水溶液と樹脂との接触時間が短く、金属捕捉効率が低下する。
珪酸アルカリ水溶液をキレート樹脂が充填されたカラムに通液させる際の温度は、特に限定されないが、１０℃以上４０℃以下が好ましい。
珪酸アルカリ水溶液をキレート樹脂が充填されたカラムに通液させる際の温度は、特に限定されないが、１０℃以上４０℃以下が好ましい。
本発明に用いられる水素型陽イオン交換樹脂は、強酸性陽イオン交換樹脂、弱酸性陽イオン交換樹脂を用いることができるが、強酸性陽イオン交換樹脂を用いることがより好ましい。市販品としては例えば、オルガノ社製アンバーライト（登録商標）ＩＲ−１２０Ｂが好適である。
これら水素型陽イオン交換樹脂の量は、珪酸アルカリ水溶液中のＣu、Ｎi等の金属不純物イオン量に対し、水素型陽イオン交換樹脂の有する総イオン交換容量が過剰となるよう設定することが好ましい。
これら水素型陽イオン交換樹脂の量は、珪酸アルカリ水溶液中のＣu、Ｎi等の金属不純物イオン量に対し、水素型陽イオン交換樹脂の有する総イオン交換容量が過剰となるよう設定することが好ましい。
珪酸アルカリ水溶液を前記のキレート樹脂が充填されたカラムに通液して得た水溶液を水素型陽イオン交換樹脂が充填されたカラムに通液させる際の空間速度は０．１以上、１５.０以下が好ましく、０．１以上、５.０以下がより好ましい。空間速度が０．１より低いと生産効率の観点で好ましくなく、１５.０より高いと該水溶液と水素型陽イオン交換樹脂との接触時間が短く、金属捕捉効率が低下する。
珪酸アルカリ水溶液を前記のキレート樹脂が充填されたカラムに通液して得た水溶液を水素型陽イオン交換樹脂を充填したカラムに通液させる際の温度は、特に限定されないが、１０℃以上４０℃以下が適当である。
珪酸アルカリ水溶液を前記のキレート樹脂が充填されたカラムに通液して得た水溶液を水素型陽イオン交換樹脂を充填したカラムに通液させる際の温度は、特に限定されないが、１０℃以上４０℃以下が適当である。
本発明に用いられる水素型陽イオン交換樹脂の再生方法は、通常、塩酸、硝酸、硫酸などの酸と接触させて、捕捉した金属イオンを脱離させて水素型に戻す方法が用いられる。
本発明により得られる精製された珪酸水溶液は、シリカ濃度０．５質量％以上１０質量％以下であり、含まれる金属不純物は、シリカ固形物換算でＣｕとして１〜１５０ｐｐｂ、Ｎｉとして１〜５０ｐｐｂである。
珪酸水溶液の金属不純物量は、誘導結合プラズマ質量分析計（ＩＣＰ−ＯＥＳ：パーキンエルマー社製Ｏｐｔｉｍａ４３００ＤＶ及び７３００ＤＶ）により測定した。
〔実施例１〕
ポリアミン型キレート樹脂（三菱化学製ダイヤイオン（登録商標）ＣＲ−２０：Ｃｕ吸着容量０．４ｍｏｌ／Ｌ以上）を２００ｍｌ充填したカラム（ａ）と水素型陽イオン交換樹脂（オルガノ社製アンバーライト（登録商標）ＩＲ−１２０Ｂ）を２００ｍｌ充填したカラム（ｂ）を（ａ）、（ｂ）の順で連結し、富士化学社製珪酸ソーダ（ＪＩＳ３号、ＳiＯ2濃度２９．３質量％、Ｎa２Ｏ濃度９．４６質量％、Ｃｕ濃度４５１ｐｐｂ／シリカ固形分、Ｎｉ濃度１０３ｐｐｂ／シリカ固形分）をシリカ濃度４．０質量％に希釈した珪酸アルカリ水溶液３００ｍｌを通液した。通液時の液温は２２℃で、空間速度は（ａ）、（ｂ）共に、２．０であった。得られた精製された珪酸水溶液はシリカ濃度２．９質量％、Ｃｕ、Ｎｉの濃度はシリカ固形分換算でそれぞれ２５ｐｐｂ、４ｐｐｂであった。
〔実施例１〕
ポリアミン型キレート樹脂（三菱化学製ダイヤイオン（登録商標）ＣＲ−２０：Ｃｕ吸着容量０．４ｍｏｌ／Ｌ以上）を２００ｍｌ充填したカラム（ａ）と水素型陽イオン交換樹脂（オルガノ社製アンバーライト（登録商標）ＩＲ−１２０Ｂ）を２００ｍｌ充填したカラム（ｂ）を（ａ）、（ｂ）の順で連結し、富士化学社製珪酸ソーダ（ＪＩＳ３号、ＳiＯ2濃度２９．３質量％、Ｎa２Ｏ濃度９．４６質量％、Ｃｕ濃度４５１ｐｐｂ／シリカ固形分、Ｎｉ濃度１０３ｐｐｂ／シリカ固形分）をシリカ濃度４．０質量％に希釈した珪酸アルカリ水溶液３００ｍｌを通液した。通液時の液温は２２℃で、空間速度は（ａ）、（ｂ）共に、２．０であった。得られた精製された珪酸水溶液はシリカ濃度２．９質量％、Ｃｕ、Ｎｉの濃度はシリカ固形分換算でそれぞれ２５ｐｐｂ、４ｐｐｂであった。
〔実施例２〕
カラム（ａ）、カラム（ｂ）の各樹脂量を共に９０ｍｌとし、通液時の空間速度を共に４.５とした以外は実施例１と同様に行って精製された珪酸水溶液を得た。得られた珪酸水溶液はシリカ濃度３．６質量％、Ｃｕ、Ｎｉの濃度はシリカ固形分換算でそれぞれ７５ｐｐｂ、１０ｐｐｂであった。
〔実施例３〕
カラム（ａ）の樹脂量を４５ｍｌ、カラム（ｂ）の樹脂量を９０ｍｌとし、通液時の空間速度をカラム（ａ）で９.０、カラム（ｂ）で４.５とした以外は実施例１と同様に行って、精製された珪酸水溶液を得た。得られた珪酸水溶液はシリカ濃度３．６質量％、Ｃｕ、Ｎｉの濃度はシリカ固形分換算でそれぞれ９０ｐｐｂ、２５ｐｐｂであった。
〔参考例４〕
カラム（ａ）にイミノジ酢酸型キレート樹脂（オルガノ社製アンバーライトＩＲＣ−７４８、総交換容量１．３５当量／Ｌ以上）２００ｍｌ、カラム（ｂ）に水素型陽イオン交換樹脂（オルガノ社製アンバーライトＩＲ−１２０Ｂ）２００ｍｌを充填し、それ以外は
、実施例１と同様に行って、精製された珪酸水溶液を得た。得られた珪酸水溶液はシリカ濃度２．９質量％、Ｃｕ、Ｎｉの濃度はシリカ固形分換算でそれぞれ１３５ｐｐｂ、３０ｐｐｂであった。
〔参考例５〕
カラム（ａ）にアミノリン酸型キレート樹脂（オルガノ社製アンバーライトＩＲＣ−７４７、総交換容量１．７５当量／Ｌ以上）２００ｍｌ、カラム（ｂ）に水素型陽イオン交換樹脂（オルガノ社製アンバーライトＩＲ−１２０Ｂ）２００ｍｌを充填し、それ以外は、実施例１と同様に行って精製された珪酸水溶液を得た。得られた珪酸水溶液はシリカ濃度２．３質量％、Ｃｕ、Ｎｉの濃度はシリカ固形分換算でそれぞれ９６ｐｐｂ、２２ｐｐｂであった。
カラム（ａ）、カラム（ｂ）の各樹脂量を共に９０ｍｌとし、通液時の空間速度を共に４.５とした以外は実施例１と同様に行って精製された珪酸水溶液を得た。得られた珪酸水溶液はシリカ濃度３．６質量％、Ｃｕ、Ｎｉの濃度はシリカ固形分換算でそれぞれ７５ｐｐｂ、１０ｐｐｂであった。
〔実施例３〕
カラム（ａ）の樹脂量を４５ｍｌ、カラム（ｂ）の樹脂量を９０ｍｌとし、通液時の空間速度をカラム（ａ）で９.０、カラム（ｂ）で４.５とした以外は実施例１と同様に行って、精製された珪酸水溶液を得た。得られた珪酸水溶液はシリカ濃度３．６質量％、Ｃｕ、Ｎｉの濃度はシリカ固形分換算でそれぞれ９０ｐｐｂ、２５ｐｐｂであった。
〔参考例４〕
カラム（ａ）にイミノジ酢酸型キレート樹脂（オルガノ社製アンバーライトＩＲＣ−７４８、総交換容量１．３５当量／Ｌ以上）２００ｍｌ、カラム（ｂ）に水素型陽イオン交換樹脂（オルガノ社製アンバーライトＩＲ−１２０Ｂ）２００ｍｌを充填し、それ以外は
、実施例１と同様に行って、精製された珪酸水溶液を得た。得られた珪酸水溶液はシリカ濃度２．９質量％、Ｃｕ、Ｎｉの濃度はシリカ固形分換算でそれぞれ１３５ｐｐｂ、３０ｐｐｂであった。
〔参考例５〕
カラム（ａ）にアミノリン酸型キレート樹脂（オルガノ社製アンバーライトＩＲＣ−７４７、総交換容量１．７５当量／Ｌ以上）２００ｍｌ、カラム（ｂ）に水素型陽イオン交換樹脂（オルガノ社製アンバーライトＩＲ−１２０Ｂ）２００ｍｌを充填し、それ以外は、実施例１と同様に行って精製された珪酸水溶液を得た。得られた珪酸水溶液はシリカ濃度２．３質量％、Ｃｕ、Ｎｉの濃度はシリカ固形分換算でそれぞれ９６ｐｐｂ、２２ｐｐｂであった。
〔比較例１〕
イミノプロピオン型キレート樹脂（ミヨシ油脂製エポラス（登録商標）ＭＸ−８：総交換容量１．０当量／Ｌ）を２００ｍｌ充填したカラム（ａ）と水素型陽イオン交換樹脂（オルガノ社製アンバーライトＩＲ−１２０Ｂ）を２００ｍｌ充填したカラム（ｂ）を（ａ）、（ｂ）の順で連結し、水ガラス（富士化学社製珪酸ソーダＪＩＳ３号）をシリカ濃度４．０質量％に希釈した珪酸アルカリ水溶液３００ｍｌを通液した。その時の液温は２２℃で、通液時の空間速度は２．０であった。得られた珪酸水溶液はシリカ濃度２．９質量％、Ｃｕ、Ｎｉの濃度はシリカ固形分換算でそれぞれ２００ｐｐｂ、９０ｐｐｂであった。
イミノプロピオン型キレート樹脂（ミヨシ油脂製エポラス（登録商標）ＭＸ−８：総交換容量１．０当量／Ｌ）を２００ｍｌ充填したカラム（ａ）と水素型陽イオン交換樹脂（オルガノ社製アンバーライトＩＲ−１２０Ｂ）を２００ｍｌ充填したカラム（ｂ）を（ａ）、（ｂ）の順で連結し、水ガラス（富士化学社製珪酸ソーダＪＩＳ３号）をシリカ濃度４．０質量％に希釈した珪酸アルカリ水溶液３００ｍｌを通液した。その時の液温は２２℃で、通液時の空間速度は２．０であった。得られた珪酸水溶液はシリカ濃度２．９質量％、Ｃｕ、Ｎｉの濃度はシリカ固形分換算でそれぞれ２００ｐｐｂ、９０ｐｐｂであった。
〔比較例２〕
カラム（ａ）にフェノール型キレート樹脂（味の素ファインテクノ社製ホクエツＳＢ）２００ｍｌ、カラム（ｂ）に水素型陽イオン交換樹脂（オルガノ社製アンバーライトＩＲ−１２０Ｂ）２００ｍｌを充填した以外は、比較例１と同様に行って珪酸水溶液を得た。得られた珪酸水溶液はシリカ濃度２．３質量％、Ｃｕ、Ｎｉの濃度はシリカ固形分換算でそれぞれ３０５ｐｐｂ、１５０ｐｐｂであった。
〔比較例３〕
カラム（ａ）に水素型陽イオン交換樹脂（オルガノ社製アンバーライトＩＲ−１２０Ｂ）２００ｍｌ、カラム（ｂ）にポリアミン型キレート樹脂（三菱化学製ダイヤイオンＣＲ−２０）２００ｍｌを充填した以外は、比較例１と同様に行って珪酸水溶液を得た。得られた珪酸水溶液はシリカ濃度１．０質量％、Ｃｕ、Ｎｉの濃度はシリカ固形分換算でそれぞれ４１５ｐｐｂ、１９０ｐｐｂであった。
〔比較例４〕
カラム（ａ）に水素型陽イオン交換樹脂（オルガノ社製アンバーライトＩＲ−１２０Ｂ）２００ｍｌ、カラム（ｂ）にイミノジ酢酸型キレート樹脂（オルガノ社製アンバーライトＩＲＣ−７４８：総交換容量１．３５当量／Ｌ以上）２００ｍｌを充填した以外は、比較例１と同様に行って得られた精製された珪酸水溶液はシリカ濃度２．９質量％、Ｃｕ、Ｎｉの濃度はシリカ固形分換算でそれぞれ２７５ｐｐｂ、１３０ｐｐｂであった。
カラム（ａ）にフェノール型キレート樹脂（味の素ファインテクノ社製ホクエツＳＢ）２００ｍｌ、カラム（ｂ）に水素型陽イオン交換樹脂（オルガノ社製アンバーライトＩＲ−１２０Ｂ）２００ｍｌを充填した以外は、比較例１と同様に行って珪酸水溶液を得た。得られた珪酸水溶液はシリカ濃度２．３質量％、Ｃｕ、Ｎｉの濃度はシリカ固形分換算でそれぞれ３０５ｐｐｂ、１５０ｐｐｂであった。
〔比較例３〕
カラム（ａ）に水素型陽イオン交換樹脂（オルガノ社製アンバーライトＩＲ−１２０Ｂ）２００ｍｌ、カラム（ｂ）にポリアミン型キレート樹脂（三菱化学製ダイヤイオンＣＲ−２０）２００ｍｌを充填した以外は、比較例１と同様に行って珪酸水溶液を得た。得られた珪酸水溶液はシリカ濃度１．０質量％、Ｃｕ、Ｎｉの濃度はシリカ固形分換算でそれぞれ４１５ｐｐｂ、１９０ｐｐｂであった。
〔比較例４〕
カラム（ａ）に水素型陽イオン交換樹脂（オルガノ社製アンバーライトＩＲ−１２０Ｂ）２００ｍｌ、カラム（ｂ）にイミノジ酢酸型キレート樹脂（オルガノ社製アンバーライトＩＲＣ−７４８：総交換容量１．３５当量／Ｌ以上）２００ｍｌを充填した以外は、比較例１と同様に行って得られた精製された珪酸水溶液はシリカ濃度２．９質量％、Ｃｕ、Ｎｉの濃度はシリカ固形分換算でそれぞれ２７５ｐｐｂ、１３０ｐｐｂであった。
〔比較例５〕
カラム（ａ）に水素型陽イオン交換樹脂（オルガノ社製アンバーライトＩＲ−１２０Ｂ）２００ｍｌ、カラム（ｂ）にアミノリン酸型キレート樹脂（オルガノ社製アンバーライトＩＲＣ−７４７：総交換容量１．７５当量／Ｌ以上）２００ｍｌを充填した以外は、比較例１と同様に行って珪酸水溶液を得た。得られた珪酸水溶液はシリカ濃度２．７質量％、Ｃｕ、Ｎｉの濃度はシリカ固形分換算でそれぞれ１１５ｐｐｂ、７０ｐｐｂであった。
〔比較例６〕
カラム（ａ）に水素型陽イオン交換樹脂（オルガノ社製アンバーライトＩＲ−１２０Ｂ）２００ｍｌ、カラム（ｂ）にフェノール型キレート樹脂（味の素ファインテクノ社製ホクエツＳＢ）２００ｍｌを充填した以外は、比較例１と同様に行って珪酸水溶液を得た。得られた珪酸水溶液はシリカ濃度２．５質量％、Ｃｕ、Ｎｉの濃度はシリカ固形分換算でそれぞれ２００ｐｐｂ、１２０ｐｐｂであった。
〔比較例７〕
水素型陽イオン交換樹脂（オルガノ社製アンバーライトＩＲ−１２０Ｂ）を２００ｍｌ充填したカラムに、水ガラス（富士化学社製珪酸ソーダＪＩＳ３号）をシリカ濃度４質量％に希釈した珪酸アルカリ水溶液３００ｍｌを通液した。その時の液温は２２℃で、通液時の空間速度は４.５であった。得られた珪酸水溶液はシリカ濃度３．７質量％、Ｃｕ、Ｎｉの濃度はシリカ固形分換算でそれぞれ１９０ｐｐｂ、９０ｐｐｂであった。
カラム（ａ）に水素型陽イオン交換樹脂（オルガノ社製アンバーライトＩＲ−１２０Ｂ）２００ｍｌ、カラム（ｂ）にアミノリン酸型キレート樹脂（オルガノ社製アンバーライトＩＲＣ−７４７：総交換容量１．７５当量／Ｌ以上）２００ｍｌを充填した以外は、比較例１と同様に行って珪酸水溶液を得た。得られた珪酸水溶液はシリカ濃度２．７質量％、Ｃｕ、Ｎｉの濃度はシリカ固形分換算でそれぞれ１１５ｐｐｂ、７０ｐｐｂであった。
〔比較例６〕
カラム（ａ）に水素型陽イオン交換樹脂（オルガノ社製アンバーライトＩＲ−１２０Ｂ）２００ｍｌ、カラム（ｂ）にフェノール型キレート樹脂（味の素ファインテクノ社製ホクエツＳＢ）２００ｍｌを充填した以外は、比較例１と同様に行って珪酸水溶液を得た。得られた珪酸水溶液はシリカ濃度２．５質量％、Ｃｕ、Ｎｉの濃度はシリカ固形分換算でそれぞれ２００ｐｐｂ、１２０ｐｐｂであった。
〔比較例７〕
水素型陽イオン交換樹脂（オルガノ社製アンバーライトＩＲ−１２０Ｂ）を２００ｍｌ充填したカラムに、水ガラス（富士化学社製珪酸ソーダＪＩＳ３号）をシリカ濃度４質量％に希釈した珪酸アルカリ水溶液３００ｍｌを通液した。その時の液温は２２℃で、通液時の空間速度は４.５であった。得られた珪酸水溶液はシリカ濃度３．７質量％、Ｃｕ、Ｎｉの濃度はシリカ固形分換算でそれぞれ１９０ｐｐｂ、９０ｐｐｂであった。
上記実施例１〜３、参考例４〜５ならびに比較例１〜７に記載した工程により得られた各珪酸水溶液の金属不純物濃度を表１にまとめた。本発明による（ａ）および（ｂ）工程に従う実施例１〜３、参考例４〜５により得られた珪酸水溶液はいずれも、比較例１〜７の工程により得られた珪酸水溶液よりも金属不純物（Ｃｕ、Ｎｉ）濃度が低く、より精製されたことが示される。
本発明により得られる精製された珪酸水溶液を原料としてコロイダルシリカを製造すると、コロイダルシリカ中の重金属を大幅に低減することが可能となるため、例えば、半導体ウェーハ等の精密研磨工程において、コロイダルシリカ中に含まれる重金属が半導体ウェーハを汚染することを抑制することができる。また、廉価な水ガラスを原料としているためコストも低く、産業上有用な方法である。
Claims (2)
- 次の工程（ａ）、（ｂ）を含む精製された珪酸水溶液の製造方法：
（ａ）：ポリアミン型のキレート樹脂が充填されたカラムにシリカ濃度０．５質量％以上１０質量％以下の珪酸アルカリ水溶液を通液する工程、
（ｂ）：水素型陽イオン交換樹脂が充填されたカラムに前記工程（ａ）で通液された水溶液を通液する工程。 - 前記工程（ａ）及び（ｂ）の通液速度が空間速度０．１以上１５以下である請求項１に記載の精製された珪酸水溶液の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015206377 | 2015-10-20 | ||
| JP2015206377 | 2015-10-20 | ||
| PCT/JP2016/080586 WO2017069065A1 (ja) | 2015-10-20 | 2016-10-14 | 精製された珪酸水溶液の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2017069065A1 JPWO2017069065A1 (ja) | 2018-08-09 |
| JP6792206B2 true JP6792206B2 (ja) | 2020-11-25 |
Family
ID=58557492
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017546533A Active JP6792206B2 (ja) | 2015-10-20 | 2016-10-14 | 精製された珪酸水溶液の製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10865113B2 (ja) |
| EP (1) | EP3366641B1 (ja) |
| JP (1) | JP6792206B2 (ja) |
| KR (1) | KR102611733B1 (ja) |
| CN (1) | CN108349741B (ja) |
| TW (1) | TWI707824B (ja) |
| WO (1) | WO2017069065A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102346921B1 (ko) * | 2019-10-30 | 2022-01-05 | 주식회사 삼양사 | 음이온 교환수지와 양이온 교환수지를 포함하는 혼상형 이온 교환수지, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 과산화수소수의 정제 방법 |
| CN113603098A (zh) * | 2021-07-05 | 2021-11-05 | 航天特种材料及工艺技术研究所 | 一种低成本制备高纯硅酸的方法 |
| CN114229850A (zh) * | 2021-12-17 | 2022-03-25 | 厦门世达膜科技有限公司 | 一种将硅酸钠转化成硅酸的生产方法 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0557740B1 (en) * | 1992-02-27 | 1997-05-28 | Nissan Chemical Industries Ltd. | Method of preparing high-purity aqueous silica sol |
| JP2001294417A (ja) * | 2000-04-12 | 2001-10-23 | Nippon Chem Ind Co Ltd | コロイダルシリカの製造方法 |
| JP2002173314A (ja) * | 2000-11-30 | 2002-06-21 | Watanabe Shoko:Kk | 高純度コロイダルシリカ及び高純度合成石英粉の製造方法 |
| JP4643085B2 (ja) * | 2001-09-19 | 2011-03-02 | 日本化学工業株式会社 | 研磨剤用高純度コロイダルシリカの製造方法 |
| JP3691047B1 (ja) * | 2004-07-30 | 2005-08-31 | 日本化学工業株式会社 | 高純度活性珪酸水溶液の製造方法 |
| US20100146864A1 (en) * | 2005-08-10 | 2010-06-17 | Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd | Nodular Silica Sol and Method of Producing the Same |
| JP2008270584A (ja) | 2007-04-23 | 2008-11-06 | Nippon Chem Ind Co Ltd | 半導体ウエハ研磨用組成物及び研磨加工方法 |
| CN103403124B (zh) * | 2011-02-22 | 2015-09-30 | 赢创德固赛有限公司 | 由碱金属硅酸盐溶液制备高纯度含水胶态二氧化硅溶胶的方法 |
| CN105731477B (zh) * | 2011-09-05 | 2019-04-05 | 日产化学工业株式会社 | 被纯化了的碱金属硅酸盐水溶液和硅溶胶的制造方法 |
| TWI681929B (zh) * | 2011-12-28 | 2020-01-11 | 日揮觸媒化成股份有限公司 | 高純度氧化矽溶膠及其製造方法 |
| CN102583406B (zh) * | 2012-01-19 | 2014-03-19 | 深圳市力合材料有限公司 | 一种高纯硅溶胶的纯化方法 |
| JP6047395B2 (ja) * | 2012-12-20 | 2016-12-21 | 日揮触媒化成株式会社 | 高純度シリカゾルおよびその製造方法 |
| JP6134599B2 (ja) * | 2013-07-17 | 2017-05-24 | 日揮触媒化成株式会社 | 高純度シリカゾルおよびその製造方法 |
-
2016
- 2016-10-14 CN CN201680060946.4A patent/CN108349741B/zh active Active
- 2016-10-14 JP JP2017546533A patent/JP6792206B2/ja active Active
- 2016-10-14 EP EP16857380.6A patent/EP3366641B1/en active Active
- 2016-10-14 KR KR1020187007662A patent/KR102611733B1/ko active IP Right Grant
- 2016-10-14 US US15/768,846 patent/US10865113B2/en active Active
- 2016-10-14 WO PCT/JP2016/080586 patent/WO2017069065A1/ja active Application Filing
- 2016-10-20 TW TW105133852A patent/TWI707824B/zh active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP3366641A1 (en) | 2018-08-29 |
| EP3366641A4 (en) | 2019-04-03 |
| JPWO2017069065A1 (ja) | 2018-08-09 |
| TWI707824B (zh) | 2020-10-21 |
| EP3366641B1 (en) | 2021-05-05 |
| US20190055131A1 (en) | 2019-02-21 |
| TW201714825A (zh) | 2017-05-01 |
| WO2017069065A1 (ja) | 2017-04-27 |
| CN108349741A (zh) | 2018-07-31 |
| CN108349741B (zh) | 2022-02-08 |
| KR20180068958A (ko) | 2018-06-22 |
| KR102611733B1 (ko) | 2023-12-11 |
| US10865113B2 (en) | 2020-12-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190801 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200527 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
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|
| A521 | Request for written amendment filed |
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|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20201020 |
|
| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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