JP2007271028A - すべり軸受ユニット及び回転陽極型ｘ線管 - Google Patents

Abstract

【課題】安定した動圧を得ることができ、良好な軸受動作を維持することができるすべり軸受ユニット及びこのすべり軸受ユニットを備えた回転陽極型Ｘ線管を提供する。
【解決手段】すべり軸受ユニットは、回転軸に沿って延出して筒状に形成され、内面に軸受面２０Ｓを含み、回転軸を中心に回転可能な回転体２０と、回転軸に沿って延出して回転体の内部に嵌合され、外面に軸受面と対向した他の軸受面３０Ｓを含み、他の軸受面の回転軸に沿った方向の一端部に重なった支点部３１を含み、支点部とともに回転体を回転可能に支持する固定体と、軸受面及び他の軸受面間の隙間に充填された潤滑剤と、を備えている。回転体２０は、支点部３１と対向した個所の近傍に設けられているとともに潤滑剤を収容する収容部２１を有している。
【選択図】 図２

Description

この発明は、すべり軸受ユニット及びこのすべり軸受ユニットを備えた回転陽極型Ｘ線管に関する。

一般に、Ｘ線管装置として、回転陽極型Ｘ線管装置が使用されている。回転陽極型Ｘ線管装置は、Ｘ線を放射する回転陽極型Ｘ線管と、電磁コイルと、これら回転陽極型Ｘ線管及び電磁コイルを収容した筐体と、を備えている。回転陽極型Ｘ線管は、すべり軸受ユニットと、陽極ターゲットと、陰極と、真空外囲器と、を備えている。すべり軸受ユニットは、回転軸を中心に回転可能な筒状の回転体と、この回転体の内部に嵌合され、回転体を回転可能に支持する固定シャフトと、回転体及び固定シャフトの隙間に充填された金属潤滑剤と、を有している。陽極ターゲットは、回転体に固定されている。陰極は、陽極ターゲットに対向配置されている。真空外囲器は、すべり軸受ユニット、陽極ターゲット及び陰極を収容している。

固定シャフトの軸受面に、ヘリンボン・パターンの溝が形成されている。すべり軸受ユニットは、軸受として、動圧式すべり軸受を使っている（例えば、特許文献１、特許文献２、特許文献３、特許文献４、特許文献５及び特許文献６参照）。金属潤滑剤は、Ｇａ（ガリウム）又はＧａＩｎＳｎ（ガリウム・インジウム・錫）合金等の材料を用いている。

上記回転陽極型Ｘ線管装置の動作状態において、電磁コイルは回転体に与える磁界を発生するため、回転体及び陽極ターゲットは回転する。また、陰極は陽極ターゲットに対して電子ビームを照射する。これにより、陽極ターゲットは、電子と衝突するときにＸ線を放出する。

また、上記回転体の回転動作中において、回転体の軸受面と、固定シャフトの軸受面とは、約２０μｍ程度の隙間が置かれ、非接触状態に保たれる。このように、軸受面間に金属潤滑剤が薄い膜として介在すれば、軸受面同士の擦れやそれによる傷の発生等は生じない。

しかし、回転体の回転動作を停止させる回転動作停止中において、回転体の回転速度は次第に低下し、金属潤滑剤を掻き集める力も次第に低下し、その結果、金属潤滑剤の飛散及び回転体の自重を支える浮力の低下を招いてしまう。そして、回転動作停止中に金属潤滑剤が稀薄になる領域が存在した場合、回転動作停止時に軸受面同士が擦れて軸受面間に金属潤滑剤が十二分に存在しない状態が生じる恐れがある。

軸受面同士が擦れると、軸受面はそれぞれ削られ、このとき多く発生する微細金属紛のような異物が金属潤滑剤に混入してしまう。さらに、微細金属紛と金属潤滑剤との反応による反応生成物が異物となって金属潤滑剤に混入することも考えられる。

また、軸受面間に金属潤滑剤が存在しない状態が生じると、次の回転体の回転起動時においても、軸受面同士が擦れ、軸受面がそれぞれ削られ、異物が金属潤滑剤に混入する恐れがある。この場合も、微細金属紛と金属潤滑剤との反応による反応生成物が異物となって金属潤滑剤に混入することも考えられる。

金属潤滑剤に異物が混入すると、異物はすり潰されるまで軸受面間に留まり、軸受面に無数の傷を生じさせる原因となってしまう。さらに、ヘリンボン・パターンの溝の内部に異物の堆積が徐々に進むと、溝の深さが徐々に浅くなり、所要の動圧が発生しなくなり、動圧軸受の機能が低下してしまう。

上記したように、軸受面間に金属潤滑剤が存在しない状態が生じて軸受面同士が接触し、金属潤滑剤に異物が混入すると、軸受面にダメージが生じ、また、トルクの上昇を招いてしまう。このため、軸受面に生じるダメージ及びトルクの上昇をそれぞれ抑制する必要がある。

そこで、上記問題を解決するため、ヘリンボン・パターンの溝の外側の領域の固定シャフトに円形枠状の窪み又は多数の窪みを設け、金属潤滑剤及び異物を溜める技術が開示されている（例えば、特許文献７及び特許文献８参照）。
特公昭６０−２１４６３号公報 特開昭６０−９７５３６号公報 特開昭６０−１１７５３１号公報 特開昭６２−２８７５５５号公報 特開平２−２２７９４７号公報 特開平２−２２７９４８号公報 特開平１−１４１２１８号公報 特開平１−１４１２１９号公報

上記したように、固定シャフトに窪みを設けた技術が開示されているが、窪みに異物が収容される確率は小さく、窪みによる異物捕捉効果を十分得ることが困難であった。このため、固定シャフトに窪みを設けても、軸受面に与えるダメージ及びトルクの上昇をそれぞれ抑制することは困難である。また、固定シャフトに窪みを設けた技術は、異物の発生を抑制する技術ではないため、異物に起因した軸受面に生じるダメージ及びトルクの上昇をそれぞれ抑制することは困難であった。
この発明は以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、安定した動圧を得ることができ、良好な軸受動作を維持することができるすべり軸受ユニット及びこのすべり軸受ユニットを備えた回転陽極型Ｘ線管を提供することにある。

上記課題を解決するため、本発明の態様に係るすべり軸受ユニットは、
回転軸に沿って延出して筒状に形成され、内面に軸受面を含み、前記回転軸を中心に回転可能な回転体と、
前記回転軸に沿って延出して前記回転体の内部に嵌合され、外面に前記軸受面と対向した他の軸受面を含み、前記他の軸受面の前記回転軸に沿った方向の一端部に重なった支点部を含み、前記支点部とともに前記回転体を回転可能に支持する固定体と、
前記軸受面及び他の軸受面間の隙間に充填された潤滑剤と、を備え、
前記回転体は、前記支点部と対向した個所の近傍に設けられているとともに前記潤滑剤を収容する収容部を有している。

また、本発明の他の態様に係る回転陽極型Ｘ線管は、
回転軸に沿って延出して筒状に形成され、内面に軸受面を含み、前記回転軸を中心に回転可能な回転体と、前記回転軸に沿って延出して前記回転体の内部に嵌合され、外面に前記軸受面と対向した他の軸受面を含み、前記他の軸受面の前記回転軸に沿った方向の一端部に重なった支点部を含み、前記支点部とともに前記回転体を回転可能に支持する固定体と、前記軸受面及び他の軸受面間の隙間に充填された潤滑剤と、を有したすべり軸受ユニットと、
前記回転軸に沿った方向に前記支点部が位置した側の前記固定体の端部に対向配置され、前記回転体に固定された陽極ターゲットと、
前記陽極ターゲットに対向配置された陰極と、
前記すべり軸受、陽極ターゲット及び陰極を収容し、前記固定体を固定する真空外囲器と、を備え、
前記回転体は、前記支点部と対向した個所の近傍に設けられているとともに前記潤滑剤を収容する収容部を有している。

この発明によれば、安定した動圧を得ることができ、良好な軸受動作を維持することができるすべり軸受ユニット及びこのすべり軸受ユニットを備えた回転陽極型Ｘ線管を提供することができる。

以下、図面を参照しながらこの発明の実施の形態に係るすべり軸受ユニット及びこのすべり軸受ユニットを備えた回転陽極型Ｘ線管装置について詳細に説明する。
図１に示すように、回転陽極型Ｘ線管装置は、回転陽極型Ｘ線管１と、磁界を発生させるコイルとしての電磁コイル２と、回転陽極型Ｘ線管及び電磁コイルを収容した筐体３とを備えている。

図１及び図２に示すように、回転陽極型Ｘ線管１は、すべり軸受ユニット１０と、陽極ターゲット５０と、陰極６０と、真空外囲器７０とを備えている。すべり軸受ユニット１０は、回転体２０と、固定体としての固定シャフト３０と、潤滑剤としての金属潤滑剤４０とを備え、すべり軸受を使っている。

回転体２０は、筒状、より詳しくは円筒状に形成され、一端部が閉塞されている。回転体２０は、この回転体の回転動作の中心軸となる回転軸ａに沿って延出している。回転体２０は、回転軸ａを中心に回転可能である。回転体２０は、Ｆｅ（鉄）やＭｏ（モリブデン）等の材料で形成されている。回転体２０は、この回転体の内面に軸受面２０Ｓを有している。回転体２０は、この回転体の内側に、円形枠状に窪んだ凹部２０Ａを有している。軸受面２０Ｓ及び凹部２０Ａは、回転軸ａに沿った方向に並んでいる。

固定シャフト３０は、回転体２０よりサイズの小さい筒状、より詳しくは円筒状に形成されている。固定シャフト３０は、回転体２０と同軸的に設けられ、回転軸ａに沿って延出している。固定シャフト３０は、この固定シャフトの外面に軸受面２０Ｓと対向した他の軸受面３０Ｓを有している。

固定シャフト３０は、この固定シャフトの外側に、円形枠状に突出した凸部３０Ａを有している。他の軸受面３０Ｓ及び凸部３０Ａは、回転軸ａに沿った方向に並んでいる。凸部３０Ａが凹部２０Ａの内部に嵌合された状態で、固定シャフト３０は、回転体２０の内部に嵌合されている。凹部２０Ａ及び凸部３０Ａは、回転体２０及び固定シャフト３０の回転軸ａに沿った方向への相対的なズレを規制するものである。固定シャフト３０は、ＦｅやＭｏ等の材料で形成されている。

固定シャフト３０は、この固定シャフトの一端部側に位置しているとともに他の軸受面３０Ｓの回転軸ａに沿った方向の一端部に重なった支点部３１を有している。なお、支点部３１は、回転体２０の閉塞された一端部側に位置している。固定シャフト３０の他端部は、閉塞され、回転体２０の外部に露出されている。

回転体２０及び固定シャフト３０は、軸受面２０Ｓ及び他の軸受面３０Ｓの対向した領域及び凹部２０Ａ及び凸部３０Ａの嵌合された領域を含む全対向領域で、互いに隙間を置いて設けられている。固定シャフト３０は、支点部３１とともに回転体２０を回転可能に支持している。
金属潤滑剤４０は、回転体２０及び固定シャフト３０間の隙間に充填されている。

陽極ターゲット５０は、回転軸ａに沿った方向に、固定シャフト３０の一端部に対向配置されている。陽極ターゲット５０は、陽極５１と、この陽極の外面の一部に設けられたターゲット層５２とを有している。陽極５１は、回転体２０の閉塞された一端部に固定されている。陽極５１は、形状が円環状であり、Ｍｏ等の材料で形成されている。陽極５１は、回転体２０及び固定シャフト３０と同軸的に設けられている。陽極５１は、回転軸ａを中心に回転可能である。

陰極６０は、陽極ターゲット５０のターゲット層５２に間隔を置いて対向配置されている。陰極６０は、真空外囲器７０の内壁に取付けられている。

真空外囲器７０は、円筒状に形成されている。真空外囲器７０はガラスで形成されている。真空外囲器７０において、陽極ターゲット５０と対向した個所の径は、回転体２０と対向した個所の径より大きい。真空外囲器７０は開口部７１を有している。真空外囲器７０の密閉状態を維持するよう、開口部７１は、固定シャフト３０の他端部に密着している。真空外囲器７０は固定シャフト３０を固定している。真空外囲器７０は、密閉され、すべり軸受ユニット１０、陽極ターゲット５０及び陰極６０等を収容している。真空外囲器７０の内部は真空状態に維持されている。

電磁コイル２は、回転体２０の側面に対向して真空外囲器７０の外側を囲むように設けられている。電磁コイル２の形状は環状である。
筐体３は、陰極６０と対向したターゲット層５２付近にＸ線を出射させるＸ線放射窓３ａを有している。筐体３の内部には、回転陽極型Ｘ線管１及び電磁コイル２が収容されている他、冷却液が充填されている。

次に、すべり軸受ユニット１０について詳細に説明する。
回転体２０の軸受面として機能する領域は回転体の内面全域であるが、ここでいう軸受面２０Ｓは、凹部２０Ａの内面及び回転体２０の他端部の内面を除いた回転体２０の内面である。

回転体２０と同様、固定シャフト３０の軸受面として機能する領域は固定シャフトの外面全域であるが、ここでいう他の軸受面３０Ｓは、凸部３０Ａの外面及び固定シャフト３０の他端部の外面を除いた固定シャフト３０の外面である。

回転体２０は、支点部３１と対向した個所の近傍に設けられているとともに金属潤滑剤４０を収容する収容部２１を有している。さらに、回転体２０は、回転軸ａに沿った方向に収容部２１に間隔を置き、固定シャフト３０に対向して設けられているとともに金属潤滑剤４０を収容する他の収容部２２を有している。この実施の形態において、収容部２１は、軸受面２０Ｓの回転軸ａに沿った方向の一端部に重なり、他の収容部２２は、軸受面２０Ｓの回転軸ａに沿った方向の他端部に重なっている。また、収容部２１及び他の収容部２２は回転体２０の内側を円形枠状に窪めてそれぞれ形成されている。

図２及び図３に示すように、固定シャフト３０は、回転軸ａに沿った方向に並んだ複数の掻き込み部３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３２ｄを有している。掻き込み部３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３２ｄは、他の軸受面３０Ｓに形成され、かつ、回転体２０の回転方向に沿って並べられているとともに回転方向に対して斜線状に延出して配列されている複数のパターン部３３をそれぞれ有している。この実施の形態において、パターン部３３は、数十μｍの深さを有した溝で形成されている。

隣合う一対の掻き込み部３２ａ、３２ｂは、ヘリンボン・パターンを形作っている。隣合う一対の掻き込み部３２ｃ、３２ｄは、ヘリンボン・パターンを形作っている。このため、２組のヘリンボン・パターンが固定シャフト３０に形作られている。

固定シャフト３０は、回転軸ａに沿った方向に互いに間隔を置いて位置し、固定シャフトを貫通して形成された複数の流路３４及び複数の流路３５を有している。流路３４は、掻き込み部３２ｂ及び掻き込み部３２ｃの間に位置している。流路３５は、掻き込み部３２ｄ及び凸部３０Ａの間に位置している。例えば、流路３４及び流路３５は、回転軸ａに直交した同一平面に沿って３つずつ形成されている。上述した金属潤滑剤４０は、回転体２０及び固定シャフト３０間の隙間だけでなく、固定シャフト３０の内部にも適量充填されている。金属潤滑剤４０は、流路３４、３５を介して固定シャフト３０の内部及び外部に出入り可能である。

次に、上記回転陽極型Ｘ線管装置の回転動作中及び回転動作停止中の状態について説明する。
始めに、回転陽極型Ｘ線管装置の回転動作中の状態について説明する。
図１乃至図３に示すように、電磁コイル２は回転体２０に与える磁界を発生するため、回転体２０及び陽極ターゲット５０は回転する。

これにより、金属潤滑剤４０は、流路３４、３５を介して軸受面２０Ｓ及び他の軸受面３０Ｓ間の隙間に与えられる。そして、金属潤滑剤４０は、掻き込み部３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３２ｄにより、軸受面２０Ｓ、他の軸受面３０Ｓ、掻き込み部３２ａ及び掻き込み部３２ｂ間、並びに軸受面２０Ｓ、他の軸受面３０Ｓ、掻き込み部３２ｃ及び掻き込み部３２ｄ間にそれぞれ掻き集められ、動圧が発生する。また、金属潤滑剤４０は、収容部２１及び他の収容部２２に収容される。軸受面２０Ｓ及び他の軸受面３０Ｓは、約２０μｍ程度の隙間が置かれ、非接触状態に保たれる。

陰極６０は、陽極ターゲット５０のターゲット層５２に対して電子ビームを照射する。これにより、ターゲット層５２は、電子と衝突するときにＸ線を放出し、放出されたＸ線はＸ線放射窓３ａを介して筐体３外部に放出される。

次に、回転陽極型Ｘ線管装置の回転動作停止中の状態について説明する。
電磁コイル２は回転体２０に与える磁界の発生を停止するため、回転体２０及び陽極ターゲット５０の回転速度は次第に低下する。上記発生させた動圧も次第に低下する。金属潤滑剤４０を掻き集める力は低下するものの、金属潤滑剤４０は、収容部２１及び他の収容部２２から軸受面２０Ｓ及び他の軸受面３０Ｓ間の隙間に与えられる。

金属潤滑剤４０は軸受面２０Ｓ及び他の軸受面３０Ｓ間全域に存在し続けるため、回転陽極型Ｘ線管装置は、軸受面２０Ｓ及び他の軸受面３０Ｓが非接触状態に保たれた状態で回転動作を停止する。なお、回転陽極型Ｘ線管装置の回転動作停止中において、支点部３１は、回転体２０及び陽極ターゲット５０の回転動作を支える中心部となるが、支点部３１と対向した領域でも軸受面２０Ｓ及び他の軸受面３０Ｓが非接触状態に保たれることは言うまでもない。

以上のように構成されたすべり軸受ユニットを備えた回転陽極型Ｘ線管装置によれば、すべり軸受ユニット１０は、収容部２１及び他の収容部２２を備えている。回転陽極型Ｘ線管装置の回転動作停止中において、収容部２１及び他の収容部２２に収容された金属潤滑剤４０は、軸受面２０Ｓ及び他の軸受面３０Ｓ間の隙間に与えられ、金属潤滑剤４０不足を補っている。

金属潤滑剤４０は軸受面２０Ｓ及び他の軸受面３０Ｓ間全域に存在し続けるため、回転陽極型Ｘ線管装置は、軸受面２０Ｓ及び他の軸受面３０Ｓが非接触状態に保たれた状態で回転動作を停止することができる。なお、次の回転体２０の回転起動時においても、軸受面２０Ｓ及び他の軸受面３０Ｓが非接触状態に保たれて、回転体２０が回転可能となる。

これにより、支点部３１と対向した領域で金属潤滑剤４０が稀薄になり、又は金属潤滑剤４０が存在しなくなる場合に生じる軸受面２０Ｓ及び他の軸受面３０Ｓ同士の接触を抑制することができる。さらに、軸受面２０Ｓ及び他の軸受面３０Ｓの少なくとも一方が削られてなる異物の発生自体を抑制することができるため、異物の金属潤滑剤４０への混入を抑制することができる。

万一、上記軸受面が削られる等して生じた異物が金属潤滑剤４０へ混入した場合であっても、収容部２１及び他の収容部２２は、金属潤滑剤４０とともに異物を収容し、トラップとして、異物を捕捉し続けることができる。このため、収容部２１及び他の収容部２２は、軸受面２０Ｓ及び他の軸受面３０Ｓに与えるダメージを抑制することができる。

上記したことから、安定した動圧を得ることができ、良好な軸受動作を維持することができるすべり軸受ユニット及びこのすべり軸受ユニットを備えた回転陽極型Ｘ線管を得ることができる。

なお、この発明は上記実施の形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化可能である。また、上記実施の形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。

すべり軸受ユニット１０は、回転軸ａに沿って延出して筒状に形成され、内面に軸受面２０Ｓを含み、回転軸ａを中心に回転可能な回転体２０と、回転軸ａに沿って延出して回転体２０の内部に嵌合され、外面に軸受面２０Ｓと対向した他の軸受面３０Ｓを含み、他の軸受面３０Ｓの回転軸ａに沿った方向の一端部に重なった支点部３１を含み、支点部３１とともに回転体２０を回転可能に支持する固定シャフト３０と、軸受面２０Ｓ及び他の軸受面３０Ｓ間の隙間に充填された金属潤滑剤４０と、を備えていれば良い。この場合、回転体２０が、支点部３１と対向した個所の近傍に設けられているとともに金属潤滑剤４０を収容する収容部２１を有していれば上述した効果を得ることができる。

固定シャフト３０が流路３４及び流路３５を設けずに円柱状に形成されていても上記した効果を得ることができる。固定シャフト３０が掻き込み部３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３２ｄを設けずに形成されていても上記した効果を得ることができる。
すべり軸受ユニット１０は、回転陽極型Ｘ線管装置に限らず、各種装置に適用することができる。

この発明の実施の形態に係るすべり軸受ユニット及び回転陽極型Ｘ線管を含む回転陽極型Ｘ線管装置を示す断面図。 図１に示したすべり軸受ユニット及び陽極ターゲットを示す断面図。 図１及び図２に示した固定シャフト３０を示す側面図。

符号の説明

１…回転陽極型Ｘ線管、２…電磁コイル、３…筐体、１０…すべり軸受ユニット、２０…回転体、２０Ｓ…軸受面、２０Ａ…凹部、２１…収容部、２２…他の収容部、３０…固定シャフト、３０Ｓ…他の軸受面、３０Ａ…凸部、３１…支点部、３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄ…掻き込み部、３３…パターン部、３４，３５…流路、４０…金属潤滑剤、５０…陽極ターゲット、６０…陰極、７０…真空外囲器、ａ…回転軸。

Claims (16)

1. 回転軸に沿って延出して筒状に形成され、内面に軸受面を含み、前記回転軸を中心に回転可能な回転体と、
   前記回転軸に沿って延出して前記回転体の内部に嵌合され、外面に前記軸受面と対向した他の軸受面を含み、前記他の軸受面の前記回転軸に沿った方向の一端部に重なった支点部を含み、前記支点部とともに前記回転体を回転可能に支持する固定体と、
   前記軸受面及び他の軸受面間の隙間に充填された潤滑剤と、を備え、
   前記回転体は、前記支点部と対向した個所の近傍に設けられているとともに前記潤滑剤を収容する収容部を有しているすべり軸受ユニット。
2. 前記収容部は、前記軸受面の前記回転軸に沿った方向の一端部に重なっている請求項１に記載のすべり軸受ユニット。
3. 前記収容部は、前記回転体の内側を窪めて形成されている請求項１に記載のすべり軸受ユニット。
4. 前記回転体は、前記回転軸に沿った方向に前記収容部に間隔を置き前記固定部に対向して設けられているとともに前記潤滑剤を収容する他の収容部を備えている請求項１に記載のすべり軸受ユニット。
5. 前記他の収容部は、前記軸受面の前記回転軸に沿った方向の他端部に重なっている請求項４に記載のすべり軸受ユニット。
6. 前記固定体は、前記他の軸受面に形成され、かつ、前記回転体の回転方向に沿って並べられているとともに前記回転方向に対して斜線状に延出して配列されている複数のパターン部を有した掻き込み部を備えている請求項１に記載のすべり軸受ユニット。
7. 前記固定体は、前記他の軸受面に形成され、かつ、前記回転体の回転方向に沿って並べられているとともに前記回転方向に対して斜線状に延出して配列されている複数のパターン部をそれぞれ有し、前記回転軸に沿った方向に並んだ複数の掻き込み部を備えている請求項１に記載のすべり軸受ユニット。
8. 前記複数の掻き込み部の隣合う少なくとも一対の掻き込み部は、ヘリンボン・パターンを形作る請求項７に記載のすべり軸受ユニット。
9. 回転軸に沿って延出して筒状に形成され、内面に軸受面を含み、前記回転軸を中心に回転可能な回転体と、前記回転軸に沿って延出して前記回転体の内部に嵌合され、外面に前記軸受面と対向した他の軸受面を含み、前記他の軸受面の前記回転軸に沿った方向の一端部に重なった支点部を含み、前記支点部とともに前記回転体を回転可能に支持する固定体と、前記軸受面及び他の軸受面間の隙間に充填された潤滑剤と、を有したすべり軸受ユニットと、
   前記回転軸に沿った方向に前記支点部が位置した側の前記固定体の端部に対向配置され、前記回転体に固定された陽極ターゲットと、
   前記陽極ターゲットに対向配置された陰極と、
   前記すべり軸受、陽極ターゲット及び陰極を収容し、前記固定体を固定する真空外囲器と、を備え、
   前記回転体は、前記支点部と対向した個所の近傍に設けられているとともに前記潤滑剤を収容する収容部を有している回転陽極型Ｘ線管。
10. 前記収容部は、前記軸受面の前記回転軸に沿った方向の一端部に重なっている請求項９に記載の回転陽極型Ｘ線管。
11. 前記収容部は、前記回転体の内側を窪めて形成されている請求項９に記載の回転陽極型Ｘ線管。
12. 前記回転体は、前記回転軸に沿った方向に前記収容部に間隔を置き前記固定部に対向して設けられているとともに前記潤滑剤を収容する他の収容部を備えている請求項９に記載の回転陽極型Ｘ線管。
13. 前記他の収容部は、前記軸受面の前記回転軸に沿った方向の他端部に重なっている請求項１２に記載の回転陽極型Ｘ線管。
14. 前記固定体は、前記他の軸受面に形成され、かつ、前記回転体の回転方向に沿って並べられているとともに前記回転方向に対して斜線状に延出して配列されている複数のパターン部を有した掻き込み部を備えている請求項９に記載の回転陽極型Ｘ線管。
15. 前記固定体は、前記他の軸受面に形成され、かつ、前記回転体の回転方向に沿って並べられているとともに前記回転方向に対して斜線状に延出して配列されている複数のパターン部をそれぞれ有し、前記回転軸に沿った方向に並んだ複数の掻き込み部を備えている請求項９に記載の回転陽極型Ｘ線管。
16. 前記複数の掻き込み部の隣合う少なくとも一対の掻き込み部は、ヘリンボン・パターンを形作る請求項１５に記載の回転陽極型Ｘ線管。

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