JP2007270231A5 - - Google Patents
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- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims 64
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- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims 25
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 24
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims 24
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims 22
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims 17
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims 16
- 238000009931 pascalization Methods 0.000 claims 11
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 10
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims 10
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 10
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims 8
- 238000004590 computer program Methods 0.000 claims 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006096268A JP2007270231A (ja) | 2006-03-31 | 2006-03-31 | 高圧処理装置用チャンバークリーニング方法、高圧処理装置及び記憶媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006096268A JP2007270231A (ja) | 2006-03-31 | 2006-03-31 | 高圧処理装置用チャンバークリーニング方法、高圧処理装置及び記憶媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2007270231A JP2007270231A (ja) | 2007-10-18 |
| JP2007270231A5 true JP2007270231A5 (https=) | 2009-02-19 |
Family
ID=38673332
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006096268A Pending JP2007270231A (ja) | 2006-03-31 | 2006-03-31 | 高圧処理装置用チャンバークリーニング方法、高圧処理装置及び記憶媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2007270231A (https=) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8128755B2 (en) | 2010-03-03 | 2012-03-06 | L'air Liquide Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Cleaning solvent and cleaning method for metallic compound |
| JP5494146B2 (ja) * | 2010-04-05 | 2014-05-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
| JP5929386B2 (ja) * | 2012-03-22 | 2016-06-08 | セントラル硝子株式会社 | 成膜装置内の金属膜のドライクリーニング方法 |
| KR20160026302A (ko) | 2014-08-29 | 2016-03-09 | 삼성전자주식회사 | 기판 처리 장치 및 집적회로 소자 제조 장치와 기판 처리 방법 및 집적회로 소자 제조 방법 |
| WO2020070788A1 (ja) * | 2018-10-02 | 2020-04-09 | 三菱電機株式会社 | 濾過膜処理装置、膜濾過装置、および、濾過膜処理方法 |
| KR102292034B1 (ko) * | 2019-11-26 | 2021-08-23 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 장치의 처리 방법 |
| TWI911263B (zh) * | 2020-08-25 | 2026-01-11 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 清潔基板的方法、選擇性沉積的方法、及反應器系統 |
| CN112144042B (zh) * | 2020-09-11 | 2021-09-24 | 大连理工大学 | 一种基于超临界流体脉冲的半导体薄膜可控生长系统 |
| CN114965231B (zh) * | 2021-02-25 | 2025-03-18 | 中国石油天然气集团有限公司 | 一种适用于金属管柱材质腐蚀的实验装置 |
| KR102741302B1 (ko) * | 2021-11-04 | 2024-12-10 | 세메스 주식회사 | 동파 방지 밸브 장치 및 이를 포함하는 반도체 제조 장치와 그 설치 방법 |
| JP7804791B2 (ja) * | 2022-04-12 | 2026-01-22 | エイチピエスピ カンパニー リミテッド | 高圧基板処理装置及びそれを用いた基板用高圧化学的気相蒸着方法 |
| KR102925058B1 (ko) * | 2022-12-05 | 2026-02-06 | 세메스 주식회사 | 초임계 유체를 이용한 기판 처리 장치 |
| KR102869928B1 (ko) * | 2022-12-06 | 2025-10-14 | 세메스 주식회사 | 초임계 유체를 이용한 기판 처리 장치 및 방법 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000106358A (ja) * | 1998-09-29 | 2000-04-11 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体製造装置および半導体基板の処理方法 |
| JP2004228526A (ja) * | 2003-01-27 | 2004-08-12 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理方法および半導体装置の製造方法 |
| US20050261150A1 (en) * | 2004-05-21 | 2005-11-24 | Battelle Memorial Institute, A Part Interest | Reactive fluid systems for removing deposition materials and methods for using same |
-
2006
- 2006-03-31 JP JP2006096268A patent/JP2007270231A/ja active Pending
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