JP2007266312A - 導電薄膜付導電性メッシュ、電磁波シールド性フィルム及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】透明支持体4と、前記透明支持体に被着された導電性メッシュ1と、前記透明支持体表面の前記導電性メッシュが形成する開口部11の領域に形成された透明導電薄膜2とを備え、導電性メッシュ1が透明支持体4に導電性メッシュ1の上部露出表面と透明支持体4の表面とが略同一の高さになるように埋め込まれて、導電性メッシュ2と透明導電薄膜2とが接触するように形成されている電磁波シールド性フィルム32。
【選択図】図5
Description
透明樹脂フィルムに金属箔を被着させる方法としては、透明樹脂フィルム表面に接着剤を塗布して、金属箔を貼り合わせる方法や、熱可塑性樹脂フィルムに接着剤を使わずに直接圧着する方法が用いられる。
前記工程において得られた、透明樹脂フィルムに被着された金属箔を例えば、マイクロリソグラフィの方法によりマスクパターンを用いて、所望のパターンの導電性メッシュが形成される。
透明導電薄膜を形成する方法としては、ITO等の導電性材料を用いて、従来から知られた各種薄膜形成方法、具体的には、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法、スプレー熱分解法、化学めっき法、電気めっき法、コーティング法またはこれらを組み合わせた方法等が挙げられる。これらの中では、膜厚を容易に制御でき、また膜厚を均一にすることができる点から、スパッタリング法、化学蒸着法、真空蒸着法が好ましい。
本発明の電磁波シールド性フィルムの構成例を以下に説明する。
本発明の電磁波シールド性フィルムは、PDP(プラズマディスプレイパネル)等のディスプレイデバイス前面の表示面に配設することにより、表示面の可視光透過率を低下させずに、表示面から放射される電磁波を効果的に遮蔽することができる。
透明樹脂フィルムである、厚さ100μmで1辺1mの正方形の非晶性ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(大倉工業(株)製「オースター」、軟化温度120℃、屈折率1.567)の表面に、厚さ12μmの電解銅箔(古河電気工業(株)製BH−WS)をその粗化面(Ra0.24μm)が前記フィルムと対向するように載置した後、130℃、3MPa、10分間の条件で熱プレスすることにより圧着し、銅箔付透明樹脂フィルムを得た。
<電磁波シールド性>
KEC(Kansai Electronic Industry Development Center)法に準じて、周波数範囲1MHz〜1GHz(1000MHz)の間の電磁波シールド性を測定した。結果を図7に示す。
<可視光透過率>
日本電色工業(株)製のヘイズメーターNDH2000を用いて、JIS K7361−1(ISO 13468−1に対応)の「プラスチック透明材料の全光線透過率の試験方法」に準じて、透過率を測定した。
ITO導電薄膜として、厚さ約80ÅのITO導電薄膜(表面抵抗値2000Ω)を形成した以外は実施例1と同様にして、電磁波シールド性フィルムを製造し、評価した。結果を表1及び図8に示す。
厚み100μmの結晶性PETフィルム表面に、ITO導電薄膜として、表面抵抗値70Ωになるように、厚さ約1100ÅのITO導電薄膜を形成し、導電薄膜形成透明フィルムを得た。そして、前記導電薄膜形成フィルムと実施例1で形成したのと同様の導電性メッシュが被着された透明樹脂フィルムとを、ITO導電薄膜と導電性メッシュとが接触するように貼り合わせた。
ITO薄膜を形成しなかった以外は実施例1と同様にして、電磁波シールド性フィルムを製造し、評価した。結果を表1及び図10に示す。
(比較例2)
導電性メッシュを形成せずに、透明樹脂フィルムにITO導電薄膜として、厚さ約1100ÅのITO導電薄膜(表面抵抗値70Ω)のみを形成した以外は実施例1と同様にして、電磁波シールド性フィルムを製造し、評価した。結果を表1及び図10に示す。
ITO薄膜を形成せず、格子間隔300μmの正方形格子のパターンの導電性メッシュに代えて、格子間隔600μmの正方形格子のパターンの導電性メッシュを形成した以外は実施例1と同様にして、電磁波シールド性フィルムを製造し、評価した。結果を表1に示す。
(比較例4)
ITO薄膜を形成せず、格子間隔300μmの正方形格子のパターンの導電性メッシュに代えて、格子間隔900μmの正方形格子のパターンの導電性メッシュを形成した以外は実施例1と同様にして、電磁波シールド性フィルムを製造し、評価した。結果を表1に示す。
2 透明導電薄膜
3 透明導電薄膜付導電性メッシュ
4 透明支持体(透明熱可塑性樹脂フィルム)
5 透明基板
11 導電性メッシュの開口部
31、32、33 電磁波シールド性フィルム
51 薄膜形成透明基板
Claims (11)
- 透明導電薄膜と、前記透明導電薄膜に接触するように被着された導電性メッシュとを備えることを特徴とする導電薄膜付導電性メッシュ。
- 前記透明導電薄膜の表面抵抗が105Ω/sq以下である請求項1に記載の導電薄膜付導電性メッシュ。
- 電磁波シールド性フィルムにおいて、
透明支持体と、前記透明支持体に被着された導電性メッシュと、前記透明支持体表面の前記導電性メッシュが形成する開口部の領域に前記導電性メッシュと接触するように形成された透明導電薄膜とを備えることを特徴とする電磁波シールド性フィルム。 - 前記透明支持体が透明熱可塑性樹脂フィルムである請求項3に記載の電磁波シールド性フィルム。
- 透明樹脂フィルムに金属箔を被着する箔被着工程と、前記箔被着工程で被着された金属箔を所定の形状パターンでエッチングすることにより導電性メッシュを形成する導電性メッシュ形成工程と、及び前記導電性メッシュが形成された側の透明樹脂フィルムの表面に前記導電性メッシュと接触するように透明導電薄膜を形成させる透明導電薄膜形成工程とを備えることを特徴とする電磁波シールド性フィルムの製造方法。
- 前記透明導電薄膜形成工程における透明導電薄膜の形成が、スパッタリング法、蒸着法及びコーティング法から選ばれる少なくとも1種の薄膜形成方法により形成するものである請求項5に記載の電磁波シールド性フィルムの製造方法。
- 前記箔被着工程が透明熱可塑性樹脂フィルムに金属箔を圧着することによるものである請求項5または請求項6に記載の電磁波シールド性フィルムの製造方法。
- 前記透明熱可塑性樹脂フィルムが非晶性ポリエチレンテレフタレート系樹脂である請求項7に記載の電磁波シールド性フィルムの製造方法。
- 前記導電性メッシュ形成工程において導電性メッシュが形成された面を平坦化するためのプレス工程を備える請求項5〜8の何れか1項に記載の電磁波シールド性フィルムの製造方法。
- 透明樹脂フィルムに金属箔を被着する箔被着工程と、前記箔被着工程で被着した前記金属箔を所定の形状パターンでエッチングして導電性メッシュを形成する導電性メッシュ形成工程と、及び透明基板表面に形成した透明導電薄膜を前記導電性メッシュと接触するように対向させて貼り合わせる透明導電薄膜の貼合わせ工程とを備えることを特徴とする電磁波シールド性フィルムの製造方法。
- 前記貼合わせ工程で貼合わせる面の少なくとも何れか一面がプラズマ処理又はコロナ放電処理が施されたものである請求項10に記載の電磁波シールド性フィルムの製造方法。
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