JP2007265977A - ディスプレー用外囲器及びその封着方法 - Google Patents

ディスプレー用外囲器及びその封着方法 Download PDF

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章弘 山崎
Yuichi Ito
祐一 伊東
Kenji Ishizeki
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Yuichi Kuroki
有一 黒木
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Abstract

【課題】温度変化のある雰囲気で使用された場合にも、封着部の強度の低下をほとんど起こすことのない、実用的耐久性を改善したディスプレー用外囲器、該外囲器構成部材の封着方法、及び封着用組成物を提供する。
【解決手段】ガラスからなる2以上のディスプレー用外囲器構成部材が、封着層を介して封着されたディスプレー用外囲器であって、
前記封着層が、無機酸化物フィラーを含む、ポリイミド化合物及びポリアミド酸化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物を主成分とする封着材の焼成体からなり、前記無機酸化物フィラーは、ガラス、シリカ、アルミナ及びチタニアからなる群から選ばれる少なくとも1種のフィラーでありかつアルカリ金属酸化物が無機酸化物フィラーに対して1質量%以下含有されることを特徴とする。
【選択図】なし

Description

本発明は、映像機器におけるテレビジョン放送受像機やモニター機器等に用いられるディスプレー用外囲器、封着方法及び封着剤組成物に関する。
一般的に、電界放出型冷陰極を持つディスプレー(FED)、プラズマディスプレー(PDP)、陰極線管(CRT)など(以下、これらをあわせてディスプレー用装置と称する)は、二つ以上の部材、具体的には、CRTの場合は、画像が映し出されるディスプレーパネル部(ガラスパネル部)と、電子銃を持つガラスファンネル部、また、FEDの場合は、典型的にはフロントパネル部(ディスプレーパネル部)、該フロントパネル部に対向して配置される冷陰極を有するリアパネル部、及び該フロントパネル部と該リアパネル部との間にあって周囲を包囲する外枠からなり、これらを封着して得られる外囲器から形成されている。
従来、これらの封着は、特許文献1に記載されているように、フリットガラスをスラリーにした後、端面に塗布し、比較的低温で乾燥した後に、より高い温度で焼成するか、又はシート状にしたものを端面に取り付けて、焼成することなどで実施される。前記フリットガラスとしては鉛の含有量が高いPbO−B23−ZnO−SiO2系の結晶性低融点ハンダガラスが用いられている。
封着後の外囲器は、内部を高真空にするため、およそ250〜380℃の高温で真空排気される。この際、封着部には外囲器内部が真空になることに起因する引張り性の真空応力と、内外の温度差に起因する引張り性の熱応力とが負荷されるので、これらの応力に耐えうる強度が要求される。また、ディスプレー装置の長期信頼性を確保する上で、前記封着部は0.3MPa以上の耐圧強度、高い気密性及び絶縁性が必要とされる。
一方、FEDの場合、真空外囲器内に配置される背面基板がカソード電極、抵抗層、エミッタ、絶縁層などの多層構造となっており、各層間の熱膨張特性の違いから、熱処理はなるべく低温でなされることが望まれている。また、エミッタの種類にもよるが、400℃以上の封着温度ではエミッタが酸化して電子放出特性が劣化する懸念がある。したがって、400℃未満で封着できる封着材料が望まれている。
また、CRTでは大型化、フラット化が進み、内蔵されるシャドウマスクなど金属部材のわずかな変形が電子ビームの位置ずれを引き起こし、画像に悪影響を与えるようになった。そこで、以前は問題とならなかった封着工程での金属の熱変形がクローズアップされるようになり、封着温度の低温化が望まれている。こうした熱変形は封着温度を400℃未満にすることでほとんど抑止されることがわかってきている。
しかしながら、フリットガラスを用いた封着においては、焼成温度が400℃以上必要であって、400℃未満の焼成温度で封着した場合には、封着部の強度が十分でなく、その後の高温真空排気工程で封着部が破壊する可能性が生じる問題や、真空外囲器の長期信頼性が確保できないといった問題があった。また、フリットガラスは、鉛を60質量%以上含み、環境に対する影響に鑑み、無鉛化することが望まれている。
温度が400℃未満で封着でき、かつ鉛を含まない封着材としては、エポキシ樹脂やシリコーン樹脂などの封着材が特許文献1及び特許文献2に開示されている。しかし、これら従来の封着材は、(1)ガラスとの接着強度が十分でない、(2)高温で強度が不足する、(3)高温真空排気時に封着材自身が分解して、ガスを発生させて電子銃又は冷陰極に悪影響を与える、(4)ガス透過性が高く高真空を保持できない、等の問題があった。
他の封着材の例として、ポリベンゾイミダゾール樹脂、ポリイミド樹脂、又はポリフェニル化合物を含む接着剤が特許文献3〜6に記載されている。しかし、これらの封着材は、上記(1)〜(4)の問題を充分に解消するものではない。
先に、本出願人は、ポリイミド化合物又はポリアミド酸化合物を主成分とする封着材を特許文献7として提案した。かかるポリイミド化合物又はポリアミド酸化合物を主成分とする封着材は、低温度で封着でき、また、封着部の曲げ強度、曲げ弾性率及び電気絶縁破壊強度に高く優れた特性を有するものであり、従来の上記(1)〜(4)の問題点を解消を目指すものである。
しかしながら、かかるポリイミド化合物又はポリアミド酸化合物を主成分とする封着材を使用した場合、封着されたディスプレー用外囲器を大気中にて長時間使用した場合、ディスプレー用外囲器の封着部の強度の低下や真空度の低下などを起こすことが判明した。
これは、使用雰囲気でも温度の変化が大きい場合などは特に顕著である。ディスプレー装置は、多くの場合には、温度変化のある雰囲気での使用は避けられないので、ポリイミド化合物又はポリアミド酸化合物を主成分とする封着材においては改善が要求されるものである。
特開昭52−124854号公報 特開平4−245153号公報 特開2000−21298号公報 特開2000−251768号公報 特開2000−251769号公報 特開平10−275573号公報 特開2004−319448号公報
本発明は、従来技術における上記の問題点に鑑みて、ガラスからなるディスプレー用外囲器の構成部材を封着するためのポリイミド化合物及びポリアミド酸化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物を含む封着材について、上記した(1)〜(4)における問題点を解消できるという、優れた封着特性を損なうことなく、さらに、温度変化のある雰囲気で使用された場合にも、封着部の強度の低下や真空度の低下などがほとんど起こすことのないディスプレー用外囲器、該外囲器構成部材の封着方法、及び封着用組成物を提供することを目的とする。
本発明者は、前述の目的を達成すべく鋭意研究を進めたところ、ガラスからなる2以上のディスプレー用外囲器の構成部材をポリイミド化合物及びポリアミド酸化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物を含む封着材を使用して封着する場合に生じる封着部の強度の低下や真空度の低下などは、封着材に対して特定の材質からなる無機酸化物フィラーを添加せしめることにより、基本的に解消されることを見出した。これは、無機酸化物フィラーの添加により封着層の熱膨張係数が低下し、ディスプレー用外囲器構成部材のガラスの熱膨張係数に近づいたためと思われる。
しかし、一方で、かかる無機酸化物フィラーを添加した場合、上記の目的は達成されるものの、無機酸化物フィラーを含むポリイミド樹脂からなる封着層には気泡の発生が生じてしまい、封着部の強度低下やシール不足による気密性の低下を引き起こすことが判明した。かかる問題を解消すべく研究を進めたところ、かかる付着部における気泡発生は、添加する無機酸化物フィラーに含まれるアルカリ金属成分に基づくことがわかり、アルカリ金属酸化物の含有量が1質量%以下である無機酸化物フィラーを使用することにより解消しうることを見出した。これは、無機酸化物フィラー中にアルカリ金属酸化物が含有される場合には、アルカリ金属により封着材中のポリイミド化合物やポリアミド酸化合物の加水分解が促進され、それにより気泡が発生するが、この現象が抑制されるためと思われる。
本発明は、上記の新規な知見に基づくものであり、下記の要旨を有する。
(1)ガラスからなる2以上のディスプレー用外囲器構成部材が、封着層を介して封着されたディスプレー用外囲器であって、
前記封着層が、無機酸化物フィラーを含み、ポリイミド化合物及びポリアミド酸化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物を主成分とする封着材の焼成体からなり、前記無機酸化物フィラーは、ガラス、シリカ、アルミナ及びチタニアからなる群から選ばれる少なくとも1種のフィラーでありかつアルカリ金属酸化物が無機酸化物フィラーに対して1質量%以下含有されることを特徴とするディスプレー用外囲器。。
(2)前記封着層が38×10−6/℃以下の熱膨張係数を有する上記(1)に記載のディスプレー用外囲器。
(3)前記無機酸化物フィラーがガラスであり、その形状が繊維状である上記(1)又は(2)に記載のディスプレー用外囲器。
(4)前記無機酸化物フィラーが、アスペクト比2〜100を有する上記(1)〜(3)のいずれか1項に記載のディスプレー用外囲器。
(5)前記無機酸化物フィラーが、封着層に10〜60質量%含まれる上記(1)〜(4)のいずれか1項に記載のディスプレー用外囲器。
(6)前記無機酸化物フィラーがシランカップリング剤で処理されている上記(1)〜(5)のいずれか1項に記載のディスプレー用外囲器。
(7) 前記封着層の少なくとも片側に、有機金属化合物及びその加水分解物から選ばれる少なくとも1種の化合物の焼成体を含むプライマー層が存在する上記(1)〜(6)のいずれか1項に記載のディスプレー用外囲器。
(8)前記有機金属化合物が、下記式(A)で表される化合物である上記(1)〜(7)のいずれか1項に記載のディスプレー用外囲器。

MR (4−n) …(A)

(式中、MはSi、Ti及びZrの群から選ばれる少なくとも一つの元素を示し、Rは加水分解性基を示し、Rは炭素数1〜4のアルキル基又はフェニル基を示し、nは0〜2の整数を表す。)
(9)前記外囲器が真空外囲器である上記(1)〜(8)のいずれか1項に記載の画ディスプレー用外囲器。
(10)ガラスからなる2以上のディスプレー用外囲器構成部材の封着面に、ポリイミド化合物及びポリアミド酸化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物を主成分とし、かつ無機酸化物フィラーを含み、前記無機酸化物フィラー中にアルカリ金属酸化物が1質量%以下含有された封着材の層を形成する工程、前記2以上のディスプレー用外囲器構成部材の封着面同士が、前記封着材の層を介して接合される工程、次いで、250〜400℃の温度に加熱して封着材を固化せしめる工程を含むことを特徴とするディスプレー用外囲器構成部材の封着方法。
(11)前記封着材又はその含有液を塗布する前に、前記外囲器構成部材の封着面に、式(A)で表される有機金属化合物及びその加水分解物から選ばれる1種以上の化合物を含むプライマー層形成材を塗布する工程を含む上記(10)に記載のディスプレー用外囲器構成部材の封着方法。
(12)ポリイミド化合物及びポリアミド酸化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物を主成分とし、かつアルカリ金属酸化物の含有量が1質量%以下である無機酸化物フィラーを含むことを特徴とするディスプレー用外囲器構成部材の封着用組成物。
本発明によれば、(1)ガラスとの接着強度が十分でない、(2)高温で強度が不足する、(3)高温真空排気時に封着層自身が分解して、ガスを発生させて電子銃又は冷陰極に悪影響を与える、(4)ガス透過性が高く高真空を保持できない、という従来の封着材の有する難点が改善され、かつ温度変化のある雰囲気で使用された場合にも、封着部の強度の低下や真空度の低下などがほとんど起こることのなく、さらには、封着層における気泡の発生に起因する封着部の強度低下やシール不足による気密性の低下を引き起こすことのない、封着特性を有するディスプレー用外囲器が提供される。
また、本発明によれば、かかるディスプレー用外囲器を効率よく製造するための封着方法、及び、該方法に使用する封着用組成物も提供される。
(I)封着層
本発明の封着層は、ポリイミド化合物及びポリアミド酸化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物を主成分とする封着材の焼成体からなることを特徴とする。ここで、「主成分とする」とは、ポリイミド化合物及びポリアミド酸化合物から選ばれる1種以上の化合物が、封着材の固形分のうち無機酸化物フィラーを除いた全質量に対して、好ましくは70質量%以上、より好ましくは80質量%以上、さらに好ましくは90質量%以上含まれることを意味する。ポリイミド化合物としては、下記式1に示す構造を有するものが好ましい。なお、ポリアミド酸化合物は、ポリイミド化合物の前駆体であるため、ポリアミド酸化合物を使用する場合も、下記式1に示す構造を有するポリイミド化合物を形成するポリアミド酸化合物の使用が好ましい。
Figure 2007265977
上記式1中、Xはジアミン化合物の主骨格を示し、Yはテトラカルボン酸二無水物の主骨格を示す。ここでジアミン化合物の主骨格とは、ジアミン化合物のアミノ基を除いた主鎖を意味し、テトラカルボン酸二無水物の主骨格とは、カルボン酸二無水物基を除いた主鎖を意味する。
X、Yは、より具体的には、以下を意味する。
(A)Xが下記式4〜式8のうちのいずれか一つのとき、Yは、下記式9〜式14のうちのいずれか一つである。下記式4〜式8において、Rは、各々独立に−、−O−、−CO−、−SO2−、−S−、−CH2−及び−C(CH32−からなる群から選択されるいずれか一つであり、nは各々独立に0〜7であり、Zは各々独立にCH3又はフェニル基である。
(B)Xが下記式15のとき、Yは、下記式16又は式17である。下記式15において、Rは、−、−O−、−CO−、−SO2−、−S−、−CH2−及び−C(CH32−からなる群から選択されるいずれか一つである。
(C)Xが下記式18のとき、Yは下記式19である。
Figure 2007265977
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ポリイミド化合物は、式1で示される構造のみで構成されていてもよいが、その末端部分がモノアミン又はジカルボン酸無水物で封止されているのが好ましい。末端がモノアミン又はジカルボン酸無水物で封止されたポリイミド化合物は、下記式2又は式3で示される構造を有していることが好ましい。なお、下記式2及び式3中、X及びYは、式1の定義と同じである。
Figure 2007265977
Figure 2007265977
前記式2のポリイミド化合物において、式2中のX’は下記式20又は式21であることが好ましい。

−Si−(OR3-r ・・・式20

式20中、R炭素数1〜4のアルキル基、Rは炭素数1〜3のアルキル基は又はフェニル基であり、rは0〜2の整数、好ましくは0〜1の整数である。
Figure 2007265977
本発明の封着層として、X’が式20で表される構造を有するポリイミド化合物及びポリアミド酸化合物、並びにそれらの加水分解物から選ばれる少なくとも1種の化合物を使用した場合、特に大きい強度及び封着物性を有する封着部が得られるので好ましい。
一方、前記式3のポリイミド化合物を使用する場合、式3中のY’は下記式22〜式26のいずれかであることが好ましい。
Figure 2007265977
Figure 2007265977
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Figure 2007265977
Y’が式22〜式26のいずれかである式3のポリイミド化合物は、焼成時に熱硬化するため、高温真空排気工程時に経験する高温環境下における接着強度に優れている。
本発明において、前記式1ないし式3のポリイミド化合物は、ビニレン基、エチニル基、ビニリデン基、ベンゾシクロブテン−4’−イル基、イソシアネート基、アリル基、オキシラン基、オキセタン基、シアノ基、及びイソプロペニル基の群から選択される少なくとも1つの架橋基を有することが好ましい。前記式1ないし式3のポリイミド化合物は、これらの架橋基の導入により焼成時に熱硬化するようになり、高温真空排気工程時に経験する高温環境下における接着強度に優れている。
また、本発明の封着材は、下記式27ないし式29で示される構造を有するポリアミド酸化合物を使用することも可能である。
Figure 2007265977
Figure 2007265977
Figure 2007265977
式27〜式29中、Xはジアミン化合物の主骨格であり、X’はモノアミン化合物の主骨格であり、Yはテトラカルボン酸二無水物の主骨格であり、Y’はジカルボン酸無水物の主骨格である。
X、Yは、より具体的には、以下を意味する。
(A)Xが上記式4〜式8のうちのいずれか一つのとき、Yは、上記式9〜式14のうちのいずれか一つである。上記式4〜式8において、Rは、各々独立に−、−O−、−CO−、−SO2−、−S−、−CH2−及び−C(CH32−からなる群から選択されるいずれか一つであり、nは各々独立に0〜7であり、Zは各々独立にCH3又はフェニル基である。
(B)Xが上記式15のとき、Yは、上記式16又は式17である。上記式15において、Rは、−、−O−、−CO−、−SO2−、−S−、−CH2−及び−C(CH32−からなる群から選択されるいずれか一つである。
(C)Xが上記式18のとき、Yは上記式19である。
前記式28のポリアミド酸化合物を使用する場合、式28中のX’は上記式20又は式21であることが好ましい。
本発明の封着材として、X’が式20又は式21である式28のポリアミド酸化合物を使用することにより、ガラスへの密着性を向上させることが可能になる。また、X’が式20又は式21である式28のポリアミド酸化合物は、焼成時に熱硬化するため、高温真空排気工程時に経験する高温環境下における接着強度に優れている。
前記式29のポリアミド酸化合物を使用する場合、式29中のY’は上記式22〜式26のいずれかであることが好ましい。Y’が式22〜式26のいずれかである式29のポリアミド酸化合物は、焼成時に熱硬化するため、高温真空排気工程時に経験する高温環境下における接着強度に優れている。
前記式27ないし式29のポリアミド酸化合物は、ビニレン基、エチニル基、ビニリデン基、ベンゾシクロブテン−4’−イル基、イソシアネート基、アリル基、オキシラン基、オキセタン基、シアノ基、及びイソプロペニル基の群から選択される少なくとも1つの架橋基を有することが好ましい。前記式27ないし式29のポリアミド酸化合物は、これらの架橋基の導入により焼成時に熱硬化するようになり、高温真空排気工程時に経験する高温環境下における接着強度に優れている。
式1の構造を有するポリイミド化合物及び式27のポリアミド酸化合物は、ジアミン化合物とテトラカルボン酸二無水物の縮合により合成される。これらは通常の重縮合系ポリマーの場合と同様に、モノマー成分のモル比を調節することで分子量を制御することができる。即ち、テトラカルボン酸二無水物1モルに対し、0.8〜1.2モルのジアミン化合物を使用することで、高分子量体を形成することが可能になる。ポリイミド化合物及びポリアミド酸化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物が高分子量体であると、その焼成体が機械的強度、電気絶縁性等に優れており、また、高温環境下でアウトガスの発生がないため、封着材として好ましい。上記のモル比は、より好ましくは、酸二無水物1モルに対してジアミン化合物0.9〜1.1モルである。
式1の構造を有するポリイミド化合物又は式27のポリアミド酸化合物を合成するのに使用可能なジアミンとしては、具体的には例えば以下の(a)〜(l)ジアミン化合物が挙げられる。
(a)ベンゼン環1個を有するジアミン;p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン。
(b)ベンゼン環2個を有するジアミン;3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、3,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、3,4’−ジアミノベンゾフェノン、3,3’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,4’−ジアミノジフェニルメタン、2,2−ジ(3−アミノフェニル)プロパン、2,2−ジ(4−アミノフェニル)プロパン、2−(3−アミノフェニル)−2−(4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ジ(3−アミノフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2,2−ジ(4−アミノフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2−(3−アミノフェニル)−2−(4−アミノフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン。
(c)ベンゼン環3個を有するジアミン;1,1−ジ(3−アミノフェニル)−1−フェニルエタン、1,1−ジ(4−アミノフェニル)−1−フェニルエタン、1−(3−アミノフェニル)−1−(4−アミノフェニル)−1−フェニルエタン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノベンゾイル)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノベンゾイル)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノ−α,α−ジメチルベンジル)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノ−α,α−ジメチルベンジル)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノ−α,α−ジメチルベンジル)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノ−α,α−ジメチルベンジル)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノ−α,α−ジトリフルオロメチルベンジル)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノ−α,α−ジトリフルオロメチルベンジル)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノ−α,α−ジトリフルオロメチルベンジル)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノ−α,α−ジトリフルオロメチルベンジル)ベンゼン、2,6−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゾニトリル、2,6−ビス(3−アミノフェノキシ)ピリジン。
(d)ベンゼン環4個を有するジアミン;4,4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]ケトン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ケトン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルフィド、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルフィド、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[3−(3−アミノフェノキシ)フェニル]−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン。
(e)ベンゼン環5個を有するジアミン;1,3−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,3−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,4−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,4−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,3−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル]ベンゼン、1,3−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル]ベンゼン、1,4−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル]ベンゼン、1,4−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル]ベンゼン。
(f)ベンゼン環6個を有するジアミン;4,4’−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ジフェニルエーテル、4,4’−ビス[4−(4−アミノーα,αージメチルベンジル)フェノキシ]ベンゾフェノン、4,4’−ビス[4−(4−アミノーα,αージメチルベンジル)フェノキシ]ジフェニルスルホン、4,4’−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェノキシ]ジフェニルスルホン。
(g)芳香族置換基を有するジアミン;3,3’−ジアミノ−4,4’−ジフェノキシベンゾフェノン、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジビフェノキシベンゾフェノン、3,3’−ジアミノ−4−フェノキシベンゾフェノン、3,3’−ジアミノ−4−ビフェノキシベンゾフェノン。
(h)スピロビインダン環を有するジアミン;6,6’−ビス(3−アミノフェノキシ)3,3,3,’3,’−テトラメチル−1,1’−スピロビインダン、6,6’−ビス(4−アミノフェノキシ)3,3,3,’3,’−テトラメチル−1,1’−スピロビインダン。
(i)シロキサンジアミン類であるジアミン;1,3−ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3−ビス(4−アミノブチル)テトラメチルジシロキサン、α,ω−ビス(3−アミノプロピル)ポリジメチルシロキサン、α,ω−ビス(3−アミノブチル)ポリジメチルシロキサン。
(j)エチレングリコールジアミン類であるジアミン;ビス(アミノメチル)エーテル、ビス(2−アミノエチル)エーテル、ビス(3−アミノプロピル)エーテル、ビス(2−アミノメトキシ)エチル]エーテル、ビス[2−(2−アミノエトキシ)エチル]エーテル、ビス[2−(3−アミノプロポキシ)エチル]エーテル、1,2−ビス(アミノメトキシ)エタン、1,2−ビス(2−アミノエトキシ)エタン、1,2−ビス[2−(アミノメトキシ)エトキシ]エタン、1,2−ビス[2−(2−アミノエトキシ)エトキシ]エタン、エチレングリコールビス(3−アミノプロピル)エーテル、ジエチレングリコールビス(3−アミノプロピル)エーテル、トリエチレングリコールビス(3−アミノプロピル)エーテル。
(k)メチレンジアミン類であるジアミン;エチレンジアミン、1,3−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノブタン、1,5−ジアミノペンタン、1,6−ジアミノヘキサン、1,7−ジアミノヘプタン、1,8−ジアミノオクタン、1,9−ジアミノノナン、1,10−ジアミノデカン、1,11−ジアミノウンデカン、1,12−ジアミノドデカン。
(l)脂環式ジアミン類であるジアミン;1,2−ジアミノシクロヘキサン、1,3−ジアミノシクロヘキサン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、1,2−ジ(2−アミノエチル)シクロヘキサン、1,3−ジ(2−アミノエチル)シクロヘキサン、1,4−ジ(2−アミノエチル)シクロヘキサン、ビス(4−アミノシクロへキシル)メタン、2,6−ビス(アミノメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,5−ビス(アミノメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタン。
また、上記例示したジアミン化合物は、適宜単独で、又は混合して使用することができる。また、ジアミン化合物は、上記ジアミン化合物の芳香環上の水素原子の一部もしくは全てをフッ素原子、メチル基、メトキシ基、トリフルオロメチル基、及びトリフルオロメトキシ基からなる群から選ばれた置換基で置換したジアミンであってもよい。また、分岐を導入する目的で、ジアミン化合物の一部をトリアミン類、テトラアミン類と代えてもよい。このようなトリアミン類の具体例としては、例えばパラローズアニリンが挙げられる。
式1の構造を有するポリイミド化合物及び式27のポリアミド酸化合物を合成するのに使用可能なテトラカルボン酸二無水物としては、具体的には例えば、以下のものが挙げられる。ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルフィド二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ベンゼン二無水物、1,4−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ベンゼン二無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ビフェニル二無水物、2,2−ビス[(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、エチレンテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)スルフィド二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、1,3−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ベンゼン二無水物、1,4−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ベンゼン二無水物、及び1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物。上記例示したテトラカルボン酸二無水物は、適宜単独で、又は混合して用いることができる。
また、上記テトラカルボン酸二無水物のいずれも、それらの芳香環上の水素原子の一部もしくは全てをフッ素原子、メチル基、メトキシ基、トリフルオロメチル基、及びトリフルオロメトキシ基からなる群から選ばれた置換基で置換して用いることもできる。
更に、架橋点となるエチニル基、ベンゾシクロブテン−4’−イル基、ビニル基、アリル基、シアノ基、イソシアネート基、ニトリロ基、又はイソプロペニル基を、上記酸二無水物の芳香環上の水素原子の一部もしくは全てに置換基として導入しても用いることができる。更にまた、好ましくは成形加工性を損なわない範囲内で、架橋点となるビニレン基、ビニリデン基、及びエチニリデン基を置換基ではなく、主鎖骨格中に組み込むこともできる。
また、分岐を導入する目的で、テトラカルボン酸二無水物の一部をヘキサカルボン酸三無水物類、又はオクタカルボン酸四無水物類と代えてもよい。
また、封着層に耐熱性を付与するため、ポリイミド化合物又はポリアミド酸化合物を合成する際に、末端封止材としてジカルボン酸無水物又はモノアミン化合物を含めてもよい。ポリイミド化合物及びポリアミド酸化合物の末端をジカルボン酸無水物又はモノアミン化合物で封止することで、上記式2及び式3のポリイミド化合物、ならびに上記式28及び式29のポリアミド酸化合物を得ることができる。
末端封止剤として使用可能なジカルボン酸無水物としては、具体的には例えば、下記の化合物が挙げられる。
フタル酸無水物、2,3−ベンゾフェノンジカルボン酸無水物、3,4−ベンゾフェノンジカルボン酸無水物、2,3−ジカルボキシフェニルフェニルエーテル無水物、3,4−ジカルボキシフェニルフェニルエーテル無水物、2,3−ビフェニルジカルボン酸無水物、3,4−ビフェニルジカルボン酸無水物、2,3−ジカルボキシフェニルフェニルスルホン無水物、3,4−ジカルボキシフェニルフェニルスルホン無水物、2,3−ジカルボキシフェニルフェニルスルフィド無水物、3,4−ジカルボキシフェニルフェニルスルフィド無水物、1,2−ナフタレンジカルボン酸無水物、2,3−ナフタレンジカルボン酸無水物、1,8−ナフタレンジカルボン酸無水物、1,2−アントラセンジカルボン酸無水物、2,3−アントラセンジカルボン酸無水物,1,9−アントラセンジカルボン酸無水物。
これらは単独又は2種以上混合して用いることができる。これらの芳香族ジカルボン酸無水物の中で、好ましくはフタル酸無水物が使用される。
末端封止剤として使用可能なモノアミン化合物としては、具体的には例えば次のようなものが挙げられる。アニリン、o−トルイジン、m−トルイジン、p−トルイジン、2,3−キシリジン、2,6−キシリジン、3,4−キシリジン、3,5−キシリジン、o−クロロアニリン、m−クロロアニリン、p−クロロアニリン、o−ブロモアニリン、m−ブロモアニリン、p−ブロモアニリン、o−ニトロアニリン、p−ニトロアニリン、m−ニトロアニリン、o−アミノフェノール、p−アミノフェノール、m−アミノフェノール,o−アニシジン、m−アニシジン、p−アニシジン,o−フェネチジン、m−フェネチジン、p−フェネチジン、o−アミノベンズアルデヒド、p−アミノベンズアルデヒド、m−アミノベンズアルデヒド、o−アミノベンゾニトリル、p−アミノベンゾニトリル、m−アミノベンゾニトリル,2−アミノビフェニル,3−アミノビフェニル、4−アミノビフェニル、2−アミノフェニルフェニルエーテル、3−アミノフェニルフェニルエーテル,4−アミノフェニルフェニルエーテル、2−アミノベンゾフェノン、3−アミノベンゾフェノン、4−アミノベンゾフェノン、2−アミノフェニルフェニルスルフィド、3−アミノフェニルフェニルスルフィド、4−アミノフェニルフェニルスルフィド、2−アミノフェニルフェニルスルホン、3−アミノフェニルフェニルスルホン、4−アミノフェニルフェニルスルホン、α−ナフチルアミン、β−ナフチルアミン,1−アミノ−2−ナフトール、5−アミノ−1−ナフトール、2−アミノ−1−ナフトール,4−アミノ−1−ナフロール、5−アミノ−2−ナフトール、7−アミノ−2−ナフトール、8−アミノ−1−ナフトール、8−アミノ−2−ナフトール、1−アミノアントラセン、2−アミノアントラセン、9−アミノアントラセン等。通常、これらの芳香族モノアミンの中で、好ましくはアニリンの誘導体が使用される。これらは単独で又は2種以上混合して用いることができる。
これらモノアミン化合物及びジカルボン酸無水物は、単独又は2種以上混合して用いてもよい。これら末端封止剤の使用量としては、ジアミン化合物とテトラカルボン酸二無水物の使用モル数の差の1〜数倍のモノアミン化合物(過剰成分がテトラカルボン酸二無水物)、あるいはジカルボン酸無水物(過剰成分がジアミン)であればよいが、少なくとも一方の成分の0.01モル倍程度使用するのが一般的である。
上記ポリイミド化合物又はポリアミド酸化合物の合成反応は、通常有機溶剤中で実施する。この反応に用いる有機溶剤としては、ポリイミド化合物及びポリアミド酸化合物を製造するのに問題がなく、しかも生成したポリイミド酸化合物及びポリアミド酸化合物を溶解できるものであればどのようなものでも使用できる。具体的には、アミド系の溶剤、エーテル系の溶剤、フェノール系の溶剤が例示でき、より具体的には、下記の有機溶剤が挙げられ、これらは単独又は2種以上混合して使用することもできる。
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、N,N−ジメチルメトキシアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、N−メチルカプロラクタム、1,2−ジメトキシエタン−ビス(2−メトキシエチル)エーテル、1,2−ビス(2−メトキシエトキシ)エタン、ビス[2−(2−メトキシエトキシ)エチル]エーテル、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキサン、1,4−ジオキサン、ピリジン、ピコリン、ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルアミド、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、クレゾール酸、o−クロロフェノール、m−クロロフェノール、p−クロロフェノール、アニソール等。
特にアミド系の溶剤が溶液の安定性、作業性の点から好ましい。
合成されたポリイミド化合物及びポリアミド酸化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物は、これらの有機溶剤に溶解させたままで後述する封着材として使用することができる。このような態様で使用する場合、ポリイミド化合物の溶剤としては、クレゾールが好ましい。ポリアミド酸化合物の溶剤としてはN−メチルピロリドンが好ましい。なお、これらの有機溶剤は、合成されたポリイミド化合物及びポリアミド酸化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物を溶液として使用する際の溶媒としても使用することができる。
また、ポリイミド化合物及びポリアミド酸化合物を合成するにあたって既知の有機塩基触媒を共存させることも可能である。好ましくはピリジン及びγ−ピコリンである。これら触媒の使用量としては、テトラカルボン酸二無水物の総量1モルに対し、0.001〜0.50モルである。特に好ましくは0.01〜0.10モルである。
ポリアミド酸化合物を合成する際の反応温度は、−20〜60℃、好ましくは0〜40℃である。反応時間は、使用するテトラカルボン酸二無水物の種類、溶剤の種類及び反応温度等により異なるが、本発明においては、得られたポリアミド酸化合物を含有する有機溶剤溶液を、ポリアミド酸化合物を含む封着材と呼ぶ。ポリアミド酸化合物は、ポリイミド化合物の前駆体であるため、得られたポリアミド酸化合物を、次いで150〜400℃に加熱脱水してイミド化することにより封着材形成材として用いる。
また、ポリイミド化合物を合成する際の反応温度は、100℃以上、好ましくは150〜300℃であり、反応によって生じる水を抜き出しながら行うのが一般的である。イミド化に先立ち、その前駆体であるポリアミド酸化合物を100℃以下の低温でまず合成し、ついで温度を100℃以上に上げてイミド化することも可能であるが、単にテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物と、を混合した後、有機塩基存在下、すぐに100℃以上に昇温することでイミド化することもできる。反応時間は、使用するテトラカルボン酸二無水物の種類、溶剤の種類、有機塩基触媒の種類と量及び反応温度等により異なる。この場合、イミド化反応によって生じる水はトルエン等の共沸剤を反応系に加えて、共沸により水を除去する方法が一般的で有効である。又は、まず前駆体であるポリアミド酸を合成した後、無水酢酸などのイミド化剤を用いて化学的にイミド化を行うことも可能である。
本発明においては、得られたポリイミド化合物を溶解又は分散して含有する有機溶剤液を、ポリイミド化合物を含有する封着材液と呼ぶ。ポリイミド化合物を含有する封着材液は保存安定性が良好で、しかもガラスからなる外囲器構成部材の封着面に塗布してから加熱乾燥又はプレ焼成した後、本焼成することで比較的低温低圧で焼成しても充分な90°封着剥離強度が得られる。ここで乾燥又はプレ焼成の温度としては、溶媒の沸点によって異なり、特定はできないが、通常、150〜300℃である。一方、本焼成は250〜400℃で実施される。
なお、ポリイミド化合物は、有機溶剤に溶解させた溶液としてではなく、公知の方法でフィルムに成形して使用してもよい。
また、封着層の封着性を向上させるために、上記成分に加えて、ジアミノシロキサン化合物を封着材に含めてもよい。ジアミノシロキサンを併用する場合、ポリイミド化合物及びポリアミド酸化合物は、上記式1ないし式3、又は式27ないし式29において、Xが式4ないし式7のいずれかのものを用いることが好ましい。なお、ジアミノシロキサンは、式1ないし式3の構造を有するポリイミド化合物又は式27ないし式29のポリアミド酸化合物1モルに対して、0.10モル以下となる量で使用することが好ましい。ジアミノシロキサン化合物を0.10モル以下とすれば、封着層が本来有する耐熱性が損なわれることがなく、また封着材が相分離を起こす等の保存安定性にも問題を生じることがない。
ポリイミド化合物の分子量の指標としては一般的に対数粘度が用いられる。本発明のポリイミド化合物の対数粘度は、p−クロロフェノールとフェノールの混合溶媒(90:10)中、0.5g/ dL濃度、35℃において好ましくは0.01〜5.0であり、より好ましくは、0.10〜0.50である。ポリアミド酸化合物の分子量はゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)で測定可能であり、本発明のポリアミド酸の質量平均分子量は、好ましくは4000〜30000であり、より好ましくは5000〜15000である。
(II)封着層に含有される無機酸化物フィラー
本発明の封着層には、ガラス、シリカ、アルミナ及びチタニアからなる群から選ばれる少なくとも1種の無機酸化物フィラーが含有せしめられる。なかでも、無アルカリガラスと呼ばれるアルカリ含有量が小さいガラスが好ましく、特に無アルカリガラス繊維(ファイバー)が好ましい。
無機酸化物フィラーとしては、その有する熱膨張係数が、封着材を形成する上記ポリイミド化合物及びポリアミド酸化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物から形成されるポリイミド樹脂よりも小さい熱膨張係数を有し、好ましくは38×10−6/℃以下、特に好ましくは20×10−6/℃以下を有するものが好適である。無機酸化物フィラーの熱膨張係数が38×10−6/℃を超える場合には、上記した封着部の強度の低下や真空度の低下を抑える効果が小さくなるので好ましくない。無機酸化物フィラーの熱膨張係数の下限については、特に制限されないが、好ましくは1×10−6/℃以上であると好適である。無機酸化物フィラーの熱膨張係数の下限が1×10−6/℃以上であると、封着材に用いるポリイミド化合物及びポリアミド酸化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物の熱膨張係数との差が大きくなりすぎず、温度変化時に樹脂とフィラーとの界面での剥離等の不都合が生じにくいため好ましい。
無機酸化物フィラーが含有された封着層の熱膨張係数は、好ましくは38×10−6/℃以下、特に好ましくは20×10−6/℃以下であることが好適である。封着層の熱膨張係数が38×10−6/℃を超える場合には、上記した封着部の強度の低下や真空度の低下を抑える効果が小さくなるので好ましくない。封着層の熱膨張係数の下限については、特に制限されないが、好ましくは6×10−6/℃以上であると好適である。6×10−6/℃以上であると、ガラスからなるディスプレー用外囲器構成部材の熱膨張係数との差が大きくなりすぎず、温度変化時に封着層と外囲器構成部材との界面での剥離等の不都合が生じにくいため好ましい。
本発明で使用される無機酸化物フィラーとして重要なことは、無機酸化物フィラー中のアルカリ金属酸化物の含有量が1質量%以下、好ましくは0.8質量%以下、特に好ましくは0.6質量%以下が必要である。ここで、アルカリ金属酸化物の含有量とは、リチウム、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属酸化物の合計量を意味する。また、ここでのアルカリ金属酸化物の含有量とは、無機酸化物フィラー中にアルカリ金属が酸化物以外の形態で存在する場合には、アルカリ金属酸化物相当量として算出した含有量を意味する。
無機酸化物フィラー中のアルカリ金属酸化物の含有量が1質量%を超える場合には、封着材を焼成する段階で封着材の層に気泡が発生し封着強度の低下やシール性の低下を引き起こしてしまう。本発明で無機酸化物フィラーに含有されるアルカリ金属酸化物の量は、JISM8852、8853又は8856により求められる。
無機酸化物フィラーの形態は粒状ないし繊維状であるが、その平均最大長サイズが好ましくは、0.5〜500μm、特に好ましくは、1〜200μmであるのが好適である。
なかでも、アスペクト比が好ましくは2〜100、特に好ましくは4〜20の細長い形状、特に繊維状であるのが好適である。アスペクト比が2より小さい場合には、無機酸化物フィラーを添加する効果が顕著でなく、また、100を超える場合には、これを含有する封着剤液の流動性が低下し、塗布などの作業性が低下するので好ましくない。
無機酸化物フィラーは、封着層に対して、好ましくは10〜60質量%、特に好ましくは、20〜50質量%含有される。無機酸化物フィラーの含有量が10質量%よりも小さい場合には、無機酸化物フィラーを含有させる効果が乏しく、逆に60質量%を超える場合には、無機酸化物フィラーを含有する封着塗布液などの流動性が低下するのでいずれも好ましくはない。
本発明において、無機酸化物フィラーは、封着材を構成するポリイミド樹脂との親和性を向上させるために、シランカップリング剤で処理されるのが好ましい。この場合のシランカップリング剤としては、アミノ基を有するシランが好ましく、該アミノは1級及び2級のアミノ基であることが好ましい。具体的には、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−N’−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシランのようなアミノシランが好ましい。
シランカップリング剤による無機酸化物フィラーの処理は、通常、シランカップリング剤の水性液に溶解又は分散させた液中に無機酸化物フィラーを好ましくは攪拌下に浸漬することにより行われる。シランカップリング剤は、無機酸化物フィラー100質量部に対して、好ましくは0.1〜5質量部、特に好ましくは0.5〜2質量部の量が無機酸化物フィラーの表面に付着するように処理される。
本発明においては、封着材に対して、上記の無機酸化物フィラーに加えて、封着材溶液の粘性調整、焼成体の熱応力低減等を目的として、他の添加材を含有させることができる。これらの添加材としては特に制約はなく、例えば、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、硫酸マグネシウム、珪酸アルミニウムなどが挙げられる。
更に、本発明では、上記したポリイミド化合物及びポリアミド酸化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物からなる封着材とともに、リン酸系又はビスマス系といった無鉛の無機系封着材を併用してもよい。このような無機系封着材は、ディスプレー装置が、より高温で、具体的には400℃以上、で封着することが必要な場合や、特性のマッチングをとることが必要な場合等に好ましく使用される。
(III)プライマー層
本発明では、上記封着材を使用してディスプレー用外囲器を封着する場合、上記封着層の少なくとも片側においてプライマー層を介することが好ましい。該プライマー層は、下記式(A)で表される有機金属化合物及びその加水分解物から選ばれる1種以上
の化合物の焼成体を含む。

MR (4−n) ・・・(A)

式(A)中、MはSi、Ti及びZrの群から選ばれる少なくとも一つの元素を示し、Rは加水分解性基を示し、Rは炭素数1〜4のアルキル基又はフェニル基を示し、nは0〜2の整数を表す。
式(A)におけるRは、通常、無触媒、過剰の水の共存下に25〜100℃で加水分解されて、水酸基又はシロキサン結合ができる基を表わす。nは、0〜2の整数であるが、好ましくは0〜1の整数であり、特に好ましくは0である。nの数が小さいほど、生成する水酸基の数が多くなるため、ガラスからなる外囲器構成部材、及び上記封着層との結合数が増え、界面での良好な接着性が発現する。なお、式(A)で表される有機金属化合物の加水分解物中には、一部の未加水分解のR基が残っていてもよい。
また、Rの好ましい例としては、水素原子、炭素数1〜4のアルコキシ基、ハロゲン原子又はイソシアネート基が挙げられる。炭素数1〜4のアルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基が挙げられる。アルコキシ基を有する場合には、触媒として酸を共存させると加水分解が促進されるため好ましい。アルコキシ基を有する場合には、加水分解およびその縮合反応条件によって、多くの水酸基を生成させることが可能となるため、界面での接着性を高めることが可能となる。また一部のアルコキシ基をアセチルアセトナト基で置換した化合物も用いられる。
ハロゲン原子の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。イソシアネート基やハロゲン原子を有する化合物は加水分解速度が速いため、その化合物をそのまま塗布しても空気中の水分によって加水分解が進行する。そのため加水分解性化合物自身の縮合反応よりも、外囲器構成部材や封着材と反応する確率が上がるため、界面での密着性を高めることが可能となる。好ましい加水分解性基としては、取り扱いの容易さや安全性の点からアルコキシ基又はイソシアネート基を挙げることができる。
式(A)におけるMは、Si、Ti及びZrからなる群から選ばれる少なくとも1種であり、これらの元素を含んだ化合物はいずれも水酸基を生じやすく、界面での接着性を高めることが可能となる。入手のし易さの点から、Siがより好ましく、反応制御がしやすく、取り扱いが容易で保存安定性も高い。
式(A)におけるRは、炭素数1〜4のアルキル基又はフェニル基である。好ましくは、メチル基、エチル基、ブチル基、フェニル基が挙げられる。過度に炭素数が増えるとその疎水性や立体障害により、その機能を損なってしまうため好ましくない。好ましくはメチル基又はエチル基が挙げられる。
式(A)で示される化合物の好ましい具体例として、ケイ素化合物は、テトラクロロシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロピポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトライソシアネートシラン、メチルトリクロロシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリイソシアネートシラン、エチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ジメチルジクロロシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジイソシアネートシラン、フェニルトリクロロシラン、フェニルトリメトキシシランが挙げられる。
また、チタン化合物としては、テトラクロロチタン、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラプロピポキシチタン、テトラブトキシチタン、トリプロポキシモノアセチルアセトナトチタン、ジプロポキシビスアセチルアセトナトチタンが挙げられ、また、ジルコニウム化合物としては、テトラプロポキシジルコニウム、テトラブトキシジルコニウム、トリブトキシモノアセチルアセトナトジルコニウムが挙げられる。
上記した式(A)で表される有機金属化合物及びその加水分解物から選ばれる1種以上の化合物は、必要により、アルコールなどの媒体中に好ましくは0.5〜10質量%の濃度にて溶解又は分散され、溶液又は分散液の形態のプライマー層形成材とされる。
また、加水分解縮合反応を進めるにあたり、アルミニウム元素を含有する加水分解縮合性化合物を添加しても良い。具体的に例示すると、アルミニウムのアルコキシ化合物類が挙げられ、アルミニウイソプロポキシドが挙げられる。
(IV)ディスプレー用外囲器
本発明におけるディスプレー装置とは、代表的には、高真空下において、陰極(カソード)から放出され、高速で運動する電子を蛍光体に衝突させて、励起、発光させるいわゆるカソードルミネセンスタイプのものである。このようなカソードルミネセンスタイプのディスプレー用装置は、電界放出型冷陰極を持つディスプレー装置(FED)、陰極線管(CRT)などによって代表される。
このようなディスプレー用装置は、カソードルミネセンスを実現するため、内部が高真空になったガラスかなる真空外囲器を備えている。本発明で外囲器を形成するガラスは、好ましくは、SiO−SrO−BaO−QO−Al系,SiO−TO−QO−Al系、SiO−TO−QO−Al−ZrO系などが使用される。なお、この式で、TOはアルカリ土類金属の酸化物、QOはアルカリ金属酸化物を表す。なかでも、SiO−RO−RO−AlO系ガラスが好ましい。真空外囲器内には、高速の電子ビームを放出するための駆動回路と、該電子ビームが衝突することで励起されて蛍光を生じる蛍光体が塗布されたディスプレーパネル部と、が設置される。
封着後の真空外囲器は、内部を高真空にするために高温で真空排気される。この高温真空排気工程は、従来250〜380℃で実施されてきたが、従来技術でも述べたように、ディスプレー用装置の製造時の熱処理は可能な限り低温で実施されることが好ましい。したがって、高温真空排気工程は、今後200〜330℃の温度で実施されると予想される。この高温真空排気工程の際、真空外囲器の封着部には、真空応力と熱応力と、が負荷される。
本発明のディスプレー用装置について、従来のCRT及びFEDの構成を例に、以下に説明する。ただし、本発明のディスプレー装置は、CRT及びFEDのみに限定されるものではない。CRT及びFEDのように最終製品の状態で内部が真空となる外囲器ではなくとも、ガス置換などのために一時的に真空状態を経るような外囲器を有するディスプレー用装置も含む。例えば、プラズマディスプレー(PDP)なども含まれる。
図1は、本発明のディスプレー用装置の1実施形態の一部切欠き側面図であり、ディスプレー用装置1は、CRTとして構成される。図1中、図面右側を前側とし、左側を後側とする。
図1において、ディスプレー用装置1は、ディスプレーパネル部2と、ガラスファンネル部3と、で構成される真空外囲器(ガラスバルブ)11を備えている。真空外囲器11の前側を構成するディスプレーパネル部2は、その前方に位置し、画像を表示するための略平面状のディスプレー領域21と、該ディスプレー領域21を含むフェース部の側部から後方に延びるスカート部22よりなる。真空外囲器11の後側を構成するガラスファンネル部3の後端には、電子銃16を格納するネック31が設けられている。真空外囲器11を構成するディスプレーパネル部2及びガラスファンネル部3は、通常、ガラス製である。但し、ディスプレーパネル部2のディスプレー領域21は、その全体がガラス製ではなく、その前側部分が光透過性の樹脂からなる複層材であってもよい。また、真空外囲器11の構成部材は、ガラス以外の無機材料製、具体的には例えば、セラミック製又は金属製であってもよい。
図1のディスプレー装置1では、この他、強度を保持するための防爆補強バンド17、電子銃16から放出される電子ビームとの相互作用により蛍光を発する蛍光体13、該蛍光をディスプレー面21の側に反射するアルミニウム膜14、該電子ビームを蛍光体13の所定の位置にランディングさせるためのシャドウマスク15、該シャドウマスクをスカート部22の内壁に固定するためのスタッドピン18等を含む。
本発明のディスプレー装置1では、真空外囲器11の構成部材であるディスプレーパネル部2と、ガラスファンネル部3とが封着層5を介して封着される。封着層5は、後述する方法により、真空外囲器構成部材の封着面に封着材を適用、即ち、液体の状態で封着材を塗布した後、又は封着材をフィルムとして取り付けた後、所望の条件で焼成させて得た封着材の焼成体の層である。図1のディスプレー装置1では、真空外囲器11構成部材の封着面、具体的にはディスプレーパネル部2のスカート部22の後側の端面と、ガラスファンネル部3の前側の端面とが封着層5を介して封着される。
本発明のディスプレー装置は、真空外囲器の封着部の曲げ強度が220℃において30MPa以上であることが好ましい。ここで外囲器の封着部とは、封着層5と外囲器構成部材における前記封着層5の極近傍からなる部分を指し、曲げモードを負荷した際、当該封着部を起点として破壊するときの強度を封着部の曲げ強度とした。図1のディスプレー装置1を例にとると、スカート部22の後端部分及びファンネル部3の前端部分からなる封着部の曲げ強度である。本発明で、曲げ強度は、例えば、後述する実施例に記載するように、JIS R1601に準じた方法で実施される4点曲げ試験の測定値として求めることができる。
図2は、本発明のディスプレー装置の別の1実施形態の一部切欠き側面図であり、ディスプレー装置は、典型的なFEDとして構成されている。図2中、図面上側を前側とし、下側を後側とする。図2のディスプレー装置1’では、その前側に位置するフロントパネル部(ディスプレーパネル部)2’と、その後側に、該フロントパネル部2’に対向した配置されるリアパネル部3’、該フロントパネル部2’と該リアパネル部3’の間に配置される外枠4と、で真空外囲器11’が構成されている。真空外囲器11’の構成部材であるフロントパネル部2’、リアパネル部3’及び外枠4は、通常はガラス製である。但し、ガラス以外の無機材料製、例えばセラミック製又は金属製であってもよい。ここで真空外囲器11’の構成部材同士の接合面は、封着層5を介して封着されている。したがって、フロントパネル部2’と、外枠4との接合面、及びリアパネル部3’と、外枠4との接合面は、封着層5を介して封着されている。ディスプレー装置1’において、リアパネル部3’は、電界放出型の電子源基板であり、その内側面、即ちフロントパネル部2’に対向する面上には、陰極61及び、該陰極61上に形成される電界放出型冷陰極62を有している。また、リアパネル部3’のフロントパネル部2’に対向する面上には、絶縁層64をはさんで電子流を制御するゲート電極63が形成されている。一方、フロントパネル部2’のリアパネル部3’に対向する面上には、陽極65及び該電界放出型冷陰極62と対をなす蛍光体画素66が設けられている。
このFEDディスプレー装置においても、封着層5、即ち本発明の封着材には第1実施形態のディスプレー装置1と同様の特性が要求される。
(V)封着方法
本発明においてディスプレー装置の外囲器構成部材を封着する場合、好ましくは次のように行われる。即ち、封着しようとするディスプレー装置用の外囲器構成部材の封着面に対して、好ましくは、前記した式(A)で表される有機金属化合物及びその加水分解物から選ばれる1種以上の化合物を含む溶液又は分散液からなるプライマー層形成材が塗布される。塗布は、噴霧又は刷毛塗りのいずれの手段でもよい。乾燥後に封着面上に、好ましくは1〜1000nmの厚みのプライマー層形成材の層が形成されるのが好適である。上記乾燥は、室温にて短時間にて行われるが、その条件についてはプライマーの種類により異なる。
プライマー層形成材の層を形成した後、該プライマー層形成材の層の上に、無機酸化物フィラーを含有する、ポリイミド化合物及びポリアミド酸から選ばれる1種以上の化合物を主成分とする封着材又はその液を塗布するか、又は無機酸化物フィラーを含むポリイミド化合物を主成分とする封着材フィルムを貼り付ける。塗布面は、好ましくは150〜200℃にて、乾燥又はプレ焼成して封着材の層が形成される。封着される外囲器構成部材の好ましくは両方の封着面に対して上記のようにしてプライマー層形成材の層及び封着材の層が形成されるが、必要に応じて、封着面の片方は、プライマー層形成材の層のみを形成してもよい。
次いで、プライマー層形成材の層及び封着材の層を有する外囲器構成部材の封着面は、封着面同士を合わせて、好ましくは250〜400℃で500〜10分間、より好ましくは330〜400℃で300〜10分間、さらにより好ましくは330〜400℃で60〜10分本焼成することにより封着される。その後、外囲器構成部材はその内部を高真空にするため、200〜330℃の高温で真空排気することでディスプレー装置の外囲器が製造される。
本発明における上記の封着面の焼成は、例えば、窒素雰囲気、アルゴンガス雰囲気のような不活性ガス雰囲気下で実施してもよく、又は空気中で実施してよい。本発明におけるかかる封着における焼成温度が400℃未満であるため、従来のフリットガラスを封着材に使用した場合におけるディスプレー装置中の金属部材に関する熱変形等の問題が解消されている。
なお、上記においては、プライマー層形成材と、封着材とを、該順序で別個に適用する場合について説明したが、本発明では、プライマー層形成材と、封着材とを含む封着用組成物として、外囲器構成部材の封着面に同時に適用することができる。かかる封着用組成物としては、下記式(A)で表される有機金属化合物及びその加水分解物から選ばれる1種以上の化合物を含むプライマー層形成材と、無機酸化物フィラー、ポリイミド化合物及びポリアミド酸化合物から選ばれる1種以上の化合物を含む封着材を含むものが好ましい。

MR (4−n) ・・・(A)

(式中、MはSi、Ti及びZrの群から選ばれる少なくとも一つの元素を示し、Rは加水分解性基を示し、Rは炭素数1〜4のアルキル基又はフェニル基を示し、nは0〜2の整数を表す。)
前記封着用組成物におけるプライマー層形成材と封着材とは、封着材100質量部に対して、プライマー層形成材が好ましくは、0.5〜10質量部、特に好ましくは1〜5質量部を含有するのが好適である。
以下、本発明を実施例及び比較例により具体的に説明するが、本発明はかかる実施例に限定して解釈されるべきでないことはもちろんである。なお、実施例及び比較例中で、特に断りのない単位は質量基準である。例1〜3が実施例であり、例4〜6が比較例である。
ポリイミド(1)の合成
攪拌器、還流冷却器および窒素導入管を備えた容器に、4,4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル55.26g(0.15モル)、3,4、3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸ニ無水物15.0g(0.051モル)、無水ピロメリット酸16.69g(0.0765モル)、4−フェニルエチニルフタル酸無水物11.17g(0.045モル)、m−クレゾール290gを装入し、室温で20時間攪拌した。その後、200℃3時間反応し、室温まで冷却した。メタノール600g添加後、濾過してポリイミド(1)を得た。
ポリイミド(2)の合成
攪拌器、還流冷却器および窒素導入管を備えた容器に、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン35.08g(0.12モル)、3,3−ジアミノベンゾフェノン6.37g(0.93モル)、3,4、3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸ニ無水物39.72g(0.135モル)、4−フェニルエチニルフタル酸無水物7.44g(0.03モル)、m−クレゾール275gを装入し、室温で20時間攪拌した。その後、200℃3時間反応し、室温まで冷却した。メタノール550g添加後、濾過してポリイミド(2)を得た。
[例1]
ポリイミド(1)が28質量%、ガラス繊維フィラーA(平均繊維径10μm、平均繊維長70μm、アスペクト比7)が12質量%、及びジヒドロターピネオールが60質量%の割合になるように、それぞれの材料を計り取り、乳鉢を用いてすり潰すようにしながら混合してペースト状物にした。
なお、上記ガラス繊維フィラーAのアルカリ金属酸化物の含有量は、NaO:0.3%、KO:0.2%及びLiO:0%であった。また、ガラス繊維フィラーAは次のようにしてシランカップリング剤により処理した。水100g及び3−アミノプロピルトリメトキシシラン1gを装入した容器中に、ガラス繊維フィラー10gを添加し、攪拌下に室温で4時間処理し、濾過、乾燥させた。
上記ペースト状物は、ガラス外囲器の封着材に使用されるが、このペースト状物を封着材とした場合の封着層の熱膨張係数(α)を下記の方法で測定した。次いで、このペースト状物を使用してガラス外囲器に使用されるガラス板を用いて、下記の(2)に記載される方法で、封着層に発生する気泡の状態を面積比として測定した。これらの結果を表1に示した。得られた封着層中のガラス繊維フィラーAの含有量は、ペースト状物作成時のポリイミド(1)とガラス繊維フィラーAとの合計に対するガラス繊維フィラーAの割合と同じで、30%ある。
(1)封着層の熱膨張係数(α)
ペースト状物を所定ギャップのコーターでガラス板上にキャストし、160℃30分および220℃で2時間仮焼成した後、350℃2時間焼成した。その後、80℃の温水に浸漬してガラスからフィルムを剥離し、150℃で3時間乾燥して、フィルムを得た。
このフィルムを5mm×17mmの大きさに切断し、島津製作所社製TMA60を用い、30℃から150℃まで5℃/分で昇温して、引っ張り測定により熱膨張係数(α)を測定した。
(2)発生気泡の面積比
ペースト状物を、2枚の60mm角の板状ソーダライムガラス(ガラス組成 SiO:71%、CaO:10%、NaO:13%、Al:2%、MgO:4%。両面は鏡面)の中央にそれぞれ約0.13g計り取った後、150℃、30分乾燥、220℃120分の熱処理を加えた。冷却後二つのガラス片を接合面で重ね合わせ、約100g/cmの荷重を負荷した状態で350℃120分の焼成を実施し、接着部のサンプルを得た。接着面を鏡面であるガラス越しに観察し、気泡の状態をデジタルカメラで撮影した。
得られた画像を2値化処理により気泡部分とそうでない部分に分離し、気泡部分の面積(A)と観察した接着部の面積(B)を算出し、100×A/Bを気泡の面積比(%)と定義した。経験から、この比が10以上のときは気密性保持や機械的信頼性に問題のある可能性が高いと考えられる。
[例2]
実施例1において、ポリイミド(1)の代りにポリイミド(2)を使用し、かつガラス繊維フィラーAの代りに、同じガラスからなるガラス繊維フィラーB(平均繊維径10μm、平均繊維長100μm、アスペクト比10)を使用し、ガラス繊維フィラーBの含有量を封着層中に20質量%としたほかは例1と同様にしてペースト状物を製造し、封着層を作製した。
このペースト状物を使用した封着層について、例1と同様にして、熱膨張係数(α)を測定し、かつ発生気泡の面積比を求めた。その結果を表1に示す。
[例3]
例1において、ガラス繊維フィラーAの代りに、同じガラスからなるガラス繊維フィラーC(平均繊維径10μm、平均繊維長40μm、アスペクト比:4)を使用し、ガラス繊維フィラーCの含有量を封着層中に40質量%としたほかは例1と同様にしてペースト状物を製造し、封着層を作製した。
このペースト状物を使用した封着層について、例1と同様にして、熱膨張係数(α)を測定し、かつ発生気泡の面積比を求めた。その結果を表1に示す。
Figure 2007265977
[例4〜6]
例1において、それぞれ、表2に示されるように、フィラーとして、例4(無添加)、例5(カオリン:平均短軸約4μm、平均長軸約24μm、アスペクト比6)、例6(マイカ:燐片状粒子、平均短軸約0.24μm、平均長軸約12μm、アスペクト比50)を使用したほかは、例1と同様にしてペースト状物を製造し、封着層を作製した。
このペースト状物を使用した封着層について、例1と同様にして、熱膨張係数(α)を測定し、かつ発生気泡の面積比を求めた。その結果を表2に示す。
Figure 2007265977
表1及び表2から明らかなように、本発明のいずれの実施例でも、封着層の熱膨張係数は小さく、また、封着層における発生気泡は小さい。一方、比較例である例4〜6では、フィラーが無添加(例4)のものは、封着層の熱膨張係数は大きく、また、カオリン(例5)又はマイカ(例6)を添加したものは、封着層における発生気泡が大きかった。
本発明のディスプレー装置の1実施形態の一部切欠き側面図であり、ディスプレー装置はCRTとして構成されている。 本発明のディスプレー装置の別の1実施形態の一部切欠き側面図であり、ディスプレー装置は典型的なFEDとして構成されている。
符号の説明
1:ディスプレー装置 1’:ディスプレー装置
11:真空外囲器 11’:真空外囲器
13:蛍光体 14:アルミニウム膜
15:シャドウマスク 16:電子銃
17:防爆補強バンド 18:スタッドピン
2:ディスプレーパネル部
2’:ディスプレーパネル部(フロントパネル部)
21:ディスプレー領域
22:スカート部 3:ガラスファンネル部
3’:リアパネル部 31:ネック部
4:外枠 5:封着層
61:陰極 62:電解放出型冷陰極
63:ゲート電極 64:絶縁層
65:陽極 66:蛍光体画素

Claims (12)

  1. ガラスからなる2以上のディスプレー用外囲器構成部材が、封着層を介して封着されたディスプレー用外囲器であって、
    前記封着層が、無機酸化物フィラーを含み、ポリイミド化合物及びポリアミド酸化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物を主成分とする封着材の焼成体からなり、前記無機酸化物フィラーは、ガラス、シリカ、アルミナ及びチタニアからなる群から選ばれる少なくとも1種のフィラーでありかつアルカリ金属酸化物が無機酸化物フィラーに対して1質量%以下含有されることを特徴とするディスプレー用外囲器。
  2. 前記封着層が38×10−6/℃以下の熱膨張係数を有する請求項1に記載のディスプレー用外囲器。
  3. 前記無機酸化物フィラーがガラスであり、その形状が繊維状である請求項1又は2に記載のディスプレー用外囲器。
  4. 前記無機酸化物フィラーが、アスペクト比2〜100を有する請求項1〜3のいずれか1項に記載のディスプレー用外囲器。
  5. 前記無機酸化物フィラーが、封着層に10〜60質量%含まれる請求項1〜4のいずれか1項に記載のディスプレー用外囲器。
  6. 前記無機酸化物フィラーがシランカップリング剤で処理されている請求項1〜5のいずれか1項に記載のディスプレー用外囲器。
  7. 前記封着層の少なくとも片側に、有機金属化合物及びその加水分解物から選ばれる少なくとも1種の化合物の焼成体を含むプライマー層が存在する請求項1〜6のいずれか1項に記載のディスプレー用外囲器。
  8. 前記有機金属化合物が、下記式(A)で表される化合物である請求項1〜7のいずれか1項に記載のディスプレー用外囲器。

    MR (4−n) …(A)

    (式中、MはSi、Ti及びZrの群から選ばれる少なくとも一つの元素を示し、Rは加水分解性基を示し、Rは炭素数1〜4のアルキル基又はフェニル基を示し、nは0〜2の整数を表す。)
  9. 前記外囲器が真空外囲器である請求項1〜8のいずれか1項に記載のディスプレー用外囲器。
  10. ガラスからなる2以上のディスプレー用外囲器構成部材の封着面に、ポリイミド化合物及びポリアミド酸化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物を主成分とし、かつ無機酸化物フィラーを含み、前記無機酸化物フィラー中にアルカリ金属酸化物が1質量%以下含有された封着材の層を形成する工程、
    前記2以上のディスプレー用外囲器構成部材の封着面同士が、前記封着材の層を介して接合される工程、
    次いで、250〜400℃の温度に加熱して封着材を固化せしめる工程を含むことを特徴とするディスプレー用外囲器構成部材の封着方法。
  11. 前記封着材又はその含有液を塗布する前に、前記外囲器構成部材の封着面に、式(A)で表される有機金属化合物及びその加水分解物から選ばれる1種以上の化合物を含むプライマー層形成材を塗布する工程を含む請求項10に記載のディスプレー用外囲器構成部材の封着方法。

    MR (4−n) …(A)

    (式中、MはSi、Ti及びZrの群から選ばれる少なくとも一つの元素を示し、Rは加水分解性基を示し、Rは炭素数1〜4のアルキル基又はフェニル基を示し、nは0〜2の整数を表す。)
  12. ポリイミド化合物及びポリアミド酸化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物を主成分とし、かつアルカリ金属酸化物の含有量が1質量%以下である無機酸化物フィラーを含むことを特徴とするディスプレー用外囲器構成部材の封着用組成物。
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