JP2007261978A - 皮膚用又は毛髪用組成物 - Google Patents
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Description
しかしながら、ジベンゾイルメタン誘導体は光安定性が低く、このため、これを配合して製剤化しても紫外線あるいは太陽光の暴露によりその紫外線防御効果が経時的に低下するという問題があった。そのため、光線下で長時間にわたり一定の皮膚保護作用を発揮するためには、この製剤を定常的にあるいは短時間内に繰返し適用することが必要であった。
すなわち、本発明にかかる皮膚用又は毛髪用組成物は、ジベンゾイルメタン誘導体と、下記式(1)で示されるベンザルマロネート誘導体とを含有することを特徴とする。
本発明の組成物において、R2、R3及びR4がメチル基であることが好適である。
また、R1が2−エチルヘキシル基であることが好適である。
また、ベンザルマロネート誘導体が組成物中0.1質量%以上であることが好適である。
また、ジベンゾイルメタン誘導体が4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタンであることが好適である。
また、ジベンゾイルメタン誘導体が組成物中0.01〜10質量%であることが好適である。
式(1)中、R1はそれぞれ炭素数1〜20のアルキル基であるが、好ましくは2−エチルヘキシル基である。
R2、R3及びR4はそれぞれ炭素数1〜20のアルキル基であるが、好ましくはメチル基である。
スキーム(1)
スキーム(2):
次いでVilsmeyer反応により芳香環にホルミル基を導入することができる。本反応はイミニウム中間体を経由して進行するので、N−メチルホルムアミドのような他のアミドも使用することができる。
さらに、2,4−ジメトキシベンズアルデヒド(v)を臭素化して5−ブロモ−2,4−ジメトキシベンズアルデヒド(vi)を得る。これは、一般的な臭素化条件で行うことができる。
最後に、Cu(I)化合物を触媒として用い、メトキシドにより臭化物(vi)を置換することにより(Ullmann反応と同様の反応)、2,4,5−トリメトキシベンズアルデヒド(i−a)を得ることができる。
ベンザルマロネート誘導体の配合量は、組成物中のジベンゾイルメタン誘導体の光安定性を改善するのに有効な量が用いられ、各組成物によって適宜変更することができる。光安定化のための最小量は、一般的な光安定性測定試験によって決定することができるが、通常は組成物中0.1〜10質量%、好ましくは0.5〜10質量%の範囲である。
ジベンゾイルメタン誘導体の配合量は、通常は組成物中0.01〜10重量%、好ましくは0.3〜5質量%の範囲である。
例えば、トリアジン系紫外線吸収剤(例えば、ビスレゾルシニルトリアジン、2,4―ビス{〔4−(2−エチルヘキシルオキシ)―2−ヒドロキシ〕フェニル}−6−(4−メトキシフェニル)1,3,5−トリアジン、オクチルトリアゾン(2,4,6―トリス{4−(2−エチルヘキシルオキシカルボニル)アニリノ}1,3,5−トリアジン等);安息香酸系紫外線吸収剤(例えば、パラアミノ安息香酸(以下、PABAと略す)、PABAモノグリセリンエステル、N,N−ジプロポキシPABAエチルエステル、N,N−ジエトキシPABAエチルエステル、N,N−ジメチルPABAエチルエステル、N,N−ジメチルPABAブチルエステル、N,N−ジメチルPABAエチルエステル等);アントラニル酸系紫外線吸収剤(例えば、ホモメンチル−N−アセチルアントラニレート等);サリチル酸系紫外線吸収剤(例えば、アミルサリシレート、メンチルサリシレート、ホモメンチルサリシレート、オクチルサリシレート、フェニルサリシレート、ベンジルサリシレート、p−イソプロパノールフェニルサリシレート等);ケイ皮酸系紫外線吸収剤(例えば、オクチルシンナメート、エチル−4−イソプロピルシンナメート、メチル−2,5−ジイソプロピルシンナメート、エチル−2,4−ジイソプロピルシンナメート、メチル−2,4−ジイソプロピルシンナメート、プロピル−p−メトキシシンナメート、イソプロピル−p−メトキシシンナメート、イソアミル−p−メトキシシンナメート、オクチルメトキシシンナメート(パラメトキシケイ酸2−エチルヘキシル)、2−エトキシエチル−p−メトキシシンナメート、シクロヘキシル−p−メトキシシンナメート、エチル−α−シアノ−β−フェニルシンナメート、2−エチルヘキシル−α−シアノ−β−フェニルシンナメート、グリセリルモノ−2−エチルヘキサノイル−ジパラメトキシシンナメート、ジエタノールアミンエトキシシンナメート等);ベンゾフェノン系紫外線吸収剤(例えば、2−[4−(ジエチルアミノ)−2−ヒドロキシベンゾイル]安息香酸ヘキシルエステル、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−4’−メチルベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸塩、4−フェニルベンゾフェノン、2−エチルヘキシル−4’−フェニル−ベンゾフェノン−2−カルボキシレート、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシ−3−カルボキシベンゾフェノン等);3−(4’−メチルベンジリデン)−d,l−カンファー、3−ベンジリデン−d,l−カンファー;2−フェニル−5−メチルベンゾキサゾール;2,2’−ヒドロキシ−5−メチルフェニルベンゾトリアゾール;2−(2’−ヒドロキシ−5’−t−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール;2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニルベンゾトリアゾール;ジベンザラジン;ジアニソイルメタン;5−(3,3−ジメチル−2−ノルボルニリデン)−3−ペンタン−2−オン;フェニルアクリレート系紫外線吸収剤(例えば、2−エチルヘキシルー2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレート、2−エチル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレート等);フェニルベンズイミダゾール誘導体(例えば、フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、ジソジウムフェニルジベンズイミダゾールテトラスルフォネート等);ジベンゾイルメタン系紫外線吸収剤(例えば、4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン等);カンファー誘導体(例えば4−メチルベンジリデンカンファー、テレフタリリデンジカンファースルフォニックアシッド等);フェニルベンゾトリアゾール誘導体(例えばヒドロキシ−(エチルヘキシル)フェノキシベンゾトリアゾール、メチレンビス−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール等);ベンザルマロネート誘導体(例えばジメチコベンザルマロネート等)などが挙げられる。
以下、実施例をあげて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。配合量は特に指定のない限り質量%である。
マロン酸ジ−2−エチルヘキシル(0.02モル)をピリジン(5mL)に溶解し、2,4,5−トリメトキシベンスアルデヒド(0.02モル)及びピペリジン(0.15mL)を添加した。この混合物を70〜75℃で4.5時間還流した後、冷却し、この溶液を10mLの水で2回、10mLの1N塩酸で2回、及び10mLの飽和炭酸水素ナトリウムで洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去して、黄色油状の標題化合物1を得た(収率64%)。吸光度(溶媒:エタノール、濃度:10ppm)を図1に示す。またその他の分析値は次の通り。
IR(neat,cm-1):2950, 2862, 1715, 1602, 1512, 1461, 1250, 1211, 1130;
1H-NMR(CDCl3) δ(ppm):8.03(s, 1H, Ar-CH=), 6.95(s, 1H, Ar-H), 6.45(s, 1H, Ar-H), 4.13-4.12 and 4.09-4.08(m, 4H, 2X-OCH2-), 3.89, 3.82 and 3.76(s, 9H, 3X-OCH3), 1.38-0.75(m, 30H, 2X-C7H15);
13C-NMR(CDCl3) δ(ppm):167.8, 164.7(2X-COOR), 154.0, 152.4, 142.9, 123.4, 111.5 and 96.4(aromatic carbons), 137.1(Ar-CH=), 113.5(=C(COOR1)2), 56.3, 56.2 and 55.9(-OCH3), 68.1, 67.4, 38.7, 38.5, 30.3, 30.2, 28.8, 28.7, 23.7, 23.5, 22.9, 22.8, 14.0, 13.9, 10.9 and 10.8(alkyl carbons).
マロン酸ジ−2−エチルヘキシルの代わりに、マロン酸ジエチルを用いた以外は合成例1と同様にして、淡黄色固体状の標題化合物2を得た(収率74%)。
m.p.:98-99℃
Rf:0.31(50%酢酸エチル/ヘキサン);
IR(KBr, cm-1):2974, 2928, 2846, 1704, 1600, 1518, 1460, 1413, 1250, 1207, 1121, 1021;
1H-NMR(CDCl3) δ(ppm):8.04(s, 1H, Ar-CH=), 6.98(s, Ar-H, 1H), 6.46(s, Ar-H, 1H), 4.34-4.21(q, 4H, 2X-OCH2-), 3.91, 3.86 and 3.78(s, 9H, 3X-OCH3), 1.39-4.19(t, 6H, 2X-CH3);
13C-NMR(CDCl3) δ(ppm):173.4, 71.8(2X-COOR), 162.2, 156.5, 156.3, 142.5, 131.0and 130.8(aromatic carbons), 132.6(Ar-CH=), 115.7(=C(COOR1)2), 75.6,75.5,and 75.3(-OCH3), 80.7, 80.6, 33.5 and 33.3(alkyl carbons).
マロン酸ジ−2−エチルヘキシルの代わりに、マロン酸ジヘキシルを用いた以外は合成例1と同様にして、淡黄色固体状の標題化合物3を得た(収率73%)。
m.p.:62-63℃
Rf:0.2(80%酢酸エチル/ヘキサン);
IR(KBr, cm-1):2955, 2028, 2854, 1712, 1607, 1518, 1464, 1238, 1200, 1029;
1H-NMR(CDCl3) δ(ppm):8.05(s, 1H, Ar-CH=), 6.97(s, 1H, Ar-H), 6.46(s, 1H, Ar-H), 4.20-4.12(t, 4H, 2X-OCH2-), 3.91, 3.85 and 3.78(s, 9H, 3X-OCH3), 1.66-0.81(m, 22H, 2X-C5H11);
13C-NMR(CDCl3) δ(ppm):176.6, 173.6(2X-COOR), 163.0, 161.5, 151.8, 145.9, 122.2, 120.4(aromatic carbons), 132.1(Ar-CH=), 105.3(=C(COOR1)2), 74.5, 74.2 and 65.1(-OCH3), 40.3, 34.5, 37.2, 34.5, 31.5, 31.4, 22.9(alkyl carbons).
本発明のベンザルマロネート誘導体のジベンゾイルメタン誘導体に対する光安定化効果を、次のようにして調べた。
すなわち、下記表1の組成でW/Oサンスクリーン組成物を常法により調製し、試料液とした。試料液を2mg/cm2で膜上に均一に塗布したサンプルに、太陽光シミュレートした光源サンテストTM(アトラス社)を用いて、40℃で2.5時間280〜800nmの光を照射した。
照射前及び照射後のサンプルをそれぞれ100mLのテトラヒドロフランに浸して紫外線吸収剤を抽出し、ケイ皮酸エステル量をHPLCにて定量した。照射前の量を100%として、照射後の残存率を算出した。
また、試料液3のように、化粧料分野においてUV−B吸収剤として汎用されているパラメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシルを配合すると、4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタンの残存率はやや改善したものの、その効果は低い。
これに対して、本発明のベンザルマロネート誘導体である化合物1を4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタンとともに併用した場合には残存率が飛躍的に向上した(試料液2)。
このように、本発明にかかるベンザルマロネート誘導体は、ジベンゾイルメタン誘導体に対して優れた光安定化効果を発揮し、光照射下におけるジベンゾイルメタン誘導体の持続性を改善することができる。
A.油相
揮発性環状シリコーン 27.0質量%
ジメチコンコポリオール 0.9
二酸化チタン(疎水化処理品) 10.0
酸化亜鉛(疎水化処理品) 10.0
タルク(疎水化処理品) 4.0
フェネチルベンゾエート 10.0
パラメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル 3.0
4−メトキシ−4’−t−ブチルジベンゾイルメタン 1.0
2,4―ビス{〔4−(2−エチルヘキシルオキシ)―2−ヒドロキシ〕フェニル}
−6−(4−メトキシフェニル)1,3,5−トリアジン 1.0
2−エチルヘキシルー2−シアノー3,3−ジフェニルアクリレート 2.0
{2−[4−(ジエチルアミノ)−2−ヒドロキシベンゾイル]安息香酸
ヘキシルエステル 1.0
化合物1 1.0
有機変性モンモリロナイト 0.5
防腐剤 適 量
香料 適 量
B.水相
2−フェニルベンズイミダゾールー5−スルホン酸 2.0
ジプロピレングリコール 7.0
トリエタノールアミン 1.1
精製水 残 余
油相部と水相部をそれぞれ混合し溶解させる。油相部は二酸化チタンの分散を十分に行い、これに水相部を加え、ホモジナイザーを用いて乳化した。
得られたサンスクリーン乳液は、非常に高い光安定性を有していた。
ジメチルポリシロキサン 1質量%
デカメチルシクロペンタシロキサン 25
トリメチルシロキシケイ酸 5
ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共重合体 1
ラウリルPEG−9ポリジメチルシロキシエチルジメチコン 1
イソノナン酸イソノニル 5
ジプロピレングリコール 5
グリチルリチン酸ジカリウム 0.02
グルタチオン 1
チオタウリン 0.05
クララエキス 1
パラベン 適量
フェノキシエタノール 適量
パラメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル 3
ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト 0.5
球状ポリアクリル酸アルキル粉体 5
ブチルエチルプロパンジオール 0.5
2,4,6−トリス[p−(2’−エチルヘキシル−1’−
オキシカルボニル)アニリノ]1,3,5−トリアジン 1
ヒドロキシ−エチルヘキシルフェノキシベンゾトリアゾール 1
4−メトキシ−4’−t−ブチルジベンゾイルメタン 1
2,4−ビス{〔4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ〕フェニル}
−6−(4−メトキシフェニル)1,3,5−トリアジン 2
2−エチルヘキシルー2−シアノー3,3−ジフェニルアクリレート 2
{2−[4−(ジエチルアミノ)−2−ヒドロキシベンゾイル]
安息香酸ヘキシルエステル 1
2−フェニルベンズイミダゾール−5−スルホン酸 1
化合物1 3
水酸化ナトリウム 0.15
アルキル−アリール1,3−プロパンジオンシリコーン 5
フェネチルベンゾエート誘導体 5
疎水化処理酸化亜鉛または疎水処理酸化チタン 15
精製水 残余
油相に水相を徐々に添加し添加終了後、攪拌機を用いて乳化粒子が均一になるように調製した。
得られた日焼け止め化粧料は、非常に高い光安定性を有していた。
A.油相
ステアリン酸 10.0質量%
ステアリルアルコール 4.0
ステアリン酸ブチル 8.0
ステアリン酸モノグリセリンエステル 2.0
ビタミンEアセテート 0.5
ビタミンAパルミテート 0.1
フェネチルベンゾエート 5.0
4−メトキシ−4’−t−ブチルジベンゾイルメタン 2.0
2,4−ビス{〔4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ〕フェニル}
−6−(4−メトキシフェニル)1,3,5−トリアジン 3.0
2−エチルヘキシルー2−シアノー3,3−ジフェニルアクリレート 3.0
パラメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル 3.0
化合物1 3.0
マカデミアナッツ油 1.0
茶実油 3.0
香料 0.4
防腐剤 適 量
B.水相
グリセリン 4.0
1,2ペンタンジオール 3.0
ヒアルロン酸ナトリウム 1.0
水酸化カリウム 2.0
アスコルビン酸リン酸マグネシウム 0.1
L−アルギニン塩酸塩 0.01
エデト酸三ナトリウム 0.05
精製水 残 余
Aの油相部とBの水相部をそれぞれ70℃に加熱し完全溶解する。A相をB相に加えて、乳化機で乳化する。乳化物を熱交換機を用いて冷却してクリームを得た。
得られたサンスクリーンクリームは、非常に高い光安定性を有していた。
A.油相
セタノール 4.0重量%
ワセリン 7.0
イソプロピルミリステート 8.0
スクワラン 10.0
オクチルトリアゾン 2.0
化合物1 1.0
パラメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル 1.0
2−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレート 0.5
ブチルメトキシジベンゾイルメタン 2.0
ステアリン酸モノグリセリンエステル 2.2
POE(20)ソルビタンモノステアレート 2.8
フェネチルベンゾエート 5.0
ビタミンEニコチネート 2.0
香料 0.3
酸化防止剤 適 量
防腐剤 適 量
B.水相
グリセリン 10.0
ヒアルロン酸ナトリウム 0.02
ジプロピレングリコール 4.0
ピロリドンカルボン酸ナトリウム 1.0
エデト酸二ナトリウム 0.01
精製水 残 余
油相部と水相部をそれぞれ混合溶解させる。油相部に水相部を加え、ホモジナイザーを用い乳化して、クリームを得た。
得られたクリームは、非常に高い光安定性を有していた。また、なめらかさに優れ、べたつき感がなく、且つ保湿効果が持続した。
A.油相
セタノール 3.5 質量%
脱臭ラノリン 4.0
ホホバ油 5.0
ワセリン 2.0
スクワラン 6.0
ステアリン酸モノグリセリンエステル 2.5
POE(60)硬化ヒマシ油 1.5
POE(20)セチルエーテル 1.0
フェネチルベンゾエート 2.0
3,4,5−トリメトキシケイ皮酸3−メチル−4−
[メチルビス(トリメチルシロキシ)シリル]ブチル 0.1
2,4−ビス{〔4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ〕フェニル}
−6−(4−メトキシフェニル)1,3,5−トリアジン 0.5
4−tert−ブチル−4‘−メトキシジベンゾイルメタン 1.0
2−エチルヘキシルー2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレート 0.5
化合物1 2.5
ピリドキシントリパルミテート 0.1
防腐剤 適 量
香料 0.3
B.水相
プロピレングリコール 10.0
調合粉末 12.0
エデト酸二ナトリウム 1.0
精製水 残 余
配合例4に準じてファンデーションを得た。得られたファンデーションは、非常に高い光安定性を有していた。
ポリオキシエチレン硬化ひまし油 1 質量%
ジメチコンコポリオール 0.5
デカメチルシクロペンタシロキサン 15
イソステアリン酸 0.5
フェニルトリメチコン 1
疎水化処理酸化チタン 5
2,4,6−トリス[p−(2’−エチルヘキシル−1’−
オキシカルボニル)アニリノ]1,3,5−トリアジン 3
パラメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル 5
アルキル−アリール1,3−プロパンジオンシリコーン誘導体 5
4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン 2
化合物1 2
シリカ 1
クエン酸 0.01
クエン酸ナトリウム 0.09
パラベン 適 量
フェノキシエタノール 適 量
エタノール 5
グリセリン 1
サクシノグルカン 0.2
セルロースガム 1
フェネチルベンゾエート 5
イオン交換水 残 余
常法に従って、日焼け止め化粧料を得た。得られた日焼け止め化粧料は、非常に高い光安定性を有していた。
Claims (6)
- 請求項1記載の組成物において、R2、R3及びR4がメチル基であることを特徴とする皮膚用又は毛髪用組成物。
- 請求項1又は2記載の組成物において、R1が2−エチルヘキシル基であることを特徴とする皮膚用又は毛髪用組成物。
- 請求項1〜3の何れかに記載の組成物において、ベンザルマロネート誘導体が組成物中0.1質量%以上であることを特徴とする皮膚用又は毛髪用組成物。
- 請求項1〜4の何れかに記載の組成物において、ジベンゾイルメタン誘導体が4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタンであることを特徴とする皮膚用又は毛髪用組成物。
- 請求項1〜5の何れかに記載の組成物において、ジベンゾイルメタン誘導体が組成物中0.01〜10質量%であることを特徴とする皮膚用又は毛髪用組成物。
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