JP2007258681A - 半導体処理の真空チャンバシステム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】真空チャンバシステムは、少なくとも2つの排気可能な真空チャンバ1a、1bと、移送手段4と、を備えている。2つの真空チャンバは、処理する半導体素子を収容し、真空チャンバ開口部2a、2bおよび真空チャンバシール面3a、3bを備えている。移送手段は、一方の真空チャンバを、他方の真空チャンバに対して移動させ、そのチャンバに真空気密でドッキングさせる。真空チャンバの少なくとも1つが、支持手段を備え、排気しドッキングした状態で支持する。支持手段は、2つの支持素子71、72の形式で、真空チャンバ開口部の側面に配置している。支持素子は、互いに動作接続部を備え、相互に力および変位バランスを備えている。この結果、ドッキング状態で、ミスアライメントによる相対する真空チャンバシール面の平行でない位置付けが、支持の際に補正される。
【選択図】図2
Description
Claims (16)
- 半導体処理の真空チャンバシステムが、
処理する半導体素子(5)を収容する少なくとも2つの排気可能な真空チャンバ(1a、1b)と、
該各真空チャンバは、
該半導体素子(5)を該真空チャンバ(1a、1b)に移送出入させる真空チャンバ開口部(2a、2b)と、
開口部中心軸(aa、ab)と、
該真空チャンバ開口部(2a、2b)を取り囲む真空チャンバシール面(3a、3b)とを備え、
移送手段(4)と、を備え、
該移送手段(4)で、
一方の真空チャンバ(1a)を、他方の真空チャンバ(1b)に対して移動させ、
該他方の真空チャンバ(1b)に、シール手段(14)で真空気密にドッキングさせ、
該真空チャンバシール面(3a、3b)を、ほぼ平行(ミスアライメントになり得る)に相対する位置にさせ、
該半導体素子(5)を、該一方の真空チャンバ(1a)から該他方の真空チャンバ(1b)に(逆も同様)、コンベヤ装置(6)で移送させ、
少なくとも一方の真空チャンバ(1a、1b)が、支持手段を備え、該支持手段が、排気したドッキング状態で、該一方の真空チャンバ(1a)を該他方の真空チャンバ(1b)上で、該開口部中心軸(aa、ab)にほぼ平行の方向に支持し、
該支持手段が、少なくとも2つの支持素子(71、72;81、82)の形式で、
2つの該支持素子は、
該真空チャンバ開口部(2a、2b)の相対する側面に配置し、
該開口部中心軸(aa、ab)にほぼ平行に調整可能で、
互いに動作接続部(9、10、11)を備え、
相互に力および変位バランスを備え、バランス中心(Z)が、ほぼ該開口部中心軸(aa、bb)に位置し、
ドッキング状態で、該支持素子(71、72;81、82)は、該開口部中心軸(aa)にほぼ垂直な2つの回転自由度(Gx、Gy)を、2つの該真空チャンバ(1a、1b)に相互に与え、ミスアライメントで発生し得る該真空チャンバシール面(3a、3b)の平行でない相対する位置を、支持の際に補正する、ことを特徴とする真空チャンバシステム。 - 前記支持素子(71、72;81、82)が互いに前記動作接続部を備え、ドッキングの際に、一方の前記支持素子(71、81)の調整が、他方の前記支持素子(72、82)を反対方向で、ほぼ前記開口部中心軸aaに平行な等距離調整となり、ドッキング状態で、前記開口部中心軸(aa)および2つの前記支持素子(71、72;81、82)の接続軸(x)に垂直な回転軸を備えた前記回転自由度(Gy)が生ずる、ことを特徴とする請求項1記載の真空チャンバシステム。
- 前記支持素子は、2つの前記支持素子(71、72;81、82)の前記接続軸(x)に対して回転可能に設計され、ドッキング状態で、前記開口部中心軸(aa)に垂直そして2つの前記支持素子(71、72;81、82)の前記接続軸(x)に平行(特に、同一直線上)の1つの前記回転自由度(Gx)が形成される、ことを特徴とする請求項1または2記載の真空チャンバシステム。
- 前記真空チャンバ開口部(2a、2b)は、同等でない側面の矩形断面を備え、それぞれ支持点を形成する2つの前記支持素子(71、72;81、82)を、前記一方の真空チャンバ(1a)に設け、前記真空チャンバ開口部(2a)の狭い方の側面の縁部中央に配置し、前記開口部中心軸(aa)に対してほぼ対称である、ことを特徴とする請求項1〜3の何れか1項記載の真空チャンバシステム。
- 前記支持素子(71、72)が、互いに機械的な前記動作接続部(9、10)を備えている、ことを特徴とする請求項1〜4の何れか1項記載の真空チャンバシステム。
- 機械的な前記動作接続部が、ケーブルウィンチ(9)の形式で、前記真空チャンバ開口部(2a)の周りで案内されている、ことを特徴とする請求項5記載の真空チャンバシステム。
- 機械的な前記動作接続部が、ロッド機構(10)の形式で、ジョイント部(12)を介して接続され、前記真空チャンバ開口部(2a)の周りで案内されている、ことを特徴とする請求項5記載の真空チャンバシステム。
- 前記支持素子が、それぞれジョイントユニット(71、72)の形式で、そのジョイントユニットが、前記開口部中心軸(aa)にほぼ平行に作用する力(F)を、前記真空チャンバ開口部の周方向に偏向する、ことを特徴とする請求項5〜7の何れか1項記載の真空チャンバシステム。
- 前記支持素子(81、82)が、互いに液圧動作接続部(11)を備えている、ことを特徴とする請求項1〜4の何れか1項記載の真空チャンバシステム。
- 前記支持素子の各々が、単動式の液圧シリンダ(81、82)である、ことを特徴とする請求項9記載の真空チャンバシステム。
- 前記移送手段(4)が、前記一方の真空チャンバ(1a)を、前記他方の真空チャンバ(1b)に対して、前記開口部中心軸(aa)に垂直な方向(w)で直線移動させる、ことを特徴とする請求項1〜10の何れか1項記載の真空チャンバシステム。
- 前記シール手段(14)が、少なくとも1つのシールキャリヤーリング(19)の形式で、該シールキャリヤーリングを前記一方の真空チャンバシール面(3a)上にベアリング素子(20)で取り付け、前記開口部中心軸(aa)にほぼ平行に移動可能で、前記一方の真空チャンバシール面(3a)に対して傾斜可能にし、ドッキング状態で、前記一方の真空チャンバシール面(3a)と前記他方の真空チャンバシール面(3b)の間に存在し、
該シール手段(14)が、
少なくとも1つの補正シール素子(21)と、
該補正シール素子を、前記一方の真空チャンバ(1a)、特に前記一方の真空チャンバシール面(3a)と該シールキャリヤーリング(19)の間に配置し、前記一方の真空チャンバシール面(3a)に対する該シールキャリヤーリング(19)の変位およひ傾斜に対して、真空気密の接触が維持され、
少なくとも1つの正面シール素子(22)と、を備え、
該正面シール素子(22)は、端面を密封し、前記他方の真空チャンバシール面(3b)の方向に向き、該シールキャリヤーリング(19)と前記他方の真空チャンバシール面(3b)の間に接触を形成し、ドッキング状態で真空気密にし、
互いに相対する前記真空チャンバシール面(3a、3b)がミスアライメントで起こり得る平行でない位置付けが、密封の際に補正される、ことを特徴とする請求項1〜11の何れか1項記載の真空チャンバシステム。 - 前記シールキャリヤーリング(19)が、前記一方の真空チャンバシール面(3a)を少なくとも部分的に取り囲み、または、前記一方の真空チャンバシール面(3a)が、前記シールキャリヤーリング(19)を少なくとも部分的に取り囲み、
前記補正シール素子が、半径方向に作用するシールリング(211)の形式で、該シールリング(211)を、前記一方の真空チャンバ(1a)の取り囲まれた又は取り囲む領域と前記シールキャリヤーリング(19)との間に配置し、前記開口部中心軸(aa)にほぼ平行な変位および前記一方の真空チャンバシール面(3a)に傾斜可能である、ことを特徴とする請求項12記載の真空チャンバシステム。 - 前記補正シール素子が、軸方向に作用する前記弾性シールリング(21)の形式で、前記シールリング(21)は、傾斜に対し真空気密の補正を与え、前記一方の真空チャンバシール面(3a)と前記シールキャリヤーリング(19)の間に軸方向に設けている、ことを特徴とする請求項12記載の真空チャンバシステム。
- 半導体処理の真空チャンバシステムが、
排気可能な少なくとも1つの第1および少なくとも1つの第2プロセスチャンバ(1b、1c)と、
該各プロセスチャンバは、
該プロセスチャンバ内の半導体素子(5)を処理する少なくとも1つの処理装置(13)と、
該半導体素子(5)を該プロセスチャンバ(2b)へ移送出入させるプロセスチャンバ開口部(2b)と、
該プロセスチャンバ開口部(2b)を取り囲むプロセスチャンバシール面(3b)と、を備え、
移送手段(4)と、
排気可能なトランスファチャンバ(1a)と、
該トランスファチャンバは、該移送手段(4)で該プロセスチャンバ(1b、1c)に対して移動可能で、何れか1つの該プロセスチャンバ(1b、1c)と真空気密にドッキング可能で、該第1および第2プロセスチャンバ(1b,1c)の間の該半導体素子(5)の移送を意図し、
排気可能な該トランスファチャンバ(1a)は、
トランスファチャンバ開口部(2a)と、
該トランスファチャンバ開口部(2a)は、該プロセスチャンバ開口部(2b)とドッキング可能で、その該開口部(2a)から該半導体素子(5)を該トランスファチャンバ(1a)からドッキングさせた該プロセスチャンバ(1b)に、逆も同様、コンベヤ装置(6)で移送可能で、
トランスファチャンバシール面(3a)と、
該トランスファチャンバシール面(3a)は、該トランスファチャンバ開口部(2a)を取り囲み、ドッキングで該プロセスチャンバシール面(3b)に対向するほぼ平行なミスアライメントが起こり得る位置に持ち寄り、該トランスファチャンバシール面(3a)と該プロセスチャンバシール面(3b)の間に真空気密の接触を、シール手段(14)で形成し、
支持手段と、を備え、
該支持手段は、少なくとも該トランスファチャンバ(1a)、該第1プロセスチャンバ(1b)、または該第2プロセスチャンバ(1c)上に有り、
該支持手段は、該トランスファチャンバ(1a)を、該開口部中心軸(aa、ab)にほぼ平行に、該第1または該第2プロセスチャンバ(1b、1c)上で、排気ドッキング状態で支持し、
該支持手段は、少なくとも2つの支持素子(71、72;81、82)の形式で、
該2つの支持素子は、
該トランスファチャンバ開口部(2a)または該プロセスチャンバ開口部(2b)の相対する側面に設け、
該開口部中心軸(aa、ab)にほぼ平行に調整可能で、
互いに動作接続部(9、10、11)を備え、
互いに力および変位バランスを備え、バランス中心(Z)は、該トランスファチャンバ開口部(2a)および該プロセスチャンバ開口部(2b)の該開口部中心軸(aa、ab)上にほぼ位置し、
ドッキング状態で、該トランスファチャンバシール面(3a)と該プロセスチャンバシール面(3b)のミスアライメントで発生し得る平行でない相対する位置を、支持の際に補正する、ことを特徴とする真空チャンバシステム。 - 前記第1プロセスチャンバ(1b)および前記第2プロセスチャンバ(1c)を、中心軸(ab、ac)を平行にして並べ、前記移送手段(4)が、前記プロセスチャンバ(1b,1c)に対して、前記開口部中心軸(aa、ab、ac)にほぼ垂直の方向に、前記トランスファチャンバ(1a)を直線に移動させる、ことを特徴とする請求項15記載の真空チャンバシステム。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH1112006 | 2006-01-24 | ||
CH00111/06 | 2006-01-24 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007258681A true JP2007258681A (ja) | 2007-10-04 |
JP5078374B2 JP5078374B2 (ja) | 2012-11-21 |
Family
ID=36910837
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007013689A Expired - Fee Related JP5078374B2 (ja) | 2006-01-24 | 2007-01-24 | 半導体処理の真空チャンバシステム |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8097084B2 (ja) |
JP (1) | JP5078374B2 (ja) |
KR (1) | KR101289717B1 (ja) |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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