JP2007258600A - 面発光レーザ素子および面発光レーザ素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明にかかる面発光レーザ素子1は、基板2上に積層された活性層6と、外部から注入された電流を狭窄して活性層6に供給する電流狭窄層3aと、基板2と活性層6との間に積層される下部多層膜反射層3と、活性層6上に形成された上部多層膜反射鏡8とを備え、活性層6中の発光領域を囲む環状溝21を設けて少なくとも上部多層膜反射鏡8を含むメサポストMP1を形成する面発光レーザ素子において、環状溝21の外側に少なくとも電流狭窄層3aに対応する半導体層に達する深さの断面を有する環状溝22が形成されることを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
まず、本発明の実施の形態1にかかる面発光レーザ素子について説明する。図1は、本実施の形態1にかかる面発光レーザ素子の構成を示す断面図である。図1に示すように、実施の形態1にかかる面発光レーザ素子1は、p−GaAsである基板2上に、順に、下部多層膜反射鏡3と、下部クラッド層5と、多重量子井戸構造の活性層6と、上部クラッド層7と、上部多層膜反射鏡8とが積層された構造を有する。この面発光レーザ素子1は、活性層6中の発光領域を囲む環状溝21を設けることによって、下部多層膜反射鏡3の上端部から上の積層部を含む切頭円錐状のメサポストMP1が形成されている。また、面発光レーザ素子1には、環状溝21の外側に環状溝21とは別個の環状溝22が形成されている。
つぎに、実施の形態2にかかる面発光レーザ素子について説明する。図5は、実施の形態2にかかる面発光レーザ素子を上方から見た平面図である。実施の形態2にかかる面発光レーザ素子は、図5に示すように、図2に示す環状溝22に代えて、環状溝21の外側に位置し、発光領域のほぼ中央を中心とする同心円上に複数の孔22bを備える。孔22bは、電流狭窄層3aに対応するAlAs層の少なくとも一部に達する深さを有し、電流狭窄層3aに対応するAlAs層に達する深さの断面を形成する。実施の形態2にかかる面発光レーザ素子は、図5のx−x線で切断した場合、図1に示す面発光レーザ素子1とほぼ同様の断面構造を有する。
つぎに、実施の形態3について説明する。図6は、本実施の形態3にかかる面発光レーザ素子の構成を示す断面図である。図6に示すように、実施の形態3にかかる面発光レーザ素子31は、実施の形態1と異なり、n―GaAsである基板32上にn−Al0.9Ga0.1As/n−Al0.2Ga0.8Asを1ペアとして複数ペア積層した下部多層膜反射鏡33、n−Al0.3Ga0.7Asによって形成された下部クラッド層35、p−Al0.3Ga0.7Asによって形成された上部クラッド層37、p−Al0.9Ga0.1As/p−Al0.2Ga0.8Asを1ペアとして複数ペア積層した上部多層膜反射鏡38を有する。そして、上部多層膜反射鏡38の上部には電極パッド12に接続されたp側電極40が形成され、p側電極40に対向する基板32裏面にはn側電極41が形成されている。
つぎに、実施の形態4にかかる面発光レーザ素子について説明する。図7は、本実施の形態4にかかる面発光レーザ素子の構成を示す断面図である。図7に示すように、本実施の形態4にかかる面発光レーザ素子51は、半絶縁性のGaAs基板である基板52を使用している。
2,32,52,102 基板
3,33,53,103 下部多層膜反射鏡
3a,38a,108a 電流狭窄層
3b,38b,108b 酸化領域
3c,38c,108c 電流注入領域
3d AlAs層
5,35,105 下部クラッド層
6,106 活性層
7,37,107 上部クラッド層
8,38,108 上部多層膜反射鏡
9 絶縁層
10,41,111 n側電極
11,40,61,110 p側電極
12,112 電極パッド
21,21a,21c,21d 環状溝
22,22a,22c,22d 環状溝
22b 孔
109 ポリイミド層
DL 転位
EA 発光領域
L レーザ光
MP1,MP3,MP4,MP5 メサポスト
Claims (11)
- 基板上に形成された活性層と、外部から注入された電流を狭窄して前記活性層に供給する電流狭窄層と、前記基板と前記活性層との間に形成された下部反射層と、前記活性層上に形成された上部反射鏡とを備え、前記活性層中の発光領域を囲む溝を設けて少なくとも前記上部反射鏡を含むメサポストが形成される面発光レーザ素子において、
前記溝の外側に、前記電流狭窄層に対応する半導体層に達する深さの断面が形成されることを特徴とする面発光レーザ素子。 - 前記断面は、前記溝が設けられる前に形成されることを特徴とする請求項1に記載の面発光レーザ素子。
- 前記電流狭窄層は、前記断面形成後の酸化処理において、前記断面を介して前記電流狭窄層に対応する半導体層の一部領域が酸化されることによって形成されることを特徴とする請求項1または2に記載の面発光レーザ素子。
- 前記溝は、前記酸化処理が行われた後に形成されることを特徴とする請求項3に記載の面発光レーザ素子。
- 前記断面は、前記電流狭窄層に対応する半導体層に達する深さの孔を設けて形成されることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の面発光レーザ素子。
- 前記孔は、同心円上に複数設けられることを特徴とする請求項5に記載の面発光レーザ素子。
- 前記断面は、前記電流狭窄層に対応する半導体層に達する深さの他の溝を設けて形成されることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の面発光レーザ素子。
- 前記溝は、前記活性層を分断する深さを有することを特徴とする請求項1〜7のいずれか一つに記載の面発光レーザ素子。
- 前記電流狭窄層に対応する半導体層は、前記上部反射鏡内の所定の半導体層、前記上部反射鏡に隣接する所定の半導体層、前記下部反射鏡内の所定の半導体層、または、前記下部反射鏡に隣接する所定の半導体層であることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一つに記載の面発光レーザ素子。
- 前記上部反射鏡および前記下部反射鏡は、AlGaAs系半導体層を含むことを特徴とする請求項1〜9のいずれか一つに記載の面発光レーザ素子。
- 基板上に下部反射層と活性層と電流狭窄層に対応する半導体層と上部反射鏡とを積層して半導体積層体を形成する積層工程と、
前記半導体積層体に対し、前記電流狭窄層に対応する半導体層に達する深さの断面を形成する断面形成工程と、
前記断面を介して前記電流狭窄層に対応する半導体層の一部領域を酸化する酸化工程と、
前記酸化工程後に前記断面の内側に前記活性層中の発光領域を囲む溝を設けて少なくとも前記上部反射鏡を含むメサポストを形成するメサポスト形成工程と、
を含むことを特徴とする面発光レーザ素子の製造方法。
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