JP2007245560A - スクリーンマスク - Google Patents
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Abstract
【解決手段】スクリーンマスク1では、アルミニウムからなる金属枠2に、テトロンメッシュ3とステンレスメッシュ4とが張られ、これらは接着部5で接着されている。テトロンメッシュ3にはその中央部に切り欠き部6が設けられ、この切り欠き部6を覆うように、その上方にステンレスメッシュ4が配置されている。ステンレスメッシュ4上にサスペンドメタルマスク7または樹脂層20が形成されており、サスペンドメタルマスク7に複数の中ブロック孔8が設けられ、中ブロック孔8にはエマルジョンレジスト9が塗布されている。1つの中ブロック孔8には数列の小ブロック10が形成され、エマルジョンレジスト9にパターニングがなされて、所定の微細画像パターンが形成される。
【選択図】図1
Description
スクリーンマスクはその用途に応じて材質の異なるマスクが使用されている。このうち、微細画像形成部をエマルジョンマスクで構成したスクリーンマスクの一例が、特許文献1に記載されている。エマルジョンマスクで構成すると、径が0.1mm程の微細な浮島を形成しやすく、製造工数を低減できるが、印刷耐久性が劣り、微細パターンの印刷ずれが起きやすいという欠点がある。一方、微細画像形成部をサスペンドメタルマスクで構成したスクリーンマスクの一例が、特許文献2に記載されている。サスペンドメタルマスクで構成すると、印刷耐久性に優れ、微細パターンの印刷ずれが起きにくいが、微細な浮島を形成しにくく、製造工数が増えるという欠点がある。
サスペンドメタルマスクの印刷面側にエマルジョンが塗布されていることにより、被印刷物との接触が軟らかくなり、印刷時のにじみを防止でき、印刷ペーストの版離れが向上する。
図1に、本発明の実施形態に係るスクリーンマスクの構成を示す。図1(a)はスクリーンマスクの平面図、同図(c)は(a)のA−A断面図、同図(b)は(c)の一部詳細図である。
図2(a)に示すスクリーンマスクでは、アルミニウムからなる金属枠2に、テトロンメッシュ3とステンレスメッシュ4とが張られ、これらを接着部5で接着しており、ステンレスメッシュ4上に4つの中ブロック領域8aが形成され、これにエマルジョンレジスト9が塗布されている。
図3(a)では、横糸4aと縦糸4bとからなるステンレスメッシュ4上に、予め中ブロックパターンが作成されたメタルマスク11を形成しており、ステンレスメッシュ4とメタルマスク11とをニッケルメッキ14によって接合する。メタルマスク11に複数の中ブロック孔8を設け、中ブロック孔8の小ブロックパターン生成予定部にエマルジョンレジスト9を塗布する。その後、エマルジョンレジスト9に小ブロックパターンを焼き付け、現像してパターン形成が完了する。
あるいは、中ブロックパターンを作成せずにめっき層12を電鋳にて形成してもよい。この場合には、めっき層12に対してエッチング加工により中ブロックパターンを作成した後、小ブロックパターン生成予定部にエマルジョンレジスト9を塗布し、エマルジョンレジスト9に小ブロックパターンを焼き付け、現像してパターン形成が完了する。
2 金属枠
3 テトロンメッシュ
4 ステンレスメッシュ
4a 横糸
4b 縦糸
5 接着部
6 切り欠き部
7 サスペンドメタルマスク
8 中ブロック孔
8a 中ブロック領域
9 エマルジョンレジスト
10 小ブロック
11 メタルマスク
12 めっき層
13 エマルジョン
14 ニッケルメッキ
20 樹脂層
Claims (3)
- 金属枠にテトロンメッシュとステンレスメッシュとが張られ、ステンレスメッシュ上にサスペンドメタルマスクが形成されたスクリーンマスクであって、複数の中ブロック孔がその周囲をサスペンドメタルマスクで囲まれるように設けられ、前記中ブロック孔にはエマルジョンレジストが塗布されて数列の小ブロックが形成されていることを特徴とするスクリーンマスク。
- 前記サスペンドメタルマスクの印刷面側にエマルジョンが塗布されていることを特徴とする請求項1記載のスクリーンマスク。
- 金属枠にテトロンメッシュとステンレスメッシュとが張られ、ステンレスメッシュ上にパターニング可能な樹脂層が形成されたスクリーンマスクであって、複数の中ブロック孔がその周囲を樹脂層で囲まれるように設けられ、前記中ブロック孔にはエマルジョンレジストが塗布されて数列の小ブロックが形成され、エマルジョンレジストより高い硬度の樹脂によって前記樹脂層が形成されていることを特徴とするスクリーンマスク。
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