JP2007217752A - エッチング装置 - Google Patents

Abstract

【課題】ガラス基板の搬送時の損傷を防止できるエッチング装置を提供する。
【解決手段】第１の処理槽６および第２の処理槽７によるガラス基板３上の薄膜２のエッチング処理が所定数となる度に、第１の処理槽６および第２の処理槽７の搬送口８に純水シャワーノズル21から純水Ｗを散布する。搬送口８に付着したエッチング液Ｅや生成物を除去できる。搬送口８へのエッチング液Ｌの付着量を軽減でき、搬送口８での生成物の成長を抑制できる。搬送口８を通過するときに、搬送口８に付着して成長した生成物とガラス基板３との接触を防止でき、ガラス基板３の損傷を防止できる。
【選択図】図１

Description

本発明は、基板上の膜にエッチング液を吹き付けるエッチング装置に関する。

従来、液晶表示ディスプレイなどの製造に際し、ガラス基板上に成膜された薄膜を除去する方法としては、エッチング液をガラス基板上の薄膜に吹き付けて、この薄膜をエッチングするエッチング処理部を備えた基板処理装置が知られている。

そして、このエッチング処理部の搬送上流側の一側面には、このエッチング処理部内へとガラス基板を搬入させる搬入側開口が設けられている。また、このエッチング処理部の搬送下流側の一側面には、このエッチング処理部内へと搬送されたガラス基板を搬出させる搬出側開口が設けられている。

さらに、このエッチング処理部の後段には、このエッチング処理部にてガラス基板上の薄膜をエッチングした後に、このガラス基板の表面に純水を吹き付けて、このガラス基板の表面に付着しているエッチング液を除去する水洗処理部が設置された構成が知られている(例えば、特許文献１参照。)
特開２００４−３６００００号公報

上述したように、上記基板処理装置では、エッチング処理部内でガラス基板上の薄膜にエッチング液を吹き付ける際に、このエッチング液がエッチング処理部内に付着してしまう。そして、このエッチング処理部内に付着したエッチング液は、乾燥すると結晶化して結晶化物となり、この結晶化物がエッチング処理部内に形成されてしまう。

特に、このエッチング処理部の搬入側開口および搬出側開口では、これら搬入側開口および搬出側開口の開口縁に付着したエッチング液が乾燥して結晶化すると、このエッチング液の結晶化物が開口縁につらら状に成長してしまう。

このため、このエッチング処理部へとガラス基板を搬送する際に、このエッチング処理部の搬入側開口および搬出側開口それぞれの開口縁に形成された結晶化物にガラス基板が接触して、このガラス基板が損傷してしまうおそれがあるという問題を有している。

本発明は、このような点に鑑みなされたもので、基板の搬送時の損傷を防止できるエッチング装置を提供することを目的とする。

本発明は、表面に膜が形成された基板が挿通可能な開口部を有し、この開口部を介して前記基板が搬送される処理室と、この処理室内へと搬送された前記基板の表面の前記膜にエッチング液を吹き付けるエッチング液吹付手段と、前記処理室内に付着した前記エッチング処理液を除去する処理液を、前記処理室内の少なくとも前記開口部に吹き付ける処理液吹付手段と、を具備したものである。

本発明によれば、表面に膜が形成された基板が開口部を介して処理室へと搬送され、この処理室内へと搬送された基板の表面の膜にエッチング液がエッチング液吹付手段にて吹き付けられる。この後、処理室内に付着したエッチング液を除去する処理液を、処理室内の少なくとも開口部に処理液吹付手段にて吹き付ける。この結果、この処理室の少なくとも開口部に付着したエッチング液が処理液にて除去される。よって、開口部を介して基板が処理室へと搬送される際に、この基板が開口部に付着したエッチング液の結晶化物などに接触して損傷するおそれが少なくなるので、この基板の搬送時の損傷を防止できる。

以下、本発明のエッチング装置の一実施の形態の構成を図１を参照して説明する。

図１において、１はエッチング装置で、このエッチング装置１は、薬液としての液状のエッチング液Ｅを吹き付けてエッチングする、いわゆるウエットエッチング装置である。具体的に、このエッチング装置１は、表面に酸化膜などの所定の薄膜２が形成されているガラス基板３が搬送され、このガラス基板３上の薄膜２に向けてエッチング液Ｅを吹き付けて、この薄膜２をエッチングしてガラス基板３上から除去する。

ここで、このガラス基板３は、例えば０．５ｍｍ以上０．７ｍｍ以下、好ましくは０．６ｍｍの厚さ寸法を有する矩形平板状に形成されている。また、このガラス基板３は、このガラス基板３の表面に複数の画素がマトリクス状に形成されて図示しないアレイ基板とされる。さらに、このアレイ基板に対向基板が対向して配設され、これらアレイ基板と対向基板との間に液晶層が介在されて液晶表示装置としての図示しない液晶ディスプレイ(ＬＣＤ)とされる。

そして、エッチング装置１は、両端が閉塞した角筒状の処理チャンバとしてのエッチング槽４を備えている。このエッチング槽４は、長手方向を水平方向に向けた状態で設置されており、長手方向の中央部で矩形平板状の仕切壁５にて垂直に分割されて、計２つの第１の処理槽６と第２の処理槽７とに分割形成されている。これら第１の処理槽６および第２の処理槽７は、エッチング槽４の長手方向に向けて連続して配置されており、互いの一側面が仕切壁５を介して連結された処理室である。さらに、これら第１の処理槽６および第２の処理槽７それぞれの長手方向の両側面には、これら第１の処理槽６および第２の処理槽７へとガラス基板３を搬出入させるための開口部としての搬送口８がそれぞれ設けられている。

これら搬送口８は、水平方向に沿った長手方向を有し、例えば１０ｍｍほどの幅寸法を有する細長矩形状に形成されている。すなわち、これら搬送口８は、これら搬送口８にガラス基板３が挿通可能に設けられ、これら搬送口８を通過させてガラス基板３を搬送できる程度の大きさ、すなわちガラス基板３の幅方向の断面形状より大きな形状に形成されている。そして、これら搬送口８のそれぞれは、第１の処理槽６および第２の処理槽７の底面から上方に向けて所定距離離間させた位置に、互いに連通した状態で設けられている。

また、これら第１の処理槽６および第２の処理槽７内には、搬送口８を介してガラス基板３を搬送させる基板搬送手段としてのローラコンベヤ11がそれぞれ設置されている。これらローラコンベヤ11は、第１の処理槽６あるいは第２の処理槽７の搬送上流側に位置する搬送口８からガラス基板３を搬入させて、この搬送口８から搬入させたガラス基板３を第１の処理槽６あるいは第２の処理槽７内へと搬送させてから、このガラス基板３を第１の処理槽６あるいは第２の処理槽７の搬送下流側の搬送口８から搬出させる。

具体的に、これらローラコンベヤ11は、細長円筒状の回転体としての複数のローラ12を備えている。これらローラ12は、これらローラ12それぞれの軸方向を第１の処理槽６あるいは第２の処理槽７の幅方向に沿わせつつ、これらローラ12を第１の処理槽６および第２の処理槽７の長手方向に沿って等間隔に配置させた状態で、これらローラ12それぞれの両端部が、第１の処理槽６および第２の処理槽７の幅方向の両側面に回転可能に固定されて設置されている。

そして、これらローラ12の外周面の上端部をつないだ面がガラス基板３を搬送する際の基板搬送面13となり、この基板搬送面13が水平となるように各ローラ12が第１の処理槽６あるいは第２の処理槽７内に取り付けられている。さらに、これらローラ12は、これらローラ12によって形成される基板搬送面13の高さと、第１の処理槽６あるいは第２の処理槽７の搬送口８の高さ方向の中央部の高さとが水平方向に沿って一致するように設置されている。

また、これら第１の処理槽６および第２の処理槽７内の上方には、これら第１の処理槽６および第２の処理槽７内へと搬送されるガラス基板３の表面上の薄膜２に向けてエッチング液Ｅを吹き付けさせるエッチング液吹付手段としての複数の薬液シャワーノズル14が、これら第１の処理槽６および第２の処理槽７内のそれぞれに、例えば４個ずつ取り付けられている。

具体的に、これら薬液シャワーノズル14は、細長角柱状に形成されており、これら薬液シャワーノズル14の長手方向を第１の処理槽６あるいは第２の処理槽７の長手方向に沿わせた状態で、これら第１の処理槽６あるいは第２の処理槽７の長手方向に向けて等間隔に離間させた位置に並設されている。そして、これら薬液シャワーノズル14は、これら薬液シャワーノズル14からガラス基板３上の薄膜２の表面にエッチング液Ｅを吹き付けて、このエッチング液Ｅにてガラス基板３上の薄膜２をエッチングさせて除去させる。

さらに、これら薬液シャワーノズル14の下面には、吹付部としての図示しない吹付口が、これら薬液シャワーノズル14の長手方向に向けて等間隔に離間された位置に取り付けられている。すなわち、これら薬液シャワーノズル14は、第１の処理槽６あるいは第２の処理槽７内へと搬送されたガラス基板３上の薄膜２全面に向けてエッチング液Ｅを均一に吹き付けて塗布できるように構成されている。さらに、これら薬液シャワーノズル14は、これら薬液シャワーノズル14の各吹付口から噴出されるエッチング液Ｅによる薄膜２に対する反応速度と、ローラコンベヤ11の各ローラ12によるガラス基板３の搬送速度との関係から、ガラス基板３上の薄膜２を溶解させてエッチングさせる。

また、これら第１の処理槽６および第２の処理槽７内には、これら第１の処理槽６および第２の処理槽７内の雰囲気を外気から遮断する雰囲気保持手段としてのエアカーテン16がそれぞれ取り付けられている。これらエアカーテン16は、搬送上流側に位置する第１の処理槽６内の各搬送口８より上側の位置と、搬送下流側に位置する第２の処理槽７の搬送下流側の搬送口８より上側の位置とのそれぞれに取り付けられている。すなわち、これらエアカーテン16は、第１の処理槽６および第２の処理槽７内の搬送口８の上方から下方に向けて空気であるエアを吹き出して、これら各搬送口８からの第１の処理槽６あるいは第２の処理槽７内の雰囲気漏れを遮断して、これら第１の処理槽６あるいは第２の処理槽７内の雰囲気を保持させる。

さらに、これら第１の処理槽６および第２の処理槽７内には、これら第１の処理槽６あるいは第２の処理槽７内へと搬送されたガラス基板３の有無が検知可能な検知手段としての基板検出センサ17が取り付けられている。これら基板検出センサ17は、第１の処理槽６あるいは第２の処理槽７内をガラス基板３が通過したかどうかを判断して、薬液シャワーノズル14の各吹付口からのエッチング液Ｅの吐出を制御させる。

そして、これら基板検出センサ17は、第１の処理槽６内の長手方向に沿って対向した両側面それぞれの下端部と、第２の処理槽７内の搬送下流側に位置する一側面の下端部とのそれぞれに設置されている。そして、これら基板検出センサ17は、エッチング槽４の外側に設置されている制御手段としての制御システム18に電気的に接続されている。

さらに、この制御システム18には、第１の処理槽６あるいは第２の処理槽７内から、これら第１の処理槽６および第２の処理槽７の搬送口８に向けて処理液としての純水Ｗを吹き付けさせる処理液吹付手段としての純水シャワーノズル21が取り付けられている。これら純水シャワーノズル21は、少なくとも第１の処理槽６および第２の処理槽７の搬送口８に向けて純水Ｗを吹き付けできるように、これら搬送口８に対向して設置されている。

言い換えると、これら純水シャワーノズル21は、搬送口８にガラス基板３が挿通されて搬送される際に、このガラス基板３の表面に形成された薄膜２が対向する箇所となる搬送口８の縁に向けてエッチング液Ｅを吹き付ける。具体的に、これら純水シャワーノズル21は、搬送口８にガラス基板３を挿通させる際に、このガラス基板３上の薄膜２が対向する位置、すなわち搬送口８の開口縁のうちの少なくとも上側縁に向けてエッチング液Ｅを吹き付ける。

すなわち、これら純水シャワーノズル21は、第１の処理槽６あるいは第２の処理槽７の搬送口８に付着したエッチング液Ｅや、これら搬送口８に付着して乾燥して生成されたエッチング液Ｅの結晶化物である図示しない生成物を純水Ｗにて洗い流して除去させる。よって、これら純水シャワーノズル21は、生成物が付着する部分である各搬送口８に近接して設置されている。このとき、この生成物は、エッチング液Ｅが付着して乾燥されて生成され、この生成された生成物上へのエッチング液Ｅの付着によって成長して大きくなる。

そして、これら純水シャワーノズル21は、両端が閉塞した細長円柱状に形成されており、これら純水シャワーノズル21の軸方向を第１の処理槽６あるいは第２の処理槽７の幅方向に沿わせた状態で取り付けられている。さらに、これら純水シャワーノズル21は、第１の処理槽６および第２の処理槽７内のローラコンベヤ11の搬送方向Ａの端部に位置するローラ12と搬送口８との間であるともに、このローラコンベヤ11の基板搬送面13より下方に取り付けられている。すなわち、これら純水シャワーノズル21は、ガラス基板３の搬送経路の中でクリアランスが狭い部分、すなわち搬送口８に向けて設置されている。

具体的に、これら純水シャワーノズル21は、第１の処理槽６内の各搬送口８に対向した位置と、第２の処理槽７内の搬送下流側の搬送口８に対向した位置とのそれぞれに設置されている。さらに、これら純水シャワーノズル21それぞれの側面部には、吹付部としての吹付口22が、これら純水シャワーノズル21の長手方向に向けて等間隔に離間された位置に取り付けられている。そして、これら吹付口22は、これら吹付口22の先端側を第１の処理槽６および第２の処理槽７の搬送口８に向けた状態で取り付けられている。すなわち、これら吹付口22は、これら吹付口22の先端側が対向する第１の処理槽６および第２の処理槽７の搬送口８全体に向けて純水Ｗを均一に吹き付けできるように構成されている。

そして、これら純水シャワーノズル21は、制御システム18による基板検出センサ17を用いた第１の処理槽６および第２の処理槽７内のガラス基板３の有無の検知情報に基づいて、これら第１の処理槽６あるいは第２の処理槽７内にガラス基板３が無く存在しないときに、これら第１の処理槽６あるいは第２の処理槽７内の純水シャワーノズル21の各吹付口22から自動的に純水Ｗを吐出させて散布し、これら第１の処理槽６あるいは第２の処理槽７の搬送口８に純水Ｗを吹き付けて、これら搬送口８に付着しているエッチング液Ｅや生成物を洗い流して除去させる。

すなわち、この制御システム18は、第１の処理槽６および第２の処理槽７内の純水シャワーノズル21の各吹付口22から純水Ｗを吐出させるタイミングを、これら第１の処理槽６あるいは第２の処理槽７内のローラコンベヤ11の基板搬送面13上にガラス基板３がないときだけに限定させる。さらに、この制御システム18は、複数、例えば３００枚のガラス基板３上の薄膜２をエッチング装置１にてエッチングする度に、このエッチング装置１の第１の処理槽６および第２の処理槽７それぞれの搬送口８に純水シャワーノズル21の各吹付口22から純水Ｗを吹き付けて、これら搬送口８に付着している生成物を洗い流して除去させる。

次に、上記一実施の形態のエッチング装置１によるエッチング方法について説明する。

まず、エッチング装置１のエッチング槽４の第１の処理槽６および第２の処理槽７内それぞれに設置されているローラコンベヤ11それぞれのローラ12を制御システム18にて搬送方向Ａに向けて回転駆動させる。

同時に、これら第１の処理槽６および第２の処理槽７内のエアカーテン16それぞれを制御システム18にて駆動させて、これら第１の処理槽６および第２の処理槽７内の雰囲気を外部から遮断させる。

さらに、この制御システムにて第１の処理槽６および第２の処理槽７内それぞれの薬液シャワーノズル14の各吹付口からエッチング液Ｅを噴出させる。

このとき、これら第１の処理槽６および第２の処理槽７内で噴出されているエッチング液Ｅが飛び散るなどして、これら第１の処理槽６および第２の処理槽７の内壁面や搬送口８などに付着する。

さらに、これら第１の処理槽６および第２の処理槽７それぞれの内壁面や搬送口８などに付着したエッチング液Ｅが乾燥すると結晶化して生成物が生成され、この生成物上にエッチング液Ｅがさらに付着して乾燥して結晶化することによって、この生成物が成長する。

次いで、ガラス基板３の表面に形成されている薄膜２を上側に向けた状態で、このガラス基板３を第１の処理槽６の搬送上流側に位置する搬送口８から搬入させて、第１の処理槽６内のローラコンベヤ11の基板搬送面13上に設置させる。

このとき、この第１の処理槽６内のローラコンベヤ11の各ローラ12それぞれの回転駆動によって、ガラス基板３が搬送下流側に向けて搬送されながら、このガラス基板３上の薄膜２に向けてエッチング液Ｅが吹き付けられて、このガラス基板３上の薄膜２がエッチング液Ｅにてエッチングされる。

そして、この第１の処理槽６内にてエッチングされたガラス基板３は、この第１の処理槽６の搬送下流側の搬送口８を介して第２の処理槽７内へと搬送され、この第２の処理槽７内のローラコンベヤ11の基板搬送面13上に設置される。

このとき、この第２の処理槽７内のローラコンベヤ11にてガラス基板３が搬送下流側に向けて搬送されながら、このガラス基板３上の薄膜２にエッチング液Ｅが吹き付けられて、このガラス基板３上の薄膜２がエッチング液Ｅにてエッチングされて除去される。

さらに、この第２の処理槽７内にてエッチングされたガラス基板３は、この第２の処理槽７の搬送下流側の搬送口８から、この第２の処理槽７の外へと搬出される。

そして、これら第１の処理槽６および第２の処理槽７によるガラス基板３上の薄膜２のエッチングが制御システム18による制御によって連続的に処理されていく。

このとき、これら第１の処理槽６および第２の処理槽７によるガラス基板３上の薄膜２のエッチングが所定数、例えば３００枚のガラス基板３上の薄膜２をエッチング処理する度に、各基板検出センサ17を用いた第１の処理槽６および第２の処理槽７内のガラス基板３の有無の検知情報に基づいて、これら第１の処理槽６あるいは第２の処理槽７内にガラス基板３が無く存在しないときに、これら第１の処理槽６あるいは第２の処理槽７内の純水シャワーノズル21の各吹付口22から純水Ｗを各搬送口８に向けて自動的に吐出させて散布する。

そして、これら第１の処理槽６および第２の処理槽７それぞれの搬送口８への純水Ｗの吹き付けによって、これら搬送口８に付着しているエッチング液Ｅや生成物が洗い流されて除去される。

ここで、これら第１の処理槽６および第２の処理槽７の内壁面や搬送口８にエッチング液Ｅが付着して乾燥すると、このエッチング液Ｅが結晶化して生成物が生成される。そして、この生成物は、この生成物上へのエッチング液Ｅの付着および乾燥による結晶化によって徐々に積み重なって成長してしまう。

特に、これら第１の処理槽６および第２の処理槽７の搬送口８では、これら第１の処理槽６および第２の処理槽７の搬送口８の開口縁に付着したエッチング液Ｅが乾燥して結晶化すると、このエッチング液Ｅの生成物が搬送口８の開口縁の上端縁につらら状に成長するとともに、これら搬送口８の開口縁の下端縁に凸状に成長してしまう。

この結果、この生成物が搬送口８の開口縁より内側に突出して成長した場合には、ガラス基板３が第１の処理槽６および第２の処理槽７の搬送口８を通過するときに、この搬送口８の開口縁に付着して成長した生成物にガラス基板３が接触してしまい、このガラス基板３が損傷してしまうおそれがある。

また、エッチング装置１のように第１の処理槽６および第２の処理槽７内のローラコンベヤ11で複数のガラス基板３を連続的に搬送しながら、これらガラス基板３を連続的にエッチングさせている場合には、これら第１の処理槽６および第２の処理槽７それぞれの内部の生成物の異常付着状態の発見が容易ではない。

そこで、上述した一実施の形態のように、これら第１の処理槽６および第２の処理槽７によるガラス基板３上の薄膜２のエッチングが所定数、例えば３００枚のガラス基板３上の薄膜２をエッチング処理する度に、これら第１の処理槽６あるいは第２の処理槽７内の純水シャワーノズル21の各吹付口22から純水Ｗを各搬送口８に向けて散布する構成とした。

この結果、これら第１の処理槽６および第２の処理槽７それぞれの搬送口８への純水Ｗの吹き付けによって、これら搬送口８に付着しているエッチング液Ｅや生成物を洗い流して除去できる。したがって、これら搬送口８へのエッチング液Ｌの付着量を軽減できるので、これら搬送口８での生成物の成長を抑制できる。よって、第１の処理槽６および第２の処理槽７の搬送口８を通過するときに、これら搬送口８の開口縁に成長したつらら状の生成物とガラス基板３との接触を防止できるから、この搬送口８を通過するときの生成物とガラス基板３との接触による、このガラス基板３の損傷を防止できる。

このとき、第１の処理槽６および第２の処理槽７の搬送口８は、これら第１の処理槽６および第２の処理槽７内の雰囲気を外部から遮断させるために、幅寸法をできるだけ小さくすることが望ましい。また、これら搬送口８の上端縁や下端縁にエッチング液Ｅが付着すると、このエッチング液Ｅが結晶化して下方に向けて垂れ下がったつらら状の生成物や上方に向けて突出した凸状の生成物が形成されて、これら生成物が搬送口８の開口縁より内側に突出した状態となりやすい。

このため、これら搬送口８の幅寸法を小さくした場合には、この搬送口８にガラス基板３を通過させる際に、この搬送口８の上端縁あるいは下端縁から突出しているエッチング液Ｅの生成物にガラス基板３が接触してスクラッチされて損傷される可能性が大きくなる。

さらに、各基板検出センサ17を用いた第１の処理槽６および第２の処理槽７内のガラス基板３の有無の検知情報に基づいて、これら第１の処理槽６あるいは第２の処理槽７内にガラス基板３が存在しないときに、これら第１の処理槽６あるいは第２の処理槽７内の純水シャワーノズル21から純水Ｗを各搬送口８に自動的に吹き付けて散布する構成とした。

この結果、これら第１の処理槽６あるいは第２の処理槽７内の純水Ｗによる洗浄作業が自動的になるので、エッチング装置１を定期的に停止および開放して第１の処理槽６あるいは第２の処理槽７内を、図示しないハンドシャワーなどにて純水Ｗを手作業で吹き付けるなどするメンテナンス作業を不要にできる。したがって、このエッチング装置１によるガラス基板３上の薄膜２のエッチング工程でのメンテナンス作業を軽減できる。よって、このエッチング装置１の稼働率の低下を防止できるので、このエッチング装置１によるエッチング工程の作業性を向上できる。

なお、上記一実施の形態では、液晶パネルのアレイ基板となるガラス基板３上の薄膜２のエッチング工程について説明したが、液晶パネルのアレイ基板以外の半導体装置などの基板上の酸化膜あるいは金属膜などの薄膜や、その他のプラズマ表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置などの種々の画像表示装置に用いられる基板上の薄膜のエッチング工程としても対応させて用いることができる。

また、第１の処理槽６および第２の処理槽７内に設置した各基板検出センサ17によるガラス基板３の有無の検知情報に基づいて、これら第１の処理槽６あるいは第２の処理槽７内にガラス基板３が存在しないときに、純水シャワーノズル21から純水Ｗを散布させて第１の処理槽６および第２の処理槽７の搬送口８を洗浄する構成としたが、少なくともガラス基板３に純水Ｗが付着しないときに、これら第１の処理槽６および第２の処理槽７の搬送口８を洗浄すればよい。このため、第１の処理槽６内にガラス基板３が存在しないときに、この第１の処理槽６の搬送口８を純水Ｗにて洗浄し、第２の処理槽７内にガラス基板３が存在しないときに、この第２の処理槽７内の搬送口８を純水Ｗにて洗浄する構成とすることもできる。

さらに、第１の処理槽６および第２の処理槽７の２つの処理槽を有するエッチング装置１としたが、第１の処理槽６内でガラス基板３上の薄膜２を確実にエッチングできれば、この第１の処理槽６のみ有するエッチング装置１であっても良い。また、第１の処理槽６および第２の処理槽７内のそれぞれにエアカーテン16を取り付けたが、これら第１の処理槽６および第２の処理槽７内の雰囲気を外部から遮断する必要がなければ、これらエアカーテン16を設けなくてもよく、これらエアカーテン16以外の構成で第１の処理槽６および第２の処理槽７内の雰囲気を外部から遮断させてもよい。

本発明の一実施の形態のエッチング装置を示す説明構成図である。

符号の説明

１ エッチング装置
２ 膜としての薄膜
３ 基板としてのガラス基板
６ 処理室としての第１の処理槽
７ 処理室としての第２の処理槽
８ 開口部としての搬送口
14 エッチング液吹付手段としての薬液シャワーノズル
17 検知手段としての基板検出センサ
18 制御手段としての制御システム
21 処理液吹付手段としての純水シャワーノズル
Ｅ エッチング液
Ｗ 処理液としての純水

Claims (3)

1. 表面に膜が形成された基板が挿通可能な開口部を有し、この開口部を介して前記基板が搬送される処理室と、
   この処理室内へと搬送された前記基板の表面の前記膜にエッチング液を吹き付けるエッチング液吹付手段と、
   前記処理室内に付着した前記エッチング処理液を除去する処理液を、前記処理室内の少なくとも前記開口部に吹き付ける処理液吹付手段と、
   を具備したことを特徴とするエッチング装置。
2. 前記処理液吹付手段は、前記開口部に前記基板が挿通される際に、この基板の表面に形成された前記膜が対向する位置となる前記開口部の縁に向けて前記処理液を吹き付ける
   ことを特徴とする請求項１記載のエッチング装置。
3. 前記処理室内へと搬送された前記基板の有無を検知する検知手段と、
   この検知手段による前記基板の検知に基づいて、前記処理室内に前記基板が無いときに前記処理液吹付手段から前記処理液を吹き付けさせる制御手段と、
   を具備したことを特徴とする請求項１または２記載のエッチング装置。

Images