JP2007212805A - 複屈折性の光学素子およびその製造方法 - Google Patents

複屈折性の光学素子およびその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2007212805A
JP2007212805A JP2006033220A JP2006033220A JP2007212805A JP 2007212805 A JP2007212805 A JP 2007212805A JP 2006033220 A JP2006033220 A JP 2006033220A JP 2006033220 A JP2006033220 A JP 2006033220A JP 2007212805 A JP2007212805 A JP 2007212805A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical element
glass material
birefringent optical
transparent glass
shape
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2006033220A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4761992B2 (ja
Inventor
Takashi Iwano
隆史 岩野
Shuhei Tanaka
修平 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Central Glass Co Ltd
Original Assignee
Central Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Central Glass Co Ltd filed Critical Central Glass Co Ltd
Priority to JP2006033220A priority Critical patent/JP4761992B2/ja
Publication of JP2007212805A publication Critical patent/JP2007212805A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4761992B2 publication Critical patent/JP4761992B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Polarising Elements (AREA)

Abstract

【課題】
縞状の繰り返しパターンを撮像したり表示するときに生じるモアレ縞を解消するために、結晶性材料や、水晶を用いるが、小型化や薄板化が困難である。また、複屈折軸が決まっているために位置精度が必要であり、コストも高いという問題点がある。
【解決手段】
屈折率が均一なガラス材料、特に透明ガラス材料に、高電場強度を有するレーザ光を透明ガラス材料に集光照射し、複屈折の特性を有する改質部を、点状あるいは線状に形成して複屈折性の光学素子とする。
【選択図】 図1

Description

本発明は、常光線に対して異常光線を生じさせる複屈折性の光学素子に関し、特に、撮像機や表示器において発生するモアレ縞や偽色を防ぐために用いられる複屈折性の光学素子およびその製造方法に関するものである。
最近の撮像機として多く用いられているデジタルカメラやデジタルビデオカメラは、撮像素子としてCCD(電荷結合素子)等が利用されている。このようなデジタルカメラやデジタルビデオカメラは、撮像素子が離散的であるため、モアレ縞やモアレ縞の発生に伴う偽色といわれる不具合が画像に現れてしまう。
また、表示素子が離散的な表示器、例えば、液晶表示器やプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ、液晶やDegital Light Processing(テキサツインストルメント社、登録商標)のようなプロジェクターにおいても、画像にモアレ縞が生じてしまう。
撮像器やプロジェクターなどにおいて、モアレ縞や偽色の発生を防ぐには、複屈折素子が有効であり、特許文献1には液晶でなる複屈折素子が開示されている。また、特許文献2には、水晶板と液晶とによって複屈折させることが記載されている。さらに、特許文献3には水晶板とニオブ酸リチウムとを張り合わせて複屈折させる技術が開示されている。
他方、透明材料中に高電場強度を有するレーザ光を照射して、透明材料中に屈折率の異なる改質部を形成する技術が、レーザの発達に伴って発達し、例えば特許文献4には、屈折率が変化した部分を連続して形成し、光導波路とすることが開示されている。
また、特許文献5には、SiO、あるいはSiOにGe、P、Al、Ta、Sb等の屈折率制御用ドーパントを少なくとも1種類添加して屈折率を低下させた透明層にレーザビームを集光照射して、光伝送パターンを形成することが開示されている。
特開平6−317765号公報 特開平9−15535号公報 特開平11−218612号公報 特開平9−311237号公報 特開2004−29285号公報
特許文献1〜3に開示されている、結晶性材料や、水晶は小型化や薄板化が困難である。また、複屈折軸が決まっているために位置精度が必要であり、コストも高いという問題点がある。
本発明は、屈折率が均一なガラス材料、特に透明ガラス材料に、複屈折性を発現させ、モアレ縞や偽色を防ぐことに有効に使用できる複屈折性の光学素子とその製造方法を提供する。
本発明の複屈折性の光学素子は、レーザ光を透明ガラス材料に照射することにより、該透明ガラス材料の屈折率と異なる屈折率を有する部位(改質部)が該透明ガラス中に形成されてなる光学素子において、該改質部が複屈折の特性を有し、該改質部が点状あるいは線状に形成されてなることを特徴とする複屈折性の光学素子である。
また、本発明の複屈折性の光学素子は、前記複屈折性の光学素子において、入射光の光軸に対し、複屈折による異常光が円錐状または扇形状に生じることを特徴とする請求項1に記載の複屈折性の光学素子である。
また、本発明の複屈折性の光学素子は、前記複屈折性の光学素子において、改質部が点状、線状あるいは格子状に形成されてなることを特徴とする複屈折性の光学素子である。
また、本発明の複屈折性の光学素子は、前記複屈折性の光学素子において、点状あるいは線状に形成された改質部の間隔が、屈折率の最大となる位置の間隔で1μm〜500μmであることを特徴とする複屈折性の光学素子である。
また、本発明の複屈折性の光学素子は、前記複屈折性の光学素子において、点状あるいは線状に形成された改質部が1つ以上の層状に形成されてなることを特徴とする複屈折性の光学素子である。
また、本発明は、0.05GW/cm〜10TW/cmの高電場強度を有するレーザ光を透明ガラス材料に集光照射することを特徴とする前記複屈折性の光学素子を製造する方法である。
本発明の複屈折性の光学素子とそれを製造する方法は、屈折率が均一なガラス材料、特に透明ガラス材料に、複屈折性を発現させ、モアレ縞や偽色を防ぐことに有効に使用できる複屈折性の光学素子とその製造方法を提供する。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明するが、本発明は係る実施形態に限定されるものではない。
本発明は、透明なガラス材料に、レーザ光を集光照射して、構造変化を誘起し、該透明ガラス材料の屈折率よりも大きい屈折率を有する部位を生じせしめ、複屈折性を有する光学素子とするものである。
図1は、複屈折性を有する光学素子の複屈折を概念的に示すもので、透明ガラス材料に形成された改質部2によって、入射光10は、異常光11と常光12に分離される。
異常光11は、改質部の形成によって、円錐状、楕円錘状あるいは扇状に生じせしめることが可能である。
改質部2は、図2に示すように、レーザ光20を透明ガラス材料1に集光機能素子21を用いて集光照射し、透明ガラス材料1の中に、透明ガラス材料1の屈折率よりも大きい屈折率を有する部位(改質部)を生じせしめることによって、形成される。レーザ光20には、超短パルスレーザを用いることが望ましい。
改質部2の屈折率は、透明ガラス材料1の屈折率よりも少なくとも0.1以上であることが望ましい。
集光機能素子21には、対物レンズを用いることが望ましいが、凹面鏡を用いることもできる。
超短パルスレーザとして好適に用いることができるレーザは、チタンサファイアレーザ、YAGレーザ、または、Ndドープ、Ybドープ若しくはErドープのファイバレーザ等である。
透明ガラス材料1としては、前述するレーザの光に対してある程度の透過性を有する必要があり、例えば酸化物ガラス(石英ガラス、シリケート系ガラス、ボロシリケート系ガラス、リン酸塩系ガラス、アルミニウムシリケート系ガラス等)、ハロゲン化物ガラス、硫化物ガラスまたはカルコゲナイドガラスが挙げられる。
本発明には、耐久性や透明性の観点からガラス材料を用いるのが望ましいが、透明ガラス材料に限定するものではなく、PMMAなどの高分子系材料、セラミックス等を用いてもよい。
透明ガラス材料1の内部に、超短パルスレーザのレーザ光を集光させて改質部を形成するために、パワー密度の高いパルスレーザビームを放出可能であることが好ましく、超短パルスレーザには、レーザ光が0.05GW/cm以上の高電場を有するものを用いることが好ましい。 また、10TW/cm以下とするのは、10TW/cmが市販されているレーザの最大値であり、特に限定するものではない。
また、パルス幅が短い超短パルスレーザ、より具体的には集光点でのパルス幅が10フェムト(10×10-15 )秒以上10ピコ(10×10-12)秒以下となる超短パルスレーザであることが好ましい。特に、改質部を形成させる材料がガラス材料である場合、パルス幅が10フェムト秒以上500フェムト秒以下であることがより好ましい。パルス幅が上記範囲であれば、パルスレーザの1パルスあたりのエネルギーを小さくできるため、エネルギー的に有利である。
複屈折性の光学的効果は、改質部の屈折率の大きさを変えることによって制御することが出きる。
改質部の屈折率の大きさや改質部の形成される領域は、透明ガラス材料に集光照射するレーザ光のパワーを調整することや、改質部の形成速度を調整することで、改質部の屈折率の大きさや改質部の形成される領域の大きさを変えることができる。
さらに、レーザ光の集光に対物レンズを用いる場合は、対物レンズのNAを選択することによって、改質部の形成される領域の大きさを制御することが出きる。
また、照射するレーザの偏光状態は、楕円偏光でもかまわないが、直線偏光である方が複屈折の方向を制御しやすいために好ましい。
レーザ光の電場方向を制御して改質部を形成することにより、異常光の生じる方向を制御することができる。異常光の方向を制御することにより、例えば、液晶表示器のような入射光が偏光となる場合は、容易にモアレ縞を解消することができる。
レーザ光の電場方向を制御するには、回折格子や偏光素子を用いることが好ましい。
透明ガラス材料にレーザ光を照射して改質部を形成するとき、レーザ光を透明ガラス材料に対して移動させてもよいが、レーザ光を固定して、透明ガラス材料を移動させ、改質部を形成することが好ましい。
改質部を形成するときの透明ガラス材料の移動は、レーザ光の光軸に対し垂直方向あるいはレーザ光の光軸方向に行うことが望ましい。
本発明の複屈折性の光学素子は、複数の点状あるいは線状の改質部を形成して、平面に分布させることが望ましい。
例えば、図3は、平面が円形の、点状に形成した改質部を、図4は、平面が楕円形状に形成した改質部を、それぞれ複数個分布させた例であり、図5は、線状に形成した改質部を、複数本分布させた例である。
図4に示すような、平面が楕円状の改質部は、改質部を形成するレーザ光の光軸に対して、透明ガラス材料1の表面を傾斜することによって、形成することができる。あるいはレーザ光の集光形状を楕円状に調整することによっても形成することができる。
また、図6に示すように、透明ガラス材料をレーザ光の光軸方向に移動して、平面が円形状の改質部を透明ガラス材料の厚み方向に厚く形成してもよい。
また、図7は点状の改質部を2層に形成した例であり、図8は線状の改質部を2層に形成した例であり、図7や図8のように、改質部を3次元的に形成させてもよい。
図3から図8には点状あるいは線状に形成された改質部2が、一定の間隔に分布するような例であるが、本発明の複屈折性を示す光学素子は、これらの例に限定されるものではなく、改質部をランダムの分布させてもよく、改質部の形状や改質部の間隔は使用目的に合わせて、決定することが望ましい。
レーザ光を走査する速度あるいは透明ガラス材料を移動する速度と使用するパルスレーザの繰り返し周波数を選択することによって、点状あるいは線状の改質部を形成することができる。
例えば、1kHzのパルスレーザの繰り返し周波数を有するレーザは点状の改質部の形成に好適であり、250kHzのパルスレーザの繰り返し周波数を有するレーザは、繰り返し周波数が高いのでライン状の複屈折領域を形成するのに好適である。また、繰り返し周波数の低い1kHzのパルスレーザは、1パルスあたりの照射エネルギーが高く、大きな複屈折を得るのに好適である。
また、改質部を2箇所以上形成して複屈折性の光学素子として用いる場合、図3、図4に示す改質部の間隔xあるいはyは、複屈折性の光学素子として使用するためには、1μm〜100μmであることが好ましい。1μmより小さくすると、改質部の領域が重なって形成されるため、屈折率差が不均一になってしまい、複屈折性の光学素子として用いることが困難となる。
また、100μmを越えると改質部の間が広くなって屈折率の差のない、透明ガラス材料の屈折率の範囲が広くなって、複屈折性の光学素子として機能させることが困難となる。
実施例1
透明ガラス材料にソーダライムシリケートガラス(SiO−NaO−CaO)でなる厚み1mmのガラス板を用い、レーザ光には繰り返し周波数250kHz、パルス幅150fs、平均出力500mWのフェムト秒超短パルスレーザを用いて、図5に示すような複屈折性の光学素子を作製した。
レーザ光の集光にNA0.55の対物レンズを用い、透明ガラス材料を移動ステージに載せ、ステージの移動速度を5mm/secとし、線状の改質部2を形成した。改質部2の表面からの深さZは100μmとした。また、線状の改質部の間隔yは50μmとした。
図12の偏光写真から、改質部2は周囲と屈折率の異なり、複屈折性を有することが確認された。
さらに、本実施例で作製した複屈折性の光学素子をデジタルカメラのレンズの前に配置して、ストライブ模様(1mm周期、約0.3mmライン幅の格子パターン)の被写体を撮影し、図15に示すように、本実施例で作製した複屈折性の光学素子によってモアレ縞が、画像から消えることが確認できた。
実施例2
レーザ光の平均出力を50mW、線状の改質部の間隔yを3μmとした以外は、全て実施例1同様にして、図5に示すような複屈折性の光学素子を作製した。
実施例2で作製した複屈折性の光学素子を用いることにより、実施例1の複屈折性の光学素子と同様に、画像からモアレ縞の消えることが確認された。
実施例3
レーザ光の偏光を偏光板によって直線偏光とした以外は、実施例1と同様にして、図5に示すような複屈折性の光学素子を作製した。
本実施例で作製した複屈折性の光学素子を用いても、実施例1の複屈折性の光学素子と同様に、画像からモアレ縞の消えることが確認された。
実施例4
レーザ光の繰り返し周波数を1KHz、移動ステージの移動速度を25mm/secとした以外は、実施例1と同様にして、図3に示すような、点状の改質部2が並ぶ、複屈折性の光学素子を作製した。改質部2の間隔xは25μmで作製された。
偏光写真(図13)に示すような改質部の形成が確認され、実施例1と同様に、デジタルカメラのレンズの前に本実施例の複屈折性を示す光学素子を配置して、ストライブ模様の被写体を撮影し、モアレ縞が画像から消えることが確認された。
実施例5
レーザ光の繰り返し周波数を1KHz、移動ステージの移動速度を50mm/secとした以外は、実施例1と同様にして、図3に示すような、点状の改質部2が並ぶ、複屈折性の光学素子を作製した。改質部2の間隔xは50μmで作製された。
偏光写真(図14)に示すような改質部の形成が確認され、実施例1と同様に、デジタルカメラのレンズの前に本実施例の複屈折性を示す光学素子を配置して、ストライブ模様の被写体を撮影し、モアレ縞が画像から消えることが確認された。
本発明の複屈折性を示す光学素子の機能を概念的に示す図である。 レーザ光を集光照射して改質部を形成するようすを概念的に示す図である。 板状の透明ガラス材料に平面が円形状の改質部を点状に形成して得られる、複屈折性を示す光学素子を概念的に示す図。 板状の透明ガラス材料に平面が楕円状の改質部を点状に形成して得られる、複屈折性を示す光学素子を概念的に示す図。 板状の透明ガラス材料に平面が線状の改質部を形成して得られる、複屈折性を示す光学素子を概念的に示す図。 板状の透明ガラス材料に平面が円形状の改質部を厚み方向に厚く形成して得られる、複屈折性を示す光学素子を概念的に示す図。 板状の透明ガラス材料に平面が円形状の改質部を2層に形成して得られる、複屈折性を示す光学素子を概念的に示す図。 板状の透明ガラス材料に平面が線状の改質部を2層に形成して得られる、複屈折性を示す光学素子を概念的に示す図。 比較的弱いエネルギー密度で改質部を形成した場合の、図3のa−a間あるいは図5のb−b間に形成された改質部の屈折率の変化を概念的に示す図である。 比較的強いエネルギー密度で改質部を形成した場合の、図3のa−a間あるいは図5のb−b間に形成された改質部の屈折率の変化を概念的に示すグラフである。 改質部を線状に形成した場合の改質部(例えば図5のc−c間)の屈折率の変化を概念的に示すグラフである。 実施例1の改質部の偏光を用いて撮影した偏光写真である。 実施例4の改質部の偏光を用いて撮影した偏光写真である。 実施例5の改質部の偏光を用いて撮影した偏光写真である。 実施例1の複屈折性の光学素子を用いて撮影した画像(a)と用いないで撮影した画像(b)を示す写真である。
符号の説明
1 透明ガラス材料
2 改質部(屈折率の異なる部位)
10 入射光
11 異常光
12 常光
20 パルスレーザ光
21 対物レンズ
31 改質部とその近傍の屈折率分布
32 改質部とその近傍の屈折率分布
33 改質部とその近傍の屈折率分布

Claims (6)

  1. レーザ光を透明ガラス材料に照射することにより、該透明ガラス材料の屈折率と異なる屈折率を有する部位(改質部)が該透明ガラス中に形成されてなる光学素子において、該改質部が複屈折の特性を有し、該改質部が点状あるいは線状に形成されてなることを特徴とする複屈折性の光学素子。
  2. 入射光の光軸に対し、複屈折による異常光が円錐状または扇形状に生じることを特徴とする請求項1に記載の複屈折性の光学素子。
  3. 改質部が点状、線状あるいは格子状に形成されてなることを特徴とする請求項1あるいは2のいずれかに記載の複屈折性の光学素子。
  4. 点状あるいは線状に形成された改質部の間隔が、屈折率の最大となる位置の間隔で1μm〜100μmであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の複屈折性の光学素子。
  5. 点状あるいは線状に形成された改質部が1つ以上の層状に形成されてなることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の複屈折性の光学素子。
  6. 0.05GW/cm〜10TW/cmの高電場強度を有するレーザ光を透明ガラス材料に集光照射することを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の複屈折性の光学素子を製造する方法。
JP2006033220A 2006-02-10 2006-02-10 複屈折性の光学素子を有する撮像機およびその光学素子の製造方法 Expired - Fee Related JP4761992B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006033220A JP4761992B2 (ja) 2006-02-10 2006-02-10 複屈折性の光学素子を有する撮像機およびその光学素子の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006033220A JP4761992B2 (ja) 2006-02-10 2006-02-10 複屈折性の光学素子を有する撮像機およびその光学素子の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007212805A true JP2007212805A (ja) 2007-08-23
JP4761992B2 JP4761992B2 (ja) 2011-08-31

Family

ID=38491294

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006033220A Expired - Fee Related JP4761992B2 (ja) 2006-02-10 2006-02-10 複屈折性の光学素子を有する撮像機およびその光学素子の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4761992B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008126828A1 (ja) * 2007-04-09 2008-10-23 Asahi Glass Company, Limited 位相差板およびその製造方法
JP2010070399A (ja) * 2008-09-16 2010-04-02 Kyoto Univ 組成分布を生じる光学部品用透明材料及びこれを利用する光学部品
WO2012099078A1 (ja) * 2011-01-20 2012-07-26 旭硝子株式会社 位相差板及び位相差板の製造方法
JP2016526002A (ja) * 2013-05-24 2016-09-01 サン−ゴバン グラス フランス 基材製造方法
JP2016531062A (ja) * 2013-05-24 2016-10-06 サン−ゴバン グラス フランス コーティングを備えた基材の製造方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002116336A (ja) * 2000-10-05 2002-04-19 Japan Science & Technology Corp 光学的異方性光導波路の作製方法
JP2003286048A (ja) * 2002-03-27 2003-10-07 Okamoto Glass Co Ltd 強化ガラスの製造方法
JP2004196585A (ja) * 2002-12-18 2004-07-15 Nippon Sheet Glass Co Ltd レーザビームにより材料内部に異質相を形成する方法、構造物および光部品
JP2005205464A (ja) * 2004-01-23 2005-08-04 Okamoto Glass Co Ltd レーザ加工法、構造物および光学素子
JP2005242340A (ja) * 2004-01-30 2005-09-08 Mitsubishi Rayon Co Ltd 成形体およびその製造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002116336A (ja) * 2000-10-05 2002-04-19 Japan Science & Technology Corp 光学的異方性光導波路の作製方法
JP2003286048A (ja) * 2002-03-27 2003-10-07 Okamoto Glass Co Ltd 強化ガラスの製造方法
JP2004196585A (ja) * 2002-12-18 2004-07-15 Nippon Sheet Glass Co Ltd レーザビームにより材料内部に異質相を形成する方法、構造物および光部品
JP2005205464A (ja) * 2004-01-23 2005-08-04 Okamoto Glass Co Ltd レーザ加工法、構造物および光学素子
JP2005242340A (ja) * 2004-01-30 2005-09-08 Mitsubishi Rayon Co Ltd 成形体およびその製造方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008126828A1 (ja) * 2007-04-09 2008-10-23 Asahi Glass Company, Limited 位相差板およびその製造方法
US8059337B2 (en) 2007-04-09 2011-11-15 Asahi Glass Company, Limited Wave plate with birefringent regions and its manufacturing method
JP5240190B2 (ja) * 2007-04-09 2013-07-17 旭硝子株式会社 位相差板の製造方法
JP2010070399A (ja) * 2008-09-16 2010-04-02 Kyoto Univ 組成分布を生じる光学部品用透明材料及びこれを利用する光学部品
WO2012099078A1 (ja) * 2011-01-20 2012-07-26 旭硝子株式会社 位相差板及び位相差板の製造方法
CN103329014A (zh) * 2011-01-20 2013-09-25 旭硝子株式会社 相位差板及相位差板的制造方法
JP2016526002A (ja) * 2013-05-24 2016-09-01 サン−ゴバン グラス フランス 基材製造方法
JP2016531062A (ja) * 2013-05-24 2016-10-06 サン−ゴバン グラス フランス コーティングを備えた基材の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4761992B2 (ja) 2011-08-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI638697B (zh) Laser processing device and laser processing method
JP5254761B2 (ja) レーザ加工装置
TWI407135B (zh) 結構體及其製造方法
US7405883B2 (en) Optical component and method of manufacture of optical component
JP2009056482A (ja) 基板分割方法、及び表示装置の製造方法
JP5240190B2 (ja) 位相差板の製造方法
JP4736633B2 (ja) レーザ照射装置
JP4761992B2 (ja) 複屈折性の光学素子を有する撮像機およびその光学素子の製造方法
JP5133158B2 (ja) 多重ビームレーザー装置
JP2009128659A (ja) 表示装置及びそれを用いた移動体
JP2007167918A (ja) レーザ加工装置
JP2010000542A (ja) レーザ加工方法、レーザ加工装置及びその製造方法
JP4866778B2 (ja) ビーム照射装置、及び、ビーム照射方法
JP2010505631A (ja) 湾曲クレードルを使用してマイクロレンズアレイを貫通する開口を形成する方法及び装置、並びに、それによって製造される製品
JP2004196585A (ja) レーザビームにより材料内部に異質相を形成する方法、構造物および光部品
JP2005121916A (ja) レンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法、レンチキュラレンズ用凹部付き基板、レンチキュラレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタ
JP2002372641A (ja) 光導波路の製造方法、光導波路および波長変換デバイス
JP2005205464A (ja) レーザ加工法、構造物および光学素子
JP2007043127A (ja) 逐次的横方向結晶化用のマスク及びその製造方法
JP2007014975A (ja) スクライブ形成方法、分割予定線付き基板
JP2005210103A5 (ja)
WO2012090519A1 (ja) レーザ加工装置およびレーザ加工方法
JP2007086556A (ja) 異方性ガラスの製造方法、異方性ガラス及び、これを用いた偏光素子
JP2008238261A (ja) ビーム照射装置、及び、ビーム照射方法
JP2000223766A (ja) レーザー加工装置およびレーザー加工方法

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20070704

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20081015

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20100325

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20100326

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20100329

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20100407

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20100407

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100714

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100727

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100915

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101130

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110126

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110607

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110607

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140617

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees