JP2007201278A - 積層セラミックコンデンサ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】誘電体層5が、元素としてBa、TiおよびSiを含有する結晶粒子11を含む誘電体磁器からなり、前記粒界13の表面付近における前記Siの含有量が1.5原子%以上であるとともに、前記結晶粒子11の表面から20nmの深さにおける前記Siの含有量が1.2原子%以下である。
【選択図】図4
Description
5 誘電体層
7 内部電極層
11 結晶粒子
13 粒界
Claims (5)
- 誘電体層と内部電極層とを交互に積層してなるコンデンサ本体を備えてなる積層セラミックコンデンサであって、前記誘電体層が、元素としてBa、TiおよびSiを含有する結晶粒子を含む誘電体磁器からなり、前記結晶粒子の表面付近における前記Siの含有量が1.5原子%以上であるとともに、前記結晶粒子の表面から20nmの深さにおける前記Siの含有量が1.2原子%以下であることを特徴とする積層セラミックコンデンサ。
- 前記結晶粒子の表面から20nmの深さにおける前記Siの含有量が0.8原子%以下である請求項1記載の積層セラミックコンデンサ。
- 前記結晶粒子の表面から40nmの深さにおける前記Siの含有量が0.5原子%以下である請求項1または2に記載の積層セラミックコンデンサ。
- 前記結晶粒子の平均粒径が0.18μm以下である請求項1乃至3のうちいずれかに記載の積層セラミックコンデンサ。
- 前記誘電体層の厚みが1.5μm以下である請求項1乃至4のうちいずれかに記載の積層セラミックコンデンサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006019580A JP4771818B2 (ja) | 2006-01-27 | 2006-01-27 | 積層セラミックコンデンサ |
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JP2007201278A true JP2007201278A (ja) | 2007-08-09 |
JP4771818B2 JP4771818B2 (ja) | 2011-09-14 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
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JP (1) | JP4771818B2 (ja) |
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JP4771818B2 (ja) | 2011-09-14 |
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