JP2007201125A - 側面パターンを有するプリント基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 従来の基板に形成された配線パターンどうしを側面パターンによって接続するための製造方法にあっては、乱反射光(拡散光)によって露光するために、基板の側面に形成されるパターンが上下では太く厚み方向の中央部分の幅が狭く(鼓状)なっている。そのために、基板の厚みが厚い場合には側面パターンの中央部分の幅が狭くなって途中で切断されてしまうという問題があった。
【解決手段】 平行光線によって絶縁基板の表裏面に露光マスクによって感光性樹脂皮膜に配線パターンを露光し、次いで、平行光線によって前記絶縁基板における側面の感光性樹脂皮膜に異なる露光マスクによって側面パターンを露光することで、表裏面の配線パターンどうしを側面パターンで接続するようにした側面パターンを有するプリント基板の製造方法である。
【選択図】 図7
【解決手段】 平行光線によって絶縁基板の表裏面に露光マスクによって感光性樹脂皮膜に配線パターンを露光し、次いで、平行光線によって前記絶縁基板における側面の感光性樹脂皮膜に異なる露光マスクによって側面パターンを露光することで、表裏面の配線パターンどうしを側面パターンで接続するようにした側面パターンを有するプリント基板の製造方法である。
【選択図】 図7
Description
本発明は、表裏の配線パターンどうしを多数のスルーホールによって接続ができないような配線パターンが高密度化され、かつ、小さなプリント基板における前記表裏の配線パターンを基板の側面において接続するための側面パターンを有するプリント基板の製造方法に関する。
表裏に形成されている配線パターンどうしを基板の側面に形成したパターンで接続するものとして、例えば、特開平2005−226798に開示されている技術がある。そして、この技術における側面パターンの製造方法としては、絶縁基板の表面に電着塗装により感光性樹脂皮膜を形成し、配線パターン形成用の露光マスクに対して乱反射光を照射して基板表裏面の配線パターンと、該配線パターンどうしを接続するための側面パターンとを同時に露光し、その後、現像とエッチングを行って、表裏面の配線パターンを側面パターンで接続するという方法であった。
特開平2005−226798
ところで、前記した技術にあっては、乱反射光(拡散光)によって露光するために、基板の側面に形成されるパターンが上下では太く厚み方向の中央部分の幅が狭く(鼓状)なっている。そのために、基板の厚みが厚い場合には側面パターンの中央部分の幅が狭くなって途中で切断されてしまうという問題があった。
また、小さな基板の表裏面に高密度の配線パターンを形成し、この配線パターンどうしを側面パターンで接続しようとすると側面パターンが鼓状であることから、細い部分を確実に接続状態とすると両端の幅が広くなって多数の側面パターンを並列的に形成することができず、そのために高密度の配線パターンの全てに対応した側面パターンを製作することができないといった問題もあった。
本発明は前記した問題点を解決せんとするもので、その目的とするところは、平行光線によって絶縁基板の表裏面に露光マスクによって感光性樹脂皮膜に配線パターンを露光し、次いで、平行光線によって前記絶縁基板における側面の感光性樹脂皮膜に異なる露光マスクによって側面パターンを露光することで、表裏面の配線パターンどうしを側面パターンで接続するようにしたので、側面パターンは細い平行なパターンとなり、従って、絶縁基板の厚みが厚くとも、また、配線パターンの配線密度が高くとも表裏面の配線パターンどうしを確実に接続することができる側面パターンを有するプリント基板の製造方法を提供せんとするにある。
本発明の側面パターンを有するプリント基板の製造方法は前記した目的を達成せんとするもので、請求項1の手段は、絶縁基板の表裏面および側面に銅箔層を形成する第1の工程と、絶縁基板の表裏面および側面に光分解型感光性樹脂皮膜を電界塗装により形成する第2の工程と、該感光性樹脂皮膜の表裏面に配線パターン形成用の光不透過パターンが形成された露光マスクを載置して平行光線を照射して露光する第3の工程と、前記表裏面の配線パターンを露光した部分がマスクされ、かつ、側面パターン形成用の光不透過パターンが形成された露光マスクを載置すると共に平行光源に対して傾斜させて絶縁基板の側面を露光する第4の工程と、前記配線パターンおよび側面パターン形成部分にあたる前記感光性樹脂皮膜を残し、他の部分の感光性樹脂皮膜を除去する現像する第5の工程と、前記配線パターンおよび側面パターン以外の部分の導通部分を除去するエッチングする第6の工程と、前記配線パターンおよび側面パターン上の前記感光性樹脂皮膜を除去する第7の工程とからなり、絶縁基板の表裏面に配線パターンを形成すると共に該配線パターンの電極どうしを少なくとも1つの側面において側面パターンで接続することを特徴とする。
請求項2の手段は、前記した請求項1において、前記側面パターンを絶縁基板の相対向する2つの側面に形成する場合には、前記第4の工程における前記表裏面の配線パターンを露光した部分がマスクされ、かつ、側面パターン形成用の光不透過パターンが対向した位置に一対が形成された露光マスクを使用し、平行光源に対して回転傾斜させて1つの側面の側面パターンを露光した後に、絶縁基板を反転して他の側面の側面パターンを露光することで、2つの側面に側面パターンを形成し、表裏の配線パターンの電極どうし2つの側面で接続することを特徴とする。
請求項3の手段は、前記した請求項1において、前記側面パターンを絶縁基板の1つの側面と、該側面と隣接して交差する側面に形成する場合には、前記第4の工程における前記表裏面の配線パターンを露光した部分がマスクされ、かつ、側面パターン形成用の光不透過パターンが隣接して交差して形成された露光マスクを使用し、平行光源に対して回転傾斜させて1つの側面の側面パターンを露光した後に、絶縁基板を前記回転方向とは直交する方向に回転して他の側面の側面パターンを露光することで、少なくとも直交する2つの側面に側面パターンを形成し、表裏の配線パターンの電極どうし少なくとも2つの側面で接続することを特徴とする。
請求項4の手段は、前記した請求項1乃至3において、前記絶縁基板は1つの大きな絶縁基板にマトリックス状に配置されると共に前記側面パターンを形成する部分に少なくとも1つのスリットが形成されていることを特徴とする。
本発明は前記したように、平行光線によって絶縁基板の表裏面に露光マスクによって感光性樹脂皮膜に配線パターンを露光し、次いで、平行光線によって前記絶縁基板における側面の感光性樹脂皮膜に異なる露光マスクによって側面パターンを露光することで、表裏面の配線パターンどうしを側面パターンで接続するようにしたので、側面パターンの幅を狭くも広くも自由に形成できると共に直線的に形成でき、従って、絶縁基板の厚みに関係なく、かつ、配線パターンの密度に関係なく表裏面の配線パターンどうしを確実に接続することができる。
また、側面パターンを絶縁基板の相対向する2つの面に形成する場合には、側面パターンの露光時に絶縁基板を反転しながら行うことで形成することができるので、作業も簡単で、かつ、確実に製作することができるという効果が得られる。
さらに、側面パターンを絶縁基板の隣接する他の側面に形成する場合には、側面パターンの露光時に絶縁基板を直交する方向に回転することで形成することができるので、前記相対向する2つの面に形成する場合と同じ効果が得られる。
また、絶縁基板は1つの大きな絶縁基板にマトリックス状に配置されると共に前記側面パターンを形成する部分に少なくとも1つのスリットを形成して、前記したと同じ工程で製造することができるので、一度に多数の希望するプリント基板を製作することができるといった効果を有するものである。
本発明は、平行光線によって絶縁基板の表裏面に露光マスクによって感光性樹脂皮膜に配線パターンを露光し、次いで、平行光線によって前記絶縁基板における側面の感光性樹脂皮膜に異なる露光マスクによって側面パターンを露光することで、表裏面の配線パターンどうしを側面パターンで接続した。
以下、本発明に係る側面パターンを有するプリント基板の製造方法を図面と共に説明する。
なお、この実施例では極めて小さなプリント基板を1つの大きなプリント基板から多数を同時に、かつ、各小さなプリント基板の3辺に側面パターンを形成する場合について説明するが、各プリント基板毎に3辺に側面パターンを形成あるいは1辺、2辺に形成することも可能である。
なお、この実施例では極めて小さなプリント基板を1つの大きなプリント基板から多数を同時に、かつ、各小さなプリント基板の3辺に側面パターンを形成する場合について説明するが、各プリント基板毎に3辺に側面パターンを形成あるいは1辺、2辺に形成することも可能である。
先ず、図1、2に示すように、先ず、表裏面に銅箔層を形成した大きな絶縁基板A(例えば、横25cm、縦34cm)を用意する(ステップS1)。次いで、ルータ加工によってコの字状のスリットaを開けて小さな絶縁基板1(例えば、長手方向が5mm、短手方向が7mm)をマトリックス状に形成する(ステップS2)。
次に、前記絶縁基板Aの表裏面および前記スリットaによって形成されたそれぞれの絶縁基板1の側面に電解メッキによって金属膜を形成する(ステップS3)。その後、絶縁基板Aの表裏面および前記スリットaによって形成された厚み方向の側面に対して、光を照射することで分解して溶液に侵漬することで溶解する光分解型の感光性樹脂皮膜を電着塗装によって形成する(ステップS4)。
そして、図3(a)〜(c)に示すように、各絶縁基板1における表面側の配線パターン2aと相対向する2つの辺の電極パターン2bおよびこの電極パターン2bと直交する電極パターンccを形成するための光が透過しないパターンが形成された表面用露光マスク2と、各絶縁基板1における裏面側の配線パターン3aと相対向する2つの辺の電極パターン3bおよびこの電極パターン3bと直交する電極パターン2cを形成するための光が透過しないパターンが形成された裏面用露光マスク3とを絶縁基板Aの両面に位置合わせして重ね、水平光線を放射する光源に対して直交に設置し、水平光線を両側から表裏の露光マスク2,3に対して同時に照射することで露光する(ステップS5)。
なお、図3〜図6は絶縁基板Aにおける製品となる各絶縁基板1の1つを描いているが、全ての絶縁基板1の全てを同時に露光することで、1回の露光で多数の絶縁基板1(図示では120個)を同時に露光することが可能である。
前記露光が終了した各絶縁基板1は図4(a)の表面側のみ示しているが、配線パターン2aとスリットaに対応する3辺に前記配線パターン2aの所望パターンと接続された電極パターン2b,2cとが形成される。なお、前記露光時において電極パターン2b,2cの形成時において側面側にも僅かではあるが平行光線の漏れによって側面にもパターンの一部が形成される可能性がある。
次に、予め作製されている側面パターン4aを形成するための露光マスク4を絶縁基板Aの表裏面の何れか、例えば、表面側に重ねる。なお、この時、裏面側に光が漏れても不要な露光が行われないように光が透過しない全面マスクを配置しておく必要がある。そして、前記露光マスク4には図4(b)に示す如く各絶縁基板1に形成されている表裏面の配線パターン2a,3aどうしを相対向する2つの側面で接続するための側面パターン4aと、少なくとも前記露光した配線パターン2aが再度露光されるのを防ぐための光不透過部分4bが形成されている。
このように形成されている露光マスク4を絶縁基板Aの表面側に重ねた状態において、平行光線を放射する光源に対して図4(c)の実線で示すように相対向して形成されている側面の一方に光源よりの平行光線が照射されるように絶縁基板Aを傾けると、該平行光線によって前記一方の側面に塗布されている感光性樹脂皮膜が露光される(ステップS6)。次いで、他の側面に光源よりの平行光線が照射されるように絶縁基板Aを回転(図4(c)の仮想線)することで、該他の側面に塗布されている感光性樹脂皮膜が露光される(ステップS7)。
前記した2方向からの露光を行うことで、表裏面に形成した配線パターン2aと接続されている電極パターン2cどうしは図5(a)に示すように側面パターン4aによって接続される。
次に、予め作製されている側面パターン5aを形成するための露光マスク5を絶縁基板Aの表裏面の何れか、例えば、表面側に重ねる。この時、前記した相対向する2辺に側面パターンを形成するのと同様に裏面側に全面マスクを配置する必要がある。そして、前記露光マスク5には図5(b)に示す如く各絶縁基板1に形成されている表裏面の配線パターン2a,3aどうしを残りの側面で接続するための側面パターン5aと、少なくとも前記露光した配線パターン2aが再度露光されるのを防ぐための光不透過部分5bが形成されている。
このように形成されている露光マスク5を絶縁基板Aの表面側に重ねた状態において、平行光線を放射する光源に対して絶縁基板Aを傾けて配置し、平行光線が残りの側面に照射されるようにすることで、残りの側面に塗布されている感光性樹脂皮膜が露光される(ステップS8)。
以上のように各スリットaによって形成された各絶縁基板1の3つの側面に塗布された感光性樹脂皮膜は感光されるが、この感光は平行光線によって行われるので、各感光マスク4,5に形成されている直線状の側面パターン4a,5aがそのまま露光されることになり、従来のような鼓形状となることによる欠点を解決することが可能となる。
次いで、絶縁基板Aを現像し(ステップS9)、その後、配線パターン2a,3aおよび側面パターン4a,5aにあたる感光性樹脂皮膜を残し、他の部分の感光性樹脂皮膜を除去し、次いで、配線パターン2a,3a、側面パターン4a,5a以外の部分の金属膜をエッチングによって除去する(ステップS10)と共に、配線パターン2a,3a、側面パターン4a,5aの表面に塗布されている感光性樹脂皮膜を除去する(ステップS11)。そして、最後の工程として各絶縁基板1を大きな絶縁基板Aからカット分離することで、表裏面の配線パターンと、該配線パターンどうしを側面パターンで接続した多数の絶縁基板をえることができる。
前記したように、平行光線によって配線パターンと側面パターンを形成することで、配線パターンが高密度で形成され、該高密度の表裏面に形成した配線パターンどうしを多数本形成された側面パターンで接続することが可能となる。
なお、前記した実施例にあっては、3つの側面に側面パターンを形成した場合について説明したが、1つの側面のみ、2つの側面のみ、あるいは、スリットを一部が絶縁基板Aと連結されたロの字状に形成することで、略4辺の側面に側面パターンを形成することも可能である。
A 大きな絶縁基板
a スリット
1 製品となる絶縁基板
2,3,5 露光マスク
2a,3a 配線パターン
2b,2c 電極パターン
3b,3c 電極パターン
4a 側面パターン
4b 光不透過部
5a 側面パターン
5b 光不透過部
a スリット
1 製品となる絶縁基板
2,3,5 露光マスク
2a,3a 配線パターン
2b,2c 電極パターン
3b,3c 電極パターン
4a 側面パターン
4b 光不透過部
5a 側面パターン
5b 光不透過部
Claims (4)
- 絶縁基板の表裏面および側面に銅箔層を形成する第1の工程と、
絶縁基板の表裏面および側面に光分解型感光性樹脂皮膜を電界塗装により形成する第2の工程と、
該感光性樹脂皮膜の表裏面に配線パターン形成用の光不透過パターンが形成された露光マスクを載置して平行光線を照射して露光する第3の工程と、
前記表裏面の配線パターンを露光した部分がマスクされ、かつ、側面パターン形成用の光不透過パターンが形成された露光マスクを載置すると共に平行光源に対して傾斜させて絶縁基板の側面を露光する第4の工程と、
前記配線パターンおよび側面パターン形成部分にあたる前記感光性樹脂皮膜を残し、他の部分の感光性樹脂皮膜を除去する現像する第5の工程と、
前記配線パターンおよび側面パターン以外の部分の導通部分を除去するエッチングする第6の工程と、
前記配線パターンおよび側面パターン上の前記感光性樹脂皮膜を除去する第7の工程と、
からなり、絶縁基板の表裏面に配線パターンを形成すると共に該配線パターンの電極どうしを少なくとも1つの側面において側面パターンで接続することを特徴とする側面パターンを有するプリント基板の製造方法。 - 前記側面パターンを絶縁基板の相対向する2つの側面に形成する場合には、前記第4の工程における前記表裏面の配線パターンを露光した部分がマスクされ、かつ、側面パターン形成用の光不透過パターンが対向した位置に一対が形成された露光マスクを使用し、平行光源に対して回転傾斜させて1つの側面の側面パターンを露光した後に、絶縁基板を反転して他の側面の側面パターンを露光することで、2つの側面に側面パターンを形成し、表裏の配線パターンの電極どうし2つの側面で接続することを特徴とする請求項1記載の側面パターンを有するプリント基板の製造方法。
- 前記側面パターンを絶縁基板の1つの側面と、該側面と隣接して交差する側面に形成する場合には、前記第4の工程における前記表裏面の配線パターンを露光した部分がマスクされ、かつ、側面パターン形成用の光不透過パターンが隣接して交差して形成された露光マスクを使用し、平行光源に対して回転傾斜させて1つの側面の側面パターンを露光した後に、絶縁基板を前記回転方向とは直交する方向回転して他の側面の側面パターンを露光することで、少なくとも直交する2つの側面に側面パターンを形成し、表裏の配線パターンの電極どうし少なくとも2つの側面で接続することを特徴とする請求項1記載の側面パターンを有するプリント基板の製造方法。
- 前記絶縁基板は1つの大きな絶縁基板にマトリックス状に配置されると共に前記側面パターンを形成する部分に少なくとも1つのスリットが形成されていることを特徴とする請求項1乃至3の何れかの側面パターンを有するプリント基板の製造方法。
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KR102179672B1 (ko) * | 2019-05-29 | 2020-11-17 | 주식회사 테토스 | 기판 측면부 배선 형성 방법 |
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2006
- 2006-01-26 JP JP2006017234A patent/JP2007201125A/ja active Pending
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