JP2007191341A - シリコンの精錬方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】溶融シリコンに、アルカリ金属の酸化物もしくは炭酸塩、または、アルカリ土類金属の酸化物または炭酸塩と、SiO2またはAl2O3からなるスラグ用材料を添加することにより、溶融シリコンの上にスラグ層を形成させて、シリコンを高純度化する方法であって、溶融シリコンの上に、カーボンを基材とした物質とスラグ用材料との混合物を添加することを特徴とするシリコンの精錬方法。
【選択図】なし
Description
(1) 溶融シリコンに、アルカリ金属の酸化物もしくは炭酸塩、または、アルカリ土類金属の酸化物もしくは炭酸塩と、SiO2またはAl2O3からなるスラグ用材料を添加することにより、溶融シリコンの上にスラグ層を形成させて、シリコンを高純度化する方法であって、溶融シリコンの上にスラグ層が形成された後に、カーボンを基材とした物質、または、カーボンを基材とした物質とスラグ用材料との混合物を、スラグ層に添加することを特徴とするシリコンの精錬方法。
(2) 溶融シリコンに、アルカリ金属の酸化物もしくは炭酸塩、または、アルカリ土類金属の酸化物もしくは炭酸塩と、SiO2またはAl2O3からなるスラグ用材料を添加することにより、溶融シリコンの上にスラグ層を形成させて、シリコンを高純度化する方法であって、溶融シリコンの上に、カーボンを基材とした物質とスラグ用材料との混合物を添加することを特徴とするシリコンの精錬方法。
(3) 前記カーボンを基材とした物質が、粒状または粉状であることを特徴とする(1)または(2)に記載のシリコンの精錬方法。
(4) 前記カーボンを基材とした物質の最大直径が2mm以下であることを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載のシリコンの精錬方法。
(5) 前記カーボンを基材とした物質中のCの量が、スラグ用材料100質量部に対して、0.1〜10質量部であることを特徴とする(1)〜(4)のいずれかに記載のシリコンの精錬方法。
(6) 前記カーボンを基材とした物質が、黒鉛粉またはSiC粉であることを特徴とする(1)〜(5)のいずれかに記載のシリコンの精錬方法。
反応容器内の溶融シリコンに対して、各種のスラグ材料を溶融シリコン上に添加した。添加したスラグ材料が溶融してスラグ層を形成した後、1500℃で30min保持し、溶融シリコンの精錬を行った。その後、シリコンを鋳型に移送し、冷却して凝固させた。
反応容器内の溶融シリコンに対して、各種のスラグ材料を溶融シリコン上に添加した。添加したスラグ材料が溶融してスラグ層を形成した後、1500℃で30min保持し、溶融シリコンの精錬を行った。その後、シリコンを鋳型に移送し、冷却して凝固させた。
このとき、初期シリコン量は30Kg、スラグ量は30Kg/工程であった。使用した初期シリコンは金属SiでB濃度が10質量ppm程度のもの、また使用した反応容器はアルミナ製のものを用いた。
Claims (6)
- 溶融シリコンに、アルカリ金属の酸化物もしくは炭酸塩、または、アルカリ土類金属の酸化物もしくは炭酸塩と、SiO2またはAl2O3からなるスラグ用材料を添加することにより、溶融シリコンの上にスラグ層を形成させて、シリコンを高純度化する方法であって、溶融シリコンの上にスラグ層が形成された後に、カーボンを基材とした物質、または、カーボンを基材とした物質とスラグ用材料との混合物を、スラグ層に添加することを特徴とするシリコンの精錬方法。
- 溶融シリコンに、アルカリ金属の酸化物もしくは炭酸塩、または、アルカリ土類金属の酸化物もしくは炭酸塩と、SiO2またはAl2O3からなるスラグ用材料を添加することにより、溶融シリコンの上にスラグ層を形成させて、シリコンを高純度化する方法であって、溶融シリコンの上に、カーボンを基材とした物質とスラグ用材料との混合物を添加することを特徴とするシリコンの精錬方法。
- 前記カーボンを基材とした物質が、粒状または粉状であることを特徴とする請求項1または2に記載のシリコンの精錬方法。
- 前記カーボンを基材とした物質の最大直径が2mm以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のシリコンの精錬方法。
- 前記カーボンを基材とした物質中のCの量が、スラグ用材料100質量部に対して、0.1〜10質量部であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のシリコンの精錬方法。
- 前記カーボンを基材とした物質が、黒鉛粉またはSiC粉であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のシリコンの精錬方法。
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