JP2007180548A - パターンアライメント方法およびリソグラフィ装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板の第1ターゲット部分に第1パターン付きビームを照射して、基板上に第1パターンを形成する工程を含む。その後、基板の第2ターゲット部分に、第2パターン付きビームが照射されて、基板上に第2パターンを形成する。第2ターゲット部分は少なくとも部分的に第1ターゲット部分に重なっている。第2パターンの照射の間、第1パターン上での第2パターン付きビームの回折による回折ビームが検出される。該回折ビームは所望の回折ビームと比較され、検出された回折ビームと所望の回折ビームとの比較に基づいて基板のアライメントが行われる。
【選択図】図6
Description
Claims (30)
- リソグラフィ装置における基板アライメント方法であって、
a)基板の第1ターゲット部分に第1パターン付きビームを照射して、基板上に第1パターンを形成すること、
b)第1ターゲット部分に少なくとも部分的に重なっている基板の第2ターゲット部分に、第2パターン付きビームを照射して、基板上に第2パターンを形成すること、
c)第2ターゲット部分を照射している間、第1パターン上での第2パターン付きビームの回折による回折ビームを検出すること、
d)該回折ビームと所望の回折ビームとを比較すること、および
e)検出された回折ビームと所望の回折ビームとの差に基づいて、基板のアライメントを行うこと
を備える方法。 - 第1パターンと第2パターンは、集積回路トポロジーパターンを含む、請求項1に記載の方法。
- 第1パターンと第2パターンは、けがき線マーカを含む、請求項1に記載の方法。
- e)は、c)の経過中に実行される、請求項1に記載の方法。
- e)は、基板の次の照射前に実行される、請求項1に記載の方法。
- c)は、少なくとも2つの回折ビームを検出することを含む、請求項1に記載の方法。
- 2つの回折ビームは、異なる次数の回折ビームを含む、請求項6に記載の方法。
- 2つの回折ビームは、互いにほぼ垂直な回折ビームを含む、請求項6に記載の方法。
- 2つの回折ビームは、n次と−n次の回折次数ビームを含み、nは自然数を含む、請求項6に記載の方法。
- 回折されたビームはc)にて基板レベルで検出され、回折されたビームを検出するディテクタの視野は基板に向けられている、請求項1に記載の方法。
- ディテクタの視野は、基板の第2ターゲット部分のほぼ全域にわたる、請求項10に記載の方法。
- 回折されたビームが第1パターン付きビームおよび第2パターン付きビームを投影する投影システムを通過した後、そして回折されたビームが第1パターン付きビームおよび第2パターン付きビームを形成するパターニングデバイスによって回折された後に、c)で回折されたビームは検出され、回折されたビームを検出するディテクタの視野はパターニングデバイスに向けられている、請求項1に記載の方法。
- ディテクタの視野は、パターニングデバイスの下流面に向けられている、請求項12に記載の方法。
- ディテクタの視野は、パターニングデバイスの上流面に向けられている、請求項12に記載の方法。
- 所望の回折ビームは、第1パターンを第2パターンで繰り返し照明し、第1パターンと第2パターンとで異なるオフセットを用いることによって決まる、請求項1に記載の方法。
- 基板の第1ターゲット部分に第1パターン付きビームを投影して、基板上に第1パターンを形成し、かつ第1ターゲット部分に少なくとも部分的に重なっている基板の第2ターゲット部分に第2パターン付きビームを投影して、基板上に第2パターンを形成するように構成された投影システム、
第2ターゲット部分の投影中に、第1パターン上での第2パターン付きビームの回折による回折ビームを検出するように構成されたディテクタ、
該回折ビームと所望の回折ビームとを比較するように構成されたコンパレータ、および
検出された回折ビームと所望の回折ビームとの差に基づいて、基板のアライメントを行うように構成された位置決めシステム
を備えるリソグラフィ装置。 - 第1パターンと第2パターンは、集積回路トポロジーパターンを含む、請求項16に記載のリソグラフィ装置。
- 第1パターンと第2パターンは、けがき線マーカを含む、請求項16に記載のリソグラフィ装置。
- 位置決めシステムによるアライメントは、第2パターンの投影の間に実行される、請求項16に記載のリソグラフィ装置。
- 位置決めシステムによるアライメントは、基板の次の照射前に実行される、請求項16に記載のリソグラフィ装置。
- ディテクタは、少なくとも2つの回折ビームを検出する少なくとも2つの光ディテクタを含む、請求項16に記載のリソグラフィ装置。
- 2つの回折ビームは、異なる次数の回折ビームを含む、請求項21に記載のリソグラフィ装置。
- 2つの回折ビームは、互いにほぼ垂直な回折ビームを含む、請求項21に記載のリソグラフィ装置。
- 2つの回折ビームは、n次と−n次の回折次数ビームを含み、nは自然数を含む、請求項21に記載のリソグラフィ装置。
- 回折されたビームを基板レベルで検出するために、ディテクタの視野は基板に向けられている、請求項16に記載のリソグラフィ装置。
- ディテクタの視野は、基板の第2ターゲット部分のほぼ全域にわたる、請求項25に記載のリソグラフィ装置。
- 投影システムを通過しかつパターニングデバイスによって回折された前記回折されたビームを検出するために、ディテクタの視野は、第1パターン付きビームおよび第2パターン付きビームを形成するパターニングデバイスに向けられている、請求項16に記載のリソグラフィ装置。
- ディテクタの視野は、パターニングデバイスの下流面に向けられている、請求項27に記載のリソグラフィ装置。
- ディテクタの視野は、パターニングデバイスの上流面に向けられている、請求項27に記載のリソグラフィ装置。
- 所望の回折ビームは、第1パターンを第2パターンで繰り返し照明し、第1パターンと第2パターンとで異なるオフセットを用いることによって決まる、請求項16に記載のリソグラフィ装置。
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