JP2007165626A - 発光素子及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】ガリウム酸化物基板の化合物半導体成長工程において使用する水素ガスによってもエッチング等の影響を受けず、基板平面性がよく、基板の透明性に優れたガリウム酸化物基板上に形成された発光素子、及び、その製造方法を提供する。
【解決手段】裏面に基板保護層を有し、表面に半導体材料を結晶成長させるガリウム酸化物基板と、前記ガリウム酸化物基板上に結晶成長させて形成した発光素子部とを有する発光素子とする。また、表面に結晶成長させるガリウム酸化物基板の裏面に基板保護層を形成する保護層形成工程と、前記ガリウム酸化物基板上に結晶成長させて発光素子部を形成する発光素子部形成工程と、前記発光素子部を電気的に接続して発光素子に組立てる組立工程とを有するものとする。
【選択図】図3
【解決手段】裏面に基板保護層を有し、表面に半導体材料を結晶成長させるガリウム酸化物基板と、前記ガリウム酸化物基板上に結晶成長させて形成した発光素子部とを有する発光素子とする。また、表面に結晶成長させるガリウム酸化物基板の裏面に基板保護層を形成する保護層形成工程と、前記ガリウム酸化物基板上に結晶成長させて発光素子部を形成する発光素子部形成工程と、前記発光素子部を電気的に接続して発光素子に組立てる組立工程とを有するものとする。
【選択図】図3
Description
本発明は、基板保護層を有するガリウム酸化物の基板上に結晶成長させて形成された発光素子、及び、その製造方法に関する。
従来の発光素子として、SiCからなる基板上にGaNからなるn型層およびp型層を積層したもの等が知られている(例えば、特許文献1参照)。
これに対して、基板を紫外領域の光を透過するものとし、可視領域から紫外領域の光を透過する無色透明の導電体を得ることができ、その導電体を基板に用いて垂直電極構造とすることが可能であり、基板側をも光の取り出し面とすることができる発光素子として、ガリウム酸化物の基板を使用して発光素子を形成したものが開発されている(例えば、特許文献2参照)。
特開2002−255692号公報
特開2004−56098号公報
しかし、特許文献2に開示された発光素子は、GaN層等のエピタキシャル層の成長工程においては、窒素源としてNH3が用いられ、キャリアガスとして水素ガスが用いられる。ガリウム酸化物の基板、特に、Ga2O3基板は、この水素ガスにより基板裏面がエッチングされ、光の透過性が低下すると共に、基板平面性が劣化する。
水素キャリアによるエッチングは、高温熱処理(例えば、1100℃での熱処理)によるダメージと、低温熱処理(例えば、650℃での熱処理)によるダメージが観察される。このダメージによるエッチング跡をSEM観察すると、(010)面、(100)面が特にエッチングされやすいことがわかる。しかし、エピタキシャル成長面を(001)面としても、基板裏面側の微細なキズ等からエッチングが進行し、基板裏面側にエッチング跡が生じないよう結晶成長させることは困難である。
よって、ガリウム酸化物基板上にGaN層等を成長させて形成した発光素子において、基板裏面から出射光を取出すには研磨等で平坦化する必要があり、また、発光素子製造工程において、基板裏面の平面性が悪く化合物半導体成長工程に種々の悪影響を与えることになる。
従って、本発明の目的は、ガリウム酸化物基板の化合物半導体成長工程において使用する水素ガスによってもエッチング等の影響を受けず、基板平面性がよく、基板の透明性に優れたガリウム酸化物基板上に形成された発光素子、及び、その製造方法を提供することにある。
本発明は、上記目的を達成するために、裏面に基板保護層を有し、表面に半導体材料を結晶成長させるガリウム酸化物基板と、前記半導体材料を前記ガリウム酸化物基板の前記表面に結晶成長させて形成した発光素子部とを有する発光素子を提供する。
また、本発明は、上記目的を達成するために、表面に半導体材料を結晶成長させるガリウム酸化物基板の裏面に基板保護層を形成する保護層形成工程と、前記半導体材料を前記ガリウム酸化物基板の前記表面に結晶成長させて発光素子部を形成する発光素子部形成工程と、前記発光素子部を電気的に接続して発光素子に組立てる組立工程とを有する発光素子の製造方法を提供する。
本発明の発光素子及びその製造方法によれば、ガリウム酸化物基板の化合物半導体成長工程において使用する水素ガスによってもエッチング等の影響を受けず、基板平面性がよく、基板の透明性に優れたガリウム酸化物基板上に形成された発光素子、及び、その製造方法を提供することが可能となる。
(第1の実施の形態)
(ガリウム酸化物基板)
図1は、発光素子を形成する成長基板であるガリウム酸化物基板を示す図である。ガリウム酸化物基板としては、Ga2O3基板、特に、β―Ga2O3基板が挙げられる。以下では、ガリウム酸化物基板としてGa2O3基板を用いて説明する。
(ガリウム酸化物基板)
図1は、発光素子を形成する成長基板であるガリウム酸化物基板を示す図である。ガリウム酸化物基板としては、Ga2O3基板、特に、β―Ga2O3基板が挙げられる。以下では、ガリウム酸化物基板としてGa2O3基板を用いて説明する。
Ga2O3基板1は、片面にCVD法、スパッタ法等により、基板保護層2が形成されている。基板保護層2としては、1200℃の耐熱性を有する材料で構成されるのが好ましく、TiN,W,WSi,BP,Al2O3,Mo,Ta,GaN,AlN等が挙げられる。この中でも、導電性を有するTiN,W,WSi,BPが特に好ましい。この実施例では、導電性を有するTiNを基板保護層2として用いる。また、基板保護層2は、少なくともピンホールの発生しない程度の膜厚を有することが好ましく、例えば、500Å〜5000Åの膜厚が好ましい。
(発光素子の形成)
図2は、MOCVD法を示す概略図であり、MOCVD装置の主要部を示す概略断面を示す。MOCVD装置100は、真空ポンプおよび排気装置(図示せず)を備えた排気部106が接続された反応容器101と、Ga2O3基板1を載置するサセプタ102と、サセプタ102を加熱するヒータ103と、サセプタ102を回転、上下移動させる制御軸104と、Ga2O3基板1に向って斜め、または水平に原料ガスを供給する石英ノズル105と、各種原料ガスを発生する、TMG(トリメチルガリウム)ガス発生装置111、TMA(トリメチルアルミニウム)ガス発生装置112、TMI(トリメチルインジウム)ガス発生装置113等を備える。なお、必要に応じてガス発生装置の数を増減してもよい。窒素源としてNH3が用いられ、キャリアガスとしてH2が用いられる。GaN薄膜を形成するときは、TMGとNH3が、AlGaN薄膜を形成するときは、TMA、TMGおよびNH3が、InGaN薄膜を形成するときは、TMI、TMGおよびNH3が用いられる。
MOCVD装置100により薄膜を形成するには、例えば、以下のように行う。まず、Ga2O3基板1は、基板保護層2を下面にし、薄膜が形成される面を上にしてサセプタ102に保持され、反応容器101内に設置される。
図2は、MOCVD法を示す概略図であり、MOCVD装置の主要部を示す概略断面を示す。MOCVD装置100は、真空ポンプおよび排気装置(図示せず)を備えた排気部106が接続された反応容器101と、Ga2O3基板1を載置するサセプタ102と、サセプタ102を加熱するヒータ103と、サセプタ102を回転、上下移動させる制御軸104と、Ga2O3基板1に向って斜め、または水平に原料ガスを供給する石英ノズル105と、各種原料ガスを発生する、TMG(トリメチルガリウム)ガス発生装置111、TMA(トリメチルアルミニウム)ガス発生装置112、TMI(トリメチルインジウム)ガス発生装置113等を備える。なお、必要に応じてガス発生装置の数を増減してもよい。窒素源としてNH3が用いられ、キャリアガスとしてH2が用いられる。GaN薄膜を形成するときは、TMGとNH3が、AlGaN薄膜を形成するときは、TMA、TMGおよびNH3が、InGaN薄膜を形成するときは、TMI、TMGおよびNH3が用いられる。
MOCVD装置100により薄膜を形成するには、例えば、以下のように行う。まず、Ga2O3基板1は、基板保護層2を下面にし、薄膜が形成される面を上にしてサセプタ102に保持され、反応容器101内に設置される。
(LED素子の構成)
図3は、第1の実施の形態に係る発光素子としてのLEDの構成を示すものである。
図3は、第1の実施の形態に係る発光素子としてのLEDの構成を示すものである。
このLED素子10は、n型の導電型を有するGa2O3基板1を有し、Ga2O3基板1上にSiドープのn+−GaN層12と、Siドープのn−AlGaN層13と、InGaN/GaNの多重量子井戸構造を有するMQW(Multiple−Quantum Well)14と、Mgドープのp−AlGaN層15と、Mgドープのp+−GaN層16と、ITO(Indium Tin Oxide)からなるp電極17とを順次積層して形成されており、Ga2O3基板1の下面には基板保護層2を有する。
n+−GaN層12およびp+−GaN層16は、1100℃の成長温度条件でキャリアガスとしてN2を使用し、NH3とトリメチルガリウム(TMG)をGa2O3基板1が配置されたリアクタ内に供給することにより形成される。n+−GaN層12についてはn型の導電性を付与するためのドーパントとしてモノシラン(SiH4)をSi原料として使用し、p+−GaN層16についてはp型の導電性を付与するためのドーパントとしてシクロペンタジエニルマグネシウム(Cp2Mg)をMg原料として使用する。また、n−AlGaN層13およびp−AlGaN層15については、上記したもののほかに更にTMAをリアクタ内に供給することによって形成される。
MQW14は、1100℃の成長温度条件でキャリアガスとしてH2を使用し、トリメチルインジウム(TMI)とTMGをリアクタ内に供給することによって形成される。InGaNの形成時にはTMIとTMGが供給され、GaNの形成時にはTMGが供給される。
(LED素子の製造工程)
まず、MOCVD装置のサセプタに基板保護層2を下にしてGa2O3基板1を搭載する。
まず、MOCVD装置のサセプタに基板保護層2を下にしてGa2O3基板1を搭載する。
(GaN形成工程)
次に、所定の温度(400℃)に昇温して、N2の供給を開始する。続いてリアクタ内の昇温を開始し、1100℃となったときに昇温を停止し、その温度を維持するとともにTMGを60sccm供給することによって膜厚1μmのn+−GaN層12を形成する。次に、リアクタへのN2の供給を停止し、H2を供給する。
次に、所定の温度(400℃)に昇温して、N2の供給を開始する。続いてリアクタ内の昇温を開始し、1100℃となったときに昇温を停止し、その温度を維持するとともにTMGを60sccm供給することによって膜厚1μmのn+−GaN層12を形成する。次に、リアクタへのN2の供給を停止し、H2を供給する。
以降、n−AlGaN層13、MQW14、p−AlGaN15層、p+−GaN層16、およびp電極17を順次形成する。
上記の工程により、Ga2O3基板1に形成された複数の発光素子は、ダイシング等により個別の発光素子に切断されて、ベアチップが作製される。
尚、上記の説明では、MQW構造の発光素子としたが、ヘテロ構造、ダブルへテロ構造、単一量子井戸構造等であっても同様に本発明が適用できる。
(発光素子の組立て)
上記のようにGa2O3基板1から取出された個々のベアチップは、以下のような工程により、発光装置として組立てられる。
上記のようにGa2O3基板1から取出された個々のベアチップは、以下のような工程により、発光装置として組立てられる。
Ga2O3基板1、エピタキシャル層21、p電極17で構成される発光素子は、回路基板等へ挿入接続されるリードピン31を有するサブマウント30に導電性の金属ペースト等を介して実装される。サブマウント30は、n型のシリコン基板で形成されているので、LED素子10を静電気から保護するためのツェナーダイオードとして動作し、導電性を有する基板保護層2は、サブマウント30上に形成されたp型半導体層30aに電気的に接続され、p電極17は、ボンディング電極19、ボンディング部20を介してボンディングワイヤ22によりサブマウント30に電気的に接続される。以上の工程により、回路基板等へ実装可能な発光素子ユニットとして完成する。
(実施の形態の効果)
第1の実施の形態によれば、Ga2O3基板のエピタキシャル成長工程において使用する水素ガスによってもGa2O3基板がエッチング等の影響を受けず、基板平面性が維持でき、Ga2O3基板の透明性に優れた発光素子、及び、その製造方法が可能となる。
第1の実施の形態によれば、Ga2O3基板のエピタキシャル成長工程において使用する水素ガスによってもGa2O3基板がエッチング等の影響を受けず、基板平面性が維持でき、Ga2O3基板の透明性に優れた発光素子、及び、その製造方法が可能となる。
そして、基板保護層として導電性を有する材質を使用することで、基板保護層はn電極として機能するので、基板保護層は2つの機能を果たすことになり、生産性向上及びコスト低減に繋がる。また、Ga2O3基板の透明性が維持されるので、基板裏面から発光素子の出射光を取出す構成にすることも可能となる。
(第2の実施の形態)
図4は、第2の実施の形態に係る発光素子としてのLEDの構成を示すものである。
図4は、第2の実施の形態に係る発光素子としてのLEDの構成を示すものである。
第2の実施の形態は、第1の実施の形態において、サブマウント30に対して、発光素子10のp側n側を上下逆に配置して構成したものである。すなわち、Ga2O3基板1から取出されたベアチップは、p電極17がサブマウント30に導電性の金属ペースト等を介して実装されると共に、導電性を有するTiNで形成された基板保護層2はn電極として機能するので、ボンディング電極19、ボンディング部20を介してボンディングワイヤ22によりサブマウント30上に形成されたp型半導体層30aに電気的に接続される。以上の工程により、回路基板等へ実装可能な発光素子ユニットとして完成する。
(第3の実施の形態)
図5は、第3の実施の形態に係る発光素子としてのLEDの構成を示すものである。
図5は、第3の実施の形態に係る発光素子としてのLEDの構成を示すものである。
第3の実施の形態は、第1の実施の形態において、基板保護層2として導電性を有しないAlNを用いた構成となっている。第1の実施の形態と同様にしてMOCVD法によりエピタキシャル層21を形成し、その後、基板保護層2を研磨、CMP(Chemical Mechanical Polishing)法、エッチング等により除去する。
基板保護層2の除去後に、エピタキシャル層21の両側に、フォトリソグラフィ技術を用いたパターニングを作製し、蒸着によりp電極17、およびn電極18を形成する。
上記の工程により、Ga2O3基板1に形成された発光素子は、ダイシング等により個別の発光素子に切断されて、ベアチップが作製される。
(発光素子の組立て)
Ga2O3基板1、エピタキシャル層21、p電極17、及びn電極18で構成される発光素子は、回路基板等へ挿入接続されるリードピン31を有するサブマウント30に導電性の金属ペースト等を介して実装される。サブマウント30は、n型のシリコン基板で形成されているので、LED素子10を静電気から保護するためのツェナーダイオードとして動作し、n電極18はサブマウント30上に形成されたp型半導体層30aに電気的に接続され、p電極17は、ボンディング電極19、ボンディング部20を介してボンディングワイヤ22によりサブマウント30に電気的に接続される。以上の工程により、回路基板等へ実装可能な発光素子ユニットとして完成する。
Ga2O3基板1、エピタキシャル層21、p電極17、及びn電極18で構成される発光素子は、回路基板等へ挿入接続されるリードピン31を有するサブマウント30に導電性の金属ペースト等を介して実装される。サブマウント30は、n型のシリコン基板で形成されているので、LED素子10を静電気から保護するためのツェナーダイオードとして動作し、n電極18はサブマウント30上に形成されたp型半導体層30aに電気的に接続され、p電極17は、ボンディング電極19、ボンディング部20を介してボンディングワイヤ22によりサブマウント30に電気的に接続される。以上の工程により、回路基板等へ実装可能な発光素子ユニットとして完成する。
(実施の形態の効果)
第3の実施の形態によれば、第1の実施の形態の効果に加え、基板保護層として導電性を有しない材質を使用できるので、材料選択の幅が拡大して、製造プロセスへの制約を小さくできるという効果を有する。
第3の実施の形態によれば、第1の実施の形態の効果に加え、基板保護層として導電性を有しない材質を使用できるので、材料選択の幅が拡大して、製造プロセスへの制約を小さくできるという効果を有する。
(第4の実施の形態)
図6は、第4の実施の形態に係る発光素子としてのLEDの構成を示すものである。
図6は、第4の実施の形態に係る発光素子としてのLEDの構成を示すものである。
第4の実施の形態は、第3の実施の形態において、サブマウント30に対して、発光素子10のp側n側を上下逆に配置して構成したものである。すなわち、Ga2O3基板1から取出されたベアチップは、p電極17がサブマウント30に導電性の金属ペースト等を介して実装されると共に、n電極18は、ボンディング電極19、ボンディング部20を介してボンディングワイヤ22によりサブマウント30上に形成されたp型半導体層30aに電気的に接続される。以上の工程により、回路基板等へ実装可能な発光素子ユニットとして完成する。
1 Ga2O3基板
2 基板保護層
10 LED素子
12 n+−GaN層
13 n−AlGaN層
14 MQW
15 p−AlGaN層
16 p+−GaN層
17 p電極
18 n電極
19 ボンディング電極
20 ボンディング部
21 エピタキシャル層
22 ボンディングワイヤ
30 サブマウント
31 リードピン
2 基板保護層
10 LED素子
12 n+−GaN層
13 n−AlGaN層
14 MQW
15 p−AlGaN層
16 p+−GaN層
17 p電極
18 n電極
19 ボンディング電極
20 ボンディング部
21 エピタキシャル層
22 ボンディングワイヤ
30 サブマウント
31 リードピン
Claims (10)
- 裏面に基板保護層を有し、表面に半導体材料を結晶成長させるガリウム酸化物基板と、
前記半導体材料を前記ガリウム酸化物基板の前記表面に結晶成長させて形成した発光素子部とを有する発光素子。 - 前記基板保護層は、導電性を有し、前記基板保護層を電極として機能させて構成したことを特徴とする請求項1に記載の発光素子。
- 前記ガリウム酸化物基板は、Ga2O3基板であることを特徴とする請求項1に記載の発光素子。
- 前記基板保護層は、TiN、W、WSi、BP、Al2O3、Mo、Ta、GaN又は、AlNのいずれかであることを特徴とする請求項1に記載の発光素子。
- 表面に半導体材料を結晶成長させるガリウム酸化物基板の裏面に基板保護層を形成する保護層形成工程と、
前記半導体材料を前記ガリウム酸化物基板の前記表面に結晶成長させて発光素子部を形成する発光素子部形成工程と、
前記発光素子部を電気的に接続して発光素子に組立てる組立工程とを有する発光素子の製造方法。 - 前記ガリウム酸化物基板は、Ga2O3基板であることを特徴とする請求項5に記載の発光素子の製造方法。
- 前記基板保護層は、TiN、W、WSi、BP、Al2O3、又は、AlNのいずれかであることを特徴とする請求項5に記載の発光素子の製造方法。
- 前記組立工程は、前記基板保護層を除去する工程を含むことを特徴とする請求項5に記載の発光素子の製造方法。
- 前記基板保護層は、非導電性であることを特徴とする請求項8に記載の発光素子の製造方法。
- 前記基板保護層は、Al2O3又はAlNであることを特徴とする請求項9に記載の発光素子の製造方法。
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