JP2007142419A - アライメントマークとしての2元正弦サブ波長回折格子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は基板上で使用するためのアライメントマークに関し、そのアライメントマークは周期的な2次元アレイの構造から成り、この構造の間隔はアライメント放射ビームよりも小さいが、露光ビームよりも大きく、さらにその構造の幅はアレイの一端から他端に正弦的に変化する。
【選択図】図3
Description
周期的なアレイは第1および第2の端部を有し、
周期的なアレイの構造は、アライメント放射ビームの波長よりも小さい距離だけ離間され、
周期的なアレイの構造の幅は、周期内の局所位相(有効屈折率に比例する)が周期的なアレイの第1の端部から第2の端部まで正弦的に変化するように周期内で変化する。
周期的なアレイは、第1および第2の端部を有し、
周期的なアレイの構造は、アライメント放射ビームの波長よりも小さい距離だけ離間され、
周期的なアレイの構造の幅は、周期内の局所位相(有効屈折率に比例する)が周期的なアレイの第1の端部から第2の端部まで正弦的に変化するように周期内で変化する。
周期的かつ正弦的なアレイの反射構造を基板上に設けるステップと、
その反射構造間の距離よりも大きな波長を含むアライメント放射ビームによって周期的かつ正弦的なアレイを照明するステップと、
反射されたアライメント放射ビームを検出するステップと、
その反射されたアライメント放射ビームの特性から、周期的かつ正弦的なアレイがパターンとアライメントされているか否かを決定するステップと、を含む。
周期的なアレイの構造を含む層を基板上に堆積するステップを含み、
周期的なアレイは、屈折率の周期的な変化を有し、
周期的なアレイの構造間の間隔は、所期のアライメント放射ビームの波長よりも小さく、
周期的なアレイの構造の幅は、局所位相(有効屈折率に比例する)が周期的なアレイの第1の端部から他方の端部まで正弦的に変化するように周期内で変化する。
その基板は周期的なアレイの構造から作製されたアライメントマークを含み、
周期的なアレイの構造間の距離は、アライメント放射ビームの波長よりも小さく(しかし、パターン形成されたビームの波長よりも大きく)、
隣接する周期的なアレイの構造の幅は、周期内の局所位相(有効屈折率に比例する)が周期的なアレイの第1の端部から第2の端部まで正弦的に変化するように周期内で変化する。
− 放射ビームB(例えば、UV(紫外)放射または可視光放射)を調整するように構成された照明系(照明器)IL、
− パターン形成装置(例えば、マスク)MAを支持するように作製され、かつ幾つかのパラメータに従ってパターン形成装置を精確に位置決めするように構成された第1の位置決め装置PMに連結されている支持体構造(例えば、マスク・テーブル)MT、
− 基板(例えば、レジスト塗布ウェハ)Wを保持するように作製され、かつ幾つかのパラメータに従って基板を精確に位置決めするように構成された第2の位置決め手段PWに連結されている基板テーブル(例えば、ウェハ・テーブル)WT、および
− 放射ビームBに付与されたパターンをパターン形成装置MAによって基板Wの標的部分C(例えば、1個または複数のダイを含む)の上に投影するように構成された投影系(例えば、屈折投影レンズ系)PSを具備する。
1. ステップモード:放射ビームに付与されたパターン全体を1回で標的部分Cの上に投影する間、マスク・テーブルMTおよび基板テーブルWTを本質的に静止状態に維持する(すなわち、単一静的露光)。次いで、異なる標的部分Cを露光できるように、基板テーブルWTをXおよび/またはY方向に移動する。ステップモードでは、露光域の最大サイズが、単一静的露光で描画される標的部分Cのサイズを限定する。
2. 走査モード:放射ビームに付与されたパターンを標的部分Cの上に投影する間、マスク・テーブルMTおよび基板テーブルWTを同期して走査する(すなわち、単一動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影系PSの(縮小/)拡大率と像反転特性によって決まり得る。走査方式では、露光域の最大サイズが単一動的露光における標的部分の幅(非走査方向における)を限定する一方で、走査の移動長さが標的部分の高さ(走査方向における)を決定する。
3. 別のモード:放射ビームに付与されたパターンを標的部分Cの上に投影する間、プログラム可能なパターン形成装置を保持するマスク・テーブルMTを本質的に静止状態に維持し、かつ基板テーブルWTを移動または走査する。このモードでは、一般にパルス放射線源が使用され、基板テーブルWTの移動後毎にまたは走査中の連続的な放射パルスの合間に、プログラム可能なパターン形成手段を必要に応じて更新する。このような動作モードは、上で言及した種類のプログラマブル・ミラー・アレイなどのプログラム可能なパターン形成装置を利用するマスクレス・リソグラフィに容易に応用可能である。
tm=(b−cm)/b
Claims (15)
- 周期的なアレイの構造を含むアライメントマークを表面上に設けた基板であって、
前記周期的なアレイは第1および第2の端部を有し、
前記周期的なアレイの構造はアライメント放射ビームの波長よりも小さいピッチを有し、
前記周期的なアレイの構造の幅は、局所位相が該周期的なアレイの前記第1の端部から前記第2の端部まで正弦的に変化するように周期内で変化する、
基板。 - 前記周期的なアレイのデューティ・サイクルは、回折格子が該周期的なアレイの一端から他端まで正弦的に変化する局所位相を有するように変化し、(b−cm)/bで定義され、cmは隣接する構造mとm+1との間の距離であり、bはサブ波長周期である、
請求項1記載の基板。 - 前記周期的なアレイの周期は一定である、請求項1記載の基板。
- 前記周期的なアレイ(第1のアレイ)とは異なる周期を有する第2のアレイをさらに含み、
前記第2のアレイは前記第1のアレイの上に重ねられて、それらの相対的なアライメントが測定されるように設けられている、
請求項1記載の基板。 - 前記第1のアレイは16ミクロンの周期を有し、
前記第2のアレイは17.6ミクロンの周期を有する、
請求項4記載の基板。 - 前記アライメントマークは、前記基板上の1つまたは複数のレジスト層に適用される、
請求項1記載の基板。 - 前記アライメントマークは深いトレンチ層に適用される、
請求項1記載の基板。 - 前記アライメントマークはリソグラフィ装置におけるプロセス層に適用される、
請求項1記載の基板。 - 前記周期的なアレイの前記デューティ・サイクルおよび周期は、該周期的なアレイを含む材料の屈折率の実部および虚部に影響を与える、
請求項1記載の基板。 - パターンと該パターンを表面上に露光すべき基板とのアライメントを測定するためのアライメント測定システムであって、
2つの周期的なアレイ(第1のアレイおよび第2のアレイ)の構造を含むアライメントマークを表面上に設けた基板を備え、
前記第2のアレイが、前記第1のアレイの上に重なっており、
前記2つの周期的なアレイのそれぞれが、第1および第2の端部を有し、
前記2つの周期的なアレイの構造は、アライメント放射ビームの波長よりも小さいピッチを有し、
前記2つの周期的なアレイの構造の幅は、局所位相が該2つの周期的なアレイの前記第1の端部から前記第2の端部まで正弦的に変化するように周期内で変化し、
前記2つの周期的なアレイは、異なる周期を有し、
当該システムは、
前記2つの周期的なアレイの構造を照明するための照明手段と、
前記2つの周期的なアレイの結合された回折放射の回折次数を分離するための光学くさびと、
前記2つの周期的なアレイの前記分離された回折次数を測定するための検出器と、
を備える、アライメント測定システム。 - アライメントマークを露光するためのパターンを含むマスクであって、該アライメントマークは周期的なアレイの構造を含み、
前記周期的なアレイは、第1および第2の端部を有し、
前記周期的なアレイの構造は、アライメント放射ビームの波長よりも小さい距離だけ離間され、
前記周期的なアレイの構造の幅は、局所位相が該周期的なアレイの前記第1の端部から前記第2の端部まで正弦的に変化するように周期内で変化する、
マスク。 - 基板上のパターンのアライメントを検査する検査方法であって、
周期的かつ正弦的なアレイの反射構造を基板上に設けるステップと、
前記反射構造間の距離よりも大きな波長を含むアライメント放射ビームによって前記周期的かつ正弦的なアレイを照明するステップと、
反射された前記アライメント放射ビームを検出するステップと、
前記反射されたアライメント放射ビームの特性に基づいて、前記周期的かつ正弦的なアレイが前記パターンとアライメントされているか否かを決定するステップと、
を備える検査方法。 - アライメントマークを基板上に創出する方法であって、
周期的なアレイの構造を含む層を前記基板上に堆積するステップを備え、
前記周期的なアレイは、屈折率の周期的な変化を有し、
前記周期的なアレイの構造間の間隔は、所期のアライメント放射ビームの波長よりも小さく、
前記周期的なアレイの構造の幅は、局所位相が該周期的なアレイの一方の端部から他方の端部まで正弦的に変化するように選択される、
方法。 - パターン形成された放射ビームを基板上に投影するステップを含むデバイス製造方法であって、
前記基板は周期的なアレイの構造から作製されたアライメントマークを含み、
前記周期的なアレイは、第1および第2の端部を有し、
前記周期的なアレイの構造間の距離は、アライメント放射ビームの波長よりも小さく、
前記周期的なアレイの構造の幅は、局所位相が該周期的なアレイの前記第1の端部から前記第2の端部まで正弦的に変化するように周期内で変化する、
デバイス製造方法。 - 請求項14に記載のデバイス製造方法によって製造されるデバイス。
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