JP2007131612A - 日焼け止め化粧料 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】2,4−ビス{[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]−フェニル}−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリル酸エチルヘキシル、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、2,2’−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール]、ジメチコジエチルベンザルマロネートからなる紫外線吸収剤の一種または二種以上と、下記一般式で示されるアルキルアリール1,3−プロパンジオンシリコーン誘導体とを含有する。
【選択図】なし
Description
下記一般式(I)で示されるアルキルアリール1,3−プロパンジオンシリコーン誘導体とを含有することを特徴とする日焼け止め化粧料を提供するものである。
一般式(I)
本発明に用いる紫外線吸収剤は、2,4−ビス{[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]−フェニル}−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリル酸エチルヘキシル、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、2,2’−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール、ジメチコジエチルベンザルマロネートのいずれかの紫外線吸収剤である。これらの紫外線吸収剤は公知の紫外線吸収剤であり、いずれも市販品を利用できる。二種以上の任意の組み合わせを配合しても良い。これらは、日焼け止め化粧料に配合した場合に、極端に悪い使用感(特にべたつき)を発揮することが確認された紫外線吸収剤である。
一般式(I)のアルキルアリール1,3−プロパンジオンシリコーン誘導体は公知化合物である(特許第3229383号公報参照)。
R1の例として水酸基、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−アミル基、イソアミル基、n−ヘキシル基、2−エチルブチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、s−ブトキシ基、t−ブトキシ基、n−アミロキシ基、イソアミロキシ基、n−ヘキシロキシ基、2−エチルブトキシ基、n−ペンチロキシ基、n−オクチロキシ基、2−エチルヘキシロキシ基等のアルコキシ基が挙げられる。
R2は炭素数が1〜7のアルキル基であればいずれでもよいが、カルボキシル基との結合炭素原子が二級又は三級のものが好ましい。特に好適なR2の例として、イソプロピル基、tert−ブチル基、エチルプロピル基又はエチルペンチル基等が挙げられる。
R3は炭素数2〜10のアルキル基であればいずれでもよく、R3の例としては、−CH2CH2−、−CH2CH2CH2−、−CH2CH(CH3)CH2−、−CH(CH3)CH2CH2−、−CH2CH2CH(CH3)−、−CH2CH2CH2CH2−、−CH2CH2OCH2CH2−、ヘキシレン、シクロヘキシレン、デシレン基等が挙げられるが、特に、炭素数2〜4のアルキレン基が好ましい。R4の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、フェニル基、トリメチルシロキシ基等が挙げられるが、原料の入手のしやすさ等の理由からメチル基又はその一部がフェニル基であること又はトリメチルシロキシ基であることが好ましい。
R4は同一、又は異なってもよく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、フェニル基、トリメチルシロキシ基等が挙げられるが、メチル基又はその一部がフェニル基であること、あるいはトリメチルシロキシ基であることが好ましい。
第一段階
第二段階
{上記丸数字3の化合物}+{分子内に一つのSi−H基を含有する繰り返し単位数2〜5のシロキサン}→ 一般式(II)
アルキルアリール1,3−プロパンジオン誘導体(丸数字3)と、一つのSiH基を含有する繰り返し単位数2〜5のシロキサンとの反応も、通常の触媒、例えば炭素に担持された白金、塩化白金酸、アセチルアセトン白金錯体、不飽和化合物類との白金錯体、不飽和シロキサン類白金錯体、ロジウム化合物及び白金化合物の錯体で反応が促進される。
カプリルアルコール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、セチルアルコール、コレステロール、フィトステロールなどの高級アルコール。
カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘニン酸、ラノリン脂肪酸、リノール酸、リノレン酸などの高級脂肪酸。
ポリエチレングリコール、グリセリン、ソルビトール、キシリトール、マルチトール、ムコ多糖、ヒアルロン酸、コンドロイチン硫酸、キトサンなどの保湿剤。
メチルセルロース、エチルセルロース、アラビアガム、ポリビニルアルコールなどの増粘剤。
エタノール、1,3−ブチレングリコールなどの有機溶剤。
ブチルヒドロキシトルエン、トコフェロール、フィチン酸などの酸化防止剤。
安息香酸、サリチル酸、ソルビン酸、パラオキシ安息香酸エステル(エチルパラベン、ブチルパラベンなど)、ヘキサクロロフェンなどの抗菌防腐剤。
グリシン、アラニン、バリン、ロイシン、セリン、トレオニン、フェニルアラニン、チロシン、アスパラギン酸、アスパラギン、グルタミン、タウリン、アルギニン、ヒスチジンなどのアミノ酸と塩酸塩。
アシルサルコシン酸(例えばラウロイルサルコシンナトリウム)、グルタチオン、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸、乳酸などの有機酸。
ビタミンA及びその誘導体、ビタミンB6塩酸塩、ビタミンB6トリパルミテート、ビタミンB6ジオクタノエート、ビタミンB2及びその誘導体、ビタミンB12、ビタミンB15及びその誘導体などのビタミンB類、アスコルビン酸、アスコルビン酸リン酸エステル(塩)、アスコルビン酸ジパルミテートなどのビタミンC類、α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、ビタミンEアセテート、ビタミンEニコチネートなどのビタミンE類、ビタミンD類、ビタミンH、パントテン酸、パンテチンなどのビタミン類。
ニコチン酸アミド、ニコチン酸ベンジル、γ−オリザノール、アラントイン、グリチルリチン酸(塩)、グリチルレチン酸及びその誘導体、ヒノキチオール、ムシジン、ビサボロール、ユーカリプトール、チモール、イノシトール、サポニン類(サイコサポニン、ニンジンサポニン、ヘチマサポニン、ムクロジサポニンなど)、パントテニルエチルエーテル、エチニルエストラジオール、トラネキサム酸、セファランチン、プラセンタエキスなどの各種薬剤。
ギシギシ、クララ、コウホネ、オレンジ、セージ、タイム、ノコギリソウ、ゼニアオイ、センキュウ、センブリ、トウキ、トウヒ、バーチ、スギナ、ヘチマ、マロニエ、ユキノシタ、アルニカ、ユリ、ヨモギ、シャクヤク、アロエ、クチナシ、サワラなどの有機溶剤、アルコール、多価アルコール、水、水性アルコールなどで抽出した天然エキス。
ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、塩化ベンザルコニウム、ラウリルアミンオキサイドなどのカチオン界面活性剤。
エデト酸二ナトリウム、エデト酸三ナトリウム、クエン酸ナトリウム、ポリリン酸ナトリウム、メタリン酸ナトリウム、グルコン酸等の金属封鎖剤。
香料、スクラブ剤、精製水など。
の合成例>
好ましい具体的化合物として下記化合物1〜9が挙げられるが、そのうち化合物1、化合物2、化合物5、化合物7、化合物8、化合物9の製造例を示す。
「化合物1」
「化合物2」
「化合物3」
「化合物4」
「化合物5」
「化合物6」
「化合物7」
「化合物8」
「化合物9」
なお、前記化合物1〜9中、Si2、Si3、Si5はそれぞれ次の化学式で示される。
「Si2」
「Si3」
「Si5」
1−(3−メトキシ−4−アリロキシフェニル)−3−tert−ブチル1,3−プロパンジオン2.5g、1,1,1,3,3−ペンタメチルジシロキサン1.7g、トルエン20mlの混液にヘキサクロロ白金(IV)酸六水和物0.5mgを添加し、攪拌下に100〜105℃で6時間反応させた。反応終了後トルエンを減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(2v/v%酢酸エチル−ヘキサン混液で溶出)で分離精製して無色の油状物2.6gを得た。収率は68.4%であった。λmax:335nm(ε=24090)、マススペクトルM+m/e 438
1−(3−メトキシ−4−アリロキシフェニル)−3−tert−ブチル1,3−プロパンジオン13.0g、1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキサン11.0g、トルエン30mlの溶液にテトラメチルジビニルジシロキサン白金錯体トルエン溶液(白金含量4w/w%含有)0.03gを添加し、5時間攪拌下に還流した。反応終了後トルエンを減圧留去し、シリカゲルクロマトグラフィー(2v/v%酢酸エチル−ヘキサン混液で溶出)で分離精製して10.2gの目的物を得た。収率は47.1%であった。λmax:334nm(ε=23550)、マススペクトルM+m/e 512
1−(3−アリル−4,5−ジメトキシフェニル)−3−(1−エチルペンチル)−1,3−プロパンジオン3.4g、1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキサン2.4g、トルエン20mlの溶液に、テトラメチルビニルジシロキサン白金錯体トルエン溶液(白金含量4w/w%含有)0.01gを添加し、還流下に6時間反応させた。反応終了後トルエンを減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムに付した。1v/v酢酸エチル−ヘキサン混液で溶出して目的物4.1gが得られた。収率は73.2%であった。
無色油状λmax:334nm(ε=23500)、マススペクトルM+m/e 568
1−{3−メトキシ−4−(2−メチル−2−プロペノキシ)フェニル}−3−tert−ブチル−1,3−プロパンジオン25.1g、1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキサン20.2g、トルエン50mlの溶液に実施例2に記載の白金触媒0.05gを添加し、100℃〜110℃で18時間反応を行った。反応終了後、トルエンを留去し、残渣を減圧蒸留することにより目的物を分離精製した。収量28.8g、淡黄色油状、沸点bp182〜184℃/2mmHg、λmax:334nm(ε=27350)、マススペクトルM+m/e 526
1−{3−メトキシ−4−(4−ペンテノキシ)フェニル}−3−tert−ブチル−1,3−プロパンジオン38.7g、1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキサン29.7g、実施例2に記載の白金触媒0.02gをトルエン70mlに溶かし、95℃〜100℃で4時間反応を行った。反応終了後、トルエンを留去し、残渣を減圧下に蒸留して目的とする化合物39.7gを得た。淡黄色油状、沸点bp215〜225℃(バス温)/2mmHgλmax:334nm(ε=23220)、マススペクトルM+m/e 540
1−(3−メトキシ−4−アリロキシフェニル)−3−tert−ブチル−1,3−プロパンジオンのクライゼン転移反応により得た1−(3−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−アリルフェニル)−3−tert−ブチル−1,3−プロパンジオン(淡黄色結晶、融点115〜116℃)18.4g、1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキサン15.5g、実施例2記載の白金触媒0.02gをトルエン50mlに溶かし、100℃〜110℃で6時間反応を行った。反応終了後、トルエンを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(7v/v%酢酸エチル−ヘキサン混液で溶出)により分離精製して、目的物21.7gを得た。淡黄色固体、融点38〜39℃λmax:342nm(ε=24000)、マススペクトルM+m/e 512
「試験方法」
以下に示す処方中に表1記載の紫外線吸収剤を配合した。
質量%
1.ジメチルポリシロキサン 1
2.デカメチルシクロペンタシロキサン 25
3.トリメチルシロキシケイ酸 5
4.ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共重合体 1
5.ラウリルPEG−9ポリジメチルシロキシエチルジメチコン 1
6.イソノナン酸イソノニル 5
7.ジプロピレングリコール 5
8.グリチルリチン酸ジカリウム 0.02
9.グルタチオン 1
10.チオタウリン 0.05
11.クララエキス 1
12.パラベン 適量
13.フェノキシエタノール 適量
14.パラメトキシ桂皮酸2−エチルヘキシル 7.5
15.ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト 0.5
16.球状ポリアクリル酸アルキル粉体 5
17.ブチルエチルプロパンジオール 0.5
18.疎水化処理酸化亜鉛 15
19.精製水 残余
調製した各サンプルについて30人の専門パネルにより、べたつきの有無について確認した。
評価は下記基準により判定した。
◎:25人以上がべたつかないと回答した。
○:20人以上25人未満がべたつかないと回答した。
△:15人以上20人未満がべたつかないと回答した。
×:15人未満がべたつかないと回答した。
紫外線吸収剤B:2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリル酸エチルヘキシル
紫外線吸収剤C:ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル
紫外線吸収剤D:2,2’−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール]
紫外線吸収剤E:1−(3−メトキシ−4−アリロキシフェニル)−3−tert−ブチル1,3−プロパンジオン
{一般式(I)で示されるアルキルアリール1,3−プロパンジオンシリコーン誘導体}
紫外線吸収剤F:下記式で示されるジメチコジエチルベンザルマロネート
[パルソールSLX(INCI名:Polysilicone-15)の名称でDSM Nutritional Products, Sisselnから市販されている]
「実施例6:日焼け止め化粧料 W/O乳液」
質量%
1.ジメチルポリシロキサン 1
2.デカメチルシクロペンタシロキサン 25
3.トリメチルシロキシケイ酸 5
4.ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共重合体 1
5.ラウリルPEG−9ポリジメチルシロキシエチルジメチコン 1
6.イソノナン酸イソノニル 5
7.ジプロピレングリコール 5
8.グリチルリチン酸ジカリウム 0.02
9.グルタチオン 1
10.チオタウリン 0.05
11.クララエキス 1
12.パラベン 適量
13.フェノキシエタノール 適量
14.パラメトキシ桂皮酸2−エチルヘキシル 7.5
15.ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト 0.5
16.球状ポリアクリル酸アルキル粉体 5
17.ブチルエチルプロパンジオール 0.5
18.ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル 3
19.式(II)のアルキル−アリール1,3−プロパンジオンシリコーン誘導体
5
20.疎水化処理酸化亜鉛または疎水処理酸化チタン 15
21.精製水 残余
製造方法
油相に水相を徐々に添加し添加終了後、攪拌機を用いて乳化粒子が均一になるように調製した。
質量%
1.ポリオキシエチレン硬化ひまし油 1
2.ジメチコンコポリオール 0.5
3.デカメチルシクロペンタシロキサン 15
4.イソステアリン酸 0.5
5.フェニルトリメチコン 1
6.疎水化処理酸化チタン 5
7.2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリル酸エチルヘキシル 3
8.パラメトキシ桂皮酸2−エチルヘキシル 5
9.式(III)のアルキル−アリール1,3−プロパンジオンシリコーン誘導体
5
10.シリカ 1
11.クエン酸 0.01
12.クエン酸ナトリウム 0.09
13.パラベン 適量
14.フェノキシエタノール 適量
15.アルコール 5
16.ダイナマイトグリセリン 1
17.サクシノグルカン 0.2
18.セルロースガム 1
19.イオン交換水 残余
製造方法
9〜19の水相を調製後、1〜8の油相に徐々に添加し、最後にホモミキサーを用いて攪拌した。
質量%
1.ポリオキシエチレン硬化ひまし油 0.5
2.イソステアリン酸 0.2
3.パラメトキシ桂皮酸2−エチルヘキシル 7.5
4.式(III)のアルキル−アリール1,3−プロパンジオンシリコーン誘導体
2.0
5.2,2’−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール] 3.0
6.デカメチルシクロペンタシロキサン 35
7.ポリオキシブチレンポリオキシプロピレングリコール 2.0
8.ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト 0.5
9.疎水化処理酸化チタン 12.0
10.クエン酸 0.04
11.クエン酸ナトリウム 0.06
12.ジプロピレングリコール 2.0
13.メチルグルコース 1.0
14.ダイナマイトグリセリン 1.0
15.食塩 0.1
16.メチルパラベン 適量
17.フェノキシエタノール 適量
18.イオン交換水 残余
製造方法
1〜5の油相を10〜18の水相に徐々に添加してO/W製剤を得た。この製剤を6〜9の油相中に徐々に添加後、ホモミキサーで攪拌を行い目的のサンプルを得た。
質量%
1.ジメチルポリシロキサン 1
2.デカメチルシクロペンタシロキサン 25
3.トリメチルシロキシケイ酸 5
4.ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共重合体 1
5.ラウリルPEG−9ポリジメチルシロキシエチルジメチコン 1
6.イソノナン酸イソノニル 5
7.ジプロピレングリコール 5
8.グリチルリチン酸ジカリウム 0.02
9.グルタチオン 1
10.チオタウリン 0.05
11.クララエキス 1
12.パラベン 適量
13.フェノキシエタノール 適量
14.パラメトキシ桂皮酸2−エチルヘキシル 7.5
15.ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト 0.5
16.球状ポリアクリル酸アルキル粉体 5
17.ブチルエチルプロパンジオール 0.5
18.2,4−ビス{[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]−フェニル}−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン 3
19.式(II)のアルキル−アリール1,3−プロパンジオンシリコーン誘導体
5
20.疎水化処理酸化亜鉛または疎水処理酸化チタン 15
21.精製水 残余
製造方法
油相に水相を徐々に添加し添加終了後、攪拌機を用いて乳化粒子が均一になるように調製した。
質量%
1.ジメチルポリシロキサン 1
2.デカメチルシクロペンタシロキサン 25
3.トリメチルシロキシケイ酸 5
4.ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共重合体 1
5.ラウリルPEG−9ポリジメチルシロキシエチルジメチコン 1
6.イソノナン酸イソノニル 5
7.ジプロピレングリコール 5
8.グリチルリチン酸ジカリウム 0.02
9.グルタチオン 1
10.チオタウリン 0.05
11.クララエキス 1
12.パラベン 適量
13.フェノキシエタノール 適量
14.2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリル酸エチルヘキシル 5
15.ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト 0.5
16.球状ポリアクリル酸アルキル粉体 5
17.ブチルエチルプロパンジオール 0.5
18.2,4−ビス{[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]−フェニル}−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン 3
19.式(II)のアルキル−アリール1,3−プロパンジオンシリコーン誘導体
5
20.疎水化処理酸化亜鉛または疎水処理酸化チタン 15
21.精製水 残余
製造方法
油相に水相を徐々に添加し添加終了後、攪拌機を用いて乳化粒子が均一になるように調製した。
質量%
1.架橋型ポリエーテル変性シリコーン・ジメチル 10.0
ポリシロキサン配合物(注1)
2.ジメチルポリシロキサン(注2) 5.0
3.架橋型メチルポリシロキサン・デカメチル 15.0
シクロペンタシロキサン配合物(注3)
4.デカメチルシクロペンタシロキサン 10.0
5.2−エチルヘキサン酸セチル 3.0
6.ジメチコジエチルベンザルマロネート(注4)
7.式(II)のアルキル−アリール 5.0
1,3−プロパンジオンシリコーン誘導体
8.アルキルポリエーテル変性シリコーン(注5) 1.0
9.エタノール 10.0
10.1,3−ブチレングリコール 5.0
11.架橋型シリコーン・網状型シリコーンブロック共重合体(注5) 1.0
12.疎水化処理酸化チタン 2.0
13.アスコルビン酸グルコシド 2.0
14.防腐剤 適量
15.精製水 残量
16.トリエタノールアミン 1.5
17.香料 適量
(注1):KSG21(信越化学工業社製)
(注2):KF96A−6cs(信越化学工業社製)
(注3):KSG15(信越化学工業社製)
(注4):Parsol SLX(DSM Nutritional Products, Sisseln社製)
(注5):ABIL EM90(ゴールドシュミット社製)
(注6):KSP−100(信越化学工業社製)
製造方法
A:成分1〜8を均一に混合する。
B:成分9〜10及び成分13〜16を均一に溶解する。
C:AにBを加えて乳化する。
D:Cに成分11〜12及び成分17を加えて良く分散し、攪拌機を用いて乳化粒子が均一になるように調製し、日焼け止めクリームを得た。
以上のようにして得られた、日焼け止めクリームは、塗布時になめらかで、べた付かず、使用感に優れたものであった。
Claims (2)
- 2,4−ビス{[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]−フェニル}−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリル酸エチルヘキシル、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、2,2’−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール]、ジメチコジエチルベンザルマロネートからなる紫外線吸収剤の一種または二種以上と、
下記一般式(I)で示されるアルキルアリール1,3−プロパンジオンシリコーン誘導体とを含有することを特徴とする日焼け止め化粧料。
一般式(I)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006112079A JP4840976B2 (ja) | 2005-10-14 | 2006-04-14 | 日焼け止め化粧料 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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