JP2007120982A - Ｔｆｔアレイ検査装置 - Google Patents

Abstract

【課題】ＴＦＴアレイ検査装置において、メインチャンバ（ＭＣ）を小型化すると共に、ガラス基板のＺ方向に移動速度を高め、良好なスループットを得る。
【解決手段】ＴＦＴアレイ検査装置は、ガラス基板用ステージ２とステージ駆動機構と、メインチャンバ１の上方に設けた電子銃ユニット３を備える。ガラス基板検査用ステージ２はメインチャンバ１内に設け、ステージ駆動機構が備えるＺステージ駆動機構７の少なくとも駆動モータ７ａをメインチャンバ１外に設ける。Ｚステージ駆動機構は、メインチャンバ１の外部に設けられたＺ軸駆動用モータ７ａによって駆動され、メインチャンバ１内に設けられたＺステージ２ｄをＺ方向に移動する。駆動モータをメインチャンバの外部に設けることによって、大きな出力トルクを有する駆動モータの使用を可能として、Ｚステージの駆動速度を高め、ガラス基板の検査のスループットを高める。
【選択図】図１

Description

本発明は、ＴＦＴアレイ検査装置に関し、特に検査装置内でガラス基板をＺ方向に移動する機構に関する。

ＬＣＤ等の半導体製造では、ＴＦＴアレイ検査装置によって製造したＴＦＴアレイの検査を行っている。

ＴＦＴアレイ検査装置は、例えば、ＴＦＴアレイが形成されたＴＦＴ基板に電子線を照射するなどによってＴＦＴアレイの検査を行っている。このＴＦＴアレイ検査装置は、ＴＦＴ基板のアレイ検査を行うメインチャンバ（ＭＣ）と、このメインチャンバ（ＭＣ）とゲートを介して接続され、検査装置の外部から導入したガラス基板をメインチャンバ（ＭＣ）内に搬入あるいは、検査済みのガラス基板をメインチャンバ（ＭＣ）から搬出するロードロックチャンバ（ＬＬ）を備えている。

このロードロックチャンバ（ＬＬ）は内部にガラス基板搬送用パレットを備え、ローラ搬送機構やロボットハンド等のガラス基板搬送機構によって、ガラス基板をこのガラス基板搬送用パレットに載置した状態で搬送する。

また、メインチャンバ（ＭＣ）内にはガラス基板を検査するための電子銃ユニット、ガラス基板に検査用信号を印加するためのプローバフレーム、検査時においてガラス基板の隅々まで電子銃ユニットの下方へ移動させるためのＸＹθステージを備える。

ガラス基板の検査は、ガラス基板をロードロックチャンバ（ＬＬ）からメインチャンバ（ＭＣ）内のＸＹθステージ上へ移動させた後、ＸＹθステージの移動によってガラス基板をプローバフレームとのコンタクト位置に移動させ、移動位置において、プローバフレームを下降させてプローバフレームのプローブピンをガラス基板上の電極と接触させる。このガラス基板にプローブフレームをコンタクトさせた状態で、ＸＹθステージを移動させながら、ガラス基板に電子銃ユニットから電子線を照射することによりガラス基板上に電子線を走査させることで行う。

図７は、従来のＴＦＴアレイ検査装置のメインチャンバ内の概略構成を説明するための図である。図７において、メインチャンバ１内には、ガラス基板（図７には示していない）をメインチャンバ１内で移動するＸＹθステージ１２、ガラス基板に検査用信号を印加するプローバフレーム６、プローバフレーム６を接触させた状態のガラス基板に電子線を照射する電子銃ユニット３を備える。ＸＹθステージ１２は、θステージ１２ａ，Ｘステージ１２ｂ、Ｙステージ１２ｃを備える。

図８，９において、プローバフレーム６はメインチャンバ１内において保持部５によって保持されている。メインチャンバ１内にガラス基板１０を導入し、ＸＹθステージ１２上に載置した後（図９（ａ），（ｂ））、プローバフレーム６を保持部５からガラス基板１０上に移動して、ガラス基板１０とプローバフレーム６とを接触させる（図９（ｃ））。

その後、スライド機構４によって、ガラス基板をＸＹθステージ１２に載置した状態で電子銃ユニット３の下方位置まで移動させる（図９（ｄ））。ガラス基板１０を移動させた後、ＸＹθステージ１２を駆動することによって電子銃ユニット３から照射される電子線をガラス基板上で走査し、得られる検出信号によって基板のアレイ検査を行う（図９（ａ））。

検査後、スライド機構４によって、ガラス基板１０をＸＹθステージ１２と共に保持部５の下方位置に移動させ（図９（ｂ））、プローバフレーム６を上昇させて保持部５に保持させ（図９（ｃ））、ガラス基板１０をメインチャンバ１の外部に搬出させる（図９（ｄ））。

ＴＦＴアレイ検査装置では、ロードロックチャンバ（ＬＬ）からメインチャンバ（ＭＣ）内へガラス基板を導入し、導入したガラス基板とプローバフレームとの接触をさせる操作と、プローバフレームと接触させたガラス基板に電子銃ユニットから照射される電子線を走査させる操作との二つの操作をメインチャンバ（ＭＣ）内で行う必要があり、さらに、精度よく検査を行うために、ガラス基板及びプローバフレームと電子銃ユニットとの距離は小さいことが求められている。

そこで、従来のＴＦＴアレイ検査装置では、前記した図７に示すように、電子銃ユニットの下方位置で電子線を走査させる位置と、プローバフレームを電子銃ユニットと干渉しない位置に退避させ、プローバフレームとのガラス基板とを接触させる位置を分けて備え、この二つの位置の間でＸＹθステージを移動可能とする構成としている。

そのため、従来のＴＦＴアレイ検査装置では、プローバフレームの退避場所にＸＹθステージを移動させるストローク分だけ、実際の検査に必要なスペースよりも大きなスペースが必要となり、メインチャンバ（ＭＣ）が大型化するという問題がある。

そこで、このような問題を解決する一構成として、従来のＸＹθステージのＺ方向に駆動するＺステージを加えたガラス基板用ステージが考えられる。

図１０はこのＺステージを加えた構ガラス基板用ステージを備えるＴＦＴアレイ検査装置の一例を説明するための図である。

ガラス基板用ステージ２は、θステージ２ａ，Ｘステージ２ｂ、Ｙステージ２ｃに加えてＺ方向に移動するＺステージ２ｄを備える。この各方向の移動ステージは、ガラス基板用ステージ２の全体を移動させるスライド機構４上に、下方から上方に向かって順にＹステージ２ｃ（あるいはＸステージ２ｂ）、Ｘステージ２ｂ（あるいはＹステージ２ｃ）、Ｚステージ２ｄ、θステージ２ａが設けられて構成され、θステージ２ａはＺステージ２ｄによってＺ方向（上下方向）に移動可能としている。

ガラス基板用ステージ２は、この構成によって、θステージ２ａ上にガラス基板（図示していない）を載置した状態で、その下方に設けたＺステージ２ｄによってＺ方向に移動可能としている。

通常、メインチャンバ（ＭＣ）１内で用いる駆動モータとしては真空用ステッピングモータが用いられる。上記したＺステージ２ｄを駆動する駆動源として真空用ステッピングモータを用いた場合には、以下のような点を考慮する必要が生じる。

一般に使用される真空用ステッピングモータは出力トルクが小さいため、Ｚステージの駆動速度を高めることが難しく、ガラス基板の検査においてスループットを高めることが難しくなると予想される。

出力トルクが大きいな真空用ステッピングモータを用いることによって、Ｚステージの駆動速度及び検査のスループットの問題を解消することが考えられるが、真空用ステッピングモータのサイズや消費電力あるいは発生熱量は、出力トルクが大きくなるほど大きくなるため、ＴＦＴアレイ検査装置のサイズが大型化し、消費電力が大きくなり、また、発生した熱による変形等の対策を考慮しなければならないといった新たな問題が発生することになる。

そこで、本発明は前記した従来の問題点を解決し、ＴＦＴアレイ検査装置において、メインチャンバ（ＭＣ）を小型化すると共に、ガラス基板のＺ方向に移動速度を高め、良好なスループットを得ることを目的とする。

本発明は、ガラス基板をＺ方向に移動させる駆動機構を備えると共に、その駆動機構が備える駆動モータをメインチャンバ（ＭＣ）の外部に設けることによって、大きな出力トルクを有する駆動モータの使用を可能として、Ｚステージの駆動速度を高め、ガラス基板の検査のスループットを高める。

本発明のＴＦＴアレイ検査装置は、ガラス基板用ステージとステージ駆動機構と、メインチャンバの上方に設けた電子銃ユニットを備える。

ガラス基板検査用ステージはメインチャンバ内に設ける。また、ステージ駆動機構はＺステージを駆動するＺステージ駆動機構が備え、このＺステージ駆動機構の少なくとも駆動モータをメインチャンバ外に設ける。Ｚステージ駆動機構は、メインチャンバの外部に設けられたＺ軸駆動用モータによって駆動され、メインチャンバ内に設けられたＺステージをＺ方向に移動する。

Ｚステージ駆動機構は、ＺステージをＺ方向に移動するＺ軸シャフトを備える。このＺ軸シャフトは、一端はメインチャンバ内においてＺステージと当接自在とし、他端はメインチャンバ外においてＺ軸駆動用モータにより駆動可能とする。Ｚ軸シャフトはＺ軸駆動用モータの駆動力によってＺ方向に上昇あるは下降し、上昇時においてその先端に当接したＺステージをＺ方向に上昇させる。

また、Ｚステージ駆動機構は、ＺステージのＺ方向の位置を定め、Ｚステージと電子銃ユニットとの間を所定間隔に規定するＺ方向位置決め機構を備える。このＺ方向位置決め機構が規定する所定間隔は、ガラス基板をガラス基板用ステージ上に載置する低位位置と、ガラス基板を前記電子銃ユニットに近接させる高位位置の少なくとも２つを備える。

低位位置では、ガラス基板用ステージと電子銃ユニットとの間には、ガラス基板を搬入してステージ上に載置するに十分な間隔が形成される。また、上位位置では、ガラス基板用ステージ上に載置されたガラス基板と電子銃ユニットとの間を接近させることができ、これによって、検査精度を高めることができる。

また、Ｚ方向位置決め機構の形態はスペーサとすることができ、Ｚステージの下方位置において、支持高さを可変とし、メインチャンバ内に備える。このスペーサをＺステージの下方位置に挟み込むことで、Ｚステージの高さ位置を規定する。このとき、スペーサに異なる厚さ部分を設けることで支持高さを可変とし、上位位置と下位位置を規定する。

本発明によれば、メインチャンバ（ＭＣ）を小型化すると共に、ガラス基板のＺ方向に移動速度を高め、良好なスループットを得ることができる。

以下、本発明の実施の形態について、図を参照しながら詳細に説明する。

ＴＦＴアレイ検査装置は、ＴＦＴアレイのガラス基板のアレイ検査を行うメインチャンバ（ＭＣ）、外部とＴＦＴアレイ検査装置との間でガラス基板の搬出入を行うロードロック室（ＬＬ）を備える。また、ロードロックとメインチャンバとの間でガラス基板の搬送を行う搬送チャンバを有する構成としてもよい。

ロードロック室（ＬＬ）や搬送チャンバは、メインチャンバ（ＭＣ）等のチャンバ間でガラス基板の搬送を行う手段であり、例えば搬送ロボットや搬送ローラを用いることができる。なお、搬送チャンバは必ずしも必要ではなく、搬送ロボットや搬送ローラをロードロックチャンバ内あるいはメインチャンバ内に設置する構成としてもよい。

メインチャンバは、ガラス基板のＴＦＴアレイ検査を行うための機構を備える。この基板検査の機構は、ＴＦＴアレイ検査装置が通常に備える機構とすることができ、例えば、ガラス基板上で電子ビーム等の荷電粒子ビームを走査させる荷電粒子ビーム源やガラス基板用ステージ、荷電粒子ビームの走査によって試料から放出される二次電子等を検出する検出器などを備える。

以下、本発明のＴＦＴアレイ検査装置の形態について、図１〜図６を用いて説明する。なお、ここでは、ＴＦＴアレイ検査装置の構成の内で、主にガラス基板用ステージのステージ機構について示し、その他の構成については簡略化してあるいは省略して説明する。

また、図１〜図５は本発明のＴＦＴアレイ検査装置の一形態を示している。

図１において、本発明のＴＦＴアレイ検査装置の形態は、メインチャンバ１内に、ガラス基板（図１には示していない）をメインチャンバ１内で移動するガラス基板用ステージ２、ガラス基板に検査用信号を印加するプローバフレーム６、プローバフレーム６を接触させた状態のガラス基板に電子線を照射して走査する電子銃ユニット３、プローバフレーム６を保持する保持部５、ガラス基板用ステージ２が備えるＺステージ２ｄのＺ方向の位置を定めるＺ方向位置決め機構を備える。

ガラス基板用ステージ２は、θステージ２ａ，Ｘステージ２ｂ、Ｙステージ２ｃに加えてＺ方向に移動するＺステージ２ｄを備える。この各方向の移動ステージは、ガラス基板用ステージ２の全体を移動させるスライド機構４上に、下方から上方に向かって順にＹステージ２ｃ（あるいはＸステージ２ｂ）、Ｘステージ２ｂ（あるいはＹステージ２ｃ）、Ｚステージ２ｄ、θステージ２ａが設けられて構成され、θステージ２ａはＺステージ２ｄによってＺ方向（上下方向）に移動可能としている。

Ｚステージ２ｄは、Ｚステージ駆動部７によってＺ方向に移動自在としている。Ｚステージ駆動部７は、Ｚ軸シャフト７ａ、Ｚ軸駆動用モータ７ｂ、ボールネジ７ｃを備える。Ｚ軸シャフト７ａは、一端はＺステージ２ｄの下面と当接可能とし、他端はＺ軸駆動用モータ７ｂに駆動される。Ｚ軸シャフト７ａは、Ｚ軸駆動用モータ７ｂの駆動によってＺ方向に移動し、上昇時には、Ｚステージ２ｄの下面と当接してＺステージ２ｄを上昇させる。Ｚ軸シャフト７ａのＺ方向に移動は、Ｚ軸シャフト７ａの軸方向に沿って設けられたボールネジ７ｃをＺ軸駆動用モータ７ｂで駆動することで行うことができる。

ガラス基板用ステージ２は、この構成によって、θステージ２ａ上にガラス基板を載置した状態で、その下方に設けたＺステージ２ｄがＺステージ駆動部７で駆動されることによってＺ方向に移動可能としている。

本発明のＴＦＴアレイ検査装置の形態は、Ｚステージ２ｄをＺ方向に支持し、ガラス基板用ステージ２と電子銃ユニット３との間を所定間隔に規定するＺ方向位置決め機構としてスペーサ８を備える。

このスペーサ８は、メインチャンバ（ＭＣ）１内において、Ｚステージ２ｄの下方位置において支持高さを可変とする。スペーサ８は、ステップの高さが異なる段部を備えた構成とすることができ、Ｚステージ２ｄの下方に挟み込むステップの高さを変更することによって、Ｚ方向位置決め機構が規定する所定間隔を変えることができる。この所定間隔としては、ガラス基板をガラス基板用ステージ上に載置する低位位置と、ガラス基板を電子銃ユニットに近接させる高位位置の２つとすることができる。

低位定位に設定した場合には、ガラス基板用ステージと電子銃ユニットとの間に十分な間隔を確保することができるため、ガラス基板をガラス基板用ステージ上に載置する操作を容易に行うことができる。

また。高位定位に設定した場合には、ガラス基板用ステージ上に載置したガラス基板を電子銃ユニットに十分接近させることができ、走査精度を高めることができる。

また、ガラス基板用ステージ２はスライド機構４上でスライド可能とする。このスライド機構４によるスライド動作は、ガラス基板上に電子線を走査させるためのものであり、そのストロークは走査に要する量があれば十分である。

したがって、メインチャンバ（ＭＣ）１の横方向の内寸法は、プローバフレームと前記したストロークの長さの和で定めることができる。

例えば、ガラス基板用ステージ２の横方向のストローク長Ｓは電子銃ユニット３の配置間隔Ｄとすることができ、メインチャンバの同横方向の内寸は、少なくともストローク長Ｓとガラス基板の走査方向の長さとの和とすることができる。

また、メインチャンバ（ＭＣ）１には、プローバフレーム６を保持する保持部５が設けられている。この保持部５は、ガラス基板用ステージ２の上方に設けられ、プローバフレーム６を保持すると共に、ガラス基板用ステージ２上に載置したガラス基板とプローバフレーム６との接触を行う。

ガラス基板用ステージ２上に載置したガラス基板をプローバフレーム６に接触させるには、ガラス基板用ステージ２をプローバフレーム６の下方位置に位置合わせした後、Ｚステージ２ｄを上昇させ、保持部５に保持したプローバフレーム６に下方から当接させることで行うことができる。

ガラス基板用ステージをプローバフレーム６に接触させた後、更に上昇させることができ、これによって、ガラス基板用ステージと電子銃ユニット３との距離を縮めることができる。

なお、Ｚステージ２ｄを上昇させ、θステージ２ａをプローバフレーム６に接触させる際に保持部５が干渉する場合には、保持部５を移動させて干渉を避けることができる。

以下、本発明のＴＦＴアレイ検査装置の形態のガラス基板用ステージの動作について図２〜図６を用いて説明する。なお、図２はガラス基板をメインチャンバ（ＭＣ）内に導入してからプローバフレーム位置への移動までの動作を示し、図３はガラス基板をプローバフレームに接触させてから走査位置までの移動の動作を示し、図４，図５は走査からプローバフレームを取り外す動作を示し、図６はガラス基板をメインチャンバ（ＭＣ）から導出する動作を示している。

はじめに、メインチャンバ（ＭＣ）１の外部（例えば、ロードロックチャンバ（ＬＬ））からガラス基板１０を導入する。このガラス基板１０の導入は、図示しない搬送ロータや搬送ロボット等の搬送機構によって行うことができる。このとき、メインチャンバ（ＭＣ）１では、ガラス基板用ステージ２をスライド機構４に沿って、搬送されたガラス基板１０を受け取る位置に移動させておく。なお、このガラス基板１０の導入時には、プローバフレーム６は保持部５に保持されている。

また、Ｚステージ２ｄとＸステージ２ｂとの間には、スペーサ８が挿入されている。この段階では、スペーサ８は低位高さを規定するステップ部分が挟まれ、ガラス基板１０と電子銃ユニット３との間に十分な間隔が得られる（図２（ａ），図２（ｂ））。

メインチャンバ（ＭＣ）１内に導入されたガラス基板１０は、スライド機構４によってガラス基板用ステージ２を移動させることにより、プローバフレーム６の下方位置に位置決めされる。このとき、プローバフレーム６の下端と、ガラス基板１０の上端との間には、間隔が開けられているため、ガラス基板用ステージ２の移動に伴って、ガラス基板１０がプローバフレーム６と干渉することはない（図２（ｃ））。

ガラス基板１０がプローバフレーム６の下方位置に位置決めされた後、Ｚステージ駆動部７のＺ軸駆動用モータ７ｂを駆動してＺ軸シャフト７ａを上昇させ、ガラス基板用ステージ２のＺステージ２ｄを上昇させる。この上昇動作によって、Ｚステージ２ｄはスペーサ８による支持から離れ、Ｚステージ２ｄ上に支持されるθステージ２ａ及びガラス基板１０をプローバフレーム６に向かって上昇させ、ガラス基板１０はプローバフレーム６と接触する。

この接触では、ガラス基板１０に設けられた電極と、プローバフレーム６に設けられたプローバピン（図示していない）とが電気的に接触し、プローバフレーム６からプローバピンを介してガラス基板１０の検査用の信号を印加することが可能となる。

ガラス基板１０をプローバフレーム６に接触させた後、ガラス基板１０の走査動作に支障が生じる場合には、保持部５をガラス基板１０と干渉しない位置に退避させる。この保持部５の退避動作は、例えば、Ｚステージ２ｄをわずかに上昇させて、プローバフレーム６を保持部５から浮かせた後、保持部５を退避位置に移動させることで行うことができる（図３（ａ））。

この状態で、スペーサ８の低位高さのステップ部分から高位高さのステップ部分に交換した後（図３（ｂ））、Ｚステージ駆動部７のＺ軸駆動用モータ７ｂを駆動してＺ軸シャフト７ａを下降させ、ガラス基板用ステージ２のＺステージ２ｄを下降させる。この下降動作によって、Ｚステージ２ｄはスペーサ８の高位高さのステップ部分により支持され、ガラス基板１０はプローバフレーム６と接触した状態で、電子銃ユニット３と近接した高さ位置に保持される（図３（ｃ））。

この状態で、ガラス基板用ステージ２を駆動して、ガラス基板１０を電子銃ユニット３に対して移動させる。ガラス基板１０を移動さると共に、各移動位置における電子銃ユニット３から照射される電子線を振らせることによって、ガラス基板１０上で電子線を走査させることができる（図４（ａ））。

走査動作が完了した後、ガラス基板用ステージ２をスライド機構４によってプローバフレーム６を保持する初期位置に戻し（図４（ｂ））、Ｚステージ駆動部７のＺ軸駆動用モータ７ｂを駆動してＺ軸シャフト７ａを上昇させ、ガラス基板用ステージ２のＺステージ２ｄを上昇させる。

Ｚステージ２ｄを上昇させることで、θステージ２ａ上のガラス基板１０とプローバフレーム６を上昇させる。この上昇によって、プローバフレーム６は、保持部５による保持高さよりもわずかに高い位置に持ち上げられ、また、スペーサ８とＺステージ２ｄの下面との間に隙間が形成され、スペーサ８の移動が可能となる（図４（ｃ））。

退避させておいた保持部５を移動させてプローバフレーム６を保持させ、Ｚステージ２ｄを下降させる。このＺステージ２ｄの下降によってガラス基板１０とプローバフレーム６との接触が外れ、プローバフレーム６は保持部５に保持され、一方ガラス基板１０はθステージ２ａに載せられた状態で下降する。また、スペーサ８を高位位置から低位位置となるようにずらす（図５（ａ））。

Ｚステージ駆動部７のＺ軸駆動用モータ７ｂを駆動してＺ軸シャフト７ａを下降させ、ガラス基板用ステージ２のＺステージ２ｄを下降させる。この下降動作によって、ガラス基板１０とプローバフレーム６との接触が解かれて離れ、また、Ｚステージ２ｄはスペーサ８の低位高さのステップ部分により支持される（図５（ｂ））。

ガラス基板１０を下降させ、プローバフレーム６との間に十分な間隔を確保した後、ガラス基板用ステージ２をスライド機構４によって、ガラス基板１０を搬出する位置まで移動させ（図６（ａ））、搬送機構によってガラス基板１０をロードロックチャンバ（ＬＬ）（図示していない）に導出させる（図６（ｂ））。

したがって、本発明のＴＦＴアレイ検査装置では、ガラス基板を退避させるための移動範囲を余分に用意する必要がなく、従来のＴＦＴアレイ検査装置よりも小型とすることができる。

本発明のＴＦＴアレイ検査装置が備えるガラス基板用ステージの機構は、ＴＦＴ基板に限らず、他の半導体基板に適用することができる。

本発明のＴＦＴアレイ検査装置の形態を説明するための図である。 本発明のＴＦＴアレイ検査装置の動作を説明するための概略断面図である。 本発明のＴＦＴアレイ検査装置の動作を説明するための概略断面図である。 本発明のＴＦＴアレイ検査装置の動作を説明するための概略断面図である。 本発明のＴＦＴアレイ検査装置の動作を説明するための概略断面図である。 本発明のＴＦＴアレイ検査装置の動作を説明するための概略断面図である。 従来のＴＦＴアレイ検査装置を説明するための図である。 従来のＴＦＴアレイ検査装置の動作を説明するための概略断面図である。 従来のＴＦＴアレイ検査装置の動作を説明するための概略断面図である。 ＴＦＴアレイ検査装置において、Ｚステージを備える構成を説明するための概略断面図である。

符号の説明

１…メインチャンバ（ＭＣ）、２…ガラス基板用ステージ、２ａ…θステージ、２ｂ…Ｘステージ、２ｃ…Ｙステージ、２ｄ…Ｚステージ、３…電子銃ユニット、４…スライド機構、５…保持部、６…プローバフレーム、７…Ｚステージ駆動部、７ａ…Ｚ軸シャフト、７ｂ…Ｚ軸駆動用モータ、７ｃ…ボールネジ、８…スペーサ、１０…ガラス基板、１２…ＸＹθステージ、１２ａ…θステージ、１２ｂ…Ｘステージ、１２ｃ…Ｙステージ。

Claims (5)

1. ＴＦＴ基板のアレイ検査を行うＴＦＴアレイ検査装置において、
   ガラス基板用ステージとステージ駆動機構と、メインチャンバの上方に設けた電子銃ユニットを備え、
   前記ガラス基板検査用ステージをメインチャンバ内に設け、
   前記ステージ駆動機構の内、Ｚステージを駆動するＺステージ駆動機構が備える少なくともＺ軸駆動用モータをメインチャンバ外に設けることを特徴とする、ＴＦＴアレイ検査装置。
2. 前記Ｚステージ駆動機構は、ＺステージをＺ方向に移動するＺ軸シャフトを備え、
   前記Ｚ軸シャフトは、一端はメインチャンバ内において前記Ｚステージと当接可能であり、他端はメインチャンバ外において前記駆動モータにより駆動されることを特徴とする請求項１に記載のＴＦＴアレイ検査装置。
3. 前記Ｚステージ駆動機構は、
   ＺステージのＺ方向の位置を定め、ガラス基板用ステージと前記電子銃ユニットとの間を所定間隔に規定するＺ方向位置決め機構を備えることを特徴とする、請求項１又は２に記載のＴＦＴアレイ検査装置。
4. 前記Ｚ方向位置決め機構が規定する所定間隔は、少なくとも
   ガラス基板をガラス基板用ステージ上に載置する低位位置と、
   ガラス基板を前記電子銃ユニットに近接させる高位位置の２つを備えることを特徴とする、請求項３に記載のＴＦＴアレイ検査装置。
5. 前記Ｚ方向位置決め機構は、Ｚステージの下方位置において支持高さを可変とするスペーサをメインチャンバ内に備えることを特徴とする、請求項３又は４に記載のＴＦＴアレイ検査装置。

Images