JP2007094034A - 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 - Google Patents

描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2007094034A
JP2007094034A JP2005283519A JP2005283519A JP2007094034A JP 2007094034 A JP2007094034 A JP 2007094034A JP 2005283519 A JP2005283519 A JP 2005283519A JP 2005283519 A JP2005283519 A JP 2005283519A JP 2007094034 A JP2007094034 A JP 2007094034A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
data
point
virtual
acquired
virtual drawing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005283519A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4179478B2 (ja
Inventor
Naoto Kaneshiro
金城　　直人
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to JP2005283519A priority Critical patent/JP4179478B2/ja
Priority to PCT/JP2006/318743 priority patent/WO2007037166A1/ja
Publication of JP2007094034A publication Critical patent/JP2007094034A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4179478B2 publication Critical patent/JP4179478B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70283—Mask effects on the imaging process
    • G03F7/70291—Addressable masks, e.g. spatial light modulators [SLMs], digital micro-mirror devices [DMDs] or liquid crystal display [LCD] patterning devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70491—Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
    • G03F7/70508—Data handling in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. handling pattern data for addressable masks or data transfer to or from different components within the exposure apparatus
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70783—Handling stress or warp of chucks, masks or workpieces, e.g. to compensate for imaging errors or considerations related to warpage of masks or workpieces due to their own weight

Abstract

【課題】露光ヘッドにより基板上に露光パターンを露光する際に用いられる露光点データの取得方法であって、基板の変形などに応じて予め記憶された複数のトレースデータの１つを読み出して露光点データを取得する露光点データ取得方法において、トレースデータの削減を図るとともに、適切な露光点データを取得する。
【解決手段】複数の仮想露光点データ軌跡に対応したトレースデータを取得して予め記憶するとともに、露光の際の基板上における露光軌跡に対応する露光点データ軌跡情報を取得し、その露光点データ軌跡情報に基づいて露光画像データをサンプリングし、そのサンプリングデータと露光点データ軌跡情報に近似する仮想露光点データ軌跡情報に対応するトレースデータとの差分データを取得し、その差分データを符号化して差分符号化データを取得した後、その差分符号化データと上記トレースデータとに基づいて露光点データを取得する。
【選択図】図５

Description

本発明は、描画データに基づいて基板上に画像を描画する際に用いられる描画データを取得する描画データ取得方法および装置並びにその描画データ取得方法および装置により取得された描画データに基づいて基板上に画像を描画する描画方法および装置に関するものである。
従来、プリント配線板や液晶ディスプレイなどのフラットパネルディスプレイの基板に所定のパターンを記録する装置として、フォトリソグラフの技術を利用した露光装置が種々提案されている。
上記のような露光装置としては、たとえば、フォトレジストが塗布された基板上に光ビームを主走査および副走査方向に走査させるとともに、その光ビームを、露光パターンを表す露光画像データに基づいて変調することにより露光パターンを形成する露光装置が提案されている。
上記のような露光装置として、たとえば、デジタル・マイクロミラー・デバイス（以下、ＤＭＤという）等の空間光変調素子を利用し、露光画像データに応じて空間光変調素子により光ビームを変調して露光を行う露光装置が種々提案されている。
そして、上記のようなＤＭＤを用いた露光装置としては、たとえば、ＤＭＤを露光面に対して所定の走査方向に相対的に移動させるとともに、その走査方向への移動に応じてＤＭＤのメモリセルに多数のマイクロミラーに対応した描画データを入力し、ＤＭＤのマイクロミラーに対応した描画点群を時系列に順次形成することにより所望の画像を露光面に形成する露光装置が提案されている（たとえば特許文献１参照）。
ここで、上記のような露光装置を用いて、たとえば、多層プリント配線板の露光パターンを形成する際には、各層を張り合わせるプレス工程において基板に熱が加えられ、その熱により基板が変形してしまう場合があるため、各層の露光パターンの位置合わせを高精度に行うためには、上記のような基板の変形に応じた露光パターンを各層において形成する必要がある。
また、フラットパネルディスプレイにおいてもカラーフィルタパターンを露光する際、基板に加熱処理が施されるのでその熱によって基板が伸縮し、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の記録位置ずれが生じてしまうおそれがあるため、上記のような基板の変形に応じた露光パターンを形成する必要がある。
特開２００４−２３３７１８号公報
しかしながら、たとえば、同じ露光パターンを多数の基板に形成する場合などにおいて、リアルタイムに基板毎の変形量に応じた露光画像データを生成し、その露光画像データに基づいて露光を行うようにしたのでは、基板の変形量に応じた露光画像データの生成に時間がかかり生産効率の低下を招くおそれがある。
そこで、上記のような基板の変形を想定し、その基板の変形に応じた露光画像データを画像処理装置で予め複数種類生成して露光部に予め記憶しておき、実際に露光する際に、基板の変形量の情報を取得し、その変形量に応じた露光画像データを読み出して利用することによって、上記のような生産効率の低下を招くことなく露光画像データを取得する方法が考えられる。
しかしながら、想定される基板変形に応じた露光画像データを全て生成し、予め記憶するようにしたのではその容量が膨大となり、これらを記憶しておくメモリも容量が膨大なものが必要となり、コストアップになる。
本発明は、上記のような描画方法および装置に用いられる描画データの取得方法および装置の改良に関する。
本発明の第１の描画データ取得方法は、描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域によって基板上に画像を描画する際に用いられる描画データを取得する描画データ取得方法において、基板上の描画面と描画点形成領域との予め設定された位置関係に基づいて画像を表す原画像データから描画データを取得する仮想的な条件であって、互いに異なる上記位置関係に基づく複数の仮想描画データ取得条件を用いて複数の仮想描画データを取得して予め記憶するとともに、仮想描画データ取得条件と仮想描画データとの対応関係を予め設定し、画像の描画の際の基板上の描画面と描画点形成領域との実位置関係に基づいて原画像データから描画データを取得するための描画データ取得条件を取得し、その取得した描画データ取得条件に基づいて原画像データをサンプリングしてサンプリングデータを取得し、上記取得した描画データ取得条件に近似する仮想描画データ取得条件を取得し、その取得した仮想描画データ取得条件に対応する仮想描画データを上記対応関係に基づいて予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、その特定した仮想描画データとサンプリングデータとの差分データを取得し、その取得した差分データに符号化処理を施して差分符号化データを取得し、その取得した差分符号化データに復号化処理を施して差分データを復号化し、その復号化した差分データと上記特定した仮想描画データとを加算してサンプリングデータを再現し、その再現したサンプリングデータを描画データとして取得することを特徴とする。
また、上記本発明の第１の描画データ取得方法においては、サンプリングデータと上記特定した仮想描画データとの誤差が所定の範囲内である場合には、上記特定した仮想描画データを描画データとして取得するようにすることができる。
また、サンプリングデータと複数の仮想描画データ取得条件に対応する仮想描画データとの誤差をそれぞれ取得し、描画データ取得条件に近似する仮想描画データ取得条件として、上記誤差が最も小さい仮想描画データ取得条件を取得するようにすることができる。
本発明の第２の描画データ取得方法は、描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を基板上に順次形成して画像を描画する際に用いられる描画データを取得する描画データ取得方法において、予め設定された基板上における描画点形成領域の仮想的な描画軌跡の情報であって、互いに異なる複数の仮想描画軌跡情報と画像を表わす原画像データとを対応付けて原画像データ上における描画点形成領域の仮想描画軌跡情報に対応する仮想描画点データ軌跡の情報をそれぞれ取得し、複数の仮想描画点データ軌跡情報に基づいて仮想描画点データ軌跡に対応した仮想描画データを原画像データからそれぞれ取得し、その取得した複数の仮想描画データを予め記憶するとともに、仮想描画点データ軌跡情報と仮想描画データとの対応関係を予め設定し、画像の描画の際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、その取得した描画軌跡情報と原画像データとを対応付けて原画像データ上における描画点形成領域の描画軌跡情報に対応する描画点データ軌跡の情報を取得し、描画点データ軌跡上の原画像データをサンプリングしてサンプリングデータを取得し、描画点データ軌跡情報に近似する仮想描画点データ軌跡情報を取得し、その取得した仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データを上記対応関係に基づいて予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、その特定した仮想描画データとサンプリングデータとの差分データを取得し、その取得した差分データに符号化処理を施して差分符号化データを取得し、その取得した差分符号化データに復号化処理を施して差分データを復号化し、その復号化した差分データと上記特定した仮想描画データとを加算してサンプリングデータを再現し、その再現したサンプリングデータを描画データとして取得することを特徴とする。
また、上記本発明の第２の描画データ取得方法においては、サンプリングデータと上記特定した仮想描画データとの誤差が所定の範囲内である場合には、上記特定した仮想描画データを描画データとして取得するようにすることができる。
また、描画点データ軌跡情報に近似する仮想描画点データ軌跡情報として、描画点データ軌跡情報の始点位置および終点位置に対して所定の範囲内の差の始点位置および終点位置を有する仮想描画点データ軌跡情報を取得するようにすることができる。
また、描画点データ軌跡情報に近似する仮想描画点データ軌跡情報として、描画点データ軌跡情報の始点位置および終点位置に対して最小の差の始点位置および終点位置を有する仮想描画点データ軌跡情報を取得するようにすることができる。
また、サンプリングデータと複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データとの誤差をそれぞれ取得し、描画点データ軌跡情報に近似する仮想描画点データ軌跡情報として、上記誤差が最も小さい仮想描画点データ軌跡情報を取得するようにすることができる。
本発明の描画方法は、上記本発明の第１および第２の描画データ取得方法を用いて描画データを取得し、その取得した描画データに基づいて基板上に画像を描画することを特徴とする。
本発明の第１の描画データ取得装置は、描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域によって基板上に画像を描画する際に用いられる描画データを取得する描画データ取得装置において、基板上の描画面と描画点形成領域との予め設定された位置関係に基づいて画像を表す原画像データから描画データを取得する仮想的な条件であって、互いに異なる上記位置関係に基づく複数の仮想描画データ取得条件を用いて取得された複数の仮想描画データが予め記憶された仮想描画データ記憶部と、仮想描画データ取得条件と仮想描画データとの対応関係が予め設定された対応関係設定部と、画像の描画の際の基板上の描画面と描画点形成領域との実位置関係に基づいて原画像データから描画データを取得するための描画データ取得条件を取得する描画データ取得条件取得部と、描画データ取得条件取得部によって取得された描画データ取得条件に基づいて原画像データをサンプリングしてサンプリングデータを取得するサンプリングデータ取得部と、描画データ取得条件取得部によって取得された描画データ取得条件に近似する仮想描画データ取得条件を取得する仮想描画データ取得条件取得部と、仮想描画データ取得条件取得部によって取得された仮想描画データ取得条件に対応する仮想描画データを上記対応関係に基づいて予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定する仮想描画データ特定部と、仮想描画データ特定部によって特定された仮想描画データとサンプリングデータとの差分データを取得する差分データ取得部と、差分データ取得部によって取得された差分データに符号化処理を施して差分符号化データを取得する差分符号化データ取得部と、差分符号化データ取得部によって取得された差分符号化データに復号化処理を施して差分データを復号化する差分データ復号化部と、差分データ復号化部によって復号化された差分データと上記特定した仮想描画データとを加算してサンプリングデータを再現するデータ加算部と、データ加算部によって再現されたサンプリングデータを描画データとして取得する描画データ取得部とを備えたことを特徴とする。
また、上記本発明の第１の描画データ取得装置においては、描画データ取得部を、サンプリングデータと上記特定した仮想描画データとの誤差が所定の範囲内である場合には、仮想描画データ特定部によって特定された仮想描画データを描画データとして取得するものとすることができる。
また、サンプリングデータと複数の仮想描画データ取得条件に対応する仮想描画データとの誤差をそれぞれ取得する誤差取得部をさらに備えたものとし、仮想描画データ取得条件取得部を、描画データ取得条件に近似する仮想描画データ取得条件として、誤差取得部によって取得された誤差が最も小さい仮想描画データ取得条件を取得するものとすることができる。
本発明の第２の描画データ取得装置は、描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を基板上に順次形成して画像を描画する際に用いられる描画データを取得する描画データ取得装置において、予め設定された基板上における描画点形成領域の仮想的な描画軌跡の情報であって、互いに異なる複数の仮想描画軌跡情報と画像を表わす原画像データとを対応付けて取得された複数の仮想描画点データ軌跡の情報に基づいて原画像データから取得された仮想描画点データ軌跡に対応した仮想描画データが予め記憶された仮想描画データ記憶部と、仮想描画点データ軌跡情報と仮想描画データとの対応関係が予め設定された対応関係設定部と、画像の描画の際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得する描画軌跡情報取得部と、描画軌跡情報取得部によって取得された描画軌跡情報と原画像データとを対応付けて原画像データ上における描画点形成領域の描画軌跡情報に対応する描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得部と、描画点データ軌跡情報取得部によって取得された描画点データ軌跡上の原画像データをサンプリングしてサンプリングデータを取得するサンプリングデータ取得部と、描画点データ軌跡情報取得部によって取得された描画点データ軌跡情報に近似する仮想描画点データ軌跡情報を取得する仮想描画点データ情報取得部と、仮想描画点データ情報取得部によって取得された仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データを上記対応関係に基づいて予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定する仮想描画データ特定部と、仮想描画データ特定部によって特定された仮想描画データとサンプリングデータとの差分データを取得する差分データ取得部と、差分データ取得部によって取得された差分データに符号化処理を施して差分符号化データを取得する差分符号化データ取得部と、差分符号化データ取得部によって取得された差分符号化データに復号化処理を施して差分データを復号化する差分データ復号化部と、差分データ復号化部によって復号化された差分データと特定した仮想描画データとを加算してサンプリングデータを再現するデータ加算部と、データ加算部によって再現されたサンプリングデータを描画データとして取得する描画データ取得部とを備えたことを特徴とする。
また、上記本発明の第２の描画データ取得装置においては、描画データ取得部を、サンプリングデータと上記特定した仮想描画データとの誤差が所定の範囲内である場合には、仮想描画データ特定部によって特定された仮想描画データを描画データとして取得するものとすることができる。
また、仮想描画点データ軌跡情報取得部を、描画点データ軌跡情報に近似する仮想描画点データ軌跡情報として、描画点データ軌跡情報の始点位置および終点位置に対して所定の範囲内の差の始点位置および終点位置を有する仮想描画点データ軌跡情報を取得するものとすることができる。
また、仮想描画点データ軌跡情報取得部を、描画点データ軌跡情報に近似する仮想描画点データ軌跡情報として、描画点データ軌跡情報の始点位置および終点位置に対して最小の差の始点位置および終点位置を有する仮想描画点データ軌跡情報を取得するものとすることができる。
また、サンプリングデータと複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データとの誤差をそれぞれ取得する誤差取得部をさらに備えたものとし、仮想描画点データ軌跡取得部を、描画点データ軌跡情報に近似する仮想描画点データ軌跡情報として、上記誤差が最も小さい仮想描画点データ軌跡情報を取得するものとすることができる。
本発明の描画装置は、上記本発明の第１および第２の描画データ取得装置と、描画データ取得装置により取得された描画データに基づいて基板上に画像を描画する描画手段とを備えたことを特徴とする。
ここで、上記「描画点形成領域」とは、基板上に描画点を形成する領域であれば如何なるものによって形成される領域でもよく、たとえば、ＤＭＤのような空間光変調素子の各変調素子によって反射されたビーム光によって形成されるビームスポットでもよいし、光源から発せられたビーム光自体によって形成されるビームスポットでもよいし、もしくはインクジェット方式のプリンタの各ノズルから吐出されたインクが付着する領域としてもよい。
なお、本発明は、描画点形成領域による描画面への個別の描画処理に際し、描画点形成領域と描画面との間の想定される複数の仮想的な位置関係に基づいて予め用意された複数の仮想描画データセットから、描画点形成領域と描画面との間の実際の位置関係に基づいて最適なものを選択する方法／装置であってもよい。この場合、仮想描画データセットは、描画点形成領域に時系列的に与えられるデータの集合であってもよいし、グループ化された複数の描画点形成領域に同時に与えられるデータの集合であってもよい。また、各仮想描画データセットは、１セット毎又は数セット毎に符号化されていてもよく、この場合、最適な仮想描画データのセットが選択されると、その復号化処理が行われる。
また、本発明は、描画点形成領域による描画面への個別の描画処理の際に選択可能なように、描画点形成領域と描画面との間の想定される複数の仮想的な位置関係に基づいて予め複数の仮想描画データのセットを用意する方法／装置であってもよい。
本発明の第１の描画データ取得方法および装置によれば、互いに異なる複数の仮想描画データ取得条件を用いて複数の仮想描画データを取得して予め記憶するとともに、画像の描画の際の基板上の描画面と描画点形成領域との実位置関係に基づいて原画像データから描画データを取得するための描画データ取得条件を取得し、その取得した描画データ取得条件に基づいて原画像データをサンプリングしてサンプリングデータを取得し、上記取得した描画データ取得条件に近似する仮想描画データ取得条件を取得し、その取得した仮想描画データ取得条件に対応する仮想描画データを上記対応関係に基づいて予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、その特定した仮想描画データとサンプリングデータとの差分データを取得し、その取得した差分データに符号化処理を施して差分符号化データを取得し、その取得した差分符号化データに復号化処理を施して差分データを復号化し、その復号化した差分データと上記特定した仮想描画データとを加算してサンプリングデータを再現し、その再現したサンプリングデータを描画データとして取得するようにしたので、たとえば、描画データ取得条件と同等の仮想描画データ取得条件およびその仮想描画データ取得条件に対応する仮想描画データが存在しない場合においても、描画データ取得条件に対応する描画データを取得することができる。
そして、さらに、上記のように差分データを取得し、これを符号化して差分符号化データを生成するようにしたので、サンプリングデータそのもののデータ転送を行う必要がなくデータ転送量を低減でき、その分データ転送処理を高速化することができる。
本発明の第２の描画データ取得方法および装置によれば、互いに異なる複数の仮想描画点データ軌跡の情報をそれぞれ取得し、その複数の仮想描画点データ軌跡情報に基づいて仮想描画点データ軌跡に対応した仮想描画データを原画像データからそれぞれ取得して予め記憶するとともに、画像の描画の際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、その取得した描画軌跡情報と原画像データとを対応付けて原画像データ上における描画点形成領域の描画軌跡情報に対応する描画点データ軌跡の情報を取得し、描画点データ軌跡上の原画像データをサンプリングしてサンプリングデータを取得し、描画点データ軌跡情報に近似する仮想描画点データ軌跡情報を取得し、その取得した仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データを上記対応関係に基づいて予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、その特定した仮想描画データとサンプリングデータとの差分データを取得し、その取得した差分データに符号化処理を施して差分符号化データを取得し、その取得した差分符号化データに復号化処理を施して差分データを復号化し、その復号化した差分データと上記特定した仮想描画データとを加算してサンプリングデータを再現し、その再現したサンプリングデータを描画データとして取得するようにしたので、たとえば、描画点データ軌跡情報と同等の仮想描画点データ軌跡情報およびその仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データが存在しない場合においても、描画点データ軌跡情報に対応する描画データを取得することができる。
本発明の描画方法および装置の効果についても、上記本発明の第１および第２の描画データ取得方法および装置と同様である。
以下、図面を参照して本発明の描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置の第１の実施形態を用いた露光装置について詳細に説明する。図１は、本露光装置の概略構成を示す斜視図である。本露光装置は、所定の露光パターンを露光する装置であって、特に、その露光パターンを露光するために用いられる露光画像データの作成方法に特徴を有するものであるが、まずは、露光装置の概略構成について説明する。
露光装置１０は、図１に示すように、基板１２を表面に吸着して保持する平板状の移動ステージ１４を備えている。そして、４本の脚部１６に支持された厚い板状の設置台１８の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた２本のガイド２０が設置されている。移動ステージ１４は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共に、ガイド２０によって往復移動可能に支持されている。
設置台１８の中央部には、移動ステージ１４の移動経路を跨ぐようにコの字状のゲート２２が設けられている。コの字状のゲート２２の端部の各々は、設置台１８の両側面に固定されている。このゲート２２を挟んで一方の側にはスキャナ２４が設けられ、他方の側には基板１２の先端および後端と、基板１２に予め設けられている円形状の複数の基準マーク１２ａの位置とを検知するための複数のカメラ２６が設けられている。
ここで、基板１２における基準マーク１２ａは、予め設定された基準マーク位置情報に基づいて基板１２上に形成された、たとえば孔である。なお、孔の他にランドやヴィアやエッチングマークを用いてもよい。また、基板１２に形成された所定のパターン、たとえば、露光しようとする層の下層のパターンなどを基準マーク１２ａとして利用するようにしてもよい。また、図１においては、基準マーク１２ａを６個しか示していないが実際には多数の基準マーク１２ａが設けられている。
スキャナ２４およびカメラ２６はゲート２２に各々取り付けられて、移動ステージ１４の移動経路の上方に固定配置されている。なお、スキャナ２４およびカメラ２６は、これらを制御する後述するコントローラに接続されている。
スキャナ２４は、図２および図３（Ｂ）に示すように、２行５列の略マトリックス状に配列された１０個の露光ヘッド３０（３０Ａ〜３０Ｊ）を備えている。
各露光ヘッド３０の内部には、図４に示すように入射された光ビームを空間変調する空間光変調素子（SＬＭ）であるデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）３６が設けられている。ＤＭＤ３６は、マイクロミラー３８が直交する方向に２次元状に多数配列されたものであり、そのマイクロミラー３８の列方向が走査方向と所定の設定傾斜角度θをなすように取り付けられている。したがって、各露光ヘッド３０による露光エリア３２は、走査方向に対して傾斜した矩形状のエリアとなる。そして、図３（Ａ）に示すように、移動ステージ１４の移動に伴い、基板１２には露光ヘッド３０毎の帯状の露光済み領域３４が形成される。なお、各露光ヘッド３０に光ビームを入射する光源については図示省略してあるが、たとえば、レーザ光源などを利用することができる。
露光ヘッド３０の各々に設けられたＤＭＤ３６は、マイクロミラー３８単位でオン/オフ制御され、基板１２には、ＤＭＤ３６のマイクロミラー３８に対応したドットパターン（黒/白）が露光される。前述した帯状の露光済み領域３４は、図４に示すマイクロミラー３８に対応した２次元配列されたドットによって形成される。二次元配列のドットパターンは、走査方向に対して傾斜されていることで、走査方向に並ぶドットが、走査方向と交差する方向に並ぶドット間を通過するようになっており、高解像度化を図ることができる。なお、傾斜角度の調整のバラツキによって、利用しないドットが存在する場合もあり、たとえば、図４では、斜線としたドットは利用しないドットとなり、このドットに対応するＤＭＤ３６におけるマイクロミラー３８は常にオフ状態となる。
また、図３（Ａ）および（Ｂ）に示すように、帯状の露光済み領域３４のそれぞれが、隣接する露光済み領域３４と部分的に重なるように、ライン状に配列された各行の露光ヘッド３０の各々は、その配列方向に所定間隔ずらして配置されている。このため、たとえば、１行目の最も左側に位置する露光エリア３２Ａ、露光エリア３２Ａの右隣に位置する露光エリア３２Ｃとの間の露光できない部分は、２行目の最も左側に位置する露光エリア３２Ｂにより露光される。同様に、露光エリア３２Ｂと、露光エリア３２Ｂの右隣に位置する露光エリア３２Ｄとの間の露光できない部分は、露光エリア３２Ｃにより露光される。
次に、露光装置１０の電気的構成について説明する。
本露光装置１０は、図５に示すように、ＣＡＭ（Computer Aided Manufacturing）ステーションを有するデータ作成装置４０から出力された、露光すべき露光パターンを表わすベクトル形式の露光画像データを受け付け、該露光画像データに基づいて、後述するテンプレートデータを生成するとともに、後述する露光点データ軌跡情報に基づいて、各マイクロミラー３８毎の露光点データを取得するための露光点データ情報を生成する画像処理部５０と、カメラ２６により撮影された基準マーク１２ａの画像に基づいて基準マーク１２ａの検出位置情報を取得する検出位置情報取得部５１と、検出位置情報取得部５１により取得された検出位置情報に基づいて、実際の露光の際における基板１２上の各マイクロミラー３８の露光軌跡の情報を取得する露光軌跡情報取得部５２と、露光軌跡情報取得部５２により取得された各マイクロミラー３８毎の露光軌跡情報に基づいて露光画像データの座標系における露光点データ軌跡情報を取得する露光点データ軌跡情報取得部５３と、画像処理部５０により取得された露光点データ情報に基づいて、各マイクロミラー３８毎の露光点データを取得する露光点データ取得部５４、露光点データ取得部５４により取得された露光点データに基づいて各マイクロミラーに供給される制御信号を生成し、その制御信号を各露光ヘッド３０に出力する露光ヘッド制御部５５と、本露光装置全体を制御するコントローラ７０とを備えている。
また、本露光装置１０は、移動ステージ１４をステージ移動方向へ移動させる移動機構６０を備えている。移動機構６０は、移動ステージ１４をガイド２０に沿って往復移動させるものであれば如何なる既知の構成を採用してもよい。
なお、上記各構成要素の作用については後で詳述する。
次に、本露光装置１０の作用について図面を参照しながら説明する。
本露光装置１０は、移動ステージ１４上に設置された基板１２を、ステージ移動方向に移動させ、その移動にともなって順次露光ヘッド制御部５５から露光ヘッド３０に制御信号を出力し、基板１２上に時系列に露光点を形成することによって所望の露光パターンを基板１２上に露光するものである。
そして、本露光装置１０は、予め露光点データ取得部５４に記憶されたテンプレートデータから所定のトレースデータを選択し、その選択されたトレースデータに基づいて各マイクロミラー３８毎の露光点データを取得し、その取得した露光点データに基づいて露光ヘッド制御部５５から露光ヘッド３０の各マイクロミラー３８に制御信号を出力して基板１２に露光パターンを露光するものである。
まずは、露光点データ取得部５４に予め記憶されるテンプレートデータおよびその作成方法について説明する。
[テンプレートデータの作成方法]
まず、データ作成装置４０において、基板１２に露光される露光パターンを表すベクトルデータが作成される。なお、本実施形態の説明においては、液晶ディスプレイの露光パターンを表わすベクトルデータが作成される。液晶ディスプレイの露光パターンＲは、図６に示すように、（ｒ、ｇ、ｂ）を表示するための３つのＴＦＴからなるＬＣＤ画素Ｐが直交する方向に２次元状に多数配列された表示部と、その表示部に接続される配線からなる配線部とから構成される。なお、図６においては、ｒを表示するためのＴＦＴをＴ１、ｇを表示するためのＴＦＴをＴ２、ｂを表示するためのＴＦＴをＴ３で表し、配線部を実線で表している。データ作成装置４０においては、図６に示すような露光パターンＲを表すベクトルデータが作成される。
そして、データ作成装置４０において作成されたベクトルデータは、画像処理部５０に出力される。そして、画像処理部５０において、表示部を表わす表示部データと、配線部を表わす配線部データとに分離される。そして、表示部データおよび配線部データは、それぞれラスターデータに変換され、露光画像データ記憶部５０ａそれぞれ記憶される。
そして、上記のようにして記憶された表示部データについて、テンプレートデータが作成される。なお、本実施形態においては、配線部データについてはテンプレートデータを作成しないが、配線部データから露光点データを取得する方法については後述する。
画像処理部５０においては、図７に示すように、表示部データＤにおける１つのＬＣＤ画素データＰＤと各マイクロミラー３８により露光される基板上の露光点の座標系とが対応付けられ、１つのＬＣＤ画素データＰＤ内の所定の始点s（x1,y1）から所定の終点e（x2,y2）までを結んだベクトルＶ１の延長ベクトルＶ１ｔ上のＬＣＤ画素データが、所定のサンプリングピッチでサンプリングされ、部分露光点データ列が取得される。なお、図７におけるy方向は、マイクロミラー３８の基板１２に対する走査方向に対応する方向であり、x方向は上記走査方向に直交する方向に対応する方向である。つまり、ベクトルＶ１は、マイクロミラー３８の像が基板１２上を通過し得る軌跡の一部を意味する。
ここで、y方向に平行な方向のベクトルで、かつ、y方向について所定の長さＬ0を有するベクトルを基準ベクトルとし、所定の露光点データ数をN、基準ベクトルのy方向サンプリングピッチをpitch_y0とする。
また、ベクトルＶ１の始点をs(x1, y1)、終点をe(x2, y2)、露光点データのx方向のサンプリングピッチをpitch_x、y方向のサンプリングピッチをpitch_y、終点eの変動幅をx方向にΔx、y方向にΔyとすると、以下の様な関係になる。
L0 ＝ N × pitch_y0 ・ ・ ・ (1)
Δx ＝ x2 − x1 ・ ・ ・ (2)
Δy ＝ y2 −(y1+L0) ・ ・ ・ (3)
pitch_x ＝ Δx／N ・ ・ ・ (4)
pitch_y ＝ pitch_y0 × (L0+Δy)／L0 ・ ・ ・ (5)
具体的には、例えば、N = 4096、pitch_y0 = 0.75μm等となる。
また、延長ベクトルＶ１ｔとは、ベクトルＶ１の終点e(x2,y2)をベクトルＶ１の終点側に延長したベクトルであり、以下の関係で表すことができる。
Ｖ１ｔ ＝ Ｖ１ × ( 1 + ｋ) ・ ・ ・ (6)
ここで、ｋ＝（ＬＣＤ画素データのy方向サイズ＋余裕値α）/L0 ・ ・ ・ (7)
とすることが望ましい。
ただし、ｋ>0は必須ではなく、k=0(即ちＶ１ｔ＝Ｖ１)とすることも可能である。
そして、具体的には、図７に示すように、１つのＬＣＤ画素データ内の１つの始点sに対して、上記基準ベクトルＶ１が設定され、その基準ベクトルＶ１の延長ベクトルＶ１ｔ上におけるＬＣＤ画素データＰＤがサンプリングピッチpitchi_y0でサンプリングされるとともに、上記基準ベクトルＶ１の始点sと、基準ベクトルの終点eを中心とした所定の変動範囲Ｗに位置する複数の終点eとをそれぞれ結んだベクトルＶ１が設定され、その設定された各ベクトルＶ１の延長ベクトルＶ１ｔ上におけるＬＣＤ画素データＰＤがサンプリングピッチpitch_x、pitch_yでサンプリングされ、各ベクトルＶ１ｔ毎にそれぞれ部分露光点データ列が取得される。なお、変動範囲Ｗのサイズは、基板１２の変形の程度に応じて予め設定されているものとする。
ここで、本実施形態の露光装置においては、１つのＬＣＤ画素データＰＤ中における一部の露光点の位置が始点sとされるとともに、変動範囲Ｗに位置する一部の露光点が終点eとされる。
たとえば、図８（Ａ）に示すように、x方向について所定の露光点列数毎に間隔を空けて始点sを設定するようにしてもよいし、図８（Ｂ）に示すように、さらにy方向について所定の露光点列数毎に間隔を空けて始点sを設定するようにしてもよい。始点sの設定位置については、ＬＣＤ画素データＰＤ内の一部の露光点を始点sとして設定するのであれば如何なる位置に設定してもよい。
また、終点eについても、上記始点sと同様にして変動範囲Ｗ内の一部の露光点の位置を終点eの設定位置とするようにすればよい。
そして、上記のようにして設定された始点eおよび終点eを結ぶベクトルＶ１が設定され、その各ベクトルＶ１の延長ベクトルＶ１ｔ毎にそれぞれ部分露光点データ列が取得される。なお、上記のようにして取得された部分露光点データ列を、以下「トレースデータ」という。
そして、始点sの座標（x１,y１）とその始点sに結ばれた終点eの変動量（Δx,Δy）との組み合わせについて、図９に示すように、トレースデータ番号が付される。なお、上記変動量（Δx,Δy）とは、上述したように、上記基準ベクトルの終点eの位置を基準とした場合における、変動範囲Ｗ内の各終点eのx方向およびy方向へのずれ量を示すものである。したがって、上記基準ベクトルの終点eの変動量Δx,変動量Δyはともに０ということになる。
本実施形態の露光装置においては、上記のように始点sおよび終点eを設定するようにしたので、ベクトルＶ１の数を削減することができ、トレースデータの容量を削減することができる。
そして、図９に示す対応関係はトレースデータ特定部５０ｄに設定されるとともに、画像処理部５０から露光点データ取得部５４に出力され、露光点データ取得部５４にも設定される。
また、各トレースデータは、それぞれ対応するトレースデータ番号と対応付けられて、図１０に示すようなテンプレートデータとしてまとめられ、第１のテンプレート記憶部５０ｃに記憶されるとともに、画像処理部５０から露光点データ取得部５４に出力され、第２のテンプレート記憶部５４ａにも記憶される。
なお、上記のようにして各ベクトルＶ１について取得されたトレースデータを互いに比較し、全ての露光点データが一致するベクトルＶ１同士については、そのトレースデータを共通化し、同じトレースデータ番号を付するようにしてもよい。
また、各ベクトルＶ１を所定の量子化ピッチで量子化するようにしてもよい。たとえば、各ベクトルＶ１を特定するための数値である、各ベクトルＶ１の始点s、終点e、中点の座標値および各ベクトルＶ１の傾き等を量子化するようにすればよい。
具体的には、入力値(例えば座標値xまたはy)をv、量子化結果をv’ 、量子化ピッチをstpとすると、
v ’ = INT( v / stp ) × stp ・ ・ ・ (8)
または
v ’ = ( INT( v / stp ) + 0.5 ) × stp ・ ・ ・ (9)
とする。
例えば、量子化幅をx方向にstp_x=0.05μm、y方向にstp_y=0.25μmとし、(8)式または(9)式の変数stpに当てればよい。
上記のように量子化することによりベクトルＶ１の数を減らすことができ、その分ベクトルＶ１に対応するトレースデータの数を減らすことができ、テンプレート記憶部５６ａの容量を削減することができる。
また、本実施形態においては、始点sと終点eとを直線で結ぶようにしたが、これに限らず、たとえば、曲線で結んだり、もしくは折れ線で結んだりするようにしてもよい。
また、本実施形態においては、ラスターデータとされた表示部データＤからベクトルＶ１に対応する露光点データを取得するようにしたが、必ずしもラスターデータにする必要はなく、ベクトルデータのままの表示部データからベクトルＶ１に対応する露光点データを取得するようにしてもよい。
[露光点データ情報の取得]
そして、上記のようにして第２のテンプレート記憶部５４ａに記憶されたテンプレートデータは、画像処理部５０において取得された、後述する露光点データ情報に基づいて読み出され、露光ヘッド制御部５５に出力されるが、次に、その露光点データ情報について、およびその露光点データ情報の取得方法について説明する。
まず、コントローラ７０が移動機構６０に制御信号を出力し、移動機構６０はその制御信号に応じて移動ステージ１４を、図１に示す位置からガイド２０に沿って一旦上流側の所定の初期位置まで移動させた後、下流側に向けて所望の速度で移動させる。なお、上記上流側とは、図１における右側、つまりゲート２２に対してスキャナ２４が設置されている側のことであり、上記下流側とは、図１における左側、つまりゲート２２に対してカメラ２６が設置されている側のことである。
そして、上記のようにして移動する移動ステージ１４上の基板１２が複数のカメラ２６の下を通過する際、これらのカメラ２６により基板１２が撮影され、その撮影画像を表す撮影画像データが検出位置情報取得部５１に入力される。検出位置情報取得部５１は、入力された撮影画像データに基づいて基板１２の基準マーク１２ａの位置を示す検出位置情報を取得する。基準マーク１２ａの検出位置情報の取得方法については、たとえば、円形状の画像を抽出することにより取得するようにすればよいが、他の如何なる既知の取得方法を採用してもよい。また、上記基準マーク１２ａの検出位置情報は、具体的には座標値として取得されるが、その座標系は各マイクロミラー３８により露光される露光点の座標系と同じである。
そして、上記のようにして取得された基準マーク１２ａの検出位置情報は、検出位置情報取得部５１から露光軌跡情報取得部５２に出力される。
そして、露光軌跡情報取得部５２において、入力された検出位置情報に基づいて、実際の露光の際における基板１２上の各マイクロミラー３８毎の露光軌跡の情報が取得される。具体的には、露光軌跡情報取得部５２には、各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６の各マイクロミラー３８の像が通過する位置を示す通過位置情報が、各マイクロミラー３８毎に予め設定されている。上記通過位置情報は、移動ステージ１４上の基板１２の設置位置に対する、各露光ヘッド３０の設置位置によって予め設定されているものであり、複数のベクトルまたは複数点の座標値で表わされるものである。図１１に、プレス工程などを経ていない理想的な形状の基板１２、つまり、歪などの変形が生じておらず、基準マーク１２ａが予め設定された基準マーク位置情報１２ｂの示す位置に配置している基板１２と、所定のマイクロミラー３８の通過位置情報１２ｃとの関係を示す模式図を示す。なお、上記通過位置情報の座標系も、マイクロミラー３８により露光される露光点の座標系と同じである。そして、上記通過位置情報１２ｃにおける複数の基準点１２e（図１１に示す白丸）によって区切られるベクトルＶ２の長さと、上述した基準ベクトルの長さとは同じ長さに設定されている。
そして、露光軌跡情報取得部５２においては、図１２に示すように、通過位置情報１２ｃと検出位置情報１２ｄとが対応付けられ、通過位置情報１２ｃにおける各基準点１２eについて、検出位置情報１２ｄとの位置関係が求められる。具体的には、たとえば、図１３に示すように、基準点１２eとその基準点１２eを囲む検出位置情報１２ｄとで決定される矩形Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃ、Ｓｄの面積が求められる。そして、上記のような面積が、各基準点１２eについてそれぞれ求められ、露光軌跡情報として露光点データ軌跡情報取得部５３に出力される。なお、上記のような露光軌跡情報は、各マイクロミラー３８の通過位置情報１２ｃ毎に求められ、露光点データ軌跡情報取得部５３に出力される。
そして、露光点データ軌跡情報取得部５３は、上記のようにして入力された露光軌跡情報に基づいて、その露光軌跡情報に対応する露光点データ軌跡情報を取得する。
具体的には、露光点データ軌跡取得部５３には、図１４に示すように、露光画像データの座標系における基準マーク１２ａの位置情報１２ｆが予め設定されており、以下の式(10)を満たすようなトレース点１２ｇの座標が、各基準点１２eについてそれぞれ求められる。そして、図１５に示すように、各トレース点１２ｇを結んだベクトルＶ３の情報が露光点データ軌跡情報として画像処理部５０に出力される。
Ｓａ：Ｓｂ：Ｓｃ：Ｓｄ＝Ｔａ：Ｔｂ：Ｔｃ：Ｔｄ ・ ・ ・ (10)
なお、本実施形態においては、隣接するトレース点１２ｇを直線で結んでベクトルＶ３としたが、これに限らず、たとえば、隣接するトレース点１２ｇを曲線で結んだり、もしくは折れ線で結んだりしてベクトルＶ３としてもよい。特に、x方向に隣接する位置情報１２ｆを結ぶ直線とベクトルＶ３の交点の部分については、折れ線で近似することが望ましい。
そして、画像処理部５０は、入力された各ベクトルＶ３の情報に基づいて、露光点データ情報を取得する。具体的には、画像処理部５０のトレースデータ特定部５０ｄが、各ベクトルＶ３の始点と終点の座標値を取得し、その座標値を、１つのＬＣＤ画素データ中の露光点の座標系における座標値に相対変換し、その相対変換された始点と終点の座標値に基づいて終点の変動量（Δx,Δy）を求める。そして、各ベクトルＶ３について、図９に示す対応関係に基づいて、上記始点の座標値および終点の変動量（Δx,Δy）が一致するトレースデータ番号を取得する。
なお、トレースデータの数をさらに削減するため、始点sのy方向についての位置を、図１５に示す斜線部（すなわち、一部分）の範囲のみに設定してトレースデータを作成するようにしてもよいが、上記のようにして始点sの位置を設定した場合、たとえば、画像処理部５０において取得された、相対変換後の始点の座標が、図１５に示すような位置である場合には、相対変換後の始点の座標値と同じ座標値が図９に示す対応関係に存在しないことになる。
したがって、上記のような場合には、たとえば、図１６に示すように、相対変換された始点Ｐ１および終点Ｐ２によって表されるベクトルＶ３を始点Ｐ１側に延長し、その延長線上における、図９に示す対応関係に存在する始点Ｐ０を求める。そして、図９に示す対応関係に基づいて、始点Ｐ０の座標値および始点Ｐ０からみた変動量（Δx,Δy）が一致するトレースデータ番号を求める。なお、上記のようにベクトルの延長線上における始点Ｐ０を求めて、トレースデータ番号を求めた場合には、トレースデータ番号だけでなく、始点Ｐ０に対する始点Ｐ１のy方向についてのずれ量が求められ、そのずれ量が読出開始位置として取得される。
上記のようにしてトレースデータ特定部５０ｄおいて、トレースデータ番号および読出開始位置が各ベクトルＶ３について求められ、各ベクトルＶ３に対応する露光点データ情報として露光点データ取得部５４に出力される。なお、相対変換された始点の座標値と図９に示す対応関係の座標値と一致する場合には、読出開始位置は０ということになる。
ここで、本実施形態の露光装置においては、上述したように、トレースデータの容量を削減するため、１つのＬＣＤ画素データＰＤ中における始点の位置を一部の位置に制限するとともに、終点eの位置も一部の位置に制限している。
したがって、上記のようにして露光点データ情報を取得する際、ベクトルＶ３または上記のようにベクトルＶ３を始点側に延長したベクトル（以下「延長ベクトルＶ３」という。）と同等のベクトルＶ１（トレースデータ番号）が存在しない場合がある。なお、上記「同等」とは、同じものだけでなく、実質的に同じものであると考えることができるものも含むものとする。
そこで、本実施形態の露光装置においては、ベクトルＶ３または延長ベクトルＶ３と同等のベクトルＶ１が存在しない場合には、まず、ベクトルＶ３または延長ベクトルＶ３に近似するベクトルＶ１のトレースデータ番号および読出開始位置を取得する。
具体的には、トレースデータ特定部５０ｄが、ベクトルＶ３または延長ベクトルＶ３の始点sの座標値とその始点の座標値の差が所定の範囲内であり、かつベクトルＶ３または延長ベクトルＶ３の変動量（Δx,Δy）とその変動量の差が所定の範囲内のトレースデータ番号および読出開始位置が取得される。
なお、上記のようなトレースデータ番号が複数存在する場合には、たとえば、上記差が最も小さいトレースデータ番号を取得するようにすればよい。
また、必ずしも、上記差が最も小さいトレースデータ番号を取得するようにしなくてもよく、たとえば、予め設定された所定の規則にしたがっていずれか１つのトレースデータ番号を取得するようにすればよい。
また、上記のように近似するベクトルＶ１を特定する方法としては、たとえば、以下のような方法を採用することができる。
第１の方法は、まず、ベクトルＶ３または延長ベクトルＶ３の始点sの座標値とその始点の座標値の差が所定の範囲内であるベクトルＶ１を検索し、上記差が最も小さいベクトルＶ１が存在する場合には、変動量（Δx,Δy）をみることなくそのベクトルＶ１を近似するベクトルＶ１として特定する。そして、上記差が最も小さいベクトルＶ１が複数存在する場合には、ベクトルＶ３または延長ベクトルＶ３の変動量（Δx,Δy）にその変動量（Δx,Δy）が最も近いベクトルＶ１を近似するベクトルとして特定する。
第２の方法は、まず、ベクトルＶ３または延長ベクトルＶ３の変動量（Δx,Δy）とその変動量の差が所定の範囲内であるベクトルＶ１を検索し、上記差が最も小さいベクトルＶ１が存在する場合には、始点sの座標値をみることなくそのベクトルＶ１を近似するベクトルＶ１として特定する。そして、上記差が最も小さいベクトルＶ１が複数存在する場合には、ベクトルＶ３または延長ベクトルＶ３の始点sの座標値にその始点の座標値が最も近いベクトルＶ１を近似するベクトルとして特定する。
第３の方法は、まず、ベクトルＶ３または延長ベクトルＶ３の始点sのx座標値に最も近い始点のx座標値を有するベクトルＶ１を検索し、上記のようなベクトルＶ１が１つである場合には、そのベクトルを近似するベクトルＶ１として特定し、上記のようなベクトルＶ１が複数ある場合には、次に、その複数のベクトルＶ１の中から、ベクトルＶ３または延長ベクトルＶ３の始点sのy座標値に最も近い始点のy座標値を有するベクトルＶ１を検索し、上記のようなベクトルＶ１が１つである場合には、そのベクトルを近似するベクトルＶ１として特定し、上記のようなベクトルＶ１が複数ある場合には、次に、その複数のベクトルＶ１の中から、ベクトルＶ３または延長ベクトルＶ３の終点eのx座標値に最も近い終点のx座標値を有するベクトルＶ１を検索し、上記のようなベクトルＶ１が１つである場合には、そのベクトルを近似するベクトルＶ１として特定し、上記のようなベクトルＶ１が複数ある場合には、次に、その複数のベクトルＶ１の中から、ベクトルＶ３または延長ベクトルＶ３の終点eのy座標値に最も近い終点のy座標値を有するベクトルＶ１を検索し、そのベクトルＶ１を近似するベクトルＶ１として特定する。
第４の方法は、各ベクトルＶ１について、その始点とベクトルＶ３または延長ベクトルＶ３の始点sとの距離dsをそれぞれ求めるとともに、その終点とベクトルＶ３または延長ベクトルＶ３の始点eとの距離deをそれぞれ求め、各ベクトルＶ１毎に、下式に従って総点数Tを求め、この総点数Tが最も小さいベクトルＶ１を近似するベクトルＶ１として特定する。
T = ds×w1 + de×w2
ただし、w1,w2は重み付けの定数
そして、上記のようにして取得された１つのトレースデータ番号に対応するトレースデータが第１のテンプレート記憶部５０ｃから読み出され、トレースデータ番号とともに露光点データ情報作成部５０ｅに出力される。なお、このとき、読出開始位置が０の場合は、トレースデータは先頭から読み出され、読出開始位置が、たとえば、ｍ１である場合には、ｍ１の位置から読み出される。また、露光点データは上記露光点データ数Nだけ読み出すようにすればよい。
また、トレースデータ番号とトレースデータの記憶領域との関係については、たとえば、図１７に示すような、トレースデータ番号とそのトレースデータ番号のトレースデータが記憶された記憶領域の先頭アドレスとの対応関係を予め設定しておくようにすればよい。そして、ベクトルＶ３または延長ベクトルＶ３に対応するレースデータ番号と図１７に示す対応関係とから先頭アドレスを求め、その先頭アドレスと読出開始位置とから読出開始アドレスを求め、その読出開始アドレスによって示されるアドレスから露光点データを読み出すようにすればよい。
一方、露光点データ軌跡情報取得部５３において取得されたベクトルＶ３の情報は、サンプリングデータ取得部５０ｂに出力され、サンプリングデータ取得部５０ｂにおいて、各ベクトルＶ３と露光画像データの座標系とが対応付けられ、ベクトルＶ３上にある露光点データが、露光画像データ記憶部５０ａに記憶された露光画像データからサンプリングされて読み出され、露光点データ情報作成部５０ｅに出力される。
そして、露光点データ情報作成部５０ｅおいて、図１８に示すように、サンプリングデータ取得部５０ｂから出力されたサンプリングデータＳから、トレースデータ特定部５０ｄから出力されたトレースデータＴが減算され、差分データＳｕｂが求められる。そして、差分データＳｕｂに対し、ランレングス符号化処理が施され、差分符号化データが作成される。なお、上記減算は、サンプリングデータＳとトレースデータＴの各ビット毎の露光点データの排他的論理和を演算することによって行われる。
そして、露光点データ情報作成部５０ｅにおいて、トレースデータ特定部５０ｄによって取得されたトレースデータ番号および読出開始位置に、上記のようにして取得した差分符号化データが付加され、図１９に示すようなデータ構造の露光点データ情報が生成され、露光点データ取得部５４に出力される。上記のように差分符号化データを取得してトレースデータ番号とともに露光点データ取得部５４に出力するようにすれば、たとえば、サンプリングデータ取得部５０ｂにおいて取得されたサンプリングデータをそのまま露光点データ取得部５４に出力する場合と比較すると、その転送データ量を削減することができ、転送処理を高速化することができる。なお、上記トレースデータＴと上記サンプリングデータＳとは互いのデータの内容がそれ程異なるものではないため、差分データとしては０の値が多く、ランレングス符号化を施すことによってより転送データ量を小さくできるものと考えられる。
なお、露光点データ情報には、図１９に示すようにフラグが設けられており、このフラグは、トレースデータ番号に対応するトレースデータがベクトルＶ３に近似するが同一ではないベクトルＶ１に対応するトレースデータである場合には差分符号化データが必要なため１とし、後続に差分符号化データが存在することを示し、一方、トレースデータ番号に対応するトレースデータがベクトルＶ３と同等のベクトルＶ１に対応するトレースデータである場合には差分符号化データが全て０値であるので差分符号化データが必要でないため０とし、後続に差分符号化データが存在しないことを示す。
また、上記フラグは必ずしも設ける必要はなく、フラグを利用しない場合には、たとえば、トレースデータ番号に対応するトレースデータがベクトルＶ３と同等のベクトルＶ１に対応するトレースデータである場合には、全て０のデータからなる差分データをランレングス符号化した差分符号化データを付加するようにすればよい。
なお、本実施形態の露光装置においては、ベクトルＶ３または延長ベクトルＶ３と同等のベクトルのトレースデータ番号が複数存在する場合には、たとえば、始点の座標値の差および変動量（Δx,Δy）の差が最も小さいトレースデータ番号を取得するようにしたが、これに限らず、上記複数のトレースデータ番号に対応するトレースデータをそれぞれ取得し、上記のようにして取得されたサンプリングデータとの誤差をそれぞれ求め、上記誤差が最も小さいトレースデータに対応するトレースデータ番号を、ベクトルＶ３または延長ベクトルＶ３に近似するベクトルＶ１のトレースデータ番号として取得するようにしてもよい。なお、上記誤差は、たとえば、サンプリングデータとトレースデータを対応付けて１ビットずつそのデータを比較し、互いのデータが異なるビットの数をカウントすることによって求めるようにすればよい。
また、本実施形態の露光装置においては、ベクトルＶ３または延長ベクトルＶ３と同等のベクトルＶ１が存在しない場合には、上記のようにベクトルＶ３または延長ベクトルＶ３に近似するベクトルＶ１のトレースデータを取得するとともにサンプリングデータを取得し、これらの差分データを算出し、この差分データとトレースデータとに基づいて露光点データを取得するようにしたが、たとえば、ベクトルＶ３または延長ベクトルＶ３とこれに近似するベクトルＶ１との始点eの座標値および変動量（Δx,Δy）の差が、所定の範囲内である場合には、上記のようにサンプリングデータおよび差分データを取得することなく、ベトルＶ３または延長ベクトルＶ３に近似するベクトルＶ１のトレースデータ番号および読出開始位置を露光点データ情報として取得し、その露光点データ情報を画像処理部５０から露光点データ取得部５４に出力し、露光点データ取得部５４において、上記トレースデータ番号および読出開始位置に基づいて読み出されたトレースデータを露光点データとして取得するようにしてもよい。上記のようにして露光点データ情報を取得することにより、露光点データ情報のデータ量をより削減することができ、画像処理部５０から露光点データ取得部５４へのデータ転送速度の高速化を図ることができる。
また、ベクトルＶ３または延長ベクトルＶ３と同等のベクトルＶ１が存在しない場合において、ベクトルＶ３または延長ベクトルＶ３に近似するベクトルＶ１に対応するトレースデータと上記サンプリングデータとの誤差が所定の範囲内である場合には、上記のように差分データを取得することなく、ベトルＶ３または延長ベクトルＶ３に近似するベクトルＶ１のトレースデータ番号および読出開始位置を露光点データ情報として取得し、その露光点データ情報を画像処理部５０から露光点データ取得部５４に出力し、露光点データ取得部５４において、上記トレースデータ番号および読出開始位置に基づいて読み出されたトレースデータを露光点データとして取得するようにしてもよい。なお、上記誤差は、たとえば、サンプリングデータとトレースデータを対応付けて１ビットずつそのデータを比較し、互いのデータが異なるビットの数をカウントすることによって求めるようにすればよい。上記のようにして露光点データ情報を取得することにより、露光点データ情報のデータ量をより削減することができ、画像処理部５０から露光点データ取得部５４へのデータ転送処理の高速化を図ることができる。
また、サンプリングデータ取得部５０ｂとトレースデータ特定部５０ｄは、並列処理で独立して動作するようにしてもよい。
あるいは、サンプリングデータ取得部５０ｂは、トレースデータ特定部５０ｄの結果により、ベクトルＶ３または延長ベクトルＶ３と同等のベクトルＶ１が存在しない場合にのみサンプリングデータ取得処理を実行するようにしてもよい。上記のようにすれば統合的な演算量を低減することができる。
[露光点データの取得]
次に、上記のようにして画像処理部５０において取得された各ベクトルＶ３の露光点データ情報に基づいて、表示部データにおける露光点データを取得する方法を説明する。
露光点データ取得部５４に露光点データ情報が入力されると、まず、その先頭にあるトレースデータ番号と読出開始位置が取得され、第２のテンプレート記憶部５４ａから上記トレースデータ番号に対応するトレースデータが読み出される。トレースデータの読出方法については、上記画像処理部５０における方法と同様である。
次に、露光点データ情報におけるフラグが０であるか１であるかが認識され、フラグが０である場合には、上記のようにして読み出されたトレースデータがそのまま露光点データとして取得される。また、フラグが１である場合には、その後に続く差分符号化データが取得され、差分復号化部５４ｂにおいて復号処理が施され、差分データＳｕｂが復号化される。そして、図２０に示すように、トレースデータＴと復号化された差分データＳｕｂとが加算されてサンプリングデータＳが取得され、このサンプリングデータＳが露光点データとして取得される。なお、上記加算は、差分データＳｕｂとトレースデータＴの各ビット毎の露光点データの排他的論理和を演算することによって行われる。
そして、上記のように各ベクトルＶ３について、それぞれ露光点データを取得し、これらを繋ぎ合わせることによって１つのマイクロミラー３８の露光点データ軌跡に対応した露光点データ列が取得される。
そして、上記と同様にして、各マイクロミラー３８毎の露光点データ列が取得される。
なお、トレースデータを作成する際、ベクトルＶ１を所定のピッチで量子化した場合には、その量子化に合わせて各ベクトルＶ３を量子化するようにしてもよい。量子化の方法については、ベクトルＶ１の量子化の方法と同様である。上記のように各ベクトルＶ３を量子化することにより、ベクトルＶ３に対応するトレースデータをより高速に取得することができる。たとえば、各ベクトルＶ３の始点s、終点e、中点の座標値および各ベクトルＶ３の傾き等を量子化するようにすればよい。
具体的には、例えば、量子化幅をx方向にstp_x=0.05μm、y方向にstp_y=0.25μmとし、上記(8)式または(9) 式の該当する変数に適用し、量子化後の値を取得するようにすればよい。
ここまで表示部データからの露光点データの取得について説明したが、次に、配線部データにおける露光点データを取得する方法について説明する。
上述したように、配線部データはラスター変換されて露光画像データ記憶部５０ａに記憶されてある。そして、露光画像データ記憶部５０ａに記憶された配線部データは、サンプリングデータ取得部５０ｂに出力される。また、上記のようにして露光点データ軌跡情報取得部５３において取得された各マイクロミラー３８毎の露光点データ軌跡情報もサンプリングデータ取得部５０ｂに出力される。そして、サンプリングデータ取得部５０ｂは上記露光点データ軌跡情報の各ベクトルＶ３と配線部データとを対応付け、各ベクトルＶ３上の配線部データを所定のサンプリングピッチでサンプリングして露光点データとして読み出す。そして、上記のようにして取得された各マイクロミラー３８毎の露光点データ列を露光点データ取得部５４に出力する。なお、図６に示す配線部データにおける表示部データに該当する部分は０データになっているものとする。
そして、露光点データ取得部５４において、上記のようにして取得された表示部データについての各マイクロミラー３８毎の露光点データ列と、配線部データについての各マイクロミラー３８毎の露光点データ列とが合成されて、液晶ディスプレイの露光パターンＲを表す、各マイクロミラー３８毎の露光点データ列が生成される。なお、上記合成は、表示部データについての露光点データ列と配線部データについての露光点データ列との論理和を演算することによって行われる。
[露光]
次に、上記のようにして取得された各マイクロミラー３８毎の露光点データに基づいて基板１２上に露光する方法について説明する。
上記のようにして取得された各マイクロミラー３８毎の露光点データは露光ヘッド制御部５５に出力される。そして、上記出力とともに移動ステージ１４が、再び上流側に所望の速度で移動させられる。
そして、基板１２の先端がカメラ２６により検出されると露光が開始される。具体的には、露光ヘッド制御部５５から各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６に上記露光点データに基づいた制御信号が出力され、露光ヘッド３０は入力された制御信号に基づいてＤＭＤ３６のマイクロミラーをオン・オフさせて基板１２を露光する。
なお、露光ヘッド制御部５５から各露光ヘッド３０へ制御信号が出力される際には、基板１２に対する各露光ヘッド３０の各位置に対応した制御信号が、移動ステージ１４の移動にともなって順次露光ヘッド制御部５５から各露光ヘッド３０に出力されるが、このとき、たとえば、図２６に示すように、各マイクロミラー３８毎に取得されたＬ個の露光点データ列の各列から、各露光ヘッド３０の各位置に応じた露光点データを１つずつ順次読み出して各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６に出力するようにしてもよいし、図２６に示すように取得された露光点データに９０度回転処理もしくは行列を用いた転置変換などを施し、図２７に示すように、基板１２に対する各露光ヘッド３０の各位置に応じたフレームデータ１〜Ｌを生成し、このフレームデータ１〜Ｌを各露光ヘッド３０に順次出力するようにしてもよい。
そして、移動ステージ１４の移動にともなって順次各露光ヘッド３０に制御信号が出力されて露光が行われ、基板１２の後端がカメラ１２により検出されると露光が終了する。
なお、上記説明においては、プレス工程などにおいて変形した基板１２に露光する際の露光点データの取得方法について説明したが、変形してない理想的な形状の基板１２に露光する際についても、上記と同様の方法を採用して露光点データを取得することができる。たとえば、各マイクロミラー３８毎に予め設定された上記通過位置情報に対応する露光点データ軌跡の情報を取得し、その取得した露光点データ軌跡情報に基づいて露光点データ情報を取得し、その露光点データ情報に基づいて、上記と同様にして露光点データを取得するようにすればよい。
また、上記実施形態においては、基板１２上における基準マーク１２ａを検出し、その検出位置情報に基づいて、実際の露光の際における基板１２上の各マイクロミラー３８の露光軌跡情報を取得するようにしたが、これに限らず、たとえば、移動ステージ１４のステージ移動方向と直交する方向へのずれ情報を取得するずれ情報取得手段を設け、そのずれ情報取得手段に取得されたずれ情報に基づいて、実際の露光の際における基板１２上の各マイクロミラー３８の露光軌跡情報を取得し、その露光軌跡情報に基づいてベクトルＶ３からなる露光点データ軌跡情報を取得し、各ベクトルＶ３について、上記と同様にして露光点データを取得するようにしてもよい。なお、上記ずれ情報は、ずれ情報取得手段に予め設定しておけばよい。ずれ情報の計測方法としては、たとえば、ＩＣウェーハ・ステッパー装置などで利用されるレーザ光を用いた測定方法を用いることができる。たとえば、移動ステージ１４に、ステージ移動方向に延びる反射面を設けるとともに、その反射面に向けてレーザ光を射出するレーザ光源および上記反射面において反射した反射光を検出する検出部を設け、移動ステージ１４の移動にともなって、反射光の位相ずれを順次検出部により検出することによって上記ずれ量を計測することができる。
また、移動ステージ１４のヨーイングも考慮して露光軌跡情報を取得するようにしてもよい。
また、基準マーク１２ａの検出位置情報と上記ずれ情報との両方を考慮して露光軌跡情報を取得するようにしてもよい。
また、基板１２の移動の速度変動情報を予め取得する速度変動情報取得手段を設け、速度変動情報取得手段により取得された速度変動情報に基づいて、基板１２の移動の速度が遅い基板１２上の領域ほど露光点データの密度が大となるように、上記基準ベクトルのサンプリングピッチpitch_y0を小とし、露光点データを取得するようにしてもよい。なお、上記基板１２の移動の速度変動情報とは、移動ステージ１４の移動機構６０の制御精度に応じて発生する移動速度のムラである。
また、上記実施形態では、ＬＣＤ画素データＰＤがy方向に繰り返して配置された表示部データの露光点データを、トレースデータを利用して取得する方法を説明したが、露光点データを取得する対象である原画像データは必ずしも表示部データのようなデータ構造でなくてもよい。ただし、その場合には、ベクトルＶ１の始点sとしては、上記のように１つのＬＣＤ画素データＰＤ中における始点sだけでなく、原画像データ全体における露光点の位置を始点sとしてベクトルＶ１を設定し、そのベクトルＶ１に対応するトレースデータを取得する必要がある。なお、ベクトルＶ１の始点および終点eの位置の設定の方法については上記と同様である。そして、ベクトルＶ３に対応するトレースデータを取得する際には、上記のようにベクトルＶ３の始点sおよび終点eの座標を相対変換することなく、ベクトルＶ３の始点sおよび終点eの座標をそのまま利用して、上記と同様にしてトレースデータを取得するようにすればよい。
また、上記実施形態では、ベクトルＶ３毎に差分データを１次元データとしてランレングス符号化した例を示したが、差分データを所定サイズのエリア毎にまとめて、２次元的に符号化および復号化処理を適用することもできる。たとえば、周知技術のＪＰＥＧ方式を利用することができる。上記のようにすれば差分データの符号化データの情報量をさらに低減することができる。
次に、本発明の第２の実施形態を用いた露光装置について説明する。
本発明の第２の実施形態を用いた露光装置２５は、その概略構成は図１に示す第１の実施形態を用いた露光装置と同様である。
そして、露光装置２５は、予め記憶するテンプレートデータおよびそのテンプレートデータの作成方法が異なる。具体的には、第１の実施形態を用いた露光装置１０においては、マイクロミラー３８の像が基板１２上を通過し得る軌跡を想定し、その軌跡に応じたトレースデータを取得してテンプレートデータとするようにしたが、第２の実施形態を用いた露光装置２５においては、ＤＭＤ３６における所定のマイクロミラーの列が、基板１２上を露光し得る露光点列を想定し、その露光点列に応じたトレースデータを取得してテンプレートデータとする。
露光装置２５は、図２３に示すように、データ作成装置４０から出力された、露光すべき露光パターンを表わすベクトル形式の露光画像データを受け付け、該露光画像データに基づいて、後述するテンプレートデータを生成するとともに、後述する露光点データ位置情報に基づいて、各マイクロミラー３８毎の露光点データを取得するための露光点データ情報を生成する画像処理部８０と、実際の露光の際の基板１２上におけるマイクロミラー３８の列の露光点列の位置情報を取得する露光点位置情報取得部８２と、画像処理部８０により取得された露光点データ情報に基づいて、マイクロミラー列の露光点データ列を取得する露光点データ取得部８４とを備えている。
次に、本発明の第２の実施形態の露光装置２５の作用について説明する。
以下、露光装置２５のテンプレートデータの作成方法について説明する。
まず、図２４に点線で示すように、ＤＭＤ３６が所定のマイクロミラー列に仮想的に分割される。そして、画像処理部８０において、露光画像データと、マイクロミラー３８により基板１２上に露光される露光点の座標系とが対応付けられる。そして、上記のようにして分割されたマイクロミラー列のうちの１つのマイクロミラー列３８ａによって所定のタイミングで順次露光される基板上の露光点列３８ｂが、上記座標系および露光画像データに対応付けられる。なお、このときの露光点列３８ｂの位置は、ＤＭＤ３６が基板１２に対して理想的に配置されている場合における露光点列の位置である。また、この露光点列の位置の情報は、予め設定されているものとする。
そして、各露光点列３８ｂの一端の露光点と他端の露光点とを結ぶ基準ベクトルＶ４１〜Ｖ４ｎが設定される。そして、図２５に示すように、たとえば、基準ベクトルＶ４１に対して角度変動θの範囲内におけるベクトルＶ４１’が複数設定され、基準ベクトルＶ４１、ベクトルＶ４１’上にある露光点データが、露光画像データからそれぞれサンプリングされ、基準ベクトルＶ４１およびベクトルＶ４１’に対応するトレースデータが取得される。そして、さらに、基準ベクトルＶ４１の始点sの位置を、たとえば、図２５の斜線で示す所定の範囲内で動かし、それぞれの始点sの基準ベクトルＶ４１について、上記と同様にベクトルＶ４１’が設定され、上記と同様にして基準ベクトルＶ４１とベクトルＶ４１’に対応するトレースデータが取得される。なお、上記角度変動θおよび上記所定の範囲は、基板１２に対するＤＭＤの配置の変動量に応じて適宜設定されるものである。また、始点sは図２５の範囲内の一部の露光点の位置について設定される。
そして、基準ベクトルＶ４２〜Ｖ４ｎ、ベクトルＶ４２’〜Ｖ４ｎ’についても、それぞれ上記と同様にしてそれぞれトレースデータが取得される。
そして、基準ベクトルＶ４１〜Ｖ４ｎとベクトルＶ４１’〜Ｖ４ｎ’について、それぞれ始点sの位置および基準ベクトルに対する角度の変動量Δθと、トレースデータ番号とが対応付けられ、図２６に示すような対応関係が取得され、この対応関係はトレースデータ特定部８０ｄに設定されるとともに、露光点データ取得部８４に出力され、露光点データ取得部８４にも設定される。
また、基準ベクトルＶ４１〜Ｖ４ｎとベクトルＶ４１’〜Ｖ４ｎ’に対応するトレースデータが、上記トレースデータ番号と対応付けられてテンプレートデータとされ、第１のテンプレート記憶部８０ｃに記憶されるとともに、画像処理部８０から露光点データ取得部８４に出力され、露光点データ取得部８４における第２のテンプレート記憶部８４ａにも記憶される。
次に、上記のようにして作成されたテンプレートデータを用いてマイクロミラー列３８ａの露光点データを取得する方法について説明する。
まず、マイクロミラー列３８ａにより実際に露光される露光点列の基板１２上における位置情報が測定される。この位置情報の測定は、たとえば、実際に基板１２上に露光画像を露光する際の移動速度と同様の速度で移動ステージ１４を移動させるとともに、実際の露光タイミングと同様のタイミングでＤＭＤ３６におけるマイクロミラー列３８ａをＯＮさせ、移動ステージ１４上に設けられた検出器によってマイクロミラー列３８ａの光を検出することによって測定することができる。
そして、上記のようにして測定された露光点列の位置情報に基づいて、露光点列の一端の露光点と他端の露光点とを結ぶ検出ベクトルＶ５１〜Ｖ５ｎが取得され、その検出ベクトルＶ５１〜Ｖ５ｎの情報が、露光点位置情報として露光点位置情報取得部８２によって取得され、露光点位置情報取得部８２は、検出ベクトルＶ５１〜Ｖ５ｎの情報を画像処理部８０に出力する。
そして、トレースデータ特定部８０ｄにおいて、図２６に示す対応関係に基づいて、検出ベクトルＶ５１〜Ｖ５ｎと同じ始点と角度の変動量Δθであるトレースデータ番号がそれぞれ取得され、そのトレースデータ番号が露光点データ情報として露光点データ取得部８４に出力される。
ここで、上記のようにして露光点データ情報を取得する際、検出ベクトルＶ５１〜Ｖ５ｎと同等のベクトルＶ４１〜Ｖ４ｎ,Ｖ４１’〜Ｖ４ｎ’のトレースデータ番号が存在しない場合がある。
そこで、本実施形態の露光装置においては、検出ベクトルＶ５１〜Ｖ５ｎと同等のベクトルＶ１が存在しない場合には、まず、検出ベクトルＶ５１〜Ｖ５ｎに近似するベクトルＶ４１〜Ｖ４ｎ,Ｖ４１’〜Ｖ４ｎ’のトレースデータ番号を取得する。
具体的には、トレースデータ特定部８０ｄが、検出ベクトルＶ５１〜Ｖ５ｎの始点sの座標値とその始点の差が所定の範囲内であり、かつ検出ベクトルＶ５１〜Ｖ５ｎの変動量Δθとその変動量の差が所定の範囲内のトレースデータ番号が取得される。
なお、上記のようなトレースデータ番号が複数存在する場合には、たとえば、上記差が最も小さいトレースデータ番号を取得するようにすればよい。
また、必ずしも、上記差が最も小さいトレースデータ番号を取得するようにしなくてもよく、たとえば、予め設定された所定の規則にしたがっていずれか１つのトレースデータ番号を取得するようにすればよい。
そして、上記のようにして取得された１つのトレースデータ番号に対応するトレースデータが第１のテンプレート記憶部８０ｃから読み出され、トレースデータ番号とともに露光点データ情報作成部８０ｅに出力される。
一方、露光点位置情報取得部８２において取得された検出ベクトルＶ５１〜Ｖ５ｎの情報は、サンプリングデータ取得部８０ｂに出力され、サンプリングデータ取得部８０ｂにおいて、検出ベクトルＶ５１〜Ｖ５ｎと露光画像データの座標系とが対応付けられ、検出ベクトルＶ５１〜Ｖ５ｎ上にある露光点データが、露光画像データ記憶部５０ａに記憶された露光画像データからサンプリングされて読み出され、露光点データ情報作成部８０ｅに出力される。
そして、露光点データ情報作成部８０ｅおいて、上記第１の実施形態と同様に、サンプリングデータ取得部８０ｂから出力されたサンプリングデータＳからトレースデータ特定部５０ｄから出力されたトレースデータＴが減算され、差分データＳｕｂが求められる。そして、差分データＳｕｂに対し、ランレングス符号化処理が施され、差分符号化データが作成される。
そして、露光点データ情報作成部８０ｅにおいて、トレースデータ特定部８０ｄによって取得されたトレースデータ番号に、上記のようにして取得した差分符号化データが付加され、図１９に示すようなデータ構造の露光点データ情報が生成され、露光点データ取得部５４に出力される。
次に、上記のようにして画像処理部８０において取得された検出ベクトルＶ５１〜Ｖ５ｎの露光点データ情報に基づいて露光点データを取得する方法を説明する。
露光点データ取得部８４に露光点データ情報が入力されると、まず、その先頭にあるトレースデータ番号が取得され、第２のテンプレート記憶部８４ａから上記トレースデータ番号に対応するトレースデータが読み出される。トレースデータの読出方法については、上記第１の実施形態と同様である。
次に、露光点データ情報におけるフラグが０であるか１でるかが認識され、フラグが０である場合には、上記のようにして読み出されたトレースデータがそのまま露光点データとして取得される。また、フラグが１である場合には、その後に続く差分符号化データが取得され、差分復号化部８４ｂにおいて復号化処理が施され、差分データＳｕｂが復号化される。そして、上記第１の実施形態と同様に、トレースデータＴと復号化された差分データＳｕｂとが加算されてサンプリングデータＳが取得され、このサンプリングデータＳが露光点データとして取得される。
そして、上記のようにして検出ベクトルＶ５１〜Ｖ５ｎについての露光点データを取得することによって、マイクロミラー列３８ａの各露光タイミングにおける露光点データが取得される。
なお、上記説明においては、マイクロミラー列３８ａの露光点データを取得する場合について説明したが、その他のマイクロミラー列についても、上記と同様にして露光点データを取得するようにすればよい。
そして、各露光タイミングにおける各マイクロミラー列の露光点データ列を合わせることによって、各露光タイミングにおけるＤＭＤ３６のフレームデータが取得される。
なお、上記フレームデータに基づいて露光を行う作用については、上記第１の実施形態の露光装置と同様である。
なお、上記説明においては、ＤＭＤ３６を、図２４に示すようなマイクロミラー列で分割するようにしたが、その分割の方法は、図２４に示す態様に限らず、その他の分割方法でもよい。例えば、ＤＭＤ３６をマイクロミラーの行単位で分割するようにしてもよい。また、ＤＭＤ３６内のマイクロミラーを角形状の領域毎に複数のグループに分け、各グループに対してテンプレートを作成するようにしてもよい。その場合、角形状の領域の例えば頂点のマイクロミラーに対応する基板上の露光点位置を基準にして領域内の各マイクロミラーの露光点位置を想定することによって、テンプレートを作成することができる。
また、図２４に示すマイクロミラー列をさらに分割し、その分割マイクロミラーに対応させて分割基準ベクトルを設定し、その分割基準ベクトルについて、上記と同様にしてトレースデータを取得し、テンプレートデータとしてもよい。そして、上記説明においては、測定された露光点列の一端の露光点と他端の露光点とを直線で結ぶ検出ベクトルを取得するようにしたが、一端の露光点と他端の露光点との間を、図２７に示すように折れ線で近似して折れ線検出ベクトルＶ６を取得し、その折れ線検出ベクトルＶ６の各線分ベクトルＶ６１，Ｖ６２に対応する露光点データを取得し、これらを繋ぐことによってマイクロミラー列に対応する露光点データを取得するようにしてもよい。なお、上記のようにして露光点データを取得する際には、マイクロミラー列の分割方法と、検出ベクトルの折れ線近似とが対応する関係である必要がある。上記のようにして露光点データを取得することによりＤＭＤ３６の歪みを補正することができる。
また、上記実施形態では、空間光変調素子としてＤＭＤを備えた露光装置について説明したが、このような反射型空間光変調素子の他に、透過型空間光変調素子を使用することもできる。
また、上記実施形態では、いわゆるフラッドベッドタイプの露光装置を例に挙げたが、感光材料が巻きつけられるドラムを有する、いわゆるアウタードラムタイプの露光装置としてもよい。
また、上記実施形態の露光対象である基板１２は、プリント配線基板だけでなく、フラットパネルディスプレイの基板であってもよい。また、基板１２の形状は、シート状のものであっても、長尺状のもの（フレキシブル基板など）であってもよい。
また、本発明における描画方法および装置は、インクジェット方式などのプリンタにおける描画にも適用することができる。たとえば、インクの吐出による描画点を、本発明と同様に形成することができる。つまり、本発明における描画点形成領域を、インクジェット方式のプリンタの各ノズルから吐出されたインクが付着する領域として考えることができる。
また、本発明における描画軌跡情報は、実際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡を用いて描画軌跡情報としてもよいし、実際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡を近似したものを描画軌跡情報としてもよいし、実際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡を予測したものを描画軌跡情報としてもよい。
また、テンプレート化する画像パターンは、繰り返しパターン以外に、離散的に何度も現れる画像であってもよい。
また、テンプレート化する繰り返しパターンは、複数種類の画像パターンが繰り返し現れるものであってもよい。この場合、画像パターンの種類毎にテンプレートを作成するようにしてもよいし、画像パターンの並び方に規則性がある場合には、その並び方の種類毎にテンプレート化を行ってもよい。
また、露光対象をＬＳＩとしてもよく、その場合メモリセル等の同一パターンをテンプレート化することもできる。
また、テンプレートを作成する装置と、テンプレートを読み出す装置とを、別体で構成するようにしてもよい。
本発明の描画方法および装置の第１および第２の実施形態を用いた露光装置の概略構成を示す斜視図 図１の露光装置のスキャナの構成を示す斜視図 （Ａ）は基板の露光面上に形成される露光済み領域を示す平面図、（Ｂ）は各露光ヘッドによる露光エリアの配列を示す平面図 図１の露光装置の露光ヘッドにおけるＤＭＤを示す図 本発明の第１の実施形態を用いた露光装置の電気的構成を示すブロック図 液晶ディスプレイの露光パターンを示す図 トレースデータの作成方法を説明するための図 ベクトルＶ１（仮想描画点データ軌跡情報）の始点の設定位置の一例を示す図 ベクトルＶ１（仮想描画点データ軌跡情報）とトレースデータとの対応関係を示す図 テンプレートデータを示す図 理想的な形状の基板上における基準マークと所定のマイクロミラーの通過位置情報との関係を示す模式図 マイクロミラーの露光軌跡情報の取得方法を説明するための図 マイクロミラーの露光軌跡情報に基づいて露光点データ軌跡情報を取得する方法を説明するための図 マイクロミラーの露光軌跡情報に基づいて露光点データ軌跡情報を取得する方法を説明するための図 ベクトルＶ１（仮想描画点データ軌跡情報）のその他の設定方法を説明するための図 ベクトルＶ３（露光点データ軌跡情報）に対応するトレースデータ番号を求めるその他の方法を説明するための図 トレースデータ番号と先頭アドレスとの対応関係を示す図 トレースデータとサンプリングデータとから差分データを算出する作用を説明するための図 露光点データ情報のデータ構造の一例を示す図 トレースデータと差分データとからサンプリングデータを算出する作用を説明するための図 各マイクロミラー毎の露光点データ列を示す図 各フレームデータを示す図 本発明の第２の実施形態を用いた露光装置の電気的構成を示すブロック図 マイクロミラー列とそのマイクロミラー列に対応するベクトルＶ４ｎ（仮想描画点データ位置情報）を示す図 基準ベクトルＶ４１およびベクトルＶ４１’（仮想描画点データ位置情報）に対応するトレースデータを取得する方法を説明するための図 基準ベクトルＶ４１およびベクトルＶ４１’（仮想描画点データ位置情報）とトレースデータとの対応関係を示す図 検出ベクトル（描画位置情報）のその他の取得方法を説明するための図
符号の説明
１０ 露光装置
１２ 基板
１２ａ 基準マーク
１２ｂ 基準マーク位置情報
１２ｃ 通過位置情報
１２ｄ 検出位置情報
１４ 移動ステージ
１８ 設置台
２０ ガイド
２２ ゲート
２４ スキャナ
２６ カメラ
３０ 露光ヘッド
３２ 露光エリア
３６ ＤＭＤ
５０,８０ 画像処理部
５０ａ,８０ａ 露光画像データ記憶部
５０ｂ,８０ｂ サンプリングデータ取得部
５０ｃ,８０ｃ 第１のテンプレートデータ記憶部（仮想描画データ記憶部）
５０ｄ,８０ｄ トレースデータ特定部（対応関係設定部、仮想描画データ取得条件
取得部、仮想描画データ特定部、仮想描画点
データ軌跡情報取得部、誤差取得部）
５０ｅ,８０ｅ 露光点データ情報作成部（差分データ取得部、差分符号化データ取
得部、
５１ 検出位置情報取得部
５２ 露光軌跡情報取得部（描画軌跡情報取得部）
５３ 露光点データ軌跡情報取得部（描画データ取得条件取得部、描画点データ軌
跡情報取得部、
５４,８４ 露光点データ取得部（対応関係設定部、データ加算部、描画データ取
得部）
５４ａ,８４ａ 第２のテンプレート記憶部（仮想描画データ記憶部）
５４ｂ,８４ｂ 差分復号化部（差分データ復号化部）
８２ 露光点位置情報取得部（描画データ取得条件取得部）

Claims (18)

  1. 描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域によって基板上に画像を描画する際に用いられる前記描画データを取得する描画データ取得方法において、
    前記基板上の描画面と前記描画点形成領域との予め設定された位置関係に基づいて前記画像を表す原画像データから前記描画データを取得する仮想的な条件であって、互いに異なる前記位置関係に基づく複数の仮想描画データ取得条件を用いて複数の仮想描画データを取得して予め記憶するとともに、前記仮想描画データ取得条件と前記仮想描画データとの対応関係を予め設定し、
    前記画像の描画の際の前記基板上の描画面と前記描画点形成領域との実位置関係に基づいて前記原画像データから前記描画データを取得するための描画データ取得条件を取得し、
    該取得した描画データ取得条件に基づいて前記原画像データをサンプリングしてサンプリングデータを取得し、
    前記取得した描画データ取得条件に近似する前記仮想描画データ取得条件を取得し、
    該取得した仮想描画データ取得条件に対応する仮想描画データを前記対応関係に基づいて前記予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、
    前記特定した仮想描画データと前記サンプリングデータとの差分データを取得し、
    該取得した差分データに符号化処理を施して差分符号化データを取得し、
    該取得した差分符号化データに復号化処理を施して前記差分データを復号化し、
    該復号化した差分データと前記特定した仮想描画データとを加算して前記サンプリングデータを再現し、
    該再現したサンプリングデータを前記描画データとして取得することを特徴とする描画データ取得方法。
  2. 前記サンプリングデータと前記特定した仮想描画データとの誤差が所定の範囲内である場合には、前記特定した仮想描画データを前記描画データとして取得することを特徴とする請求項１記載の描画データ取得方法。
  3. 前記サンプリングデータと前記複数の仮想描画データ取得条件に対応する仮想描画データとの誤差をそれぞれ取得し、
    前記描画データ取得条件に近似する前記仮想描画データ取得条件として、前記誤差が最も小さい仮想描画データ取得条件を取得することを特徴とする請求項１または２記載の描画データ取得方法。
  4. 描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記基板上に順次形成して画像を描画する際に用いられる前記描画データを取得する描画データ取得方法において、
    予め設定された前記基板上における前記描画点形成領域の仮想的な描画軌跡の情報であって、互いに異なる複数の仮想描画軌跡情報と前記画像を表わす原画像データとを対応付けて前記原画像データ上における前記描画点形成領域の前記仮想描画軌跡情報に対応する仮想描画点データ軌跡の情報をそれぞれ取得し、
    該複数の仮想描画点データ軌跡情報に基づいて該仮想描画点データ軌跡に対応した仮想描画データを前記原画像データからそれぞれ取得し、
    該取得した複数の仮想描画データを予め記憶するとともに、前記仮想描画点データ軌跡情報と前記仮想描画データとの対応関係を予め設定し、
    前記画像の描画の際の前記基板上における前記描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、
    該取得した描画軌跡情報と前記原画像データとを対応付けて前記原画像データ上における前記描画点形成領域の前記描画軌跡情報に対応する描画点データ軌跡の情報を取得し、
    前記描画点データ軌跡上の前記原画像データをサンプリングしてサンプリングデータを取得し、
    前記描画点データ軌跡情報に近似する前記仮想描画点データ軌跡情報を取得し、
    該取得した仮想描画点データ軌跡情報に対応する前記仮想描画データを前記対応関係に基づいて前記予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し
    該特定した仮想描画データと前記サンプリングデータとの差分データを取得し、
    該取得した差分データに符号化処理を施して差分符号化データを取得し、
    該取得した差分符号化データに復号化処理を施して前記差分データを復号化し、
    該復号化した差分データと前記特定した仮想描画データとを加算して前記サンプリングデータを再現し、
    該再現したサンプリングデータを前記描画データとして取得することを特徴とする描画データ取得方法。
  5. 前記サンプリングデータと前記特定した仮想描画データとの誤差が所定の範囲内である場合には、前記特定した仮想描画データを前記描画データとして取得することを特徴とする請求項４記載の描画データ取得方法。
  6. 前記描画点データ軌跡情報に近似する前記仮想描画点データ軌跡情報として、前記描画点データ軌跡情報の始点位置および終点位置に対して所定の範囲内の差の始点位置および終点位置を有する前記仮想描画点データ軌跡情報を取得することを特徴とする請求項４または５記載の描画データ取得方法。
  7. 前記描画点データ軌跡情報に近似する前記仮想描画点データ軌跡情報として、前記描画点データ軌跡情報の始点位置および終点位置に対して最小の差の始点位置および終点位置を有する前記仮想描画点データ軌跡情報を取得することを特徴とする請求項６記載の描画データ取得方法。
  8. 前記サンプリングデータと前記複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データとの誤差をそれぞれ取得し、
    前記描画点データ軌跡情報に近似する前記仮想描画点データ軌跡情報として、前記誤差が最も小さい仮想描画点データ軌跡情報を取得することを特徴とする請求項４または５記載の描画データ取得方法。
  9. 請求項１から８いずれか１項記載の描画データ取得方法を用いて描画データを取得し、該取得した描画データに基づいて前記基板上に画像を描画することを特徴とする描画方法。
  10. 描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域によって基板上に画像を描画する際に用いられる前記描画データを取得する描画データ取得装置において、
    前記基板上の描画面と前記描画点形成領域との予め設定された位置関係に基づいて前記画像を表す原画像データから前記描画データを取得する仮想的な条件であって、互いに異なる前記位置関係に基づく複数の仮想描画データ取得条件を用いて取得された複数の仮想描画データが予め記憶された仮想描画データ記憶部と、
    前記仮想描画データ取得条件と前記仮想描画データとの対応関係が予め設定された対応関係設定部と、
    前記画像の描画の際の前記基板上の描画面と前記描画点形成領域との実位置関係に基づいて前記原画像データから前記描画データを取得するための描画データ取得条件を取得する描画データ取得条件取得部と、
    該描画データ取得条件取得部によって取得された描画データ取得条件に基づいて前記原画像データをサンプリングしてサンプリングデータを取得するサンプリングデータ取得部と、
    前記描画データ取得条件取得部によって取得された描画データ取得条件に近似する前記仮想描画データ取得条件を取得する仮想描画データ取得条件取得部と、
    該仮想描画データ取得条件取得部によって取得された仮想描画データ取得条件に対応する仮想描画データを前記対応関係に基づいて前記予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定する仮想描画データ特定部と、
    前記仮想描画データ特定部によって特定された仮想描画データと前記サンプリングデータとの差分データを取得する差分データ取得部と、
    該差分データ取得部によって取得された差分データに符号化処理を施して差分符号化データを取得する差分符号化データ取得部と、
    該差分符号化データ取得部によって取得された差分符号化データに復号化処理を施して前記差分データを復号化する差分データ復号化部と、
    該差分データ復号化部によって復号化された差分データと前記特定した仮想描画データとを加算して前記サンプリングデータを再現するデータ加算部と、
    該データ加算部によって再現されたサンプリングデータを前記描画データとして取得する描画データ取得部とを備えたことを特徴とする描画データ取得装置。
  11. 前記描画データ取得部が、前記サンプリングデータと前記特定した仮想描画データとの誤差が所定の範囲内である場合には、前記仮想描画データ特定部によって特定された仮想描画データを前記描画データとして取得するものであることを特徴とする請求項１０記載の描画データ取得装置。
  12. 前記サンプリングデータと前記複数の仮想描画データ取得条件に対応する仮想描画データとの誤差をそれぞれ取得する誤差取得部をさらに備え、
    前記仮想描画データ取得条件取得部が、前記描画データ取得条件に近似する前記仮想描画データ取得条件として、前記誤差取得部によって取得された誤差が最も小さい仮想描画データ取得条件を取得するものであることを特徴とする請求項１０または１１記載の描画データ取得装置。
  13. 描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記基板上に順次形成して画像を描画する際に用いられる前記描画データを取得する描画データ取得装置において、
    予め設定された前記基板上における前記描画点形成領域の仮想的な描画軌跡の情報であって、互いに異なる複数の仮想描画軌跡情報と前記画像を表わす原画像データとを対応付けて取得された複数の仮想描画点データ軌跡の情報に基づいて前記原画像データから取得された前記仮想描画点データ軌跡に対応した仮想描画データが予め記憶された仮想描画データ記憶部と、
    前記仮想描画点データ軌跡情報と前記仮想描画データとの対応関係が予め設定された対応関係設定部と、
    前記画像の描画の際の前記基板上における前記描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得する描画軌跡情報取得部と、
    該描画軌跡情報取得部によって取得された描画軌跡情報と前記原画像データとを対応付けて前記原画像データ上における前記描画点形成領域の前記描画軌跡情報に対応する描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得部と、
    該描画点データ軌跡情報取得部によって取得された描画点データ軌跡上の前記原画像データをサンプリングしてサンプリングデータを取得するサンプリングデータ取得部と、
    前記描画点データ軌跡情報取得部によって取得された描画点データ軌跡情報に近似する前記仮想描画点データ軌跡情報を取得する仮想描画点データ情報取得部と、
    該仮想描画点データ情報取得部によって取得された仮想描画点データ軌跡情報に対応する前記仮想描画データを前記対応関係に基づいて前記予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定する仮想描画データ特定部と、
    該仮想描画データ特定部によって特定された仮想描画データと前記サンプリングデータとの差分データを取得する差分データ取得部と、
    該差分データ取得部によって取得された差分データに符号化処理を施して差分符号化データを取得する差分符号化データ取得部と、
    該差分符号化データ取得部によって取得された差分符号化データに復号化処理を施して前記差分データを復号化する差分データ復号化部と、
    該差分データ復号化部によって復号化された差分データと前記特定した仮想描画データとを加算して前記サンプリングデータを再現するデータ加算部と、
    該データ加算部によって再現されたサンプリングデータを前記描画データとして取得する描画データ取得部とを備えたことを特徴とする描画データ取得装置。
  14. 前記描画データ取得部が、前記サンプリングデータと前記特定した仮想描画データとの誤差が所定の範囲内である場合には、前記仮想描画データ特定部によって特定された仮想描画データを前記描画データとして取得するものであることを特徴とする請求項１３記載の描画データ取得装置。
  15. 前記仮想描画点データ軌跡情報取得部が、前記描画点データ軌跡情報に近似する前記仮想描画点データ軌跡情報として、前記描画点データ軌跡情報の始点位置および終点位置に対して所定の範囲内の差の始点位置および終点位置を有する前記仮想描画点データ軌跡情報を取得するものであることを特徴とする請求項１３または１４記載の描画データ取得装置。
  16. 前記仮想描画点データ軌跡情報取得部が、前記描画点データ軌跡情報に近似する前記仮想描画点データ軌跡情報として、前記描画点データ軌跡情報の始点位置および終点位置に対して最小の差の始点位置および終点位置を有する前記仮想描画点データ軌跡情報を取得するものであることを特徴とする請求項１５記載の描画データ取得装置。
  17. 前記サンプリングデータと前記複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データとの誤差をそれぞれ取得する誤差取得部をさらに備え、
    前記仮想描画点データ軌跡取得部が、前記描画点データ軌跡情報に近似する前記仮想描画点データ軌跡情報として、前記誤差が最も小さい仮想描画点データ軌跡情報を取得するものであることを特徴とする請求項１３または１４記載の描画データ取得装置。
  18. 請求項１０から１７いずれか１項記載の描画データ取得装置と、
    前記描画データ取得装置により取得された描画データに基づいて前記基板上に画像を描画する描画手段とを備えたことを特徴とする描画装置。
JP2005283519A 2005-09-29 2005-09-29 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 Expired - Fee Related JP4179478B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005283519A JP4179478B2 (ja) 2005-09-29 2005-09-29 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置
PCT/JP2006/318743 WO2007037166A1 (ja) 2005-09-29 2006-09-21 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005283519A JP4179478B2 (ja) 2005-09-29 2005-09-29 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007094034A true JP2007094034A (ja) 2007-04-12
JP4179478B2 JP4179478B2 (ja) 2008-11-12

Family

ID=37899594

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005283519A Expired - Fee Related JP4179478B2 (ja) 2005-09-29 2005-09-29 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP4179478B2 (ja)
WO (1) WO2007037166A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8232815B2 (en) 2007-10-05 2012-07-31 Multitest Elektronische Systeme Gmbh Plunger for holding and moving electronic components in particular ICS
US8303008B2 (en) 2007-10-05 2012-11-06 Multitest Elektronische Systeme Gmbh Plunger for holding and moving electrical components

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004235487A (ja) * 2003-01-31 2004-08-19 Renesas Technology Corp パターン描画方法
JP4478411B2 (ja) * 2003-07-22 2010-06-09 株式会社リコー パターン形成方法
JP4351078B2 (ja) * 2004-01-22 2009-10-28 日立ビアメカニクス株式会社 プリント配線板の製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8232815B2 (en) 2007-10-05 2012-07-31 Multitest Elektronische Systeme Gmbh Plunger for holding and moving electronic components in particular ICS
US8303008B2 (en) 2007-10-05 2012-11-06 Multitest Elektronische Systeme Gmbh Plunger for holding and moving electrical components

Also Published As

Publication number Publication date
JP4179478B2 (ja) 2008-11-12
WO2007037166A1 (ja) 2007-04-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4179477B2 (ja) 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置
JP2006251160A (ja) 描画方法および装置
JP4919378B2 (ja) 描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置
JP2004326076A (ja) パターン描画装置
JP4532381B2 (ja) 描画方法および装置
JP4823751B2 (ja) 描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置
JP4179478B2 (ja) 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置
US20070291348A1 (en) Tracing Method and Apparatus
WO2006106746A1 (ja) 描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置
US20090059295A1 (en) Plotting Device and Image Data Creation Method
JP4931041B2 (ja) 描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置
JP4448075B2 (ja) 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置
KR20070121834A (ko) 묘화 방법 및 그 장치
JP4895571B2 (ja) 描画装置及び画像長さ補正方法
JP2007079383A (ja) 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置
JP6595870B2 (ja) 補正情報生成装置、描画装置、補正情報生成方法および描画方法
JPH10216967A (ja) レーザ描画装置
JP2003057834A (ja) 多重露光描画装置および多重露光描画方法
JP2006285186A (ja) 描画方法および装置
JP2005201972A (ja) 画像記録方法および画像記録装置
JP2007286528A (ja) 描画データ取得方法および装置
JP2006287534A (ja) 画像処理方法および装置
JP2024046030A (ja) テンプレート生成装置、描画システム、テンプレート生成方法およびプログラム
JP2007264574A (ja) 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置
JP2007096124A (ja) フレームデータ作成装置、方法及び描画装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080215

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080819

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080820

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110905

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120905

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130905

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees