WO2007037166A1 - 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 - Google Patents

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WO2007037166A1
WO2007037166A1 PCT/JP2006/318743 JP2006318743W WO2007037166A1 WO 2007037166 A1 WO2007037166 A1 WO 2007037166A1 JP 2006318743 W JP2006318743 W JP 2006318743W WO 2007037166 A1 WO2007037166 A1 WO 2007037166A1
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data
virtual
point
acquired
trajectory information
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PCT/JP2006/318743
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Naoto Kinjo
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Fujifilm Corporation
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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70283Mask effects on the imaging process
    • G03F7/70291Addressable masks, e.g. spatial light modulators [SLMs], digital micro-mirror devices [DMDs] or liquid crystal display [LCD] patterning devices
    • GPHYSICS
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    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70491Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
    • G03F7/70508Data handling in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. handling pattern data for addressable masks or data transfer to or from different components within the exposure apparatus
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    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70783Handling stress or warp of chucks, masks or workpieces, e.g. to compensate for imaging errors or considerations related to warpage of masks or workpieces due to their own weight

Definitions

  • the present invention relates to a drawing data acquisition method and apparatus for acquiring drawing data used when drawing an image on a substrate based on the drawing data, and the drawing data acquired by the drawing data acquisition method and apparatus.
  • the present invention relates to a drawing method and apparatus for drawing an image on a substrate based on data!
  • an optical beam is scanned in a main scanning direction and a sub scanning direction on a substrate coated with a photoresist, and the light beam is exposed to represent an exposure pattern.
  • An exposure apparatus that forms an exposure pattern by modulating based on image data has been proposed.
  • a spatial light modulation element such as a digital 'micromirror' device (hereinafter referred to as DMD) is used, and a light beam is modulated by the spatial light modulation element in accordance with exposure image data.
  • DMD digital 'micromirror' device
  • Various exposure apparatuses that perform exposure are proposed.
  • the DMD is moved relative to the exposure surface in a predetermined scanning direction, and the DMD is moved according to the movement in the scanning direction.
  • An exposure apparatus has been proposed in which drawing data corresponding to a large number of micromirrors is input to a memory cell and a desired image is formed on the exposure surface by sequentially forming drawing points corresponding to the DMD micromirrors in time series. (For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-23371-8)
  • the exposure pattern according to the deformation of the substrate as described above is applied to each layer in order to align the exposure pattern of each layer with high accuracy. Need to form.
  • the substrate when the color filter pattern is exposed, the substrate is subjected to a heat treatment, so that the substrate expands and contracts due to the heat, and the recording position shift of each color of R, G, B occurs. Therefore, it is necessary to form an exposure pattern corresponding to the deformation of the substrate as described above.
  • exposure image data corresponding to the deformation amount for each substrate is generated in real time, and the exposure image data is based on the exposure image data. Therefore, if the exposure is performed, it takes time to generate exposure image data corresponding to the deformation amount of the substrate, which may cause a reduction in production efficiency.
  • the present invention relates to improvements in a drawing data acquisition method and apparatus used in the drawing method and apparatus as described above.
  • a first drawing data acquisition method of the present invention forms a drawing point based on drawing data.
  • a drawing data acquisition method acquires drawing data used when drawing an image on a substrate by a drawing point formation region.
  • a virtual condition for acquiring drawing data from original image data representing an image based on a preset positional relationship between a drawing surface on a substrate and a drawing point formation region, which are different from each other.
  • a plurality of virtual drawing data is acquired and stored in advance using a plurality of virtual drawing data acquisition conditions based on the positional relationship.
  • a virtual drawing data acquisition condition that is similar to the acquired drawing data acquisition condition by acquiring the sampling data by sampling the original image data based on the acquired drawing data acquisition condition
  • the virtual drawing data corresponding to the acquired virtual drawing data acquisition condition is identified from a plurality of virtual drawing data stored in advance based on the correspondence relationship, and the specified virtual drawing data and
  • the difference data with the sampling data is acquired, the acquired difference data is encoded, and the difference encoded data is acquired, and the acquired difference code is obtained.
  • the decoded data is decoded to decode the difference data, the decoded difference data is added to the specified virtual drawing data to reproduce the sampling data, and the reproduced sampling data is used as the drawing data. It is characterized by acquiring.
  • the specified virtual drawing data is drawn. It can be acquired as data.
  • an error between sampling data and virtual drawing data corresponding to a plurality of virtual drawing data acquisition conditions is acquired, and the error is the smallest as a virtual drawing data acquisition condition that approximates the drawing data acquisition condition! ⁇ Virtual drawing data acquisition conditions can be acquired.
  • the drawing point forming area for forming the drawing point based on the drawing data is moved relative to the substrate, and the drawing point is moved according to the movement.
  • the drawing data acquisition method for acquiring drawing data used when drawing an image by sequentially forming images on a substrate information on a virtual drawing trajectory of a drawing point formation region on the substrate set in advance.
  • information on the virtual drawing point data trajectory corresponding to the virtual drawing trajectory information of the drawing point formation area on the original image data is obtained.
  • the virtual drawing data corresponding to the virtual drawing point data trajectory is acquired from the original image data based on the plurality of virtual drawing point data trajectory information, and the obtained plurality of virtual drawing data is acquired.
  • Data is stored in advance, and the correspondence relationship between the virtual drawing point data trajectory information and the virtual drawing data is set in advance, and the drawing trajectory information of the drawing point formation area on the substrate at the time of image drawing is acquired.
  • the acquired drawing trajectory information is associated with the original image data to obtain drawing point data trajectory information corresponding to the drawing trajectory information of the drawing point formation area on the original image data, and the original image data on the drawing point data trajectory is obtained.
  • Sampling is performed to obtain sampling data, virtual drawing point data trajectory information approximating the drawing point data trajectory information is obtained, and virtual drawing data corresponding to the acquired virtual drawing point data trajectory information is preliminarily determined based on the correspondence relationship.
  • Specify from among the stored virtual drawing data acquire difference data between the specified virtual drawing data and sampling data, The encoded difference data is encoded to obtain differential encoded data, the acquired differential encoded data is decoded to decode the differential data, and the decoded differential data and the above identified virtual data are decoded.
  • Sampling data is reproduced by adding drawing data, and the reproduced sampling data is acquired as drawing data.
  • the specified virtual drawing data is drawn. It can be acquired as data.
  • drawing point data trajectory information approximating the drawing point data trajectory information a virtual having a start point position and an end point position of a difference within a predetermined range with respect to the start point position and the end point position of the drawing point data trajectory information.
  • Drawing point data trajectory information can be acquired.
  • virtual drawing point data trajectory information approximating the drawing point data trajectory information virtual drawing point data having a start point position and an end point position having a minimum difference with respect to the start point position and the end point position of the drawing point data trajectory information Trajectory information can be acquired.
  • the drawing method of the present invention uses the first and second drawing data acquisition methods of the present invention.
  • the drawing data is acquired, and based on the acquired drawing data, an image is drawn on the substrate.
  • a first drawing data acquisition apparatus of the present invention forms a drawing point based on drawing data.
  • a drawing data acquisition apparatus acquires drawing data used when drawing an image on a substrate by a drawing point formation region. Is a virtual condition for acquiring drawing data from original image data representing an image based on a preset positional relationship between a drawing surface on a substrate and a drawing point formation region, and the positional relationship is different from each other.
  • a virtual drawing data storage unit in which a plurality of virtual drawing data acquired using a plurality of virtual drawing data acquisition conditions is stored in advance, and a correspondence relationship between the virtual drawing data acquisition conditions and the virtual drawing data is anticipated.
  • the original image data force drawing data acquisition to obtain drawing data A drawing data acquisition condition acquisition unit that acquires acquisition conditions, a sampling data acquisition unit that samples original image data to acquire sampling data based on the drawing data acquisition conditions acquired by the drawing data acquisition condition acquisition unit, and a drawing Virtual drawing data that approximates the drawing data acquisition condition acquired by the data acquisition condition acquisition unit
  • Virtual drawing data acquisition condition acquisition unit that acquires the acquisition condition, and virtual drawing data acquisition condition acquired by the virtual drawing data acquisition condition acquisition unit
  • the virtual drawing data corresponding to the virtual drawing data specified from the plurality of virtual drawing data stored in advance based on the correspondence relationship, the virtual drawing data specified by the virtual drawing data specifying unit and the sampling The difference data acquisition unit that acquires difference data from the data and the difference data acquisition unit
  • the differential code data acquisition unit that performs the encoding process on the differential data acquired in this way to acquire differential encoded data, and the decoding process on the differential encoded data acquired by the differential code data acquisition
  • the drawing data acquisition unit includes When the error between the sampling data and the specified virtual drawing data is within a predetermined range, the virtual drawing data specified by the virtual drawing data specifying unit can be acquired as drawing data.
  • an error acquisition unit that acquires errors between the sampling data and virtual drawing data corresponding to a plurality of virtual drawing data acquisition conditions
  • the virtual drawing data acquisition condition acquisition unit includes a drawing As the virtual drawing data acquisition condition that approximates the data acquisition condition, the virtual drawing data acquisition condition with the smallest error acquired by the error acquisition unit can be acquired.
  • the second drawing data acquisition apparatus of the present invention moves a drawing point formation region for forming a drawing point based on the drawing data relative to the substrate and draws a point according to the movement.
  • a drawing data acquisition device that acquires drawing data used when drawing an image by sequentially forming images on a substrate, information on a virtual drawing trajectory of a drawing point formation region on the substrate set in advance.
  • the virtual drawing point data trajectory obtained from the original image data based on the information of the plurality of virtual drawing point data trajectories obtained by associating the plurality of different virtual drawing trajectory information with the original image data representing the image.
  • a virtual drawing data storage unit in which virtual drawing data corresponding to the virtual drawing data is stored in advance, a correspondence setting unit in which the correspondence between virtual drawing point data track information and virtual drawing data is set in advance, and image drawing Original image data by associating the drawing trajectory information acquired by the drawing trajectory information acquired by the drawing trajectory information acquisition unit with the drawing trajectory information acquired by the drawing trajectory information acquisition unit on the substrate at the time of drawing, and the original image data
  • a drawing point data trajectory information acquisition unit that acquires drawing point data trajectory information corresponding to the drawing trajectory information of the drawing point formation area above, and an original image data on the drawing point data trajectory acquired by the drawing point data trajectory information acquisition unit.
  • Virtual drawing point data information for acquiring virtual drawing point data trajectory information approximated to the drawing point data trajectory information acquired by the sampling point data trajectory information acquired by the sampling data acquisition unit for sampling data to obtain sampling data
  • the virtual drawing data corresponding to the virtual drawing point data trajectory information acquired by the acquisition unit and the virtual drawing point data information acquisition unit.
  • a virtual drawing data specifying section for specifying from a plurality of virtual drawing data stored in advance based on the correspondence relationship, is identified by a virtual rendering data identifying unit
  • a difference data acquisition unit for acquiring difference data between the virtual rendering data and the sampling data obtained, and difference encoding for acquiring difference encoded data by performing an encoding process on the difference data acquired by the difference data acquisition unit
  • a data acquisition unit a differential data decoding unit that performs a decoding process on the differential encoded data acquired by the differential encoded data acquisition unit and decodes the differential data, and is decoded by the differential data decoding unit
  • a data addition unit that reproduces sampling data by adding difference data and the identified virtual drawing data
  • a drawing data acquisition unit that acquires sampling data reproduced by the data addition unit as drawing data
  • the drawing data acquisition unit performs virtual drawing when the error between the sampling data and the specified virtual drawing data is within a predetermined range.
  • the virtual drawing data specified by the data specifying unit can be acquired as drawing data.
  • the virtual drawing point data trajectory information acquisition unit is used as virtual drawing point data trajectory information that approximates the drawing point data trajectory information, and a predetermined range with respect to the start point position and end point position of the drawing point data trajectory information. It is possible to acquire virtual drawing point data trajectory information having a start point position and an end point position of the difference.
  • the virtual drawing point data trajectory information acquisition unit is used as virtual drawing point data trajectory information approximating the drawing point data trajectory information, and the minimum difference with respect to the start point position and the end point position of the drawing point data trajectory information.
  • the virtual drawing point data trajectory information having the start point position and the end point position can be acquired.
  • an error acquisition unit that acquires errors between the sampling data and virtual drawing data corresponding to a plurality of virtual drawing point data locus information, and the virtual drawing point data locus acquisition unit is The above error is the smallest as virtual drawing point data trajectory information approximating point data trajectory information! Therefore, it is possible to acquire virtual drawing point data trajectory information.
  • the drawing device of the present invention draws an image on a substrate based on the first and second drawing data acquisition devices of the present invention and the drawing data acquired by the drawing data acquisition device. And a drawing means.
  • the "drawing point formation region" may be any region that forms a drawing point on the substrate.
  • a spatial light modulation element such as a DMD may be used. It can be a beam spot formed by the beam light reflected by each modulation element of the child, a beam spot formed by the beam light itself that has also generated light source power, or from each nozzle of an ink jet printer. It may be a region to which the ejected ink adheres.
  • the present invention prepares in advance based on a plurality of assumed virtual positional relationships between the drawing point formation region and the drawing surface when performing individual drawing processing on the drawing surface by the drawing point formation region. It may be a method Z apparatus for selecting an optimum one from a plurality of virtual drawing data sets based on the actual positional relationship between the drawing point formation region and the drawing surface.
  • the virtual drawing data set may be a collection of data given to the drawing point formation area in time series! / Data that is given simultaneously to a plurality of grouped drawing point formation areas.
  • each virtual drawing data set may be encoded every set or every several sets. In this case, when an optimal virtual drawing data set is selected, the decoding process is performed. .
  • the present invention provides a plurality of hypothetical hypotheses between the drawing point forming area and the drawing surface so that the drawing point forming area can be selected during individual drawing processing on the drawing surface.
  • a method Z apparatus that prepares a plurality of sets of virtual drawing data in advance based on the positional relationship may be used.
  • a plurality of virtual drawing data is acquired and stored in advance using a plurality of virtual drawing data acquisition conditions different from each other, and the image Based on the actual positional relationship between the drawing surface on the board and the drawing point formation area at the time of drawing, obtain the drawing data acquisition condition for acquiring drawing data and acquire the drawing data acquisition condition. Based on this, sampling data is obtained by sampling original image data, virtual drawing data acquisition conditions approximate to the acquired drawing data acquisition conditions are acquired, and virtual drawing data corresponding to the acquired virtual drawing data acquisition conditions is acquired. Based on the correspondence, the image data is specified from a plurality of virtual drawing data stored in advance, and difference data between the specified virtual drawing data and sampling data is obtained.
  • the obtained difference data is encoded to obtain difference encoded data, the obtained difference encoded data is decoded to decode the difference data, and the decoded difference is obtained.
  • the sampling data is reproduced by adding the data and the specified virtual drawing data, and the reproduced sampling data is acquired as the drawing data.
  • the virtual drawing data acquisition condition equivalent to the drawing data acquisition condition Even if virtual drawing data corresponding to the virtual drawing data acquisition condition does not exist, drawing data corresponding to the drawing data acquisition condition can be acquired.
  • differential data is obtained as described above and encoded to generate differentially encoded data, it is not necessary to transfer the sampling data itself, and the data transfer amount And the data transfer process can be speeded up accordingly.
  • the second drawing data acquisition method and apparatus of the present invention information on a plurality of virtual drawing point data trajectories that are different from each other is acquired, and virtual drawing is performed based on the information on the plurality of virtual drawing point data trajectories.
  • the virtual drawing data corresponding to the point data locus is also acquired and stored in advance as the original image data force, and the drawing locus information of the drawing point formation area on the substrate at the time of drawing the image is obtained, and the obtained drawing
  • the drawing point data trajectory information corresponding to the drawing trajectory information of the drawing point formation area on the original image data is obtained, and the original image data on the drawing point data trajectory is sampled.
  • Sampling data obtain virtual drawing point data trajectory information that approximates the drawing point data trajectory information, and respond to the acquired virtual drawing point data trajectory information.
  • the virtual drawing data is determined based on the above-mentioned correspondence relation, and the difference data between the specified virtual drawing data and sampling data is obtained, and the obtained difference data is encoded.
  • To obtain differential encoded data decode the acquired differential encoded data to decode the differential data, and add the decoded differential data and the identified virtual drawing data.
  • Sample data is reproduced, and the reproduced sampling data is acquired as drawing data.For example, it corresponds to virtual drawing point data locus information equivalent to the drawing point data locus information and the virtual drawing point data locus information. Even when there is no virtual drawing data to be acquired, drawing data corresponding to the drawing point data trajectory information is acquired. Door is it can.
  • FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of an exposure apparatus using first and second embodiments of a drawing method and apparatus of the present invention.
  • FIG. 2 is a perspective view showing the configuration of the scanner of the exposure apparatus in FIG.
  • FIG. 3A is a plan view showing an exposed area formed on the exposed surface of the substrate.
  • FIG. 3B Plan view showing the arrangement of exposure areas by each exposure head
  • FIG. 4 is a diagram showing DMD in the exposure head of the exposure apparatus in FIG.
  • FIG. 5 is a block diagram showing an electrical configuration of an exposure apparatus using the first embodiment of the present invention.
  • FIG.8A A diagram showing an example of the starting position of vector VI (virtual drawing point data trajectory information)
  • FIG. 8B A diagram showing an example of the setting position of the start point of vector VI (virtual drawing point data trajectory information)
  • FIG. 11 Schematic diagram showing the relationship between the reference mark on the ideally shaped substrate and the passing position information of a given micromirror
  • FIG. 12 A diagram for explaining a method of acquiring micromirror exposure trajectory information
  • FIG. 13 is a diagram for explaining a method for acquiring exposure point data trajectory information based on the exposure trajectory information of the micromirror.
  • FIG. 14 is a diagram for explaining a method for acquiring exposure point data trajectory information based on exposure trajectory information of a micromirror.
  • FIG.16 Diagram for explaining another method for obtaining the trace data number corresponding to vector V3 (exposure point data trajectory information)
  • FIG. 19 shows an example of the data structure of exposure point data information.
  • FIG.20 Diagram for explaining the effect of calculating sampling data from trace data and difference data
  • FIG. 21 is a diagram showing an exposure point data string for each micromirror.
  • FIG. 23 is a block diagram showing an electrical configuration of an exposure apparatus using the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 24 is a micromirror array and a vector V4n (virtual drawing point data position information) corresponding to the micromirror array. Figure showing
  • FIG. 25 is a diagram for explaining a method of acquiring trace data corresponding to the reference vector V41 and the vector V41 ′ (virtual drawing point data position information).
  • FIG.26 Diagram showing correspondence between reference vector V41 and vector V41 '(virtual drawing point data position information) and trace data
  • FIG. 27 is a diagram for explaining another method for obtaining a detection vector (drawing position information).
  • FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of the present exposure apparatus.
  • This exposure apparatus is an apparatus for exposing a predetermined exposure pattern, and particularly has a feature in a method for creating exposure image data used for exposing the exposure pattern. The configuration will be described.
  • the exposure apparatus 10 includes a flat plate-shaped moving stage 14 that holds the substrate 12 by being attracted to the surface. And a thick plate-like installation stand supported by four legs 16 On the upper surface of 18, two guides 20 extending along the stage moving direction are installed.
  • the moving stage 14 is arranged so that the longitudinal direction thereof faces the stage moving direction, and is supported by the guide 20 so as to be reciprocally movable.
  • a U-shaped gate 22 is provided at the center of the installation table 18 so as to straddle the movement path of the movement stage 14. Each end of the U-shaped gate 22 is fixed to both side surfaces of the installation base 18.
  • a scanner 24 is provided on one side of the gate 22 and the other side has a front end and a rear end of the substrate 12, and positions of a plurality of circular reference marks 12a provided in advance on the substrate 12.
  • a plurality of cameras 26 are provided for detecting the above.
  • the reference mark 12a on the substrate 12 is, for example, a hole formed on the substrate 12 based on preset reference mark position information.
  • a land or via etching mark may be used.
  • a predetermined pattern formed on the substrate 12, for example, a pattern below the layer to be exposed may be used as the reference mark 12a.
  • six reference marks 12a are not shown, but actually, a large number of reference marks 12a are provided.
  • the scanner 24 and the camera 26 are respectively attached to the gate 22 and fixedly arranged above the moving path of the moving stage 14.
  • the scanner 24 and the camera 26 are connected to a controller (described later) that controls them.
  • the scanner 24 includes 10 exposure heads 30 (30A to 30J) arranged in a matrix of 2 rows and 5 columns.
  • Each exposure head 30 is provided with a digital 'micromirror' device (DMD) 36 that is a spatial light modulation element (SLM) that spatially modulates an incident light beam as shown in FIG. ing.
  • DMD digital 'micromirror' device
  • SLM spatial light modulation element
  • the DMD 36 a large number of micromirrors 38 are two-dimensionally arranged in a direction orthogonal to each other, and the micromirrors 38 are attached so that the column direction of the micromirrors 38 forms a predetermined set inclination angle ⁇ . Therefore, the exposure area 32 by each exposure head 30 is a rectangular area inclined with respect to the scanning direction. As shown in FIG. 3A, as the moving stage 14 moves, a strip-shaped exposed region 34 for each exposure head 30 is formed on the substrate 12.
  • a force that is not shown in the drawing can be used for the light source that makes the light beam incident on each exposure head 30.
  • a laser light source can be used.
  • the DMD 36 provided in each of the exposure heads 30 is on / off controlled in units of micromirrors 38, and the substrate 12 is exposed to a dot pattern (black / white) corresponding to the micromirrors 38 of the DMD36.
  • the aforementioned strip-shaped exposed region 34 is formed by two-dimensionally arranged dots corresponding to the micromirrors 38 shown in FIG.
  • the two-dimensional dot pattern is tilted with respect to the scanning direction, so that dots arranged in the scanning direction pass between dots arranged in the direction intersecting the scanning direction. I can plan.
  • the exposure heads 30 in each row arranged in a line so that each of the strip-shaped exposed regions 34 partially overlaps the adjacent exposed region 34.
  • Each of these is arranged at a predetermined interval in the arrangement direction. For this reason, for example, the non-exposure portion between the exposure area 32A on the leftmost side of the first row and the exposure area 32C located on the right side of the exposure area 32A is the exposure area located on the leftmost side of the second row. ⁇ Exposed with 32B. Similarly, the portion that cannot be exposed between the exposure area 32B and the exposure area 32D that is located to the right of the exposure area 32B is exposed by the exposure area 32C.
  • the present exposure apparatus 10 outputs exposure image data in a vector format representing an exposure pattern to be exposed, which is output from a data creation apparatus 40 having a CAM (Computer Aided Manufacturing) station.
  • a data creation apparatus 40 having a CAM (Computer Aided Manufacturing) station.
  • An image processing unit 50 that generates information, a detection position information acquisition unit 51 that acquires detection position information of the reference mark 12a based on an image of the reference mark 12a captured by the camera 26, and a detection position information acquisition unit 51 Based on the acquired detection position information, an exposure trajectory information acquisition unit 52 that acquires information on the exposure trajectory of each micromirror 38 on the substrate 12 in actual exposure.
  • Exposure of the micromirrors each 38 obtained by exposure track information obtaining unit 52 Based on the trajectory information, the exposure point data trajectory information acquisition unit 53 for acquiring exposure point data trajectory information in the coordinate system of the exposure image data, and the exposure point data information acquired by the image processing unit 50, Based on the exposure point data acquired by the exposure point data acquisition unit 54 and the exposure point data acquisition unit 54 that acquires exposure point data for each mirror 38, a control signal supplied to each micromirror is generated and controlled.
  • An exposure head control unit 55 that outputs 30 signals of each exposure head and a controller 70 that controls the entire exposure apparatus are provided.
  • the exposure apparatus 10 includes a moving mechanism 60 that moves the moving stage 14 in the stage moving direction.
  • the moving mechanism 60 may adopt any known configuration as long as it moves the moving stage 14 back and forth along the guide 20.
  • the exposure apparatus 10 moves the substrate 12 placed on the moving stage 14 in the stage moving direction, and sequentially outputs a control signal from the exposure head controller 55 to the exposure head 30 along with the movement.
  • a desired exposure pattern is exposed on the substrate 12 by forming exposure points on the substrate 12 in time series.
  • the exposure apparatus 10 selects predetermined trace data of the template data force stored in the exposure point data acquisition unit 54 in advance, and the exposure point for each micromirror 38 based on the selected trace data. Data is acquired, and based on the acquired exposure point data, a control signal is output from the exposure head controller 55 to each micromirror 38 of the exposure head 30 to expose the exposure pattern on the substrate 12.
  • template data stored in advance in the exposure point data acquisition unit 54 and a method for creating the template data will be described.
  • vector data representing an exposure pattern to be exposed on the substrate 12 is created.
  • vector data representing the exposure pattern of the liquid crystal display is created.
  • the exposure pattern R of the liquid crystal display is an LCD pixel consisting of three TFTs for displaying (r, g, b). It consists of a display unit that is two-dimensionally arranged in a direction orthogonal to P and a wiring unit that also has a wiring force connected to the display unit.
  • the TFT for displaying r is represented by Tl
  • the TFT for displaying g by T2 the TFT for displaying b by ⁇ 3, and the wiring portion by a solid line.
  • vector data representing the exposure pattern R as shown in FIG. 6 is created.
  • the vector data created by the data creation device 40 is output to the image processing unit 50.
  • the image processing unit 50 separates the display unit data representing the display unit and the wiring unit data representing the wiring unit.
  • the display unit data and the wiring unit data are converted into raster data, respectively, and stored for each exposure image data storage unit 50a.
  • template data is created for the display unit data stored as described above.
  • template data is not created for the wiring portion data, but the method for acquiring the wiring portion data force exposure point data will be described later.
  • one LC D pixel data PD in the display unit data D is associated with the coordinate system of the exposure point on the substrate exposed by each micromirror 38.
  • Sampling of the LCD pixel data on the extension vector Vlt of the vector VI connecting from the predetermined start point s (xl, yl) to the predetermined end point e (x2, y2) in one LCD pixel data PD Sampling is performed at a pitch, and a partial exposure point data sequence is acquired.
  • 7 is a direction corresponding to the scanning direction of the micromirror 38 with respect to the substrate 12, and the X direction is a direction corresponding to a direction orthogonal to the scanning direction.
  • the vector VI means a part of the trajectory through which the image of the micromirror 38 can pass on the substrate 12.
  • a vector in a direction parallel to the y direction and a vector having a predetermined length L0 in the y direction is set as a reference vector, a predetermined number of exposure spot data is N, and the reference vector is sampled in the y direction.
  • the pitch be pitch.
  • the start point of vector VI is s (xl, yl)
  • the end point is e (x2, y2)
  • the sampling pitch in the x direction of the exposure point data is pitch_x
  • the sampling pitch in the y direction is pitch j
  • the end point e Fluctuation range of x direction Assuming ⁇ in the direction and Ay in the y direction, the relationship is as follows.
  • pitch j pitch X (LO + Ay) / LO (5)
  • N 4096
  • pitch 0.75 ⁇ m, and the like.
  • the extension vector Vlt is a vector obtained by extending the end point e (x2, y2) of the vector VI to the end point side of the vector VI, and can be expressed by the following relationship.
  • Vlt VI X (1 + k) ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ (6)
  • k (size of LCD pixel data in y direction + margin value a) / LO (7).
  • the reference vector VI is set for one start point s in one LCD pixel data, and the reference vector VI on the extension vector Vlt is set.
  • the LCD pixel data PD is sampled at the sampling pitch pitchijO, and the start point s of the reference vector VI is connected to a plurality of end points e located in a predetermined variation range W around the end point e of the reference vector.
  • the vector VI is set, and the LCD pixel data PD on the extension vector Vlt of each set vector VI is sampled at the sampling pitch pitch_x and pitch_y, and a partial exposure point data string is obtained for each vector Vlt.
  • the size of the fluctuation range W is set in advance according to the degree of deformation of the substrate 12.
  • the positions of some exposure points in one LCD pixel data PD are set as the start points s, and some exposure points located in the fluctuation range W are The end point is e.
  • the start point s may be set with an interval for each predetermined number of exposure point sequences in the x direction, and further in the y direction as shown in FIG. 8B. It is also possible to set the start point s at intervals for each predetermined number of exposure point sequences!
  • Set start point s The position can be set to any position as long as some exposure points in the LCD pixel data PD are set as the start point s! /.
  • the position of some exposure points within the fluctuation range W may be set as the set position of the end point e in the same manner as the start point s.
  • trace data The partial exposure point data sequence acquired as described above is hereinafter referred to as “trace data”.
  • Trace data numbers are assigned to the combinations of the coordinates (xl, yl) of the start point s and the variation ( ⁇ , Ay) of the end point e connected to the start point s, as shown in FIG.
  • the fluctuation amounts ( ⁇ , ⁇ ) are, as described above, the deviations of the end points e in the fluctuation range W in the X direction and the y direction when the position of the end point e of the reference vector is used as a reference. It shows the amount. Therefore, the amount of change ⁇ and the amount of change Ay at the end point e of the reference vector are both 0.
  • the number of vectors VI can be reduced, and the capacity of trace data can be reduced. I'll do it.
  • the correspondence shown in FIG. 9 is set in the trace data specifying unit 50d, output from the image processing unit 50 to the exposure point data acquiring unit 54, and also set in the exposure point data acquiring unit 54. .
  • Each trace data is associated with a corresponding trace data number, collected as template data as shown in FIG. 10, and stored in the first template storage unit 5 Oc.
  • the data is output from the unit 50 to the exposure point data acquisition unit 54 and is also stored in the second template storage unit 54a.
  • Each vector VI may be quantized with a predetermined quantization pitch. For example Quantize the starting point s, the end point e, the coordinate value of the middle point, the slope of each vector VI, etc., which are numerical values for identifying each vector VI.
  • the quantization result is v '
  • the quantization pitch is stp
  • V, INT (V / stp) X stp ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ (8)
  • the number of vector VIs can be reduced, the number of trace data corresponding to the solid VI can be reduced, and the capacity of the template storage unit 56a can be reduced. be able to.
  • the force that connects the start point s and the end point e with a straight line is not limited to this.
  • the start point s and the end point e may be connected with a curved line or a broken line.
  • the display unit data that has been converted into the raster data is the force that is used to acquire the exposure point data corresponding to the D force vector VI. Display data power as it is. Try to obtain exposure point data corresponding to vector VI.
  • the template data stored in the second template storage unit 54a as described above is read based on exposure point data information, which will be described later, acquired in the image processing unit 50, and the exposure head control unit 55.
  • exposure point data information which will be described later
  • the exposure point data information and a method for acquiring the exposure point data information will be described.
  • the controller 70 outputs a control signal to the moving mechanism 60.
  • the moving mechanism 60 moves the moving stage 14 in accordance with the control signal, and the positional force shown in FIG. After moving to the initial position, it is moved toward the downstream side at a desired speed.
  • the upstream side is the right side in Fig. 1, that is, the scanner 24 is installed on the gate 22.
  • the downstream side is the left side in FIG. 1, that is, the side where the camera 26 is installed with respect to the gate 22.
  • the substrate 12 on the moving stage 14 moving as described above passes under the plurality of cameras 26, the substrate 12 is photographed by these cameras 26, and a photographed image representing the photographed image is displayed.
  • Data is input to the detected position information acquisition unit 51.
  • the detected position information acquisition unit 5 1 is based on the input captured image data!
  • detection position information indicating the position of the reference mark 12a on the substrate 12 is acquired.
  • the detection position information of the reference mark 12a for example, it may be acquired by extracting a circular image, but any other known acquisition method may be adopted.
  • the detection position information of the reference mark 12a is specifically a force acquired as a coordinate value, and its coordinate system is the same as the coordinate system of the exposure point exposed by each micromirror 38.
  • the detection position information of the reference mark 12a acquired as described above is output from the detection position information acquisition unit 51 to the exposure locus information acquisition unit 52.
  • the exposure locus information acquisition unit 52 information on the exposure locus for each micromirror 38 on the substrate 12 at the time of actual exposure is obtained based on the input detected position information.
  • a passing position information force indicating a position through which an image of each micromirror 38 of the DMD 36 of each exposure head 30 passes is set in advance for each micromirror 38.
  • the passage position information is preset by the installation position of each exposure head 30 with respect to the installation position of the substrate 12 on the moving stage 14, and is expressed by a plurality of vectors or coordinate values of a plurality of points. .
  • FIG. 11 an ideally shaped substrate 12 that has not undergone a pressing process, that is, no deformation such as distortion has occurred, and the reference mark 12a is arranged at a position indicated by the preset reference mark position information 12b.
  • FIG. 4 is a schematic diagram showing the relationship between the substrate 12 and the passing position information 12c of the predetermined micromirror 38.
  • the coordinate system of the passage position information is the same as the coordinate system of the exposure point exposed by the micromirror 38.
  • the length of the vector V2 delimited by a plurality of reference points 12e (white circles shown in FIG. 11) in the passing position information 12c is set to the same length as the above-described reference vector.
  • the exposure trajectory information acquisition unit 52 as shown in FIG. 2c and the detected position information 12d are associated with each other, and the positional relationship with the detected position information 12d is obtained for each reference point 12e in the passing position information 12c.
  • the areas of rectangles Sa, Sb, Sc, and Sd determined by the reference point 12e and the detection position information 12d surrounding the reference point 12e are obtained.
  • the areas as described above are obtained for each reference point 12e and output to the exposure point data trajectory information acquisition unit 53 as exposure trajectory information.
  • the exposure trajectory information as described above is obtained for each passing position information 12c of each micromirror 38, and is output to the exposure point data trajectory information acquisition unit 53.
  • the exposure point data track information acquisition unit 53 acquires exposure point data track information corresponding to the exposure track information.
  • the exposure point data trajectory acquisition unit 53 is preset with position information 12f of the reference mark 12a in the coordinate system of the exposure image data.
  • the coordinate force of the trace point 12g that satisfies Eq. (10) is obtained for each reference point 12e.
  • information on the vector V3 connecting the trace points 12g is output to the image processing unit 50 as exposure point data trajectory information.
  • adjacent trace points 12g are connected by a straight line to form vector V3.
  • the present invention is not limited to this.
  • adjacent trace points 12g may be connected by a curve or a broken line.
  • Vector V3 it is desirable to approximate the intersection of the straight line connecting position information 12f adjacent in the X direction and the vector V3 with a polygonal line.
  • the image processing unit 50 acquires exposure point data information based on the input information on each vector V3. Specifically, the trace data specifying unit 50d of the image processing unit 50 obtains the coordinate values of the start point and the end point of each vector V3, and uses the coordinate values in the coordinate system of the exposure points in one LCD pixel data. Relative conversion to the coordinate value is performed, and the end point variation ( ⁇ , Ay) is obtained based on the relative coordinate value of the start point and end point. And, with each vector V3, based on the correspondence relationship shown in FIG. 9, the coordinate values and the amount of change of the end point of the start point ( ⁇ , ⁇ ⁇ ) acquires guard Itasu that trace data number.
  • the position of the start point s in the y direction is set only in the shaded area (that is, a part) in FIG.
  • the position of the start point s is set as described above, for example, when the coordinate force of the start point after the relative conversion obtained by the image processing unit 50 is the position shown in FIG. Therefore, the coordinate value that is the same as the coordinate value of the start point after relative conversion does not exist in the correspondence relationship shown in FIG.
  • the vector V3 expressed by the relative transformation start point P1 and end point P2 is extended to the start point P1 side, and on the extension line,
  • the starting point PO existing in the correspondence shown in Fig. 9 is obtained.
  • the trace data number where the coordinate value of the starting point PO and the variation ( ⁇ , Ay) seen from the starting point PO match is obtained.
  • the deviation amount in the y direction of the starting point P1 with respect to the starting point PO obtained only by the trace data number is obtained. The amount of deviation is acquired as the reading start position.
  • the trace data specifying unit 50d as described above, the trace data number and the reading start position are obtained for each vector V3, and exposure point data is obtained as exposure point data information corresponding to each vector V3. To part 54. If the coordinate value of the relative point of the starting point coincides with the coordinate value of the correspondence shown in FIG. 9, the reading start position is 0.
  • the position of the start point in one LCD pixel data PD is set to a part of the position.
  • the position of the end point e is also limited to some positions.
  • vector V3 the vector obtained by extending the vector V3 to the start point side as described above (hereinafter referred to as “extended vector V3” t).
  • Vector VI trace data number
  • the above “same” includes what can be considered to be substantially the same as the same.
  • the vector V3 or the extension vector V3 If there is no equivalent vector VI, first, the trace data number and read start position of the vector VI that approximates the vector V3 or the extension vector V3 are obtained.
  • the trace data specifying unit 50d determines that the difference between the coordinate value of the start point s of the vector V3 or the extension vector V3 and the coordinate value of the start point is within a predetermined range, and the vector V3 or extension The trace data number and readout start position are obtained in which the difference between the variation amount ( ⁇ , Ay) of vector V3 and the variation amount is within a predetermined range.
  • the trace data number may be acquired with the smallest difference!
  • any one trace data number may be acquired according to a predetermined rule set in advance.
  • a vector VI in which the difference between the coordinate value of the start point s of the vector V3 or the extension vector V3 and the coordinate value of the start point is within a predetermined range is searched, and the difference is the smallest. If a vector VI exists, the vector VI is identified as a similar vector VI without looking at the amount of variation ( ⁇ , Ay). If there are multiple vectors VI with the smallest difference, the vector VI that approximates the vector VI whose variation ( ⁇ , Ay) is closest to the variation ( ⁇ , Ay) of the vector V3 or extension vector V3. As specified.
  • a vector VI in which the difference between the variation ( ⁇ X, ⁇ y) of the vector V3 or the extension vector V3 and the variation is within a predetermined range is searched. If there is a small solid VI, the vector VI is specified as an approximate vector VI without looking at the coordinate value of the starting point s. If there are a plurality of vectors VI having the smallest difference, the vector VI having the closest coordinate value of the start point s to the coordinate value of the start point s of the vector V3 or the extension vector V3 is specified as an approximate vector.
  • a vector VI having the X coordinate value of the start point closest to the start point s of the vector V3 or the extension vector V3 is searched, and there is one vector VI as described above. If it is, identify the vector as an approximate vector VI and If there are multiple VIs, then search for the vector VI that has the y coordinate value of the start point closest to the y coordinate value of the start point s of the vector V3 or extension vector V3 from among the vector VIs. If there is a single vector VI, specify that vector as an approximate vector VI. If there are multiple vector VIs as shown above, To find the vector VI that has the X coordinate value of the end point closest to the end point e of the vector V3 or the extension vector V3.
  • the fourth method is to calculate the distance ds between the start point of each vector VI! / And the start point s of the vector V3 or extension vector V3, and the end point of the vector V3 or extension vector V3.
  • the distance de from the starting point e is obtained, and for each vector VI, the total number T is obtained according to the following formula, and the vector VI having the smallest total number T is specified as the approximate vector VI.
  • T ds Xwl + de Xw2
  • the trace data corresponding to one trace data number acquired as described above is read from the first template storage unit 50c, and is output to the exposure point data information creation unit 50e together with the trace data number.
  • the reading start position is 0, the trace data is read out at the head force, and when the reading start position force is, for example, ml, the ml position force is read out.
  • the exposure point data should be read by the number N of exposure point data.
  • the beginning of the storage area where the trace data number and the trace data of the trace data number are stored is stored.
  • the correspondence with the address may be set in advance.
  • the start address is obtained from the race data number corresponding to vector V3 or extension vector V3 and the correspondence shown in FIG. 17, and the start address and read start position are determined. Obtain the read start address from the address, and read the address power exposure point data indicated by the read start address!
  • the information on the vector V3 acquired by the exposure point data trajectory information acquisition unit 53 is output to the sampling data acquisition unit 50b.
  • the sampling data acquisition unit 50b the coordinate system of each vector V3 and the exposure image data And the exposure point data force on the vector V3.
  • the exposure image data stored in the exposure image data storage unit 50a is also sampled and read out and output to the exposure point data information generation unit 50e.
  • the trace data T output from the sampling data S output from the sampling data acquisition unit 50b is also output from the trace data specifying unit 50d. Is subtracted to obtain the difference data Sub. Then, run-length encoding processing is performed on the difference data Sub to generate difference encoded data. The subtraction is performed by calculating the exclusive OR of the exposure point data for each bit of the sampling data S and the trace data T.
  • the differential encoded data acquired as described above is added to the trace data number and the reading start position acquired by the trace data specifying unit 50d, Exposure point data information having a data structure as shown in FIG. 19 is generated and output to the exposure point data acquisition unit 54.
  • the differentially encoded data is acquired and output to the exposure point data acquisition unit 54 together with the trace data number as described above, for example, the sampling data acquired in the sampling data acquisition unit 50b is directly used as the exposure point data acquisition unit.
  • the amount of transfer data can be reduced, and the transfer process can be speeded up. Note that the trace data T and the sampling data S are not so different from each other in the content of the data. Therefore, as the difference data, the amount of transferred data can be increased by applying a run length code with a large value of 0. It is thought that can be reduced.
  • the exposure point data information is provided with a flag as shown in Fig. 19, and this flag indicates that the trace data corresponding to the trace data number approximates the vector V3 but is not the same vector VI. If the trace data corresponds to, the difference code key data is necessary, so it is set to 1. This indicates that there is difference encoded data, and trace data When the trace data corresponding to the data number is the trace data corresponding to the vector VI equivalent to the vector V3, the differential code data is all 0 values, so the differential code data is not required. Therefore, it is set to 0, indicating that there is no differentially encoded data after that.
  • the present invention when there are a plurality of vector trace data numbers similar to the vector V3 or the extension vector V3, for example, the difference in the coordinate value and the variation ( ⁇ The trace data number is acquired when the difference between X and ⁇ y is the smallest.
  • the present invention is not limited to this, and the trace data corresponding to the plurality of trace data numbers is acquired and acquired as described above. It is also possible to obtain an error from the sampled data and obtain the trace data number corresponding to the trace data with the smallest error as the trace data number of the vector VI approximating the vector V3 or the extension vector V3. Good.
  • the error may be obtained by, for example, associating sampling data with trace data, comparing the data bit by bit, and counting the number of bits with different data.
  • the data amount of the exposure point data information can be further reduced, and the data transfer speed from the image processing unit 50 to the exposure point data acquisition unit 54 can be reduced. ⁇ can be planned.
  • the error between the trace data corresponding to the vector VI approximating the vector V3 or the extension vector V3 and the sampling data is predetermined. If it is within the range, the trace data number and readout start position of the vector VI that approximates the vector V3 or the extension vector V3 without acquiring the difference data as described above are acquired as exposure point data information, and the exposure The point data information is output from the image processing unit 50 to the exposure point data acquisition unit 54, and the exposure point data acquisition unit 54 converts the trace data read based on the trace data number and the reading start position to the exposure point data. Try to get as ⁇ ⁇ ⁇ .
  • the above error can be obtained, for example, by associating sampling data and trace data, comparing the data one bit at a time, and counting the number of bits with different data! ,.
  • the data amount of the exposure point data information can be further reduced, and the data transfer processing from the image processing unit 50 to the exposure point data acquisition unit 54 can be performed at high speed.
  • ⁇ ⁇ can be planned.
  • sampling data acquisition unit 50b and the trace data identification unit 50d may operate independently in parallel processing!
  • the sampling data acquisition unit 50b executes the sampling data acquisition process only when there is no vector VI equivalent to the vector V3 or the extension vector V3 based on the result of the trace data specifying unit 50d. Well ... By doing so, the total amount of computation can be reduced.
  • exposure point data is acquired for each vector V3, and an exposure point data string corresponding to the exposure point data trajectory of one micromirror 38 is acquired by connecting these data.
  • each vector V3 may be quantized according to the quantization.
  • the quantization method is the same as the quantization method for vector VI.
  • trace data corresponding to the vector V3 can be acquired at higher speed. For example, if you quantize the start point s, end point e, middle point coordinate value of each vector V3, the slope of each vector V3, etc.
  • the wiring section data is raster-converted and stored in the exposure image data storage section 50a. It is remembered.
  • the wiring unit data stored in the exposure image data storage unit 50a is output to the sampling data acquisition unit 50b.
  • the exposure point data trajectory information for each micromirror 38 acquired by the exposure point data trajectory information acquisition unit 53 as described above is also output to the sampling data acquisition unit 50b.
  • the sampling data acquisition unit 50b associates each vector V3 of the exposure point data trajectory information with the wiring unit data, samples the wiring unit data on each vector V3 at a predetermined sampling pitch, and reads it as exposure point data.
  • the exposure point data sequence for each micromirror 38 acquired as described above is output to the exposure point data acquisition unit 54. It is assumed that the portion corresponding to the display portion data in the wiring portion data shown in FIG. 6 is zero data.
  • an exposure point data string for each micromirror 38 for the display unit data acquired as described above, and for each micromirror 38 for the wiring unit data are combined to generate an exposure point data sequence for each micromirror 38 that represents the exposure pattern R of the liquid crystal display.
  • the above composition is performed by calculating the logical sum of the exposure point data sequence for the display unit data and the exposure point data sequence for the wiring unit data.
  • the exposure point data for each micromirror 38 acquired as described above is output to the exposure head controller 55. Then, along with the above output, the moving stage 14 is again moved to the upstream side at a desired speed.
  • the substrate 12 is exposed by turning on and off the 36 micromirrors.
  • a control signal is output from the exposure head controller 55 to each exposure head 30, a control signal corresponding to each position of each exposure head 30 with respect to the substrate 12 accompanies the movement of the moving stage 14.
  • the force output from the exposure head controller 55 to each exposure head 30 sequentially.
  • exposure point data corresponding to each position of each exposure head 30 is obtained one by one from each of the L exposure point data sequences acquired for each micromirror 38.
  • the data may be read out sequentially and output to the DMD 36 of each exposure head 30, or the exposure point data obtained as shown in FIG. 26 may be rotated 90 degrees or transposed using a matrix, etc.
  • frame data 1 to L corresponding to each position of each exposure head 30 with respect to the substrate 12 is generated, and the frame data 1 to L are sequentially output to each exposure head 30.
  • exposure point data when exposing the deformed substrate 12 during the pressing process or the like has been described.
  • the substrate has an ideal shape that has not been deformed.
  • exposure point data can be obtained by employing the same method as described above. For example, exposure point data trajectory information corresponding to the passage position information set in advance for each micromirror 38 is acquired, and exposure point data information is acquired based on the acquired exposure point data trajectory information. Based on the exposure point data information, exposure point data can be acquired in the same manner as described above.
  • the reference mark 12a on the substrate 12 is detected, and based on the detected position information, the exposure trajectory information of each micromirror 38 on the substrate 12 at the time of actual exposure is obtained.
  • a displacement information acquisition unit that acquires displacement information in a direction orthogonal to the stage moving direction of the moving stage 14 is provided, and the displacement information acquired by the displacement information acquisition unit Based on the exposure trajectory information of each micromirror 38 on the substrate 12 in actual exposure, and based on the exposure trajectory information, the exposure point data trajectory information consisting of the vector V3 is obtained.
  • exposure point data may be acquired in the same manner as described above.
  • the deviation information may be set in advance in the deviation information acquisition unit.
  • a measurement method of deviation information for example, a measurement method using a laser beam used in an IC wafer stepper device or the like can be used. For example, move stage 14 in the direction of stage movement.
  • a laser light source that emits laser light toward the reflective surface and a detector that detects the reflected light reflected by the reflective surface are provided. The shift amount can be measured by sequentially detecting the phase shift of light by the detection unit.
  • exposure trajectory information should be acquired in consideration of the keying of the moving stage 14.
  • the exposure track information may be acquired in consideration of both the detection position information of the reference mark 12a and the deviation information.
  • a speed fluctuation information acquisition unit that acquires speed fluctuation information of the movement of the substrate 12 in advance is provided, and the movement speed of the substrate 12 is slow based on the speed fluctuation information acquired by the speed fluctuation information acquisition means.
  • the exposure point data may be acquired by decreasing the sampling pitch pitch j0 of the reference vector so that the density of the exposure point data increases as the area on the substrate 12 increases. Note that the movement speed fluctuation information of the substrate 12 is unevenness of the movement speed generated according to the control accuracy of the moving mechanism 60 of the moving stage 14.
  • the method of acquiring the exposure point data of the display portion data in which the LCD pixel data PD is repeatedly arranged in the y direction has been described using the trace data.
  • the original image data that is a target for acquiring the image does not necessarily have a data structure such as display data.
  • the vector VI is set with the position of the exposure point in the entire original image data that is not just the starting point s in one LCD pixel data PD as described above. Therefore, it is necessary to obtain the trace data corresponding to the vector VI.
  • the method for setting the start point and end point e of the vector VI is the same as described above.
  • force difference data is shown for each vector V3 as an example of run-length encoding using the difference data as one-dimensional data.
  • Key and decryption key processing can also be applied.
  • the well-known JPE G method can be used.
  • the information amount of the encoded data of the difference data can be further reduced.
  • An exposure apparatus 25 using the second embodiment of the present invention has a schematic configuration similar to that of the exposure apparatus using the first embodiment shown in FIG.
  • the exposure apparatus 25 differs in template data stored in advance and a method of creating the template data. Specifically, in the exposure apparatus 10 using the first embodiment, assuming a trajectory through which the image of the micromirror 38 can pass on the substrate 12, trace data corresponding to the trajectory is acquired. Although the template data is used, in the exposure apparatus 25 using the second embodiment, a predetermined micromirror array force in the DMD 36 is assumed and an exposure point array that can expose the substrate 12 is assumed. Trace data corresponding to is obtained and used as template data.
  • the exposure apparatus 25 receives exposure image data in a vector format that represents an exposure pattern to be exposed, output from the data creation apparatus 40, and based on the exposure image data.
  • an image processing unit 80 that generates exposure point data information for acquiring exposure point data for each micromirror 38 based on exposure point data position information described later, Based on the exposure point data information acquired by the exposure point position information acquisition unit 82 and the image processing unit 80 for acquiring the position information of the exposure point sequence of the row of micromirrors 38 on the substrate 12 at the time of exposure, And an exposure point data acquisition unit 84 that acquires an exposure point data sequence of the micromirror array.
  • DMD 36 is virtually divided into a predetermined micromirror array.
  • the exposure image data is associated with the coordinate system of the exposure point exposed on the substrate 12 by the micromirror 38.
  • the exposure point sequence 38b on the substrate that is sequentially exposed at a predetermined timing by one micromirror array 38a among the micromirror arrays divided as described above is the coordinate system and the exposure image data. Associated with the data.
  • the position of the exposure point sequence 38b is determined by the DMD 36. 2 is the position of the exposure point sequence when ideally arranged with respect to 2. Further, the position information of the exposure point sequence is set in advance.
  • reference vectors V4 l to V4n connecting the exposure point at one end and the exposure point at the other end of each exposure point sequence 38b are set.
  • a plurality of vectors V41 ′ within the range of the angle variation ⁇ are set with respect to the reference vector V41, and the exposure point data force exposure image data on the reference vectors V41 and V41 ′. Forces are sampled respectively, and trace data corresponding to the reference vector V41 and vector V41 'are acquired.
  • the position of the starting point s of the reference vector V41 is moved within a predetermined range indicated by the oblique lines in FIG.
  • the vector V41 ′ is set in the same manner as described above for the reference vector V41 of each starting point s.
  • trace data corresponding to the reference vector V41 and the vector V41 ′ is acquired.
  • the angle variation ⁇ and the predetermined range are appropriately set according to the amount of variation in the arrangement of the DMD with respect to the substrate 12.
  • the start point s is set for the positions of some exposure points within the range of FIG.
  • Trace data is acquired for each of the reference vectors V42 to V4n and vectors V42 'to V4n' in the same manner as described above.
  • the reference vectors V41 to V4n and the vectors V41, to V4n! / are associated with the position of the start point s and the angle variation ⁇ with respect to the reference vector and the trace data number, respectively.
  • a correspondence relationship as shown in FIG. 26 is acquired, and this correspondence relationship is set in the trace data specifying unit 80d, output to the exposure point data acquisition unit 84, and also set in the exposure point data acquisition unit 84.
  • the trace data corresponding to the reference vectors V41 to V4n and the vectors V41 and V4n ' are generated as template data in association with the above trace data numbers, and stored in the first template storage unit 80c.
  • the image data is output from the image processing unit 80 to the exposure point data acquisition unit 84 and is also stored in the second template storage unit 84a in the exposure point data acquisition unit 84.
  • an exposure point array actually exposed by the micromirror array 38a on the substrate 12 Location information is measured.
  • the position information is measured by moving the moving stage 14 at a speed similar to the speed at which the exposure image is actually exposed on the substrate 12, and at the same timing as the actual exposure timing. Measurement can be performed by turning on the row 38a and detecting the light in the micromirror row 38a with a detector provided on the moving stage 14.
  • detection vectors V51 to V5n connecting the exposure point at one end of the exposure point sequence and the exposure point at the other end are acquired, and Information on detection vectors V51 to V5n is acquired as exposure point position information by exposure point position information acquisition unit 82, and exposure point position information acquisition unit 82 outputs information on detection vectors V51 to V5n to image processing unit 80. .
  • the trace data specifying unit 80d obtains the same trace data number as the detection vector V51 to V5n with the same starting point and angle variation ⁇ , and the trace data number is obtained.
  • the data number is output to the exposure point data acquisition unit 84 as exposure point data information.
  • trace data numbers of vectors V41 to V4n, V41, to V4n equivalent to detection vectors V51 to V5n may not exist. .
  • the trace data specifying unit 80d force detection vectors V51 to V5n start point s and the difference between the start point s and the start point are within a predetermined range, and the variation amount of the detection vectors V51 to V5n
  • a trace data number in which the difference between ⁇ and the variation is within a predetermined range is acquired.
  • the information of the detection vectors V51 to V5n acquired in the exposure point position information acquisition unit 82 is output to the sampling data acquisition unit 80b, and the detection data V51 to V5n and the exposure image data are output in the sampling data acquisition unit 80b.
  • the exposure point data force on the detection vectors V51 to V5n and the exposure image data force stored in the exposure image data storage unit 50a are sampled and read out, and the exposure point data information generation unit Output to 80e.
  • the exposure point data information creation unit 80e as in the first embodiment, the trace data output from the trace data specification unit 50d from the sampling data S output from the sampling data acquisition unit 80b. Data T is subtracted to obtain difference data Sub. Then, run-length encoding processing is performed on the difference data Sub, and difference encoded data is created.
  • the difference code key data acquired as described above is added to the trace data number acquired by the trace data specifying unit 80d, and the result shown in FIG.
  • the exposure point data information having the data structure as shown is generated and output to the exposure point data acquisition unit 54.
  • the flag power ⁇ in the exposure point data information is a force 1. If the flag is 0, the trace data read out as described above is used as it is. It is acquired as data. If the flag is 1, the subsequent differentially encoded data is acquired, subjected to decoding processing by the differential decoding unit 84b, and the differential data Sub Is decrypted. Similarly to the first embodiment, the trace data ⁇ and the decoded difference data Sub are added to obtain the sampling data S, and the sampling data S is obtained as the exposure point data.
  • the frame data of DMD 36 at each exposure timing is obtained by matching the exposure point data sequences of the micromirror columns at each exposure timing.
  • DMD 36 is divided by the micromirror array as shown in FIG. 24.
  • the division method is not limited to the mode shown in FIG. 24, and other division methods are used. But you can.
  • the DMD 36 may be divided in units of micromirror rows.
  • the micromirrors in the DMD 36 may be divided into a plurality of groups for each square area, and a template may be created for each group. In that case, a template can be created by assuming the exposure point position of each micromirror in the region with reference to the exposure point position on the substrate corresponding to, for example, the apex micromirror in the rectangular region. .
  • the micromirror array shown in FIG. 24 is further divided, a division reference vector is set corresponding to the divided micromirror, and trace data is obtained for the division reference vector in the same manner as described above. Template data may be used.
  • a detection vector is obtained in which the exposure point at one end and the exposure point at the other end of the measured exposure point sequence are connected by a straight line. However, the exposure point at one end and the exposure at the other end are acquired.
  • a polygonal line detection vector V6 is obtained by approximating the points with a polygonal line, and exposure point data corresponding to each of the line segment vectors V61 and V62 of the polygonal line detection vector V6 is obtained and connected.
  • exposure point data corresponding to the micromirror array may be acquired.
  • the micromirror array division method and the polygonal line approximation of the detection vector have a corresponding relationship.
  • the distortion of the DMD 36 can be corrected.
  • the exposure apparatus provided with the DMD as the spatial light modulation element has been described.
  • a transmissive spatial light modulation element is used. You can do it.
  • the exposure apparatus of the V so-called flood bed type is given as an example, but a so-called outer drum type exposure apparatus having a drum around which a photosensitive material is wound may be used.
  • the substrate 12 to be exposed in the above embodiment may be a flat panel display substrate that includes only a printed wiring board.
  • the shape of the substrate 12 may be a sheet shape or a long shape (such as a flexible substrate).
  • drawing method and apparatus according to the present invention can also be applied to drawing in an ink jet printer or the like.
  • a drawing point by ink ejection can be formed in the same manner as in the present invention. That is, the drawing point formation region in the present invention can be considered as a region to which ink ejected from each nozzle of an ink jet printer adheres.
  • the drawing trajectory information in the present invention may be used as drawing trajectory information by using the drawing trajectory of the drawing point formation area on the actual substrate, and the drawing trajectory of the drawing point formation area on the actual substrate. May be used as the drawing trajectory information, and the drawing trajectory information obtained by predicting the drawing trajectory of the drawing point formation region on the actual substrate may be used.
  • the image pattern to be templated may be an image that appears discretely many times other than the repeated pattern.
  • the repeated pattern to be templated may be a pattern in which a plurality of types of image patterns appear repeatedly.
  • a template may be created for each type of image pattern, and if there is regularity in how the image patterns are arranged, template selection may be performed for each type of arrangement.
  • the exposure target may be an LSI. In that case, the same pattern of memory cells or the like can be templated.

Abstract

 露光ヘッドにより基板上に露光パターンを露光する際に用いられる露光点データの取得方法であって、基板の変形などに応じて予め記憶された複数のトレースデータの1つを読み出して露光点データを取得する露光点データ取得方法において、トレースデータの削減を図るとともに、適切な露光点データを取得する。  複数の仮想露光点データ軌跡に対応したトレースデータを取得して予め記憶するとともに、露光の際の基板上における露光軌跡に対応する露光点データ軌跡情報を取得し、その露光点データ軌跡情報に基づいて露光画像データをサンプリングし、そのサンプリングデータと露光点データ軌跡情報に近似する仮想露光点データ軌跡情報に対応するトレースデータとの差分データを取得し、その差分データを符号化して差分符号化データを取得した後、その差分符号化データと上記トレースデータとに基づいて露光点データを取得する。

Description

明 細 書
描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置
技術分野
[0001] 本発明は、描画データに基づいて基板上に画像を描画する際に用いられる描画デ ータを取得する描画データ取得方法および装置並びにその描画データ取得方法お よび装置により取得された描画データに基づ!/ヽて基板上に画像を描画する描画方 法および装置に関するものである。
背景技術
[0002] 従来、プリント配線板や液晶ディスプレイなどのフラットパネルディスプレイの基板に 所定のパターンを記録する装置として、フォトリソグラフの技術を利用した露光装置が 種々提案されている。
[0003] 上記のような露光装置としては、たとえば、フォトレジストが塗布された基板上に光ビ 一ムを主走査および副走査方向に走査させるとともに、その光ビームを、露光パター ンを表す露光画像データに基づいて変調することにより露光パターンを形成する露 光装置が提案されている。
[0004] 上記のような露光装置として、たとえば、デジタル 'マイクロミラー'デバイス(以下、 DMDという)等の空間光変調素子を利用し、露光画像データに応じて空間光変調 素子により光ビームを変調して露光を行う露光装置が種々提案されている。
[0005] そして、上記のような DMDを用いた露光装置としては、たとえば、 DMDを露光面 に対して所定の走査方向に相対的に移動させるとともに、その走査方向への移動に 応じて DMDのメモリセルに多数のマイクロミラーに対応した描画データを入力し、 D MDのマイクロミラーに対応した描画点群を時系列に順次形成することにより所望の 画像を露光面に形成する露光装置が提案されて 、る(たとえば特開 2004 - 23371 8号公報
参照)。
[0006] ここで、上記のような露光装置を用いて、たとえば、多層プリント配線板の露光パタ ーンを形成する際には、各層を張り合わせるプレス工程において基板に熱が加えら れ、その熱により基板が変形してしまう場合があるため、各層の露光パターンの位置 合わせを高精度に行うためには、上記のような基板の変形に応じた露光パターンを 各層にお 、て形成する必要がある。
[0007] また、フラットパネルディスプレイにおいてもカラーフィルタパターンを露光する際、 基板に加熱処理が施されるのでその熱によって基板が伸縮し、 R、 G、 Bの各色の記 録位置ずれが生じてしまうおそれがあるため、上記のような基板の変形に応じた露光 ノターンを形成する必要がある。
[0008] し力しながら、たとえば、同じ露光パターンを多数の基板に形成する場合などにお いて、リアルタイムに基板毎の変形量に応じた露光画像データを生成し、その露光画 像データに基づ 、て露光を行うようにしたのでは、基板の変形量に応じた露光画像 データの生成に時間が力かり生産効率の低下を招くおそれがある。
[0009] そこで、上記のような基板の変形を想定し、その基板の変形に応じた露光画像デー タを画像処理装置で予め複数種類生成して露光部に予め記憶しておき、実際に露 光する際に、基板の変形量の情報を取得し、その変形量に応じた露光画像データを 読み出して利用することによって、上記のような生産効率の低下を招くことなく露光画 像データを取得する方法が考えられる。
[0010] しカゝしながら、想定される基板変形に応じた露光画像データを全て生成し、予め記 憶するようにしたのではその容量が膨大となり、これらを記憶しておくメモリも容量が 膨大なものが必要となり、コストアップになる。
[0011] 本発明は、上記のような描画方法および装置に用いられる描画データの取得方法 および装置の改良に関する。
発明の開示
[0012] 本発明の第 1の描画データ取得方法は、描画データに基づいて描画点を形成する 描画点形成領域によって基板上に画像を描画する際に用いられる描画データを取 得する描画データ取得方法にぉ 、て、基板上の描画面と描画点形成領域との予め 設定された位置関係に基づいて画像を表す原画像データから描画データを取得す る仮想的な条件であって、互いに異なる上記位置関係に基づく複数の仮想描画デ ータ取得条件を用いて複数の仮想描画データを取得して予め記憶するとともに、仮 想描画データ取得条件と仮想描画データとの対応関係を予め設定し、画像の描画 の際の基板上の描画面と描画点形成領域との実位置関係に基づいて原画像データ 力 描画データを取得するための描画データ取得条件を取得し、その取得した描画 データ取得条件に基づいて原画像データをサンプリングしてサンプリングデータを取 得し、上記取得した描画データ取得条件に近似する仮想描画データ取得条件を取 得し、その取得した仮想描画データ取得条件に対応する仮想描画データを上記対 応関係に基づいて予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、その特 定した仮想描画データとサンプリングデータとの差分データを取得し、その取得した 差分データに符号化処理を施して差分符号化データを取得し、その取得した差分符 号化データに復号化処理を施して差分データを復号化し、その復号化した差分デー タと上記特定した仮想描画データとを加算してサンプリングデータを再現し、その再 現したサンプリングデータを描画データとして取得することを特徴とする。
[0013] また、上記本発明の第 1の描画データ取得方法においては、サンプリングデータと 上記特定した仮想描画データとの誤差が所定の範囲内である場合には、上記特定 した仮想描画データを描画データとして取得するようにすることができる。
[0014] また、サンプリングデータと複数の仮想描画データ取得条件に対応する仮想描画 データとの誤差をそれぞれ取得し、描画データ取得条件に近似する仮想描画データ 取得条件として、上記誤差が最も小さ!ヽ仮想描画データ取得条件を取得するように することができる。
[0015] 本発明の第 2の描画データ取得方法は、描画データに基づいて描画点を形成する 描画点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描 画点を基板上に順次形成して画像を描画する際に用 ヽられる描画データを取得す る描画データ取得方法において、予め設定された基板上における描画点形成領域 の仮想的な描画軌跡の情報であって、互いに異なる複数の仮想描画軌跡情報と画 像を表わす原画像データとを対応付けて原画像データ上における描画点形成領域 の仮想描画軌跡情報に対応する仮想描画点データ軌跡の情報をそれぞれ取得し、 複数の仮想描画点データ軌跡情報に基づいて仮想描画点データ軌跡に対応した仮 想描画データを原画像データからそれぞれ取得し、その取得した複数の仮想描画デ ータを予め記憶するとともに、仮想描画点データ軌跡情報と仮想描画データとの対 応関係を予め設定し、画像の描画の際の基板上における描画点形成領域の描画軌 跡の情報を取得し、その取得した描画軌跡情報と原画像データとを対応付けて原画 像データ上における描画点形成領域の描画軌跡情報に対応する描画点データ軌跡 の情報を取得し、描画点データ軌跡上の原画像データをサンプリングしてサンプリン グデータを取得し、描画点データ軌跡情報に近似する仮想描画点データ軌跡情報 を取得し、その取得した仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データを 上記対応関係に基づいて予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、 その特定した仮想描画データとサンプリングデータとの差分データを取得し、その取 得した差分データに符号化処理を施して差分符号化データを取得し、その取得した 差分符号化データに復号化処理を施して差分データを復号化し、その復号化した差 分データと上記特定した仮想描画データとを加算してサンプリングデータを再現し、 その再現したサンプリングデータを描画データとして取得することを特徴とする。
[0016] また、上記本発明の第 2の描画データ取得方法においては、サンプリングデータと 上記特定した仮想描画データとの誤差が所定の範囲内である場合には、上記特定 した仮想描画データを描画データとして取得するようにすることができる。
[0017] また、描画点データ軌跡情報に近似する仮想描画点データ軌跡情報として、描画 点データ軌跡情報の始点位置および終点位置に対して所定の範囲内の差の始点 位置および終点位置を有する仮想描画点データ軌跡情報を取得するようにすること ができる。
[0018] また、描画点データ軌跡情報に近似する仮想描画点データ軌跡情報として、描画 点データ軌跡情報の始点位置および終点位置に対して最小の差の始点位置および 終点位置を有する仮想描画点データ軌跡情報を取得するようにすることができる。
[0019] また、サンプリングデータと複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描 画データとの誤差をそれぞれ取得し、描画点データ軌跡情報に近似する仮想描画 点データ軌跡情報として、上記誤差が最も小さ 、仮想描画点データ軌跡情報を取得 するよう〖こすることがでさる。
[0020] 本発明の描画方法は、上記本発明の第 1および第 2の描画データ取得方法を用い て描画データを取得し、その取得した描画データに基づ!/ヽて基板上に画像を描画す ることを特徴とする。
[0021] 本発明の第 1の描画データ取得装置は、描画データに基づいて描画点を形成する 描画点形成領域によって基板上に画像を描画する際に用いられる描画データを取 得する描画データ取得装置において、基板上の描画面と描画点形成領域との予め 設定された位置関係に基づいて画像を表す原画像データから描画データを取得す る仮想的な条件であって、互いに異なる上記位置関係に基づく複数の仮想描画デ ータ取得条件を用いて取得された複数の仮想描画データが予め記憶された仮想描 画データ記憶部と、仮想描画データ取得条件と仮想描画データとの対応関係が予 め設定された対応関係設定部と、画像の描画の際の基板上の描画面と描画点形成 領域との実位置関係に基づいて原画像データ力 描画データを取得するための描 画データ取得条件を取得する描画データ取得条件取得部と、描画データ取得条件 取得部によって取得された描画データ取得条件に基づいて原画像データをサンプリ ングしてサンプリングデータを取得するサンプリングデータ取得部と、描画データ取 得条件取得部によって取得された描画データ取得条件に近似する仮想描画データ 取得条件を取得する仮想描画データ取得条件取得部と、仮想描画データ取得条件 取得部によって取得された仮想描画データ取得条件に対応する仮想描画データを 上記対応関係に基づいて予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定する 仮想描画データ特定部と、仮想描画データ特定部によって特定された仮想描画デ ータとサンプリングデータとの差分データを取得する差分データ取得部と、差分デー タ取得部によって取得された差分データに符号化処理を施して差分符号化データを 取得する差分符号ィ匕データ取得部と、差分符号ィ匕データ取得部によって取得された 差分符号化データに復号化処理を施して差分データを復号化する差分データ復号 化部と、差分データ復号化部によって復号化された差分データと上記特定した仮想 描画データとを加算してサンプリングデータを再現するデータ加算部と、データ加算 部によって再現されたサンプリングデータを描画データとして取得する描画データ取 得部とを備えたことを特徴とする。
[0022] また、上記本発明の第 1の描画データ取得装置においては、描画データ取得部を 、サンプリングデータと上記特定した仮想描画データとの誤差が所定の範囲内である 場合には、仮想描画データ特定部によって特定された仮想描画データを描画データ として取得するものとすることができる。
[0023] また、サンプリングデータと複数の仮想描画データ取得条件に対応する仮想描画 データとの誤差をそれぞれ取得する誤差取得部をさらに備えたものとし、仮想描画デ ータ取得条件取得部を、描画データ取得条件に近似する仮想描画データ取得条件 として、誤差取得部によって取得された誤差が最も小さい仮想描画データ取得条件 を取得するものとすることができる。
[0024] 本発明の第 2の描画データ取得装置は、描画データに基づいて描画点を形成する 描画点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描 画点を基板上に順次形成して画像を描画する際に用 ヽられる描画データを取得す る描画データ取得装置において、予め設定された基板上における描画点形成領域 の仮想的な描画軌跡の情報であって、互いに異なる複数の仮想描画軌跡情報と画 像を表わす原画像データとを対応付けて取得された複数の仮想描画点データ軌跡 の情報に基づいて原画像データから取得された仮想描画点データ軌跡に対応した 仮想描画データが予め記憶された仮想描画データ記憶部と、仮想描画点データ軌 跡情報と仮想描画データとの対応関係が予め設定された対応関係設定部と、画像 の描画の際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得する描画 軌跡情報取得部と、描画軌跡情報取得部によって取得された描画軌跡情報と原画 像データとを対応付けて原画像データ上における描画点形成領域の描画軌跡情報 に対応する描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得部と、 描画点データ軌跡情報取得部によって取得された描画点データ軌跡上の原画像デ ータをサンプリングしてサンプリングデータを取得するサンプリングデータ取得部と、 描画点データ軌跡情報取得部によって取得された描画点データ軌跡情報に近似す る仮想描画点データ軌跡情報を取得する仮想描画点データ情報取得部と、仮想描 画点データ情報取得部によって取得された仮想描画点データ軌跡情報に対応する 仮想描画データを上記対応関係に基づいて予め記憶された複数の仮想描画データ の中から特定する仮想描画データ特定部と、仮想描画データ特定部によって特定さ れた仮想描画データとサンプリングデータとの差分データを取得する差分データ取 得部と、差分データ取得部によって取得された差分データに符号化処理を施して差 分符号化データを取得する差分符号化データ取得部と、差分符号化データ取得部 によって取得された差分符号化データに復号化処理を施して差分データを復号ィ匕 する差分データ復号化部と、差分データ復号化部によって復号化された差分データ と特定した仮想描画データとを加算してサンプリングデータを再現するデータ加算部 と、データ加算部によって再現されたサンプリングデータを描画データとして取得す る描画データ取得部とを備えたことを特徴とする。
[0025] また、上記本発明の第 2の描画データ取得装置においては、描画データ取得部を 、サンプリングデータと上記特定した仮想描画データとの誤差が所定の範囲内である 場合には、仮想描画データ特定部によって特定された仮想描画データを描画データ として取得するものとすることができる。
[0026] また、仮想描画点データ軌跡情報取得部を、描画点データ軌跡情報に近似する仮 想描画点データ軌跡情報として、描画点データ軌跡情報の始点位置および終点位 置に対して所定の範囲内の差の始点位置および終点位置を有する仮想描画点デー タ軌跡情報を取得するものとすることができる。
[0027] また、仮想描画点データ軌跡情報取得部を、描画点データ軌跡情報に近似する仮 想描画点データ軌跡情報として、描画点データ軌跡情報の始点位置および終点位 置に対して最小の差の始点位置および終点位置を有する仮想描画点データ軌跡情 報を取得するものとすることができる。
[0028] また、サンプリングデータと複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描 画データとの誤差をそれぞれ取得する誤差取得部をさらに備えたものとし、仮想描画 点データ軌跡取得部を、描画点データ軌跡情報に近似する仮想描画点データ軌跡 情報として、上記誤差が最も小さ!、仮想描画点データ軌跡情報を取得するものとす ることがでさる。
[0029] 本発明の描画装置は、上記本発明の第 1および第 2の描画データ取得装置と、描 画データ取得装置により取得された描画データに基づ!/ヽて基板上に画像を描画す る描画手段とを備えたことを特徴とする。 [0030] ここで、上記「描画点形成領域」とは、基板上に描画点を形成する領域であれば如 何なるものによって形成される領域でもよぐたとえば、 DMDのような空間光変調素 子の各変調素子によって反射されたビーム光によって形成されるビームスポットでも ょ 、し、光源力も発せられたビーム光自体によって形成されるビームスポットでもよ ヽ し、もしくはインクジェット方式のプリンタの各ノズルから吐出されたインクが付着する 領域としてもよい。
[0031] なお、本発明は、描画点形成領域による描画面への個別の描画処理に際し、描画 点形成領域と描画面との間の想定される複数の仮想的な位置関係に基づいて予め 用意された複数の仮想描画データセットから、描画点形成領域と描画面との間の実 際の位置関係に基づいて最適なものを選択する方法 Z装置であってもよい。この場 合、仮想描画データセットは、描画点形成領域に時系列的に与えられるデータの集 合であってもよ!/ヽし、グループ化された複数の描画点形成領域に同時に与えられる データの集合であってもよい。また、各仮想描画データセットは、 1セット毎又は数セ ット毎に符号化されていてもよぐこの場合、最適な仮想描画データのセットが選択さ れると、その復号化処理が行われる。
[0032] また、本発明は、描画点形成領域による描画面への個別の描画処理の際に選択 可能なように、描画点形成領域と描画面との間の想定される複数の仮想的な位置関 係に基づいて予め複数の仮想描画データのセットを用意する方法 Z装置であっても よい。
[0033] 本発明の第 1の描画データ取得方法および装置によれば、互いに異なる複数の仮 想描画データ取得条件を用いて複数の仮想描画データを取得して予め記憶するとと もに、画像の描画の際の基板上の描画面と描画点形成領域との実位置関係に基づ いて原画像データ力 描画データを取得するための描画データ取得条件を取得し、 その取得した描画データ取得条件に基づいて原画像データをサンプリングしてサン プリングデータを取得し、上記取得した描画データ取得条件に近似する仮想描画デ ータ取得条件を取得し、その取得した仮想描画データ取得条件に対応する仮想描 画データを上記対応関係に基づ 、て予め記憶された複数の仮想描画データの中か ら特定し、その特定した仮想描画データとサンプリングデータとの差分データを取得 し、その取得した差分データに符号化処理を施して差分符号化データを取得し、そ の取得した差分符号化データに復号化処理を施して差分データを復号化し、その復 号ィ匕した差分データと上記特定した仮想描画データとを加算してサンプリングデータ を再現し、その再現したサンプリングデータを描画データとして取得するようにしたの で、たとえば、描画データ取得条件と同等の仮想描画データ取得条件およびその仮 想描画データ取得条件に対応する仮想描画データが存在しな ヽ場合にお!ヽても、 描画データ取得条件に対応する描画データを取得することができる。
[0034] そして、さらに、上記のように差分データを取得し、これを符号化して差分符号化デ ータを生成するようにしたので、サンプリングデータそのもののデータ転送を行う必要 がなくデータ転送量を低減でき、その分データ転送処理を高速化することができる。
[0035] 本発明の第 2の描画データ取得方法および装置によれば、互いに異なる複数の仮 想描画点データ軌跡の情報をそれぞれ取得し、その複数の仮想描画点データ軌跡 情報に基づいて仮想描画点データ軌跡に対応した仮想描画データを原画像データ 力もそれぞれ取得して予め記憶するとともに、画像の描画の際の基板上における描 画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、その取得した描画軌跡情報と原画像デ 一タとを対応付けて原画像データ上における描画点形成領域の描画軌跡情報に対 応する描画点データ軌跡の情報を取得し、描画点データ軌跡上の原画像データを サンプリングしてサンプリングデータを取得し、描画点データ軌跡情報に近似する仮 想描画点データ軌跡情報を取得し、その取得した仮想描画点データ軌跡情報に対 応する仮想描画データを上記対応関係に基づいて予め記憶された複数の仮想描画 データの中力 特定し、その特定した仮想描画データとサンプリングデータとの差分 データを取得し、その取得した差分データに符号化処理を施して差分符号化データ を取得し、その取得した差分符号化データに復号化処理を施して差分データを復号 化し、その復号化した差分データと上記特定した仮想描画データとを加算してサンプ リングデータを再現し、その再現したサンプリングデータを描画データとして取得する ようにしたので、たとえば、描画点データ軌跡情報と同等の仮想描画点データ軌跡 情報およびその仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データが存在しな い場合においても、描画点データ軌跡情報に対応する描画データを取得することが できる。
[0036] 本発明の描画方法および装置の効果についても、上記本発明の第 1および第 2の 描画データ取得方法および装置と同様である。
図面の簡単な説明
[0037] [図 1]本発明の描画方法および装置の第 1および第 2の実施形態を用いた露光装置 の概略構成を示す斜視図
[図 2]図 1の露光装置のスキャナの構成を示す斜視図
[図 3A]基板の露光面上に形成される露光済み領域を示す平面図
[図 3B]各露光ヘッドによる露光エリアの配列を示す平面図
[図 4]図 1の露光装置の露光ヘッドにおける DMDを示す図
[図 5]本発明の第 1の実施形態を用いた露光装置の電気的構成を示すブロック図
[図 6]液晶ディスプレイの露光パターンを示す図
[図 7]トレースデータの作成方法を説明するための図
[図 8A]ベクトル VI (仮想描画点データ軌跡情報)の始点の設定位置の一例を示す 図
[図 8B]ベクトル VI (仮想描画点データ軌跡情報)の始点の設定位置の一例を示す 図
[図 9]ベクトル VI (仮想描画点データ軌跡情報)とトレースデータとの対応関係を示す 図
[図 10]テンプレートデータを示す図
[図 11]理想的な形状の基板上における基準マークと所定のマイクロミラーの通過位 置情報との関係を示す模式図
[図 12]マイクロミラーの露光軌跡情報の取得方法を説明するための図
[図 13]マイクロミラーの露光軌跡情報に基づいて露光点データ軌跡情報を取得する 方法を説明するための図
[図 14]マイクロミラーの露光軌跡情報に基づいて露光点データ軌跡情報を取得する 方法を説明するための図
[図 15]ベクトル VI (仮想描画点データ軌跡情報)のその他の設定方法を説明するた めの図
[図 16]ベクトル V3 (露光点データ軌跡情報)に対応するトレースデータ番号を求める その他の方法を説明するための図
[図 17]トレースデータ番号と先頭アドレスとの対応関係を示す図
[図 18]トレースデータとサンプリングデータとから差分データを算出する作用を説明 するための図
[図 19]露光点データ情報のデータ構造の一例を示す図
[図 20]トレースデータと差分データとからサンプリングデータを算出する作用を説明 するための図
[図 21]各マイクロミラー毎の露光点データ列を示す図
[図 22]各フレームデータを示す図
[図 23]本発明の第 2の実施形態を用いた露光装置の電気的構成を示すブロック図 [図 24]マイクロミラー列とそのマイクロミラー列に対応するベクトル V4n (仮想描画点 データ位置情報)を示す図
[図 25]基準ベクトル V41およびベクトル V41 ' (仮想描画点データ位置情報)に対応 するトレースデータを取得する方法を説明するための図
[図 26]基準ベクトル V41およびベクトル V41 ' (仮想描画点データ位置情報)とトレー スデータとの対応関係を示す図
[図 27]検出ベクトル (描画位置情報)のその他の取得方法を説明するための図 発明を実施するための最良の形態
[0038] 以下、図面を参照して本発明の描画データ取得方法および装置並びに描画方法 および装置の第 1の実施形態を用いた露光装置について詳細に説明する。図 1は、 本露光装置の概略構成を示す斜視図である。本露光装置は、所定の露光パターン を露光する装置であって、特に、その露光パターンを露光するために用いられる露光 画像データの作成方法に特徴を有するものであるが、まずは、露光装置の概略構成 について説明する。
[0039] 露光装置 10は、図 1に示すように、基板 12を表面に吸着して保持する平板状の移 動ステージ 14を備えている。そして、 4本の脚部 16に支持された厚い板状の設置台 18の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた 2本のガイド 20が設置されている 。移動ステージ 14は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共 に、ガイド 20によって往復移動可能に支持されている。
[0040] 設置台 18の中央部には、移動ステージ 14の移動経路を跨ぐようにコの字状のゲー ト 22が設けられている。コの字状のゲート 22の端部の各々は、設置台 18の両側面に 固定されている。このゲート 22を挟んで一方の側にはスキャナ 24が設けられ、他方 の側には基板 12の先端および後端と、基板 12に予め設けられている円形状の複数 の基準マーク 12aの位置とを検知するための複数のカメラ 26が設けられている。
[0041] ここで、基板 12における基準マーク 12aは、予め設定された基準マーク位置情報 に基づいて基板 12上に形成された、たとえば孔である。なお、孔の他にランドゃヴィ ァゃエッチングマークを用いてもよい。また、基板 12に形成された所定のパターン、 たとえば、露光しょうとする層の下層のパターンなどを基準マーク 12aとして利用する ようにしてもよい。また、図 1においては、基準マーク 12aを 6個し力示していないが実 際には多数の基準マーク 12aが設けられている。
[0042] スキャナ 24およびカメラ 26はゲート 22に各々取り付けられて、移動ステージ 14の 移動経路の上方に固定配置されている。なお、スキャナ 24およびカメラ 26は、これら を制御する後述するコントローラに接続されて 、る。
[0043] スキャナ 24は、図 2および図 3Bに示すように、 2行 5列の略マトリックス状に配列さ れた 10個の露光ヘッド 30 (30A〜30J)を備えて!/、る。
[0044] 各露光ヘッド 30の内部には、図 4に示すように入射された光ビームを空間変調する 空間光変調素子(SLM)であるデジタル 'マイクロミラ一'デバイス (DMD) 36が設け られている。 DMD36は、マイクロミラー 38が直交する方向に 2次元状に多数配列さ れたものであり、そのマイクロミラー 38の列方向が走査方向と所定の設定傾斜角度 Θをなすように取り付けられている。したがって、各露光ヘッド 30による露光エリア 32 は、走査方向に対して傾斜した矩形状のエリアとなる。そして、図 3Aに示すように、 移動ステージ 14の移動に伴い、基板 12には露光ヘッド 30毎の帯状の露光済み領 域 34が形成される。なお、各露光ヘッド 30に光ビームを入射する光源については図 示省略してある力 たとえば、レーザ光源などを利用することができる。 [0045] 露光ヘッド 30の各々に設けられた DMD36は、マイクロミラー 38単位でオン/オフ 制御され、基板 12には、 DMD36のマイクロミラー 38に対応したドットパターン (黒/ 白)が露光される。前述した帯状の露光済み領域 34は、図 4に示すマイクロミラー 38 に対応した 2次元配列されたドットによって形成される。二次元配列のドットパターン は、走査方向に対して傾斜されていることで、走査方向に並ぶドットが、走査方向と 交差する方向に並ぶドット間を通過するようになっており、高解像度化を図ることがで きる。なお、傾斜角度の調整のバラツキによって、利用しないドットが存在する場合も あり、たとえば、図 4では、斜線としたドットは利用しないドットとなり、このドットに対応 する DMD36におけるマイクロミラー 38は常にオフ状態となる。
[0046] また、図 3Aおよび Bに示すように、帯状の露光済み領域 34のそれぞれが、隣接す る露光済み領域 34と部分的に重なるように、ライン状に配列された各行の露光ヘッド 30の各々は、その配列方向に所定間隔ずらして配置されている。このため、たとえば 、 1行目の最も左側に位置する露光エリア 32A、露光エリア 32Aの右隣に位置する 露光エリア 32Cとの間の露光できない部分は、 2行目の最も左側に位置する露光エリ ァ 32Bにより露光される。同様に、露光エリア 32Bと、露光エリア 32Bの右隣に位置 する露光エリア 32Dとの間の露光できない部分は、露光エリア 32Cにより露光される
[0047] 次に、露光装置 10の電気的構成について説明する。
[0048] 本露光装置 10は、図 5に示すように、 CAM (Computer Aided Manufacturing)ステ ーシヨンを有するデータ作成装置 40から出力された、露光すべき露光パターンを表 わすベクトル形式の露光画像データを受け付け、該露光画像データに基づいて、後 述するテンプレートデータを生成するとともに、後述する露光点データ軌跡情報に基 づ 、て、各マイクロミラー 38毎の露光点データを取得するための露光点データ情報 を生成する画像処理部 50と、カメラ 26により撮影された基準マーク 12aの画像に基 づいて基準マーク 12aの検出位置情報を取得する検出位置情報取得部 51と、検出 位置情報取得部 51により取得された検出位置情報に基づいて、実際の露光の際に おける基板 12上の各マイクロミラー 38の露光軌跡の情報を取得する露光軌跡情報 取得部 52と、露光軌跡情報取得部 52により取得された各マイクロミラー 38毎の露光 軌跡情報に基づ 、て露光画像データの座標系における露光点データ軌跡情報を取 得する露光点データ軌跡情報取得部 53と、画像処理部 50により取得された露光点 データ情報に基づいて、各マイクロミラー 38毎の露光点データを取得する露光点デ ータ取得部 54、露光点データ取得部 54により取得された露光点データに基づいて 各マイクロミラーに供給される制御信号を生成し、その制御信号を各露光ヘッド 30〖こ 出力する露光ヘッド制御部 55と、本露光装置全体を制御するコントローラ 70とを備 えている。
[0049] また、本露光装置 10は、移動ステージ 14をステージ移動方向へ移動させる移動機 構 60を備えている。移動機構 60は、移動ステージ 14をガイド 20に沿って往復移動 させるものであれば如何なる既知の構成を採用してもよい。
[0050] なお、上記各構成要素の作用については後で詳述する。
[0051] 次に、本露光装置 10の作用について図面を参照しながら説明する。
[0052] 本露光装置 10は、移動ステージ 14上に設置された基板 12を、ステージ移動方向 に移動させ、その移動にともなって順次露光ヘッド制御部 55から露光ヘッド 30に制 御信号を出力し、基板 12上に時系列に露光点を形成することによって所望の露光パ ターンを基板 12上に露光するものである。
[0053] そして、本露光装置 10は、予め露光点データ取得部 54に記憶されたテンプレート データ力 所定のトレースデータを選択し、その選択されたトレースデータに基づい て各マイクロミラー 38毎の露光点データを取得し、その取得した露光点データに基 づいて露光ヘッド制御部 55から露光ヘッド 30の各マイクロミラー 38に制御信号を出 力して基板 12に露光パターンを露光するものである。
[0054] まずは、露光点データ取得部 54に予め記憶されるテンプレートデータおよびその 作成方法について説明する。
[0055] [テンプレートデータの作成方法]
まず、データ作成装置 40において、基板 12に露光される露光パターンを表すべク トルデータが作成される。なお、本実施形態の説明においては、液晶ディスプレイの 露光パターンを表わすベクトルデータが作成される。液晶ディスプレイの露光パター ン Rは、図 6に示すように、(r、g、b)を表示するための 3つの TFTからなる LCD画素 Pが直交する方向に 2次元状に多数配列された表示部と、その表示部に接続される 配線力もなる配線部とから構成される。なお、図 6においては、 rを表示するための TF Tを Tl、 gを表示するための TFTを T2、 bを表示するための TFTを Τ3で表し、配線 部を実線で表している。データ作成装置 40においては、図 6に示すような露光バタ ーン Rを表すベクトルデータが作成される。
[0056] そして、データ作成装置 40にお 、て作成されたベクトルデータは、画像処理部 50 に出力される。そして、画像処理部 50において、表示部を表わす表示部データと、 配線部を表わす配線部データとに分離される。そして、表示部データおよび配線部 データは、それぞれラスターデータに変換され、露光画像データ記憶部 50aそれぞ れ記憶される。
[0057] そして、上記のようにして記憶された表示部データについて、テンプレートデータが 作成される。なお、本実施形態においては、配線部データについてはテンプレートデ ータを作成しな 、が、配線部データ力 露光点データを取得する方法にっ 、ては後 述する。
[0058] 画像処理部 50においては、図 7に示すように、表示部データ Dにおける 1つの LC D画素データ PDと各マイクロミラー 38により露光される基板上の露光点の座標系と が対応付けられ、 1つの LCD画素データ PD内の所定の始点 s (xl,yl)から所定の終 点 e (x2,y2)までを結んだベクトル VIの延長ベクトル Vlt上の LCD画素データ力 所 定のサンプリングピッチでサンプリングされ、部分露光点データ列が取得される。なお 、図 7における y方向は、マイクロミラー 38の基板 12に対する走査方向に対応する方 向であり、 X方向は上記走査方向に直交する方向に対応する方向である。つまり、ベ タトル VIは、マイクロミラー 38の像が基板 12上を通過し得る軌跡の一部を意味する
[0059] ここで、 y方向に平行な方向のベクトルで、かつ、 y方向について所定の長さ L0を有 するベクトルを基準ベクトルとし、所定の露光点データ数を N、基準ベクトルの y方向 サンプリングピッチを pitch とする。
[0060] また、ベクトル VIの始点を s(xl, yl)、終点を e(x2, y2)、露光点データの x方向のサン プリングピッチを pitch_x、 y方向のサンプリングピッチを pitch j、終点 eの変動幅を x方 向に Δχ、 y方向に Ayとすると、以下の様な関係になる。
[0061] L0 = N X pitch j0 · · · (1)
Figure imgf000018_0001
Ay = y2 (yl+LO) · · · (3)
pitch— x = Δχ/Ν · · · (4)
pitch j = pitch X (LO+ Ay)/LO · · · (5)
具体的には、例えば、 N = 4096、 pitch = 0.75 μ m等となる。
[0062] また、延長ベクトル Vltとは、ベクトル VIの終点 e(x2,y2)をベクトル VIの終点側に延 長したベクトルであり、以下の関係で表すことができる。
[0063] Vlt = VI X ( 1 + k) · · · (6)
ここで、 k= (LCD画素データの y方向サイズ +余裕値 a ) /LO · · · (7) とすることが望ましい。
[0064] ただし、 k〉0は必須ではなぐ k=0(即ち Vlt=Vl)とすることも可能である。
[0065] そして、具体的には、図 7に示すように、 1つの LCD画素データ内の 1つの始点 sに 対して、上記基準ベクトル VIが設定され、その基準ベクトル VIの延長ベクトル Vlt 上における LCD画素データ PDがサンプリングピッチ pitchijOでサンプリングされると ともに、上記基準ベクトル VIの始点 sと、基準ベクトルの終点 eを中心とした所定の変 動範囲 Wに位置する複数の終点 eとをそれぞれ結んだベクトル VIが設定され、その 設定された各ベクトル VIの延長ベクトル Vlt上における LCD画素データ PDがサン プリングピッチ pitch_x、 pitch_yでサンプリングされ、各ベクトル Vlt毎にそれぞれ部分 露光点データ列が取得される。なお、変動範囲 Wのサイズは、基板 12の変形の程度 に応じて予め設定されて ヽるものとする。
[0066] ここで、本実施形態の露光装置においては、 1つの LCD画素データ PD中における 一部の露光点の位置が始点 sとされるとともに、変動範囲 Wに位置する一部の露光点 が終点 eとされる。
[0067] たとえば、図 8Aに示すように、x方向について所定の露光点列数毎に間隔を空け て始点 sを設定するようにしてもよいし、図 8Bに示すように、さらに y方向について所 定の露光点列数毎に間隔を空けて始点 sを設定するようにしてもよ!、。始点 sの設定 位置については、 LCD画素データ PD内の一部の露光点を始点 sとして設定するの であれば如何なる位置に設定してもよ!/、。
[0068] また、終点 eについても、上記始点 sと同様にして変動範囲 W内の一部の露光点の 位置を終点 eの設定位置とするようにすればょ 、。
[0069] そして、上記のようにして設定された始点 eおよび終点 eを結ぶベクトル VIが設定さ れ、その各ベクトル VIの延長ベクトル Vlt毎にそれぞれ部分露光点データ列が取得 される。なお、上記のようにして取得された部分露光点データ列を、以下「トレースデ ータ」という。
[0070] そして、始点 sの座標 (xl,yl)とその始点 sに結ばれた終点 eの変動量( Δχ, Ay)との 組み合わせについて、図 9に示すように、トレースデータ番号が付される。なお、上記 変動量(Δχ, Δγ)とは、上述したように、上記基準ベクトルの終点 eの位置を基準とし た場合における、変動範囲 W内の各終点 eの X方向および y方向へのずれ量を示すも のである。したがって、上記基準ベクトルの終点 eの変動量 Δχ,変動量 Ayはともに 0と いうことになる。
[0071] 本実施形態の露光装置においては、上記のように始点 sおよび終点 eを設定するよ うにしたので、ベクトル VIの数を削減することができ、トレースデータの容量を削減す ることがでさる。
[0072] そして、図 9に示す対応関係はトレースデータ特定部 50dに設定されるとともに、画 像処理部 50から露光点データ取得部 54に出力され、露光点データ取得部 54にも 設定される。
[0073] また、各トレースデータは、それぞれ対応するトレースデータ番号と対応付けられて 、図 10に示すようなテンプレートデータとしてまとめられ、第 1のテンプレート記憶部 5 Ocに記憶されるとともに、画像処理部 50から露光点データ取得部 54に出力され、第 2のテンプレート記憶部 54aにも記憶される。
[0074] なお、上記のようにして各ベクトル VIについて取得されたトレースデータを互いに 比較し、全ての露光点データが一致するベクトル VI同士については、そのトレース データを共通化し、同じトレースデータ番号を付するようにしてもょ 、。
[0075] また、各ベクトル VIを所定の量子化ピッチで量子化するようにしてもよい。たとえば 、各ベクトル VIを特定するための数値である、各ベクトル VIの始点 s、終点 e、中点の 座標値および各ベクトル VIの傾き等を量子化するようにすればょ 、。
[0076] 具体的には、入力値 (例えば座標値 Xまたは y)を v、量子化結果を v'、量子化ピッチ を stpとすると、
V, = INT( V / stp ) X stp · · · (8)
または
v ' = ( INT( v / stp ) + 0.5 ) X stp · · · (9)
とする。
[0077] 例えば、量子化幅を x方向に stp_x=0.05 μ m、 y方向に stp j=0.25 μ mとし、(8)式また は (9)式の変数 stpに当てればよ!、。
[0078] 上記のように量子化することによりベクトル VIの数を減らすことができ、その分べタト ル VIに対応するトレースデータの数を減らすことができ、テンプレート記憶部 56aの 容量を削減することができる。
[0079] また、本実施形態においては、始点 sと終点 eとを直線で結ぶようにした力 これに限 らず、たとえば、曲線で結んだり、もしくは折れ線で結んだりするようにしてもよい。
[0080] また、本実施形態にぉ 、ては、ラスターデータとされた表示部データ D力 ベクトル VIに対応する露光点データを取得するようにした力 必ずしもラスターデータにする 必要はなぐベクトルデータのままの表示部データ力 ベクトル VIに対応する露光点 データを取得するようにしてもょ 、。
[0081] [露光点データ情報の取得]
そして、上記のようにして第 2のテンプレート記憶部 54aに記憶されたテンプレート データは、画像処理部 50において取得された、後述する露光点データ情報に基づ いて読み出され、露光ヘッド制御部 55に出力されるが、次に、その露光点データ情 報について、およびその露光点データ情報の取得方法について説明する。
[0082] まず、コントローラ 70が移動機構 60に制御信号を出力し、移動機構 60はその制御 信号に応じて移動ステージ 14を、図 1に示す位置力もガイド 20に沿ってー且上流側 の所定の初期位置まで移動させた後、下流側に向けて所望の速度で移動させる。な お、上記上流側とは、図 1における右側、つまりゲート 22に対してスキャナ 24が設置 されている側のことであり、上記下流側とは、図 1における左側、つまりゲート 22に対 してカメラ 26が設置されている側のことである。
[0083] そして、上記のようにして移動する移動ステージ 14上の基板 12が複数のカメラ 26 の下を通過する際、これらのカメラ 26により基板 12が撮影され、その撮影画像を表 す撮影画像データが検出位置情報取得部 51に入力される。検出位置情報取得部 5 1は、入力された撮影画像データに基づ!、て基板 12の基準マーク 12aの位置を示す 検出位置情報を取得する。基準マーク 12aの検出位置情報の取得方法については 、たとえば、円形状の画像を抽出することにより取得するようにすればよいが、他の如 何なる既知の取得方法を採用してもよい。また、上記基準マーク 12aの検出位置情 報は、具体的には座標値として取得される力 その座標系は各マイクロミラー 38によ り露光される露光点の座標系と同じである。
[0084] そして、上記のようにして取得された基準マーク 12aの検出位置情報は、検出位置 情報取得部 51から露光軌跡情報取得部 52に出力される。
[0085] そして、露光軌跡情報取得部 52において、入力された検出位置情報に基づいて、 実際の露光の際における基板 12上の各マイクロミラー 38毎の露光軌跡の情報が取 得される。具体的には、露光軌跡情報取得部 52には、各露光ヘッド 30の DMD36 の各マイクロミラー 38の像が通過する位置を示す通過位置情報力 各マイクロミラー 38毎に予め設定されている。上記通過位置情報は、移動ステージ 14上の基板 12の 設置位置に対する、各露光ヘッド 30の設置位置によって予め設定されているもので あり、複数のベクトルまたは複数点の座標値で表わされるものである。図 11に、プレス 工程などを経ていない理想的な形状の基板 12、つまり、歪などの変形が生じておら ず、基準マーク 12aが予め設定された基準マーク位置情報 12bの示す位置に配置し ている基板 12と、所定のマイクロミラー 38の通過位置情報 12cとの関係を示す模式 図を示す。なお、上記通過位置情報の座標系も、マイクロミラー 38により露光される 露光点の座標系と同じである。そして、上記通過位置情報 12cにおける複数の基準 点 12e (図 11に示す白丸)によって区切られるベクトル V2の長さと、上述した基準べ タトルの長さとは同じ長さに設定されている。
[0086] そして、露光軌跡情報取得部 52においては、図 12に示すように、通過位置情報 1 2cと検出位置情報 12dとが対応付けられ、通過位置情報 12cにおける各基準点 12e について、検出位置情報 12dとの位置関係が求められる。具体的には、たとえば、図 13に示すように、基準点 12eとその基準点 12eを囲む検出位置情報 12dとで決定さ れる矩形 Sa、 Sb、 Sc、 Sdの面積が求められる。そして、上記のような面積が、各基準 点 12eにつ 、てそれぞれ求められ、露光軌跡情報として露光点データ軌跡情報取得 部 53に出力される。なお、上記のような露光軌跡情報は、各マイクロミラー 38の通過 位置情報 12c毎に求められ、露光点データ軌跡情報取得部 53に出力される。
[0087] そして、露光点データ軌跡情報取得部 53は、上記のようにして入力された露光軌 跡情報に基づ 、て、その露光軌跡情報に対応する露光点データ軌跡情報を取得す る。
[0088] 具体的には、露光点データ軌跡取得部 53には、図 14に示すように、露光画像デ ータの座標系における基準マーク 12aの位置情報 12fが予め設定されており、以下 の式 (10)を満たすようなトレース点 12gの座標力 各基準点 12eについてそれぞれ求 められる。そして、図 15に示すように、各トレース点 12gを結んだベクトル V3の情報 が露光点データ軌跡情報として画像処理部 50に出力される。
[0089] Sa : Sb : Sc : Sd=Ta:Tb :Tc :Td · · · (10)
なお、本実施形態においては、隣接するトレース点 12gを直線で結んでベクトル V3 としたが、これに限らず、たとえば、隣接するトレース点 12gを曲線で結んだり、もしく は折れ線で結んだりしてベクトル V3としてもよい。特に、 X方向に隣接する位置情報 1 2fを結ぶ直線とベクトル V3の交点の部分にっ 、ては、折れ線で近似することが望ま しい。
[0090] そして、画像処理部 50は、入力された各ベクトル V3の情報に基づ 、て、露光点デ ータ情報を取得する。具体的には、画像処理部 50のトレースデータ特定部 50dが、 各ベクトル V3の始点と終点の座標値を取得し、その座標値を、 1つの LCD画素デー タ中の露光点の座標系における座標値に相対変換し、その相対変換された始点と終 点の座標値に基づいて終点の変動量(Δχ, Ay)を求める。そして、各ベクトル V3に ついて、図 9に示す対応関係に基づいて、上記始点の座標値および終点の変動量( Δχ, ΔΥ)がー致するトレースデータ番号を取得する。 [0091] なお、トレースデータの数をさらに削減するため、始点 sの y方向についての位置を、 図 15に示す斜線部(すなわち、一部分)の範囲のみに設定してトレースデータを作 成するようにしてもよいが、上記のようにして始点 sの位置を設定した場合、たとえば、 画像処理部 50において取得された、相対変換後の始点の座標力 図 15に示すよう な位置である場合には、相対変換後の始点の座標値と同じ座標値が図 9に示す対 応関係に存在しないことになる。
[0092] したがって、上記のような場合には、たとえば、図 16に示すように、相対変換された 始点 P1および終点 P2によって表されるベクトル V3を始点 P1側に延長し、その延長 線上における、図 9に示す対応関係に存在する始点 POを求める。そして、図 9に示 す対応関係に基づいて、始点 POの座標値および始点 POからみた変動量( Δχ, Ay) がー致するトレースデータ番号を求める。なお、上記のようにベクトルの延長線上に おける始点 POを求めて、トレースデータ番号を求めた場合には、トレースデータ番号 だけでなぐ始点 POに対する始点 P1の y方向についてのずれ量が求められ、そのず れ量が読出開始位置として取得される。
[0093] 上記のようにしてトレースデータ特定部 50dおいて、トレースデータ番号および読出 開始位置が各ベクトル V3につ 、て求められ、各ベクトル V3に対応する露光点デー タ情報として露光点データ取得部 54に出力される。なお、相対変換された始点の座 標値と図 9に示す対応関係の座標値と一致する場合には、読出開始位置は 0というこ とになる。
[0094] ここで、本実施形態の露光装置にお!、ては、上述したように、トレースデータの容量 を削減するため、 1つの LCD画素データ PD中における始点の位置を一部の位置に 制限するとともに、終点 eの位置も一部の位置に制限している。
[0095] したがって、上記のようにして露光点データ情報を取得する際、ベクトル V3または 上記のようにベクトル V3を始点側に延長したベクトル(以下「延長ベクトル V3」 t 、う。 )と同等のベクトル VI (トレースデータ番号)が存在しない場合がある。なお、上記「同 等」とは、同じものだけでなぐ実質的に同じものであると考えることができるものも含 むものとする。
[0096] そこで、本実施形態の露光装置においては、ベクトル V3または延長ベクトル V3と 同等のベクトル VIが存在しない場合には、まず、ベクトル V3または延長ベクトル V3 に近似するベクトル VIのトレースデータ番号および読出開始位置を取得する。
[0097] 具体的には、トレースデータ特定部 50dが、ベクトル V3または延長ベクトル V3の始 点 sの座標値とその始点の座標値の差が所定の範囲内であり、かつベクトル V3また は延長ベクトル V3の変動量( Δχ, Ay)とその変動量の差が所定の範囲内のトレース データ番号および読出開始位置が取得される。
[0098] なお、上記のようなトレースデータ番号が複数存在する場合には、たとえば、上記 差が最も小さ 、トレースデータ番号を取得するようにすればよ!、。
[0099] また、必ずしも、上記差が最も小さいトレースデータ番号を取得するようにしなくても よぐたとえば、予め設定された所定の規則にしたがっていずれか 1つのトレースデー タ番号を取得するようにすればょ 、。
[0100] また、上記のように近似するベクトル VIを特定する方法としては、たとえば、以下の ような方法を採用することができる。
[0101] 第 1の方法は、まず、ベクトル V3または延長ベクトル V3の始点 sの座標値とその始 点の座標値の差が所定の範囲内であるベクトル VIを検索し、上記差が最も小さいベ タトル VIが存在する場合には、変動量(Δχ, Ay)をみることなくそのベクトル VIを近 似するベクトル VIとして特定する。そして、上記差が最も小さいベクトル VIが複数存 在する場合には、ベクトル V3または延長ベクトル V3の変動量( Δχ, Ay)にその変動 量( Δχ, Ay)が最も近いベクトル VIを近似するベクトルとして特定する。
[0102] 第 2の方法は、まず、ベクトル V3または延長ベクトル V3の変動量( Δ X, Δ y)とその 変動量の差が所定の範囲内であるベクトル VIを検索し、上記差が最も小さいベタト ル VIが存在する場合には、始点 sの座標値をみることなくそのベクトル VIを近似する ベクトル VIとして特定する。そして、上記差が最も小さいベクトル VIが複数存在する 場合には、ベクトル V3または延長ベクトル V3の始点 sの座標値にその始点の座標値 が最も近いベクトル VIを近似するベクトルとして特定する。
[0103] 第 3の方法は、まず、ベクトル V3または延長ベクトル V3の始点 sの X座標値に最も近 ぃ始点の X座標値を有するベクトル VIを検索し、上記のようなベクトル VIが 1つであ る場合には、そのベクトルを近似するベクトル VIとして特定し、上記のようなベクトル VIが複数ある場合には、次に、その複数のベクトル VIの中から、ベクトル V3または 延長ベクトル V3の始点 sの y座標値に最も近い始点の y座標値を有するベクトル VIを 検索し、上記のようなベクトル VIが 1つである場合には、そのベクトルを近似するべク トル VIとして特定し、上記のようなベクトル VIが複数ある場合には、次に、その複数 のベクトル VIの中から、ベクトル V3または延長ベクトル V3の終点 eの X座標値に最も 近い終点の X座標値を有するベクトル VIを検索し、上記のようなベクトル VIが 1つで ある場合には、そのベクトルを近似するベクトル VIとして特定し、上記のようなベタト ル VIが複数ある場合には、次に、その複数のベクトル VIの中から、ベクトル V3また は延長ベクトル V3の終点 eの y座標値に最も近い終点の y座標値を有するベクトル VI を検索し、そのベクトル VIを近似するベクトル VIとして特定する。
[0104] 第 4の方法は、各ベクトル VIにつ!/、て、その始点とベクトル V3または延長ベクトル V3の始点 sとの距離 dsをそれぞれ求めるとともに、その終点とベクトル V3または延長 ベクトル V3の始点 eとの距離 deをそれぞれ求め、各ベクトル VI毎に、下式に従って 総点数 Tを求め、この総点数 Tが最も小さいベクトル VIを近似するベクトル VIとして 特定する。
[0105] T = ds Xwl + de Xw2
ただし、 wl,w2は重み付けの定数
そして、上記のようにして取得された 1つのトレースデータ番号に対応するトレース データが第 1のテンプレート記憶部 50cから読み出され、トレースデータ番号とともに 露光点データ情報作成部 50eに出力される。なお、このとき、読出開始位置が 0の場 合は、トレースデータは先頭力 読み出され、読出開始位置力 たとえば、 mlである 場合には、 mlの位置力 読み出される。また、露光点データは上記露光点データ数 Nだけ読み出すようにすればょ 、。
[0106] また、トレースデータ番号とトレースデータの記憶領域との関係については、たとえ ば、図 17に示すような、トレースデータ番号とそのトレースデータ番号のトレースデー タが記憶された記憶領域の先頭アドレスとの対応関係を予め設定しておくようにすれ ばよい。そして、ベクトル V3または延長ベクトル V3に対応するレースデータ番号と図 17に示す対応関係とから先頭アドレスを求め、その先頭アドレスと読出開始位置とか ら読出開始アドレスを求め、その読出開始アドレスによって示されるアドレス力 露光 点データを読み出すようにすればよ!、。
[0107] 一方、露光点データ軌跡情報取得部 53において取得されたベクトル V3の情報は 、サンプリングデータ取得部 50bに出力され、サンプリングデータ取得部 50bにおい て、各ベクトル V3と露光画像データの座標系とが対応付けられ、ベクトル V3上にあ る露光点データ力 露光画像データ記憶部 50aに記憶された露光画像データカもサ ンプリングされて読み出され、露光点データ情報作成部 50eに出力される。
[0108] そして、露光点データ情報作成部 50eおいて、図 18に示すように、サンプリングデ ータ取得部 50bから出力されたサンプリングデータ Sから、トレースデータ特定部 50d 力も出力されたトレースデータ Tが減算され、差分データ Subが求められる。そして、 差分データ Subに対し、ランレングス符号化処理が施され、差分符号化データが作 成される。なお、上記減算は、サンプリングデータ Sとトレースデータ Tの各ビット毎の 露光点データの排他的論理和を演算することによって行われる。
[0109] そして、露光点データ情報作成部 50eにおいて、トレースデータ特定部 50dによつ て取得されたトレースデータ番号および読出開始位置に、上記のようにして取得した 差分符号化データが付加され、図 19に示すようなデータ構造の露光点データ情報 が生成され、露光点データ取得部 54に出力される。上記のように差分符号化データ を取得してトレースデータ番号とともに露光点データ取得部 54に出力するようにすれ ば、たとえば、サンプリングデータ取得部 50bにおいて取得されたサンプリングデータ をそのまま露光点データ取得部 54に出力する場合と比較すると、その転送データ量 を削減することができ、転送処理を高速化することができる。なお、上記トレースデー タ Tと上記サンプリングデータ Sとは互いのデータの内容がそれ程異なるものではな いため、差分データとしては 0の値が多ぐランレングス符号ィ匕を施すことによってより 転送データ量を小さくできるものと考えられる。
[0110] なお、露光点データ情報には、図 19に示すようにフラグが設けられており、このフラ グは、トレースデータ番号に対応するトレースデータがベクトル V3に近似するが同一 ではないベクトル VIに対応するトレースデータである場合には差分符号ィ匕データが 必要なため 1とし、後続に差分符号化データが存在することを示し、一方、トレースデ ータ番号に対応するトレースデータがベクトル V3と同等のベクトル VIに対応するトレ ースデータである場合には差分符号ィ匕データが全て 0値であるので差分符号ィ匕デ一 タが必要でな 、ため 0とし、後続に差分符号化データが存在しな!ヽことを示す。
[0111] また、上記フラグは必ずしも設ける必要はなぐフラグを利用しない場合には、たと えば、トレースデータ番号に対応するトレースデータがベクトル V3と同等のベクトル V 1に対応するトレースデータである場合には、全て 0のデータ力 なる差分データをラ ンレングス符号化した差分符号化データを付加するようにすればよ 、。
[0112] なお、本実施形態の露光装置においては、ベクトル V3または延長ベクトル V3と同 等のベクトルのトレースデータ番号が複数存在する場合には、たとえば、始点の座標 値の差および変動量( Δ X, Δ y)の差が最も小さ 、トレースデータ番号を取得するよう にしたが、これに限らず、上記複数のトレースデータ番号に対応するトレースデータを それぞれ取得し、上記のようにして取得されたサンプリングデータとの誤差をそれぞ れ求め、上記誤差が最も小さいトレースデータに対応するトレースデータ番号を、ベ タトル V3または延長ベクトル V3に近似するベクトル VIのトレースデータ番号として取 得するようにしてもよい。なお、上記誤差は、たとえば、サンプリングデータとトレース データを対応付けて 1ビットずつそのデータを比較し、互 、のデータが異なるビットの 数をカウントすることによって求めるようにすればよい。
[0113] また、本実施形態の露光装置においては、ベクトル V3または延長ベクトル V3と同 等のベクトル VIが存在しない場合には、上記のようにベクトル V3または延長ベクトル V3に近似するベクトル VIのトレースデータを取得するとともにサンプリングデータを 取得し、これらの差分データを算出し、この差分データとトレースデータとに基づいて 露光点データを取得するようにした力 たとえば、ベクトル V3または延長ベクトル V3 とこれに近似するベクトル VIとの始点 eの座標値および変動量(Δχ, Ay)の差が、所 定の範囲内である場合には、上記のようにサンプリングデータおよび差分データを取 得することなぐベトル V3または延長ベクトル V3に近似するベクトル VIのトレースデ ータ番号および読出開始位置を露光点データ情報として取得し、その露光点データ 情報を画像処理部 50から露光点データ取得部 54に出力し、露光点データ取得部 5 4において、上記トレースデータ番号および読出開始位置に基づいて読み出されたト レースデータを露光点データとして取得するようにしてもょ 、。上記のようにして露光 点データ情報を取得することにより、露光点データ情報のデータ量をより削減するこ とができ、画像処理部 50から露光点データ取得部 54へのデータ転送速度の高速ィ匕 を図ることができる。
[0114] また、ベクトル V3または延長ベクトル V3と同等のベクトル VIが存在しない場合に おいて、ベクトル V3または延長ベクトル V3に近似するベクトル VIに対応するトレー スデータと上記サンプリングデータとの誤差が所定の範囲内である場合には、上記の ように差分データを取得することなぐベトル V3または延長ベクトル V3に近似するべ タトル VIのトレースデータ番号および読出開始位置を露光点データ情報として取得 し、その露光点データ情報を画像処理部 50から露光点データ取得部 54に出力し、 露光点データ取得部 54において、上記トレースデータ番号および読出開始位置に 基づ 、て読み出されたトレースデータを露光点データとして取得するようにしてもょ ヽ 。なお、上記誤差は、たとえば、サンプリングデータとトレースデータを対応付けて 1ビ ットずつそのデータを比較し、互いのデータが異なるビットの数をカウントすることによ つて求めるようにすればよ!、。上記のようにして露光点データ情報を取得することによ り、露光点データ情報のデータ量をより削減することができ、画像処理部 50から露光 点データ取得部 54へのデータ転送処理の高速ィ匕を図ることができる。
[0115] また、サンプリングデータ取得部 50bとトレースデータ特定部 50dは、並列処理で独 立して動作するようにしてもよ!ヽ。
[0116] あるいは、サンプリングデータ取得部 50bは、トレースデータ特定部 50dの結果によ り、ベクトル V3または延長ベクトル V3と同等のベクトル VIが存在しない場合にのみ サンプリングデータ取得処理を実行するようにしてもょ 、。上記のようにすれば統合 的な演算量を低減することができる。
[0117] [露光点データの取得]
次に、上記のようにして画像処理部 50において取得された各ベクトル V3の露光点 データ情報に基づ 、て、表示部データにおける露光点データを取得する方法を説 明する。
[0118] 露光点データ取得部 54に露光点データ情報が入力されると、まず、その先頭にあ るトレースデータ番号と読出開始位置が取得され、第 2のテンプレート記憶部 54aか ら上記トレースデータ番号に対応するトレースデータが読み出される。トレースデータ の読出方法については、上記画像処理部 50における方法と同様である。
[0119] 次に、露光点データ情報におけるフラグ力^である力 1であるかが認識され、フラグ 力 SOである場合には、上記のようにして読み出されたトレースデータがそのまま露光点 データとして取得される。また、フラグが 1である場合には、その後に続く差分符号ィ匕 データが取得され、差分復号化部 54bにおいて復号処理が施され、差分データ Sub が復号化される。そして、図 20に示すように、トレースデータ Tと復号化された差分デ ータ Subとが加算されてサンプリングデータ Sが取得され、このサンプリングデータ S が露光点データとして取得される。なお、上記加算は、差分データ Subとトレースデ ータ Tの各ビット毎の露光点データの排他的論理和を演算することによって行われる
[0120] そして、上記のように各ベクトル V3について、それぞれ露光点データを取得し、こ れらを繋ぎ合わせることによって 1つのマイクロミラー 38の露光点データ軌跡に対応 した露光点データ列が取得される。
[0121] そして、上記と同様にして、各マイクロミラー 38毎の露光点データ列が取得される。
[0122] なお、トレースデータを作成する際、ベクトル VIを所定のピッチで量子化した場合 には、その量子化に合わせて各ベクトル V3を量子化するようにしてもよい。量子化の 方法については、ベクトル VIの量子化の方法と同様である。上記のように各ベクトル V3を量子化することにより、ベクトル V3に対応するトレースデータをより高速に取得 することができる。たとえば、各ベクトル V3の始点 s、終点 e、中点の座標値および各 ベクトル V3の傾き等を量子化するようにすればょ 、。
[0123] 具体的には、例えば、量子化幅を X方向に stp_x=0.05 μ m、 y方向に stpj=0.25 μ m とし、上記 (8)式または (9)式の該当する変数に適用し、量子化後の値を取得するよう にすればよい。
[0124] ここまで表示部データ力 の露光点データの取得について説明した力 次に、配線 部データにおける露光点データを取得する方法について説明する。
[0125] 上述したように、配線部データはラスター変換されて露光画像データ記憶部 50aに 記憶されてある。そして、露光画像データ記憶部 50aに記憶された配線部データは、 サンプリングデータ取得部 50bに出力される。また、上記のようにして露光点データ 軌跡情報取得部 53において取得された各マイクロミラー 38毎の露光点データ軌跡 情報もサンプリングデータ取得部 50bに出力される。そして、サンプリングデータ取得 部 50bは上記露光点データ軌跡情報の各ベクトル V3と配線部データとを対応付け、 各ベクトル V3上の配線部データを所定のサンプリングピッチでサンプリングして露光 点データとして読み出す。そして、上記のようにして取得された各マイクロミラー 38毎 の露光点データ列を露光点データ取得部 54に出力する。なお、図 6に示す配線部 データにおける表示部データに該当する部分は 0データになっているものとする。
[0126] そして、露光点データ取得部 54において、上記のようにして取得された表示部デ ータについての各マイクロミラー 38毎の露光点データ列と、配線部データについて の各マイクロミラー 38毎の露光点データ列とが合成されて、液晶ディスプレイの露光 パターン Rを表す、各マイクロミラー 38毎の露光点データ列が生成される。なお、上 記合成は、表示部データについての露光点データ列と配線部データについての露 光点データ列との論理和を演算することによって行われる。
[0127] [露光]
次に、上記のようにして取得された各マイクロミラー 38毎の露光点データに基づい て基板 12上に露光する方法について説明する。
[0128] 上記のようにして取得された各マイクロミラー 38毎の露光点データは露光ヘッド制 御部 55に出力される。そして、上記出力とともに移動ステージ 14力 再び上流側に 所望の速度で移動させられる。
[0129] そして、基板 12の先端力 Sカメラ 26により検出されると露光が開始される。具体的に は、露光ヘッド制御部 55から各露光ヘッド 30の DMD36に上記露光点データに基 づいた制御信号が出力され、露光ヘッド 30は入力された制御信号に基づいて DMD
36のマイクロミラーをオン ·オフさせて基板 12を露光する。
[0130] なお、露光ヘッド制御部 55から各露光ヘッド 30へ制御信号が出力される際には、 基板 12に対する各露光ヘッド 30の各位置に対応した制御信号が、移動ステージ 14 の移動にともなって順次露光ヘッド制御部 55から各露光ヘッド 30に出力される力 こ のとき、たとえば、図 26に示すように、各マイクロミラー 38毎に取得された L個の露光 点データ列の各列から、各露光ヘッド 30の各位置に応じた露光点データを 1つずつ 順次読み出して各露光ヘッド 30の DMD36に出力するようにしてもょ 、し、図 26に 示すように取得された露光点データに 90度回転処理もしくは行列を用いた転置変換 などを施し、図 27に示すように、基板 12に対する各露光ヘッド 30の各位置に応じた フレームデータ 1〜Lを生成し、このフレームデータ 1〜Lを各露光ヘッド 30に順次出 力するようにしてちょい。
[0131] そして、移動ステージ 14の移動にともなって順次各露光ヘッド 30に制御信号が出 力されて露光が行われ、基板 12の後端力 Sカメラ 12により検出されると露光が終了す る。
[0132] なお、上記説明にお 、ては、プレス工程などにぉ 、て変形した基板 12に露光する 際の露光点データの取得方法について説明したが、変形してない理想的な形状の 基板 12に露光する際についても、上記と同様の方法を採用して露光点データを取 得することができる。たとえば、各マイクロミラー 38毎に予め設定された上記通過位置 情報に対応する露光点データ軌跡の情報を取得し、その取得した露光点データ軌 跡情報に基づ 、て露光点データ情報を取得し、その露光点データ情報に基づ 、て 、上記と同様にして露光点データを取得するようにすればよ!、。
[0133] また、上記実施形態においては、基板 12上における基準マーク 12aを検出し、そ の検出位置情報に基づいて、実際の露光の際における基板 12上の各マイクロミラー 38の露光軌跡情報を取得するようにした力 これに限らず、たとえば、移動ステージ 14のステージ移動方向と直交する方向へのずれ情報を取得するずれ情報取得手段 を設け、そのずれ情報取得手段に取得されたずれ情報に基づいて、実際の露光の 際における基板 12上の各マイクロミラー 38の露光軌跡情報を取得し、その露光軌跡 情報に基づ 、てベクトル V3からなる露光点データ軌跡情報を取得し、各ベクトル V3 について、上記と同様にして露光点データを取得するようにしてもよい。なお、上記 ずれ情報は、ずれ情報取得手段に予め設定しておけばよい。ずれ情報の計測方法 としては、たとえば、 ICゥエーハ'ステッパー装置などで利用されるレーザ光を用いた 測定方法を用いることができる。たとえば、移動ステージ 14に、ステージ移動方向に 延びる反射面を設けるとともに、その反射面に向けてレーザ光を射出するレーザ光 源および上記反射面において反射した反射光を検出する検出部を設け、移動ステ ージ 14の移動にともなって、反射光の位相ずれを順次検出部により検出することに よって上記ずれ量を計測することができる。
[0134] また、移動ステージ 14のョーイングも考慮して露光軌跡情報を取得するようにして ちょい。
[0135] また、基準マーク 12aの検出位置情報と上記ずれ情報との両方を考慮して露光軌 跡情報を取得するようにしてもょ 、。
[0136] また、基板 12の移動の速度変動情報を予め取得する速度変動情報取得手段を設 け、速度変動情報取得手段により取得された速度変動情報に基づいて、基板 12の 移動の速度が遅い基板 12上の領域ほど露光点データの密度が大となるように、上記 基準ベクトルのサンプリングピッチ pitch j0を小とし、露光点データを取得するようにし てもよい。なお、上記基板 12の移動の速度変動情報とは、移動ステージ 14の移動機 構 60の制御精度に応じて発生する移動速度のムラである。
[0137] また、上記実施形態では、 LCD画素データ PDが y方向に繰り返して配置された表 示部データの露光点データを、トレースデータを利用して取得する方法を説明したが 、露光点データを取得する対象である原画像データは必ずしも表示部データのよう なデータ構造でなくてもよい。ただし、その場合には、ベクトル VIの始点 sとしては、 上記のように 1つの LCD画素データ PD中における始点 sだけでなぐ原画像データ 全体における露光点の位置を始点 sとしてベクトル VIを設定し、そのベクトル VIに対 応するトレースデータを取得する必要がある。なお、ベクトル VIの始点および終点 e の位置の設定の方法については上記と同様である。そして、ベクトル V3に対応するト レースデータを取得する際には、上記のようにベクトル V3の始点 sおよび終点 eの座 標を相対変換することなぐベクトル V3の始点 sおよび終点 eの座標をそのまま利用し て、上記と同様にしてトレースデータを取得するようにすればよ!、。
[0138] また、上記実施形態では、ベクトル V3毎に差分データを 1次元データとしてランレ ングス符号ィ匕した例を示した力 差分データを所定サイズのエリア毎にまとめて、 2次 元的に符号ィ匕および復号ィ匕処理を適用することもできる。たとえば、周知技術の JPE G方式を利用することができる。上記のようにすれば差分データの符号化データの情 報量をさらに低減することができる。
[0139] 次に、本発明の第 2の実施形態を用いた露光装置について説明する。
[0140] 本発明の第 2の実施形態を用いた露光装置 25は、その概略構成は図 1に示す第 1 の実施形態を用いた露光装置と同様である。
[0141] そして、露光装置 25は、予め記憶するテンプレートデータおよびそのテンプレート データの作成方法が異なる。具体的には、第 1の実施形態を用いた露光装置 10に おいては、マイクロミラー 38の像が基板 12上を通過し得る軌跡を想定し、その軌跡 に応じたトレースデータを取得してテンプレートデータとするようにしたが、第 2の実施 形態を用いた露光装置 25においては、 DMD36における所定のマイクロミラーの列 力 基板 12上を露光し得る露光点列を想定し、その露光点列に応じたトレースデー タを取得してテンプレートデータとする。
[0142] 露光装置 25は、図 23に示すように、データ作成装置 40から出力された、露光すベ き露光パターンを表わすベクトル形式の露光画像データを受け付け、該露光画像デ ータに基づいて、後述するテンプレートデータを生成するとともに、後述する露光点 データ位置情報に基づいて、各マイクロミラー 38毎の露光点データを取得するため の露光点データ情報を生成する画像処理部 80と、実際の露光の際の基板 12上に おけるマイクロミラー 38の列の露光点列の位置情報を取得する露光点位置情報取 得部 82と、画像処理部 80により取得された露光点データ情報に基づいて、マイクロ ミラー列の露光点データ列を取得する露光点データ取得部 84とを備えている。
[0143] 次に、本発明の第 2の実施形態の露光装置 25の作用について説明する。
[0144] 以下、露光装置 25のテンプレートデータの作成方法について説明する。
[0145] まず、図 24に点線で示すように、 DMD36が所定のマイクロミラー列に仮想的に分 割される。そして、画像処理部 80において、露光画像データと、マイクロミラー 38によ り基板 12上に露光される露光点の座標系とが対応付けられる。そして、上記のように して分割されたマイクロミラー列のうちの 1つのマイクロミラー列 38aによって所定のタ イミングで順次露光される基板上の露光点列 38bが、上記座標系および露光画像デ ータに対応付けられる。なお、このときの露光点列 38bの位置は、 DMD36が基板 1 2に対して理想的に配置されている場合における露光点列の位置である。また、この 露光点列の位置の情報は、予め設定されて 、るものとする。
[0146] そして、各露光点列 38bの一端の露光点と他端の露光点とを結ぶ基準ベクトル V4 l〜V4nが設定される。そして、図 25に示すように、たとえば、基準ベクトル V41に対 して角度変動 Θの範囲内におけるベクトル V41 'が複数設定され、基準ベクトル V41 、ベクトル V41 '上にある露光点データ力 露光画像データ力 それぞれサンプリン グされ、基準ベクトル V41およびベクトル V41 'に対応するトレースデータが取得され る。そして、さらに、基準ベクトル V41の始点 sの位置を、たとえば、図 25の斜線で示 す所定の範囲内で動かし、それぞれの始点 sの基準ベクトル V41について、上記と同 様にベクトル V41 'が設定され、上記と同様にして基準ベクトル V41とベクトル V41 ' に対応するトレースデータが取得される。なお、上記角度変動 Θおよび上記所定の 範囲は、基板 12に対する DMDの配置の変動量に応じて適宜設定されるものである 。また、始点 sは図 25の範囲内の一部の露光点の位置について設定される。
[0147] そして、基準ベクトル V42〜V4n、ベクトル V42'〜V4n'についても、それぞれ上 記と同様にしてそれぞれトレースデータが取得される。
[0148] そして、基準ベクトル V41〜V4nとベクトル V41,〜V4n,につ!/、て、それぞれ始点 sの位置および基準ベクトルに対する角度の変動量 Δ Θと、トレースデータ番号とが 対応付けられ、図 26に示すような対応関係が取得され、この対応関係はトレースデ ータ特定部 80dに設定されるとともに、露光点データ取得部 84に出力され、露光点 データ取得部 84にも設定される。
[0149] また、基準ベクトル V41〜V4nとベクトル V41,〜V4n'に対応するトレースデータ 力 上記トレースデータ番号と対応付けられてテンプレートデータとされ、第 1のテン プレート記憶部 80cに記憶されるとともに、画像処理部 80から露光点データ取得部 8 4に出力され、露光点データ取得部 84における第 2のテンプレート記憶部 84aにも記 憶される。
[0150] 次に、上記のようにして作成されたテンプレートデータを用いてマイクロミラー列 38a の露光点データを取得する方法について説明する。
[0151] まず、マイクロミラー列 38aにより実際に露光される露光点列の基板 12上における 位置情報が測定される。この位置情報の測定は、たとえば、実際に基板 12上に露光 画像を露光する際の移動速度と同様の速度で移動ステージ 14を移動させるとともに 、実際の露光タイミングと同様のタイミングで DMD36におけるマイクロミラー列 38aを ONさせ、移動ステージ 14上に設けられた検出器によってマイクロミラー列 38aの光 を検出することによって測定することができる。
[0152] そして、上記のようにして測定された露光点列の位置情報に基づいて、露光点列の 一端の露光点と他端の露光点とを結ぶ検出ベクトル V51〜V5nが取得され、その検 出ベクトル V51〜V5nの情報が、露光点位置情報として露光点位置情報取得部 82 によって取得され、露光点位置情報取得部 82は、検出ベクトル V51〜V5nの情報を 画像処理部 80に出力する。
[0153] そして、トレースデータ特定部 80dにおいて、図 26に示す対応関係に基づいて、検 出ベクトル V51〜V5nと同じ始点と角度の変動量 Δ Θであるトレースデータ番号が それぞれ取得され、そのトレースデータ番号が露光点データ情報として露光点デー タ取得部 84に出力される。
[0154] ここで、上記のようにして露光点データ情報を取得する際、検出ベクトル V51〜V5 nと同等のベクトル V41〜V4n,V41,〜V4n,のトレースデータ番号が存在しない場 合がある。
[0155] そこで、本実施形態の露光装置においては、検出ベクトル V51〜V5nと同等のベ タトル VIが存在しない場合には、まず、検出ベクトル V51〜V5nに近似するベクトル
V41〜V4n,V41,〜V4n,のトレースデータ番号を取得する。
[0156] 具体的には、トレースデータ特定部 80d力 検出ベクトル V51〜V5nの始点 sの座 標値とその始点の差が所定の範囲内であり、かつ検出ベクトル V51〜V5nの変動量
Δ Θとその変動量の差が所定の範囲内のトレースデータ番号が取得される。
[0157] なお、上記のようなトレースデータ番号が複数存在する場合には、たとえば、上記 差が最も小さ 、トレースデータ番号を取得するようにすればよ!、。
[0158] また、必ずしも、上記差が最も小さいトレースデータ番号を取得するようにしなくてもよ ぐたとえば、予め設定された所定の規則にしたがっていずれ力 1つのトレースデータ 番号を取得するようにすればょ 、。 [0159] そして、上記のようにして取得された 1つのトレースデータ番号に対応するトレース データが第 1のテンプレート記憶部 80cから読み出され、トレースデータ番号とともに 露光点データ情報作成部 80eに出力される。
[0160] 一方、露光点位置情報取得部 82において取得された検出ベクトル V51〜V5nの 情報は、サンプリングデータ取得部 80bに出力され、サンプリングデータ取得部 80b において、検出ベクトル V51〜V5nと露光画像データの座標系とが対応付けられ、 検出ベクトル V51〜V5n上にある露光点データ力 露光画像データ記憶部 50aに記 憶された露光画像データ力 サンプリングされて読み出され、露光点データ情報作 成部 80eに出力される。
[0161] そして、露光点データ情報作成部 80eおいて、上記第 1の実施形態と同様に、サン プリングデータ取得部 80bから出力されたサンプリングデータ Sからトレースデータ特 定部 50dから出力されたトレースデータ Tが減算され、差分データ Subが求められる 。そして、差分データ Subに対し、ランレングス符号化処理が施され、差分符号化デ ータが作成される。
[0162] そして、露光点データ情報作成部 80eにおいて、トレースデータ特定部 80dによつ て取得されたトレースデータ番号に、上記のようにして取得した差分符号ィ匕データが 付加され、図 19に示すようなデータ構造の露光点データ情報が生成され、露光点デ ータ取得部 54に出力される。
[0163] 次に、上記のようにして画像処理部 80において取得された検出ベクトル V51〜V5 nの露光点データ情報に基づいて露光点データを取得する方法を説明する。
[0164] 露光点データ取得部 84に露光点データ情報が入力されると、まず、その先頭にあ るトレースデータ番号が取得され、第 2のテンプレート記憶部 84aから上記トレースデ ータ番号に対応するトレースデータが読み出される。トレースデータの読出方法につ いては、上記第 1の実施形態と同様である。
[0165] 次に、露光点データ情報におけるフラグ力^である力 1でるかが認識され、フラグが 0である場合には、上記のようにして読み出されたトレースデータがそのまま露光点デ ータとして取得される。また、フラグが 1である場合には、その後に続く差分符号化デ ータが取得され、差分復号化部 84bにおいて復号化処理が施され、差分データ Sub が復号化される。そして、上記第 1の実施形態と同様に、トレースデータ τと復号化さ れた差分データ Subとが加算されてサンプリングデータ Sが取得され、このサンプリン グデータ Sが露光点データとして取得される。
[0166] そして、上記のようにして検出ベクトル V51〜V5nについての露光点データを取得 することによって、マイクロミラー列 38aの各露光タイミングにおける露光点データが 取得される。
[0167] なお、上記説明にお 、ては、マイクロミラー列 38aの露光点データを取得する場合 について説明した力 その他のマイクロミラー列についても、上記と同様にして露光 点データを取得するようにすればよ!、。
[0168] そして、各露光タイミングにおける各マイクロミラー列の露光点データ列を合わせる ことによって、各露光タイミングにおける DMD36のフレームデータが取得される。
[0169] なお、上記フレームデータに基づいて露光を行う作用については、上記第 1の実施 形態の露光装置と同様である。
[0170] なお、上記説明においては、 DMD36を、図 24に示すようなマイクロミラー列で分 割するようにしたが、その分割の方法は、図 24に示す態様に限らず、その他の分割 方法でもよい。例えば、 DMD36をマイクロミラーの行単位で分割するようにしてもよ い。また、 DMD36内のマイクロミラーを角形状の領域毎に複数のグループに分け、 各グループに対してテンプレートを作成するようにしてもよい。その場合、角形状の領 域の例えば頂点のマイクロミラーに対応する基板上の露光点位置を基準にして領域 内の各マイクロミラーの露光点位置を想定することによって、テンプレートを作成する ことができる。
[0171] また、図 24に示すマイクロミラー列をさらに分割し、その分割マイクロミラーに対応さ せて分割基準ベクトルを設定し、その分割基準ベクトルについて、上記と同様にして トレースデータを取得し、テンプレートデータとしてもよい。そして、上記説明において は、測定された露光点列の一端の露光点と他端の露光点とを直線で結ぶ検出べタト ルを取得するようにしたが、一端の露光点と他端の露光点との間を、図 27に示すよう に折れ線で近似して折れ線検出ベクトル V6を取得し、その折れ線検出ベクトル V6 の各線分ベクトル V61, V62に対応する露光点データを取得し、これらを繋ぐことに よってマイクロミラー列に対応する露光点データを取得するようにしてもよい。なお、 上記のようにして露光点データを取得する際には、マイクロミラー列の分割方法と、検 出ベクトルの折れ線近似とが対応する関係である必要がある。上記のようにして露光 点データを取得することにより DMD36の歪みを補正することができる。
[0172] また、上記実施形態では、空間光変調素子として DMDを備えた露光装置にっ 、 て説明したが、このような反射型空間光変調素子の他に、透過型空間光変調素子を 使用することちできる。
[0173] また、上記実施形態では、 V、わゆるフラッドベッドタイプの露光装置を例に挙げたが 、感光材料が巻きつけられるドラムを有する、いわゆるアウタードラムタイプの露光装 置としてもよい。
[0174] また、上記実施形態の露光対象である基板 12は、プリント配線基板だけでなぐフ ラットパネルディスプレイの基板であってもよい。また、基板 12の形状は、シート状の ものであっても、長尺状のもの(フレキシブル基板など)であってもよい。
[0175] また、本発明における描画方法および装置は、インクジェット方式などのプリンタに おける描画にも適用することができる。たとえば、インクの吐出による描画点を、本発 明と同様に形成することができる。つまり、本発明における描画点形成領域を、インク ジェット方式のプリンタの各ノズルから吐出されたインクが付着する領域として考える ことができる。
[0176] また、本発明における描画軌跡情報は、実際の基板上における描画点形成領域の 描画軌跡を用いて描画軌跡情報としてもよ!ヽし、実際の基板上における描画点形成 領域の描画軌跡を近似したものを描画軌跡情報としてもょ 、し、実際の基板上にお ける描画点形成領域の描画軌跡を予測したものを描画軌跡情報としてもよい。
[0177] また、テンプレートイ匕する画像パターンは、繰り返しパターン以外に、離散的に何度 も現れる画像であってもよ 、。
[0178] また、テンプレートイ匕する繰り返しパターンは、複数種類の画像パターンが繰り返し 現れるものであってもよい。この場合、画像パターンの種類毎にテンプレートを作成 するようにしてもよいし、画像パターンの並び方に規則性がある場合には、その並び 方の種類毎にテンプレートイ匕を行ってもよい。 [0179] また、露光対象を LSIとしてもよぐその場合メモリセル等の同一パターンをテンプレ ー卜ィ匕することちできる。
[0180] また、テンプレートを作成する装置と、テンプレートを読み出す装置とを、別体で構 成するようにしてちょい。

Claims

請求の範囲
[1] 描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域によって基板上に画像 を描画する際に用いられる前記描画データを取得する描画データ取得方法にぉ 、 て、
前記基板上の描画面と前記描画点形成領域との予め設定された位置関係に基づ いて前記画像を表す原画像データ力 前記描画データを取得する仮想的な条件で あって、互いに異なる前記位置関係に基づく複数の仮想描画データ取得条件を用
V、て複数の仮想描画データを取得して予め記憶するとともに、前記仮想描画データ 取得条件と前記仮想描画データとの対応関係を予め設定し、
前記画像の描画の際の前記基板上の描画面と前記描画点形成領域との実位置関 係に基づいて前記原画像データ力 前記描画データを取得するための描画データ 取得条件を取得し、
該取得した描画データ取得条件に基づいて前記原画像データをサンプリングして サンプリングデータを取得し、
前記取得した描画データ取得条件に近似する前記仮想描画データ取得条件を取 得し、
該取得した仮想描画データ取得条件に対応する仮想描画データを前記対応関係 に基づ!/、て前記予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、 前記特定した仮想描画データと前記サンプリングデータとの差分データを取得し、 該取得した差分データに符号化処理を施して差分符号化データを取得し、 該取得した差分符号化データに復号化処理を施して前記差分データを復号化し、 該復号化した差分データと前記特定した仮想描画データとを加算して前記サンプリ ングデータを再現し、
該再現したサンプリングデータを前記描画データとして取得することを特徴とする描 画データ取得方法。
[2] 前記サンプリングデータと前記特定した仮想描画データとの誤差が所定の範囲内 である場合には、前記特定した仮想描画データを前記描画データとして取得すること を特徴とする請求項 1記載の描画データ取得方法。
[3] 前記サンプリングデータと前記複数の仮想描画データ取得条件に対応する仮想描 画データとの誤差をそれぞれ取得し、
前記描画データ取得条件に近似する前記仮想描画データ取得条件として、前記 誤差が最も小さい仮想描画データ取得条件を取得することを特徴とする請求項 1ま たは 2記載の描画データ取得方法。
[4] 描画データに基づ!/ヽて描画点を形成する描画点形成領域を、基板に対して相対 的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記基板上に順次形成して 画像を描画する際に用いられる前記描画データを取得する描画データ取得方法に おいて、
予め設定された前記基板上における前記描画点形成領域の仮想的な描画軌跡の 情報であって、互いに異なる複数の仮想描画軌跡情報と前記画像を表わす原画像 データとを対応付けて前記原画像データ上における前記描画点形成領域の前記仮 想描画軌跡情報に対応する仮想描画点データ軌跡の情報をそれぞれ取得し、 該複数の仮想描画点データ軌跡情報に基づいて該仮想描画点データ軌跡に対応 した仮想描画データを前記原画像データからそれぞれ取得し、
該取得した複数の仮想描画データを予め記憶するとともに、前記仮想描画点デー タ軌跡情報と前記仮想描画データとの対応関係を予め設定し、
前記画像の描画の際の前記基板上における前記描画点形成領域の描画軌跡の 情報を取得し、
該取得した描画軌跡情報と前記原画像データとを対応付けて前記原画像データ 上における前記描画点形成領域の前記描画軌跡情報に対応する描画点データ軌 跡の情報を取得し、
前記描画点データ軌跡上の前記原画像データをサンプリングしてサンプリングデー タを取得し、
前記描画点データ軌跡情報に近似する前記仮想描画点データ軌跡情報を取得し 該取得した仮想描画点データ軌跡情報に対応する前記仮想描画データを前記対 応関係に基づいて前記予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し 該特定した仮想描画データと前記サンプリングデータとの差分データを取得し、 該取得した差分データに符号化処理を施して差分符号化データを取得し、 該取得した差分符号化データに復号化処理を施して前記差分データを復号化し、 該復号化した差分データと前記特定した仮想描画データとを加算して前記サンプリ ングデータを再現し、
該再現したサンプリングデータを前記描画データとして取得することを特徴とする描 画データ取得方法。
[5] 前記サンプリングデータと前記特定した仮想描画データとの誤差が所定の範囲内 である場合には、前記特定した仮想描画データを前記描画データとして取得すること を特徴とする請求項 4記載の描画データ取得方法。
[6] 前記描画点データ軌跡情報に近似する前記仮想描画点データ軌跡情報として、 前記描画点データ軌跡情報の始点位置および終点位置に対して所定の範囲内の 差の始点位置および終点位置を有する前記仮想描画点データ軌跡情報を取得する ことを特徴とする請求項 4または 5記載の描画データ取得方法。
[7] 前記描画点データ軌跡情報に近似する前記仮想描画点データ軌跡情報として、 前記描画点データ軌跡情報の始点位置および終点位置に対して最小の差の始点 位置および終点位置を有する前記仮想描画点データ軌跡情報を取得することを特 徴とする請求項 6記載の描画データ取得方法。
[8] 前記サンプリングデータと前記複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想 描画データとの誤差をそれぞれ取得し、
前記描画点データ軌跡情報に近似する前記仮想描画点データ軌跡情報として、 前記誤差が最も小さい仮想描画点データ軌跡情報を取得することを特徴とする請求 項 4または 5記載の描画データ取得方法。
[9] 請求項 1から 8 、ずれか 1項記載の描画データ取得方法を用いて描画データを取 得し、該取得した描画データに基づ ヽて前記基板上に画像を描画することを特徴と する描画方法。
[10] 描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域によって基板上に画像 を描画する際に用いられる前記描画データを取得する描画データ取得装置におい て、
前記基板上の描画面と前記描画点形成領域との予め設定された位置関係に基づ いて前記画像を表す原画像データ力 前記描画データを取得する仮想的な条件で あって、互いに異なる前記位置関係に基づく複数の仮想描画データ取得条件を用 いて取得された複数の仮想描画データが予め記憶された仮想描画データ記憶部と、 前記仮想描画データ取得条件と前記仮想描画データとの対応関係が予め設定さ れた対応関係設定部と、
前記画像の描画の際の前記基板上の描画面と前記描画点形成領域との実位置関 係に基づいて前記原画像データ力 前記描画データを取得するための描画データ 取得条件を取得する描画データ取得条件取得部と、
該描画データ取得条件取得部によって取得された描画データ取得条件に基づい て前記原画像データをサンプリングしてサンプリングデータを取得するサンプリング データ取得部と、
前記描画データ取得条件取得部によって取得された描画データ取得条件に近似 する前記仮想描画データ取得条件を取得する仮想描画データ取得条件取得部と、 該仮想描画データ取得条件取得部によって取得された仮想描画データ取得条件 に対応する仮想描画データを前記対応関係に基づいて前記予め記憶された複数の 仮想描画データの中から特定する仮想描画データ特定部と、
前記仮想描画データ特定部によって特定された仮想描画データと前記サンプリン グデータとの差分データを取得する差分データ取得部と、
該差分データ取得部によって取得された差分データに符号化処理を施して差分符 号化データを取得する差分符号化データ取得部と、
該差分符号化データ取得部によって取得された差分符号化データに復号化処理 を施して前記差分データを復号化する差分データ復号化部と、
該差分データ復号化部によって復号化された差分データと前記特定した仮想描画 データとを加算して前記サンプリングデータを再現するデータ加算部と、
該データ加算部によって再現されたサンプリングデータを前記描画データとして取 得する描画データ取得部とを備えたことを特徴とする描画データ取得装置。
[11] 前記描画データ取得部が、前記サンプリングデータと前記特定した仮想描画デー タとの誤差が所定の範囲内である場合には、前記仮想描画データ特定部によって特 定された仮想描画データを前記描画データとして取得するものであることを特徴とす る請求項 10記載の描画データ取得装置。
[12] 前記サンプリングデータと前記複数の仮想描画データ取得条件に対応する仮想描 画データとの誤差をそれぞれ取得する誤差取得部をさらに備え、
前記仮想描画データ取得条件取得部が、前記描画データ取得条件に近似する前 記仮想描画データ取得条件として、前記誤差取得部によって取得された誤差が最も 小さい仮想描画データ取得条件を取得するものであることを特徴とする請求項 10ま たは 11記載の描画データ取得装置。
[13] 描画データに基づ!/ヽて描画点を形成する描画点形成領域を、基板に対して相対 的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記基板上に順次形成して 画像を描画する際に用いられる前記描画データを取得する描画データ取得装置に おいて、
予め設定された前記基板上における前記描画点形成領域の仮想的な描画軌跡の 情報であって、互いに異なる複数の仮想描画軌跡情報と前記画像を表わす原画像 データとを対応付けて取得された複数の仮想描画点データ軌跡の情報に基づいて 前記原画像データから取得された前記仮想描画点データ軌跡に対応した仮想描画 データが予め記憶された仮想描画データ記憶部と、
前記仮想描画点データ軌跡情報と前記仮想描画データとの対応関係が予め設定 された対応関係設定部と、
前記画像の描画の際の前記基板上における前記描画点形成領域の描画軌跡の 情報を取得する描画軌跡情報取得部と、
該描画軌跡情報取得部によって取得された描画軌跡情報と前記原画像データとを 対応付けて前記原画像データ上における前記描画点形成領域の前記描画軌跡情 報に対応する描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得部と 該描画点データ軌跡情報取得部によって取得された描画点データ軌跡上の前記 原画像データをサンプリングしてサンプリングデータを取得するサンプリングデータ取 得部と、
前記描画点データ軌跡情報取得部によって取得された描画点データ軌跡情報に 近似する前記仮想描画点データ軌跡情報を取得する仮想描画点データ情報取得 部と、
該仮想描画点データ情報取得部によって取得された仮想描画点データ軌跡情報 に対応する前記仮想描画データを前記対応関係に基づいて前記予め記憶された複 数の仮想描画データの中から特定する仮想描画データ特定部と、
該仮想描画データ特定部によって特定された仮想描画データと前記サンプリング データとの差分データを取得する差分データ取得部と、
該差分データ取得部によって取得された差分データに符号化処理を施して差分符 号化データを取得する差分符号化データ取得部と、
該差分符号化データ取得部によって取得された差分符号化データに復号化処理 を施して前記差分データを復号化する差分データ復号化部と、
該差分データ復号化部によって復号化された差分データと前記特定した仮想描画 データとを加算して前記サンプリングデータを再現するデータ加算部と、
該データ加算部によって再現されたサンプリングデータを前記描画データとして取 得する描画データ取得部とを備えたことを特徴とする描画データ取得装置。
[14] 前記描画データ取得部が、前記サンプリングデータと前記特定した仮想描画デー タとの誤差が所定の範囲内である場合には、前記仮想描画データ特定部によって特 定された仮想描画データを前記描画データとして取得するものであることを特徴とす る請求項 13記載の描画データ取得装置。
[15] 前記仮想描画点データ軌跡情報取得部が、前記描画点データ軌跡情報に近似す る前記仮想描画点データ軌跡情報として、前記描画点データ軌跡情報の始点位置 および終点位置に対して所定の範囲内の差の始点位置および終点位置を有する前 記仮想描画点データ軌跡情報を取得するものであることを特徴とする請求項 13また は 14記載の描画データ取得装置。
[16] 前記仮想描画点データ軌跡情報取得部が、前記描画点データ軌跡情報に近似す る前記仮想描画点データ軌跡情報として、前記描画点データ軌跡情報の始点位置 および終点位置に対して最小の差の始点位置および終点位置を有する前記仮想描 画点データ軌跡情報を取得するものであることを特徴とする請求項 15記載の描画デ ータ取得装置。
[17] 前記サンプリングデータと前記複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想 描画データとの誤差をそれぞれ取得する誤差取得部をさらに備え、
前記仮想描画点データ軌跡取得部が、前記描画点データ軌跡情報に近似する前 記仮想描画点データ軌跡情報として、前記誤差が最も小さ!ヽ仮想描画点データ軌 跡情報を取得するものであることを特徴とする請求項 13または 14記載の描画データ 取得装置。
[18] 請求項 10から 17いずれか 1項記載の描画データ取得装置と、
前記描画データ取得装置により取得された描画データに基づ!、て前記基板上に 画像を描画する描画手段とを備えたことを特徴とする描画装置。
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004235487A (ja) * 2003-01-31 2004-08-19 Renesas Technology Corp パターン描画方法
JP2005043424A (ja) * 2003-07-22 2005-02-17 Ricoh Co Ltd パターン形成方法
JP2005208297A (ja) * 2004-01-22 2005-08-04 Hitachi Via Mechanics Ltd プリント配線板の製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004235487A (ja) * 2003-01-31 2004-08-19 Renesas Technology Corp パターン描画方法
JP2005043424A (ja) * 2003-07-22 2005-02-17 Ricoh Co Ltd パターン形成方法
JP2005208297A (ja) * 2004-01-22 2005-08-04 Hitachi Via Mechanics Ltd プリント配線板の製造方法

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