JP2007079517A - パターン作成方法、パターン作成プログラム及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体装置の基板上に所望寸法のパターンを形成するためのパターン作成方法において、前記パターンを露光する際のチップ100内での位置毎にプロパティ情報3〜8を割り当てた第1のデータベースを作成するステップと、設計パターンの階層処理から抽出されたセル名称A、Bと、その配置位置情報が対になった第2のデータベースを作成するステップと、前記第1および第2のデータベースより、セル毎にプロパティ情報3〜8を割り当て、マスクデータ処理を行なうステップと、前記マスクデータ処理を行なったセルを前記チップ100上に再配列するステップとを含むことを特徴とする。
【選択図】図1
Description
第1の実施形態を説明する前に、従来のパターン形成法について、図6を用いて説明する。設計データ上には、セルAとセルBが配置されている。セルA,Bはマスクデータ処理時に処理されるセルを代表しているものであり、さらにセルA、Bの下位に別のセル構造を持っていてもよい。マスクデータ処理時には、先ずは設計データのうちマスクデータ処理されるセル構造を抽出し、それぞれのセルに対してマスクデータ処理を行って、セルA,Bと異なるセルa、bを生成する。ここで、マスクデータ処理には、OPC処理、リサイズ処理、ブーリアン演算処理等を含む。セルa、bは、もともと配置されていたセルA,Bと入れ替わって配置され、設計データからマスクデータが生成される。
第1の実施形態では、プロパティが異なる場合には、別のセルとして扱う場合を示した。しかし、実際にセルを別に扱う必要があるかどうかは、与えられたプロパティによって、異なるセルにする必要があるかどうかに依存する。
プロパティは、工場で使用されるプロセス情報とリンクさせることも可能である。つまり、予めどのプロセスで処理されるかが決まっていれば、そのプロセス情報の中にショット内での露光装置収差情報、照明情報などをマスク作成時、若しくは設計フローの中で行われるリソグラフィによるマージンの少ないパターンをレイアウトパターンを回避するためのリソグラフィ検証フロー時に、これらの情報を考慮した設計レイアウトを作成することも可能である。
S101〜S104…ステップ名
Claims (5)
- 半導体装置の基板上に所望寸法のパターンを形成するためのパターン作成方法において、
前記パターンを露光する際のチップ内での位置毎にプロパティ情報を割り当てた第1のデータベースを作成するステップと、
設計パターンの階層処理から抽出されたセル名称と、その配置位置情報が対になった第2のデータベースを作成するステップと、
前記第1および第2のデータベースより、セル毎にプロパティ情報を割り当て、少なくとも1つ以上のプロパティ情報に基づいてマスクデータ処理を行なうステップと、
前記マスクデータ処理を行なったセルを前記チップ上に再配列するステップと、
を含むことを特徴とするパターン作成方法。 - 前記プロパティ情報は、露光装置の収差、照明形状、照明輝度、投影レンズの収差、投影レンズの透過率、照明の偏光度、ショット内でのパターン被覆率のうちの少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項1に記載のパターン作成方法。
- 前記マスクデータ処理から予測される半導体基板上での仕上がり平面形状を算出し、その結果に基づいて前記設計パターンを修正するステップをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のパターン作成方法。
- コンピュータに、
半導体基板上にパターンを露光する際の、チップ内での位置毎のプロパティ情報を割り当てた第1のデータベースを作成するステップと、
設計パターンの階層処理から抽出されたセル名称と、その配置位置情報が対になった第2のデータベースを作成するステップと、
前記第1および第2のデータベースより、セル毎にプロパティ情報を割り当て、マスクデータ処理を行なうステップと、
前記マスクデータ処理を行なったセルを前記チップ上に再配列するステップと、
を実行させるためのパターン作成プログラム。 - 請求項1〜3のパターン作成方法により作成されたマスクパターンを、半導体基板上に転写する工程を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
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