JP2007074928A - Dna鎖増幅方法 - Google Patents
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Abstract
増幅を行うDNA鎖増幅方法を提供する。
【解決手段】 リン脂質の親水部を構成するリン酸エステルより誘導される基を有する第一単位と活性エステル基を有する第二単位とを含む高分子物質を表面に有する基板に、DNA伸長用のプライマーを固定化させ、所望する配列を有する鋳型DNA断片およびヌクレオチドモノマーを含む試料が導入された反応系を、DNA鎖を熱変性する温度まで引き上げ、前記反応系の温度をアニール処理する温度まで下げ、一定の処理温度を保ち、基板上に固定化されたプライマーDNA鎖の伸長と増幅を行うDNA鎖増幅方法。
【選択図】 なし
Description
(1)リン脂質の親水部を構成するリン酸エステルより誘導される基を有する第一単位と電子求引性の置換基がカルボニル基に結合してなるカルボン酸誘導基を有する第二単位とを含む高分子物質を表面に有する基板に、DNA伸長用のプライマーとなるDNA鎖を固定化させ、所望する配列を有する鋳型DNA断片または鋳型RNA断片、DNA鎖伸長用酵素系、およびヌクレオチドモノマーを含む試料が導入された液相系を、DNA鎖を熱変性する温度(以下、「熱変性処理温度」という)まで引き上げ、
前記液相系の温度をアニール処理する温度(以下、「アニール処理温度」という)まで下げ、一定の処理温度を保ち、基板上に固定化されたプライマーDNA鎖の伸長と増幅を行うことを特徴とする、DNA鎖増幅方法、
(2)(1)のDNA鎖増幅方法において、前記液相系で、アニール処理してDNA鎖の伸長反応を行うまでに洗浄処理が介在しないことを特徴とするDNA鎖増幅方法、
(3)(1)のDNA鎖増幅方法において、前記鋳型がDNA断片である場合に、前記DNA鎖伸長用酵素系は、DNAポリメラーゼまたはDNAリガーゼのいずれかであることを特徴とするDNA鎖増幅方法、
(4)(1)のDNA鎖増幅方法において、前記鋳型がRNA断片である場合に、前記DNA鎖伸長用酵素系は、逆転写酵素、またはDNAリガーゼおよび逆転写酵素の組合せのいずれかであることを特徴とするDNA鎖増幅方法、
(5)(1)のDNA鎖増幅方法において、前記基板の第一単位に含まれるリン酸エステルより誘導される基は、ホスホリルコリン基、ホスホリルエタノールアミン基、ホスホリルセリン基、ホスホリルイノシトール基、ホスホリルグリセロール基、ホスファチジルホスホリルグリセロール基のいずれかであることを特徴とするDNA鎖増幅方法、
(6)(1)に記載のDNA鎖増幅方法において、
前記、ヌクレオチドモノマーの何れかに標識がなされていることを特徴とするDNA鎖
増幅方法、
である。
前記プライマーは、所定の着目遺伝子の特徴配列を含む塩基配列の一塩基を他の塩基に置き換えたDNA断片であってもよい。
前記プライマーは所定数の塩基配列からなり、各々のプライマーは全組合せのそれぞれの配列を有するDNA断片であってもよい。
前記鋳型DNA断片は、所定のRNAを逆転写酵素で処理して得られるcDNA断片であってもよい。
前記反応系の温度をアニール処理温度まで下げ、一定の処理温度を保つことにより、基板上に固定化されたDNA鎖の伸長反応および増幅を同一の液相系で行うことを特徴としている。
このDNA鎖増幅方法は、リン脂質の親水部を構成するリン酸エステルより誘導される基を有する第一単位と電子求引性の置換基がカルボニル基に結合してなるカルボン酸誘導基を有する第二単位とを含む高分子物質を表面に有する基板に、DNA増幅用のプライマー(以下、「プライマー」という)を固定化させ、所望する配列を有する鋳型DNA断片または鋳型RNA断片、DNA鎖伸長用酵素系、およびヌクレオチドモノマーを含む試料が導入された反応系を、DNA鎖を熱変性する温度まで引き上げこの反応系の温度をアニール処理する温度(以下、「アニール処理温度」という)まで下げ一定温度を保ち、当該反応系でDNA鎖の伸長と増幅反応を行うものである。さらに、これら各処理を同一の液相系で行う。
2−メタクリロイルオキシエトキシエチルホスホリルコリン基および10−メタクリロイルオキシエトキシノニルホスホリルコリン基等の(メタ)アクリロイルオキシアルコキシアルキルホスホリルコリン基;
アリルホスホリルコリン基、ブテニルホスホリルコリン基、ヘキセニルホスホリルコリン基、オクテニルホスホリルコリン基、およびデセニルホスホリルコリン基等のアルケニルホスホリルコリン基;
等の基を有し、ホスホリルコリン基がこれらの基中に含まれている構成とすることができる。
―Cl、−F等のハロゲン;
等の基を有することができる。
下記式(t)に示される酸ハロゲン化物由来の基;
下記式(u)、式(w)に示される活性エステル由来の基;または
下記式(v)に示される活性化アミド由来の基とすることができる。
過酸化ラウロイル、過酸化ベンゾイル、t−ブチルペルオキシネオデカノエート、t−ブチルペルオキシピバレート等の油溶性の有機過酸化物;
などが用いられる。
環状ポリオレフィン;
含フッ素樹脂;
等を用いることができる。上記樹脂の中でも、飽和環状ポリオレフィンは、耐熱性、耐薬品性、低蛍光性、透明性および成形性に特に優れるため、光学的な分析に好適であり、基板の材料として好ましく用いられる。
例えば、(i)基板上の高分子物質に含まれる複数の活性エステル基のうち、少なくとも一部の活性エステル基とプライマーとを反応させて共有結合を形成させることにより、基板表面でプライマーを固定化し、続いて(ii)プライマーを固定化した以外の基板表面の活性エステル基を不活性化する、すなわち残りの活性エステル基を不活性化することにより、プライマーを基板の表面に固定することができる。以下、それぞれの工程について説明する。
を導入することにより、
所定の着目遺伝子の特徴配列を含む塩基配列と相補的な配列を完全マッチ配列とするとき、プライマーをこの完全マッチ配列の一塩基を他の塩基に置き換えることで、SNP解析を行うことが可能になる。なお、プライマーは25塩基以内の長さを有するものを用いることが好ましい。
所定数、例えば6〜10mer、好ましくは8merの塩基配列を有するプライマーを、全組合せ、例えば8merのプライマーを用いた場合には、全組合せである48=65536種類のプライマーを用意して、各々のプライマーがマイクロアレイのひとつのスポットに固定化させることにより、塩基配列決定(SBH)解析を行うことが可能になる。
まず、サンプルを調整および発現プロファイル解析するための従来の方法を示す。
なお、ここでは、aRNAの合成を示しているが、途中の工程で得られるcDNAが解析に十分な量であれば、このcDNAを直接解析してもよい。
マイクロサテライト解析、染色体異常解析(CGH:Comparative Genomic Hybridization)、機能未知(nc)RNA探索などの遺伝子解析用基本ツールへの適用;
などが挙げられる。
以下の手法にて、プライマーを、本実施形態に対応するプラスチックおよびガラス基板、および従来の基板に対応するアルデヒド基板の各基板の表面に固定化して、各基板上でDNA鎖増幅反応を行って、プライマーのDNA鎖増幅反応を検出した。
飽和環状ポリオレフィン樹脂(5−メチル−2ノルボルネンの開環重合体の水素添加物(MFR(Melt flow rate):21g/10分、水素添加率:実質的に100%、熱変形温度123℃)を用い、射出成形によりスライドガラス形状の基板を得た。基板を2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン−ブチルメタクリレート−p−ニトロフェニルオキシカルボニルポリエチレングリコールメタクリレート(NPMA)共重合体(各基は、モル%で25:74:1)の0.5重量%エタノール溶液に浸漬することにより、基板表面にホスホリルコリン基と活性エステル基とを有する高分子物質を導入して、プラスチック基板を得た。
通常のガラス基板を、2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン−ブチルメタクリレート−p−ニトロフェニルオキシカルボニルポリエチレングリコールメタクリレート(NPMA)共重合体(各基は、モル%で25:74:1)の0.5重量%エタノール溶液に浸漬することにより、基板表面にホスホリルコリン基と活性エステル基とを有する高分子物質を導入して、ガラス基板を得た。
飽和環状ポリオレフィン樹脂5−メチル−2−ノルボルネンの開環重合体の水素添加物(MFR:21g/10分、水素添加率:実質的に100%、熱変形温度温度:123℃)を用い、射出成形によりスライドグラス形状の基板を得た。この成形物に低温酸素プラズマ処理により表面に親水化処理を施した。次に、アミノアルキルシランとしてγ−アミノプロピルトリエトキシシランをメタノール中に5%の濃度で溶解させたものをアミノ基導入処理液として調製し、この溶液の中に2時間浸漬の後、基板を溶液から取り出し、超純水中に浸漬し放置後基板を取り出し乾燥した。グルタルアルデヒドをPBS(−)中に2%の濃度で溶解させてグルタルアルデヒド溶液を調製し、アミノアルキルシラン処理を行なった基板をグルタルアルデヒド溶液中に浸漬し、4時間放置した後、基板を取り出して超純水中に浸漬し、洗浄乾燥した。これにより、表面にアルデヒド基を有するアルデヒド基板が得られた。
5’末端がアミノ基で修飾されたオリゴDNA(20塩基鎖)を0.25M炭酸バッファ(pH9.0)を用いて溶解し、10μMのオリゴDNA溶液を調製した。この溶液をスポッタ(日立ソフトウェアーエンジニアリング製Marks-I)を用い、100μm径クロスカットピンでプラスチック基板およびガラス基板、およびアルデヒド基板の表面上に、それぞれスポットした。オリゴDNAをスポットした各基板を、200μlの0.25Mリン酸バッファ(pH8.5)で内部を湿らせた密閉容器(10cm×15cm×3cm)中で一昼夜浸して、オリゴDNA(プライマー)を固定化させた。
導入する鋳型DNA断片として、所定の50merの、予め5’末端をCy5にて標識したDNA断片を用いて、鋳型DNA断片の濃度が100pMとなるような反応系とした。また、DNA鎖伸長用酵素系として、DNAポリメラーゼ(タカラバイオ株式会社製Ex Taq)を用いた。
Claims (6)
- リン脂質の親水部を構成するリン酸エステルより誘導される基を有する第一単位と電子求引性の置換基がカルボニル基に結合してなるカルボン酸誘導基を有する第二単位とを含む高分子物質を表面に有する基板に、DNA伸長用のプライマーとなるDNA鎖を固定化させ、所望する配列を有する鋳型DNA断片または鋳型RNA断片、DNA鎖伸長用酵素系、およびヌクレオチドモノマーを含む試料が導入された液相系を、DNA鎖を熱変性する温度(以下、「熱変性処理温度」という)まで引き上げ、
前記液相系の温度をアニール処理する温度(以下、「アニール処理温度」という)まで下げ、一定の処理温度を保ち、基板上に固定化されたプライマーDNA鎖の伸長と増幅を行うことを特徴とする、DNA鎖増幅方法。 - 請求項1に記載のDNA鎖増幅方法において、
前記液相系で、アニール処理してDNA鎖の伸長反応を行うまでに洗浄処理が介在しないことを特徴とするDNA鎖増幅方法。 - 請求項1に記載のDNA鎖増幅方法において、
前記鋳型がDNA断片である場合に、前記DNA鎖伸長用酵素系は、DNAポリメラーゼまたはDNAリガーゼのいずれかであることを特徴とするDNA鎖増幅方法。 - 請求項1に記載のDNA鎖増幅方法において、
前記鋳型がRNA断片である場合に、前記DNA鎖伸長用酵素系は、逆転写酵素、またはDNAリガーゼおよび逆転写酵素の組合せのいずれかであることを特徴とするDNA鎖増幅方法。 - 請求項1に記載のDNA鎖増幅方法において、
前記基板の第一単位に含まれるリン酸エステルより誘導される基は、ホスホリルコリン基、ホスホリルエタノールアミン基、ホスホリルセリン基、ホスホリルイノシトール基、ホスホリルグリセロール基、ホスファチジルホスホリルグリセロール基のいずれかであることを特徴とするDNA鎖増幅方法。 - 請求項1に記載のDNA鎖増幅方法において、
前記、ヌクレオチドモノマーの何れかに標識がなされていることを特徴とするDNA鎖
増幅方法。
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