JP2007063574A5 - - Google Patents

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  1. TiO 、Ta 、ZnS、ZrO 又はAl のいずれかからなる高屈折率層とSiO からなる低屈折率層とを交互に積層してなる多層膜の成膜方法であって、
    プラズマを用いない通常蒸着により少なくとも1層の低屈折率層を形成するステップ、及び、
    プラズマを用いた蒸着により少なくとも1層の高屈折率層を形成するステップ
    からなり、
    基板上にn(n≧2)層の該多層膜を積層する場合に、さらに、
    該基板からみて最外層となる第n層を、該第n層が該低屈折率層であるか該高屈折率層であるかにかかわらず、該プラズマを用いた蒸着により形成するステップを含むことを特徴とする成膜方法。
  2. 請求項1記載の成膜方法であって、さらに、
    該基板に接する第1層を、該第1層が該低屈折率層であるか該高屈折率層であるかにかかわらず、該プラズマを用いた蒸着により形成するステップを含むことを特徴とする成膜方法。
  3. 基板及び該基板上に請求項1又は2記載の成膜方法によって形成された多層膜からなる光学部品。
  4. 受光部(基板)を有する光学製品であって、該受光部に請求項1又は2記載の成膜方法によって多層膜形成されたことを特徴とする光学製品。
  5. 多層膜の成膜装置であって、
    プラズマを用いない通常蒸着を行う第1の成膜手段、プラズマを用いた蒸着を行う第2の成膜手段、および、予め入力された成膜プログラムに基づいて通常蒸着による成膜とプラズマを用いた蒸着による成膜とを切り換える制御装置を備え、
    SiO からなる少なくとも1層の低屈折率層が該第1の成膜手段によって形成され、
    TiO 、Ta 、ZnS、ZrO 又はAl のいずれかからなる少なくとも1層の高屈折率層が該第2の成膜手段によって形成され
    基板上にn(n≧2)層の該多層膜が積層される場合に、
    該基板からみて最外層となる第n層が該低屈折率層であるか該高屈折率層であるかにかかわらず、該第n層が該プラズマを用いた蒸着により形成されること特徴とする成膜装置。
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