JP2016528550A - 多層吸収性ワイヤグリッド偏光子 - Google Patents

多層吸収性ワイヤグリッド偏光子 Download PDF

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Abstract

ワイヤグリッド偏光子（１０、２０、３０、４０、５０、６０、７０、８０、９０、１００）は、基板（１１）の上に配置された、互いに平行な細長い複数の第１のリブグループ（１４）のアレイを備える。それぞれの第１のリブグループは、中央の第１の透過性リブ（１２）と、第１の透過性リブのそれぞれの側に沿って配置された第１のワイヤを含む複数の第１のワイヤ（１３）の組を有し得る。第１の誘電体材料（１６）は、それぞれのリブグループと隣接するリブグループとの間の複数の第１の間隙を、十分に充填し得る。互いに平行な細長い複数の第２のワイヤ（１５）のアレイは、複数のリブグループと第１の誘電体材料の上に配置され得る。複数の第１のワイヤ又は複数の第２のワイヤは、吸収性を有し、複数の第１のワイヤ又は複数の第２のワイヤの他方は、反射性を有し得る。

Description

本願は、概して、ワイヤグリッド偏光子に関する。
ワイヤグリッド偏光子は、一方の偏光が偏光子を通過することを可能にし、かつ反対の偏光を反射又は吸収することによって、光を偏光するために用いられ得る。簡潔にするために、主に透過する偏光はｐ偏光と呼ばれ、主に反射または吸収する偏光はｓ偏光と呼ばれる。いくつかの用途、例えば、反射が画像や他の使用目的を妨害し得る場合などでは、ｓ偏光の吸収が好ましい。透過性パネルシステムにおいて、反射光はＬＣＤイメージャに戻り、損傷や画質劣化の原因となり得るか、又は迷光が画面に到達してコントラストを低下させ得る。理想的な選択吸収性ワイヤグリッド偏光子は、全てのｐ偏光を透過させ、全てのｓ偏光を選択的に吸収する。実際には、透過するｓ偏光もあれば、反射するｓ偏光もあり、吸収されるｐ偏光もあれば、反射するｐ偏光もある。
選択吸収性ワイヤグリッド偏光子の有効性は、ｐ偏光の高い透過率、ｓ偏光の高い吸収率、及び高いコントラストによって定量化され得る。コントラストは、透過したｐ偏光の割合（Ｔｐ）を透過したｓ偏光の割合（Ｔｓ）で割ったものに等しい。つまり、コントラスト＝Ｔｐ／Ｔｓとなる。
赤外光、可視光、及び紫外光用のワイヤグリッド偏光子では、効果的な偏光のために、ナノメートル又はマイクロメートルのサイズ及びピッチなど、複数の細いワイヤを小さいピッチで有することが重要であり得る。概して、偏光される光の波長の半分より小さいピッチが、効果的な偏光に必要とされる。より小さいピッチによって、コントラストが向上し得る。従って、小さいピッチは、ワイヤグリッド偏光子の重要な特徴になり得る。十分に小さいピッチのワイヤグリッド偏光子の製造は難しく、これが本分野の研究目標である。
細いワイヤは、扱い方によって、また複数の環境条件によって損傷を受け得る。ワイヤの保護は、ワイヤグリッド偏光子において重要であり得る。従って、ワイヤグリッド偏光子の耐久性は、別の重要な特徴である。
例えば、米国特許第５，９９１，０７５号、同第６，２８８，８４０号、同第６，６６５，１１９号、同第７，６３０，１３３号、同第７，６９２，８６０号、同第７，８００，８２３号、同第７，９６１，３９３号、及び同第８，４２６，１２１号、米国特許公開第２００８／００５５７２３号、同第２００９／００４１９７１号、及び同第２００９／００５３６５５号、２０１１年１２月１５日に出願された米国特許出願第１３／３２６，５６６号、１９８１年１１月／１２月のＪ．Ｖａｃ．Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈｎｏｌ．１９（４）におけるＤ．Ｃ．Ｆｌａｎｄｅｒｓによる「Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ ｏｆ １００ Ａ ｌｉｎｅｗｉｄｔｈ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅｓ ｆａｂｒｉｃａｔｅｄ ｂｙ ｓｈａｄｏｗｉｎｇ ｔｅｃｈｎｉｑｕｅｓ」、並びに１９８３年３月１５日のＡｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．４２（６）４９２〜４９４ページにおけるＤａｌｅ Ｃ．Ｆｌａｎｄｅｒｓによる「Ｓｕｂｍｉｃｒｏｎ ｐｅｒｉｏｄｉｃｉｔｙ ｇｒａｔｉｎｇｓ ａｓ ａｒｔｉｆｉｃｉａｌ ａｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃ ｄｉｅｌｅｃｔｒｉｃｓ」を参照されたい。
一方の偏光に対する高い透過率、反対の偏光に対する高い吸収率、高いコントラスト、及び小さいピッチを有した、耐久性のある選択吸収性ワイヤグリッド偏光子を提供することが有利になることが認識されていた。本発明は、これらの要求を満たすワイヤグリッド偏光子、及びワイヤグリッド偏光子を作成する方法に関する。様々な実施形態のそれぞれは、これらの要求の１つ、いくつか、又は全てを満たし得る。
ワイヤグリッド偏光子は、透過性基板の上に配置された、互いに平行な細長い複数の第１のリブグループのアレイを備え、それぞれの第１のリブグループは、中央の第１の透過性リブと、第１の透過性リブのそれぞれの側に沿って配置された第１のワイヤを含む複数の第１のワイヤの組とを有し得る。第１の誘電体材料は、それぞれの第１のリブグループと隣接する第１のリブグループとの間の第１の間隙を、十分に充填し得る。互いに平行な細長い複数の第２のワイヤのアレイは、複数の第１のリブグループと第１の誘電体材料の上に配置され得る。複数の第１のワイヤ又は複数の第２のワイヤは、吸収性を有し得て、他方は反射性を有し得る。
ワイヤグリッド偏光子を作成する第１の方法は、
１．基板の上に配置された互いに平行な細長い複数の第１の透過性リブのアレイを有する、透過性基板を提供する段階と、
２．基板及び複数の第１の透過性リブを第１のコーティングでコンフォーマルコーティングするとともに、複数の第１の透過性リブの間に、固形物のない複数の第１の間隙を維持する段階と、
３．第１のコーティングをエッチングして、複数の水平部分を取り除き、複数の第１の透過性リブの複数の側に沿って鉛直の複数の第１のワイヤを残し、それぞれが第１の透過性リブをはさむ複数の第１のワイヤの組を有する複数の第１のリブグループを形成する段階と、
４．複数の第１の間隙を第１の誘電体材料で埋め戻す段階と、
５．複数の第１のリブグループの上方に十分に、平坦な平面状の上端面を形成する段階と、
６．上端面の上に連続薄膜の上層材料を設ける段階と、
７．上層材料の薄膜をエッチングして、上端面の上に配置された互いに平行な細長い複数の第２のワイヤのアレイを形成する段階とを備え得る。ここで複数の第１のワイヤ又は複数の第２のワイヤは入射光を吸収し、他方は入射光を反射する。
ワイヤグリッド偏光子を作成する第２の方法は、第１の方法の１〜４の段階に加え、以下の複数の追加の段階、
５．複数の第１のリブグループの上方に十分に平坦な平面状の上端面を形成する段階と、
６．上端面をエッチングして、互いに平行な細長い複数の第２の透過性リブのアレイを形成する段階と、
７．複数の第２の透過性リブを第２のコーティングでコンフォーマルコーティングするとともに、複数の第２の透過性リブの間に、固形物のない複数の第２の間隙を維持する段階と、
８．第２のコーティングをエッチングして、複数の水平部分を取り除き、複数の第２の透過性リブの複数の側に沿って鉛直の複数の第２のワイヤを残して、それぞれが第２の透過性リブをはさむ複数の第２のワイヤの組を有する複数の第２のリブグループを形成する段階とを備え得る。ここで、複数の第１のワイヤ又は複数の第２のワイヤは入射光を吸収し、他方は入射光を反射する。
本発明の一実施形態に従うワイヤグリッド偏光子１０の側断面概略図であり、ワイヤグリッド偏光子１０は、互いに平行な細長い複数の第１のリブグループ１４のアレイと、複数の第１のリブグループ１４の間の複数の第１の間隙１１７（図１１〜図１３を参照）を十分に充填して、複数の第１の誘電体リブ１６ａを形成し、また複数の第１の間隙１１７から、複数の第１のリブグループ１４の上端の上方及び上にさらに延在して、第１の誘電体上層１６ｂを形成する第１の誘電体材料１６と、複数の第１のリブグループ１４、複数の第１の誘電体リブ１６ａ、及び第１の誘電体上層１６ｂの上に配置された、互いに平行な細長い複数の第２のワイヤ１５のアレイとを有する。
本発明の一実施形態に従うワイヤグリッド偏光子２０の側断面概略図であり、ワイヤグリッド偏光子２０は、互いに平行な細長い複数の第１のリブグループ１４のアレイと、複数の第１のリブグループ１４の間の複数の第１の間隙１１７（図１１〜図１３を参照）を十分に充填し、複数の第１の誘電体リブ１６ａを形成する第１の誘電体材料１６と、複数の第１のリブグループ１４及び複数の第１の誘電体リブ１６ａの上に配置された、互いに平行な細長い複数の第２のワイヤ１５のアレイとを有する。
本発明の一実施形態に従うワイヤグリッド偏光子３０の側断面概略図であり、ワイヤグリッド偏光子３０は、互いに平行な細長い複数の第１のリブグループ１４のアレイと、複数の第１のリブグループ１４の間の複数の第１の間隙１１７（図１１〜図１３を参照）を十分に充填して、複数の第１の誘電体リブ１６ａを形成し、さらに複数の第１の間隙１１７から、複数の第１のリブグループ１４の上端の上方及び上に延在して透過性の誘電体層１６ｃを形成する第１の誘電体材料１６であって、透過性誘電体層１６ｃの第１の誘電体材料１６とは異なる材料を含む、複数の誘電体リブ１６ａの第１の誘電体材料１６と、複数の第１のリブグループ１４の上及び透過性誘電体層１６ｃの上端面１６ｔ上に配置された、互いに平行な細長い複数の第２のワイヤ１５のアレイとを有する。
図１〜図３および図６〜図１０に示されたワイヤグリッド偏光子のうち１つと類似する、本発明の一実施形態に従うワイヤグリッド偏光子４０の側断面概略図であり、ここでは、複数の第１のワイヤ１３は複数の吸収性ワイヤ４３であり、複数の第２のワイヤ１５は複数の反射性ワイヤ４５である。
図１〜図３および図６〜図１０に示されたワイヤグリッド偏光子のうち１つと類似する、本発明の一実施形態に従うワイヤグリッド偏光子５０の側断面概略図であり、ここでは、複数の第１のワイヤ１３は複数の反射性ワイヤ４５であり、複数の第２のワイヤ１５は複数の吸収性ワイヤ４３である。
図１〜図５の実施形態のうち１つと類似する、本発明の一実施形態に従うワイヤグリッド偏光子６０の側断面概略図であり、ワイヤグリッド偏光子６０は、複数の第２のワイヤ１５の間の複数の第２の間隙１７（図１〜図５を参照）を十分に充填して、複数の第２の誘電体リブ６６ａを形成し、また複数の第２の間隙１７から、複数の第２のワイヤ１５の上端の上方及び上にさらに延在して、第２の誘電体上層６６ｂを形成する第２の誘電体材料６６をさらに有する。
図６は、本発明の一実施形態に従うワイヤグリッド偏光子を作成するための第１の方法の第８の段階、つまり、複数の第２の間隙１７と複数の第２のワイヤ１５の上方を第２の誘電体材料６６で埋め戻す段階の側断面概略図でもある。
図１〜図５の実施形態のうち１つと類似する、本発明の一実施形態に従うワイヤグリッド偏光子７０の側断面概略図であり、ワイヤグリッド偏光子７０は、複数の第２のワイヤ１５の間の複数の第２の間隙１７（図１〜図５を参照）を十分に充填し、複数の第２の誘電体リブ６６ａを形成する第２の誘電体材料６６をさらに有する。
図７は、本発明の一実施形態に従うワイヤグリッド偏光子を作成するための第１の方法の第９の段階、つまり、第２の誘電体材料６６をエッチングして、分離した複数の第２の誘電体リブ６６ａを形成する段階の側断面概略図でもある。
複数の第２のワイヤ１５が、中央の第２の透過性リブ８２と、第２の透過性リブ８２のそれぞれの側に沿って配置された第２のワイヤ１５とを、それぞれ有する互いに平行な細長い複数の第２のリブグループ８４のアレイの一部である点を除いて、図１〜図５に示された実施形態のうち１つと類似する、本発明の一実施形態に従うワイヤグリッド偏光子８０の側断面概略図である。
ワイヤグリッド偏光子８０と類似する、本発明の一実施形態に従うワイヤグリッド偏光子９０の側断面概略図であり、ワイヤグリッド偏光子９０は、複数の第２のリブグループ８４の間の複数の第２の間隙１７（図８を参照）を十分に充填して、複数の第２の誘電体リブ６６ａを形成し、また複数の第２の間隙１７から、複数の第２のリブグループ８４の上端の上方及び上にさらに延在して、第２の誘電体上層６６ｂを形成する第２の誘電体材料６６をさらに有する。
ワイヤグリッド偏光子８０と類似する本発明の一実施形態に従うワイヤグリッド偏光子１００の側断面概略図であり、ワイヤグリッド偏光子１００は、複数の第２のリブグループ８４の間の複数の第２の間隙１７（図８を参照）を十分に充填して、複数の第２の誘電体リブ６６ａを形成する第２の誘電体材料６６をさらに有する。
本発明の一実施形態に従うワイヤグリッド偏光子を作成するための第１の方法又は第２の方法に適用可能な第１の段階、つまり、基板１１の上に配置された互いに平行な細長い複数の第１の透過性リブ１２のアレイを有する透過性基板１１を提供する段階の側断面概略図である。
本発明の一実施形態に従うワイヤグリッド偏光子を作成するための第１の方法又は第２の方法に適用可能な第２の段階、つまり、基板１１及び複数の第１の透過性リブ１２を第１のコーティング１２３でコンフォーマルコーティングするとともに、複数の第１の透過性リブ１２の間に固形物のない複数の第１の間隙１１７を維持する段階の側断面概略図である。
本発明の一実施形態に従うワイヤグリッド偏光子を作成するための第１の方法又は第２の方法に適用可能な第３の段階、つまり、第１のコーティング１２３をエッチングして、複数の水平部分１２１を取り除き、複数の第１の透過性リブ１２の複数の側１２ｓに沿って鉛直の複数の第１のワイヤ１３を残し、第１の透過性リブ１２をはさむ複数の第１のワイヤ１３の組をそれぞれが有する複数の第１のリブグループ１４を形成する段階の側断面概略図である。
本発明の一実施形態に従うワイヤグリッド偏光子を作成するための第１の方法又は第２の方法における、第４及び／又は第５の段階、つまり、複数の第１の間隙１１７及び複数の第１のリブグループ１４の上方を、第１の誘電体材料１６で埋め戻し、複数の第１のリブグループ１４の上方に十分に平坦で平面状の上端面１６ｔを形成する段階に関する側断面概略図である。
本発明の一実施形態に従うワイヤグリッド偏光子を作成するための第１の方法又は第２の方法における、第４及び／又は第５の段階、つまり、第１の誘電体材料１６をエッチングして、１つの第１の間隙１１７中の第１の誘電体リブ１６ａが隣接する第１の間隙１１７中の第１の誘電体リブから分離した状態で、分離した複数の第１の誘電体リブ１６ａを形成し、複数の第１のリブグループ１４及び複数の第１の誘電体リブの上方に十分に平坦な平面状の上端面１６ｔを形成する段階に関する側断面概略図である。
本発明の一実施形態に従うワイヤグリッド偏光子を作成するための第１の方法又は第２の方法に適用可能な第４及び／又は第５の段階、つまり、複数の第１のリブグループ１４及び複数の第１の誘電体リブ１６ａの上に透過性誘電体層１６ｃを設けて、透過性誘電体層１６ｃの材料で、十分に平坦な平面状の上端面１６ｔを形成する段階に関する側断面概略図である。
本発明の一実施形態に従うワイヤグリッド偏光子を作成するための第１の方法の第６の段階、つまり、第１の誘電体材料１６の上端面１６ｔの上に、連続薄膜の上層材料１７５を設ける段階の側断面概略図である。
本発明の一実施形態に従うワイヤグリッド偏光子を作成するための第１の方法の第７の段階、つまり、連続薄膜の上層材料１７５をエッチングして、上端面１６ｔの上に配置された互いに平行な細長い複数の第２のワイヤ１５のアレイを形成する段階の側断面概略図である。
本発明の一実施形態に従うワイヤグリッド偏光子を作成するための第２の方法の第６の段階、つまり、上端面１６ｔをエッチングして、互いに平行な細長い複数の第２の透過性リブ８２のアレイを形成する段階の側断面概略図である。
本発明の一実施形態に従うワイヤグリッド偏光子を作成するための第２の方法の第７の段階、つまり、複数の第２の透過性リブ８２を第２のコーティング２０３でコンフォーマルコーティングするとともに、複数の第２の透過性リブ８２の間に、固形物のない複数の第２の間隙１７を維持する段階の側断面概略図である。
本発明の一実施形態に従うワイヤグリッド偏光子を作成するための第２の方法の第８の段階、つまり、第２のコーティング２０３をエッチングして、複数の水平部分２０１を取り除き、複数の第２の透過性リブ８２の複数の側８２ｓに沿って鉛直の複数の第２のワイヤ１５を残し、第２の透過性リブ８２をはさむ複数の第２のワイヤ１５の組をそれぞれが有する複数の第２のリブグループ８４を形成する段階の側断面概略図である。
本発明の一実施形態に従うワイヤグリッド偏光子を作成するための第２の方法の第９の段階、つまり、複数の第２の間隙１７を第２の誘電体材料６６で埋め戻し、また複数の第２のリブグループ８４の上方に第２の誘電体材料６６を延在させる段階の側断面概略図である。
本発明の一実施形態に従うワイヤグリッド偏光子を作成するための第２の方法の第１０の段階、つまり、第２の誘電体材料６６をエッチングして、１つの第２の間隙１７中の第２の誘電体リブ６６ａが隣接する第２の間隙１７中の第２の誘電体リブ６６ａから分離した状態で、分離した複数の第２の誘電体リブ６６ａを形成する段階の側断面概略図である。
参照番号
１１：基板
１２：第１の透過性リブ
１２ｓ：第１の透過性リブの側
１３：第１のワイヤ
１４：第１のリブグループ
１５：第２のワイヤ
１６：第１の誘電体材料
１６ａ：第１の誘電体リブ
１６ｂ：第１の誘電体上層
１６ｃ：透過性誘電体層
１６ｔ：上端面
１７：第２の間隙
４３：吸収性ワイヤ
４５：反射性ワイヤ
６６：第２の誘電体材料
６６ａ：第２の誘電体リブ
６６ｂ：第２の誘電体上層
８２：第２の透過性リブ
８２ｓ：第２の透過性リブの側
８４：第２のリブグループ
１１７：第１の間隙
１２１：第１のコーティングの水平部分
１２３：第１のコーティング
１７５：上層材料
２０１：第２のコーティングの水平部分
２０３：第２のコーティング
Ｐ１２：第１の透過性リブのピッチ
Ｐ１３：第１のワイヤのピッチ
Ｐ１５：第２のワイヤのピッチ
Ｐ８２：第２の透過性リブのピッチ
Ｔｈ１：第１のワイヤの厚さ
Ｔｈ２：第２のワイヤの厚さ
Ｗ１３：第１のワイヤの幅
Ｗ１５：第２のワイヤの幅
Ｗ１２３：第１のコーティングの幅
Ｗ２０３：第２のコーティングの幅
定義
複数の光学構造に用いられる多くの材料は、ある程度の光を吸収し、ある程度の光を反射し、またある程度の光を透過する。以下の複数の定義は、主に吸収性、主に反射性、又は主に透過性を有する複数の材料又は複数の構造の間を区別することが意図されている。
１．本明細書に用いられたように、「吸収性」という用語は、対象波長の光を十分に吸収することを意味する。
（ａ）材料が「吸収性」を有するか否かは、偏光子に用いられる他の複数の材料と相対的である。従って、吸収性構造は、反射性構造又は透過性構造よりも十分に吸収する。
（ｂ）材料が「吸収性」を有するか否かは、対象波長に依存する。材料は、１つの波長範囲において吸収性を有し得るが、別の波長範囲においては吸収性を有しないことがある。
（ｃ）１つの態様において、吸収性構造は、４０％を上回る対象波長の光を吸収し、６０％を下回る対象波長の光を反射し得る（吸収構造は光学的に厚いフィルム、すなわち表皮の厚さより厚いと仮定する）。
２．本明細書に用いられたように、「反射性」という用語は、対象波長において十分に光を反射することを意味する。
（ａ）材料が「反射性」を有するか否かは、偏光子に用いられる他の複数の材料と相対的である。従って、反射性構造は、吸収性構造又は透過性構造よりも十分に反射する。
（ｂ）材料が「反射性」を有するか否かは、対象波長に依存する。材料は、１つの波長範囲において反射性を有し得るが、別の波長範囲においては反射性を有しないことがある。いくつかの波長範囲では、複数の高反射性材料が効果的に利用され得る。他の複数の波長範囲、特に、材料劣化が生じる可能性がより高い低波長側では、材料の選択がより限られるので、光学設計者は、所望するより低い反射率の材料を受け入れる必要があり得る。
（ｃ）１つの態様において、反射性構造は、８０％を上回る対象波長の光を反射し、２０％を下回る対象波長の光を吸収し得る（反射性構造は光学的に厚いフィルム、すなわち表皮の厚さより厚いと仮定する）。
３．本明細書に用いられたように、「透過性」という用語は、対象波長の光に対して十分に透過性を有することを意味する。
（ａ）材料が「透過性」を有する否かは、偏光子に用いられる他の複数の材料と相対的である。従って、透過性構造は、吸収性構造又は反射性構造よりも十分に透過する。
（ｂ）材料が「透過性」を有するか否かは、対象波長に依存する。材料は、１つの波長範囲において透過性を有し得るが、別の波長範囲においては透過性を有しないことがある。
（ｃ）１つの態様において、透過性構造は、９０％を上回る対象波長の光を透過し、１０％を下回る対象波長の光を吸収し得る。
４．これらの定義に用いられたように、「材料」という用語は、特定の構造の全体的な材料を指す。従って、「吸収性」の構造は、材料が反射性又は透過性の成分をいくらか含み得るとしても、全体として十分に吸収性を有する材料で作成される。従って、例えば、光を十分に吸収するように、十分な量の吸収性材料で作成されたリブは、その中に埋め込まれた反射性又は透過性の材料をいくらか含んでいるとしても、吸収性リブである。
５．本明細書に用いられたように、「光」という用語は、Ｘ線、紫外線、可視光線、及び／又は赤外線、又は電磁スペクトルの他の複数の領域における、光又は電磁放射を意味する。
図１に例示されたように、ワイヤグリッド偏光子１０が示され、基板１１の上に配置された、互いに平行な細長い複数の第１のリブグループ１４のアレイを有する透過性基板１１を備える。それぞれの第１のリブグループ１４は、中央の第１の透過性リブ１２と、第１の透過性リブ１２のそれぞれの側に沿って配置された第１のワイヤ１３を含む複数の第１のワイヤ１３の組とを有し得る。複数の第１のワイヤ１３のそれぞれの組は、これらの間にはさまれた中央の第１の透過性リブ１２に直接接触する。または、複数の第１のワイヤ１３のそれぞれの組と、中央の第１の透過性リブ１２との間に配置された別の材料があってもよい。
第１の誘電体材料１６は、それぞれの第１のリブグループ１４と、隣接する第１のリブグループ１４との間の複数の第１の間隙１１７（図１１〜図１３を参照）を十分に充填し得る。第１の誘電体材料１６の全て又は複数の部分は、透過性を有し得る。互いに平行な細長い複数の第２のワイヤ１５のアレイは、複数の第１のリブグループ１４及び第１の誘電体材料１６の上に配置され得る。複数の第２のワイヤ１５の間に、互いに平行な細長い複数の第２の間隙１７が存在し得る。複数の第２の間隙１７は、複数の第２のワイヤ１５のそれぞれの側１５ｓに接して配置され得る。複数の第２の間隙１７は、それぞれの側１５ｓに接して、第２のワイヤ１５を隣接する複数の第２のワイヤ１５から分離し得る。複数の第２の間隙１７は、固形物のない状態であり得て、空気又は真空で充填され得る。代わりに、図６〜図７のワイヤグリッド偏光子６０及び７０を参照して以下で論じられるように、別の材料が複数の第２の間隙１７を充填し得る。
複数の第１の透過性リブ１２は、基板１１をエッチングして複数の第１の透過性リブ１２を形成することによって、基板１１と同じ材料と一体になり得て、基板１１と同じ材料で形成され得る。代わりに、例えば、基板１１上に透過性層を堆積し、次にエッチングして複数の第１の透過性リブ１２を形成するなどによって、複数の第１の透過性リブ１２が基板１１の上端の上に形成され得る。いずれの場合でも、複数の第１の透過性リブ１２は、例えば、レジストをパターニングしてエッチングするなどの標準的なリソグラフィ技術によって、形成され得る。
ピッチＰ１３が非常に小さい、又は隣接する複数の第１のワイヤ１３間の距離が非常に短いことが有益であり得る。複数の第１の透過性リブ１２のピッチＰ１２は、現在のリソグラフィ技術によって制限され得るが、本発明は、２つの第１のワイヤ１３を第１の透過性リブ１２毎に作成し、また複数の第１のワイヤのピッチＰ１３を、複数の第１の透過性リブ１２のピッチＰ１２と比較して実質的に約半分に区切る方法を説明する。複数の第１の透過性リブ１２のピッチＰ１２は、例えば１つの態様では２００ナノメートル未満、別の態様では１５０ナノメートル未満、又は別の態様では１１０ナノメートル未満であり得るが複数の第１のワイヤ１３のピッチＰ１３は、これらの数値の約半分になり得る。
本明細書に説明されたワイヤグリッド偏光子は、比較的高アスペクト比（第１のワイヤの厚さＴｈ１を第１のワイヤの幅Ｗ１３で割った値）の第１のワイヤ１３で作成され得る。モデリングによって、アスペクト比が８〜６０の第１のワイヤ１３で良好な偏光特性が示された。モデリングによって、幅Ｗが５〜２０ｎｍ、厚さＴｈ１が１５０〜３００ｎｍの第１のワイヤ１３で、可視スペクトルにおいて良好な偏光特性が示された。複数の第１のワイヤ１３は、複数の透過性リブのそれぞれの側１２ｓに沿って、実質的に、複数の透過性リブの下端から、複数の透過性リブの上端に延在し得る。
第２のワイヤ１５は、上端面１６ｔの上に、又は上端面１６ｔに直接配置され得る。図１及び図３に示されたように、上端面１６ｔは、第１の誘電体材料１６のみであり得る、又は図２に示されように、上端面１６ｔは、複数の第１のリブグループ１４の上端、及び第１の誘電体材料１６の複数の第１の誘電体リブ１６ａの上端であり得る。
図１のワイヤグリッド偏光子１０に示されたように、第１の誘電体材料１６は、複数の第１の間隙１１７から、複数の第１のリブグループ１４の上端の上方及び上に延在し得る。従って、第１の誘電体材料１６は、複数の第１のリブグループ１４と、複数の第１のリブグループ１４の上方の第１の誘電体上層１６ｂとの間に、複数の第１の誘電体リブ１６ａを含み得る。第１の誘電体材料１６は、十分に平坦な平面状の上端面１６ｔを有し得る。複数の第２のワイヤ１５は、上端面１６ｔ上に配置され得る。
第１の誘電体上層１６ｂは、複数の第２のワイヤ１５を形成する前に、エッチングされ得て、複数の第１のリブグループ１４の上端までエッチングされ得る。次に、複数の第２のワイヤ１５が、複数の第１のリブグループ１４の上端、及び複数の第１の誘電体リブ１６ａの上端を有する上端面１６ｔ上に形成され得る。従って、図２のワイヤグリッド偏光子２０に示されたように、１つの第１の間隙１１７中の第１の誘電体リブ１６ａを隣接する第１の間隙１１７中の第１の誘電体リブ１６ａから分離した状態で、第１の誘電体材料１６は、分離した複数の第１の誘電体リブ１６ａを形成し得る。「分離」とは、それぞれの第１の誘電体リブ１６ａが、同じ材料によって、隣接する第１の誘電体リブ１６ａに結合されていないことを意味する。
また、複数の第１の誘電体リブ１６ａは、１つの第１の間隙１１７中の第１の誘電体リブ１６ａを隣接する第１の間隙中の第１の誘電体リブ１６ａから分離している状態で、図３のワイヤグリッド偏光子３０において互いに分離している。ワイヤグリッド偏光子２０と３０との間の差は、偏光子３０において、透過性誘電体層１６ｃが、（ｉ）複数の第１のリブグループ１４の上端、及び複数の第１の誘電体リブ１６ａの上端と、（ｉｉ）複数の第２のワイヤ１５の下端との間に配置されていることである。透過性誘電体層１６ｃは、十分に平坦な平面状の上端面１６ｔを有し得る。
ワイヤグリッド偏光子３０を作成すべく、複数の第２のワイヤ１５を形成する前に、第１の誘電体上層１６ｂがエッチングされ得て、複数の第１のリブグループ１４の上端までエッチングされ得る。次に、例えば化学的気相成長、物理的気相成長、又はスピンオンなどによって、透過性誘電体層１６ｃが設けられる。次に、複数の第２のワイヤ１５が、透過性誘電体層１６ｃの上端面１６ｔ上に形成され得る。
透過性誘電体層１６ｃは、いくつかの設計において、光学特性の変更又は構造的強度の増強を要求され得る。透過性誘電体層１６ｃの厚さは、最適な光学特性に合わせて調節され得る。
偏光子１０、２０、又は３０の選択は、例えば波長範囲に対する所要のＴｐ、Ｔｓ、Ｒｓ、用いられる複数の材料、複数の耐久性要件、及び製造コストなど、全体的な性能要件に基づいて成される。偏光子１０は、偏光子２０及び３０を作成するのに要求されるよりも、製造工程が少ないという利点を有し得る。偏光子２０及び３０は、互いに分離した複数の第１の誘電体リブ１６ａを有するという利点を有し得る。複数の第１の誘電体リブ１６ａのそのような分離で、これらリブは偏光に影響を及ぼし得る。例えば、複数の第１の誘電体リブ１６ａは吸収性を有し得て、１つの光の偏光を選択的に吸収すべく、用いられ得る。
複数の第１のワイヤ１３又は複数の第２のワイヤ１５は、吸収性（複数の吸収性ワイヤ４３）を有し得て、複数の第１のワイヤ１３又は複数の第２のワイヤ１５の他方は、反射性（複数の反射性ワイヤ４５）を有し得る。複数の反射性ワイヤ４５は、入射光の偏光を生じさせ得て、複数の吸収性ワイヤは、入射光の１つの偏光の反射よりはむしろ吸収を生じさせる（従って選択的に吸収）。
図４のワイヤグリッド偏光子４０に示されたように、複数の第１のワイヤ１３は複数の吸収性ワイヤ４３であり得て、複数の第２のワイヤ１５は複数の反射性ワイヤ４５であり得る。図５のワイヤグリッド偏光子５０に示されたように、複数の第１のワイヤ１３は複数の反射性ワイヤ４５であり得て、複数の第２のワイヤ１５は複数の吸収性ワイヤ４３であり得る。複数の第１のワイヤ１３又は複数の第２のワイヤ１５が、複数の反射性ワイヤ４５又は複数の吸収性ワイヤ４３か否かは、複数の反射性ワイヤ４５及び複数の吸収性ワイヤ４３の所望のピッチ、入射光の方向、及び全体的な構成材料などの要因に依存し得る。
図６のワイヤグリッド偏光子６０に示されたように、第２の誘電体材料６６は、複数の第２のワイヤ１５の間の複数の間隙１７（図１〜図５を参照）を十分に充填し、複数の第２の誘電体リブ６６ａを形成し得る。第２の誘電体材料６６は、複数の第２の間隙１７から、複数の第２のワイヤ１５の上端の上方及び上に延在し得る。従って、第２の誘電体材料６６は、複数の第２の誘電体リブ６６ａ、及び複数の第２のワイヤ１５の上方にある複数の第２の誘電体上層６６ｂを含む。図７のワイヤグリッド偏光子７０に示されたように、第２の誘電体材料６６は、複数の第２のワイヤ１５の上端までエッチングされ、従って、１つの間隙１７を充填する第２の誘電体リブ６６ａを隣接する間隙１７を充填する第２の誘電体リブ６６ａから分離した状態で、分離した複数の第２の誘電体リブ６６ａを形成し得る。
偏光子６０又は７０の選択は、製造コスト検討、耐久性、及び１つの第２の誘電体リブ６６ａを別の第２の誘電体リブ６６ａから分離する必要性があるか否かに依存し得る。偏光子６０において、複数の第２のワイヤ１５は完全に埋め込まれ、この状態は、複数の第２のワイヤ１５が腐食する懸念がある場合には、有益であり得る。偏光子７０において、複数の第２の誘電体リブ６６ａは互いに分離され、この状態は、複数の第２の誘電体リブ６６ａが、異なる複数の偏光状態を分離するため、又は１つの偏光状態を吸収するために用いられ場合には、有益であり得る。例えば、複数の第２のワイヤ１５又は複数の第２の誘電体リブ６６ａのうち一方が複数の反射構造、他方が複数の吸収構造であり得る。
図８〜図１０の偏光子８０、９０、及び１００に示されたように、複数の第２のワイヤ１５は、互いに平行な細長い複数の第２のリブグループ８４のアレイの一部であり得る。それぞれの第２のリブグループ８４は、中央の第２の透過性リブ８２、及び複数の第２のワイヤ１５の組を有する。第２のワイヤ１５は、第２の透過性リブ８２のそれぞれの側に沿って配置され得る。それぞれの第２のリブグループ８４と、隣接する第２のリブグループ８４との間には、複数の第２の間隙１７が存在する。複数の第２のワイヤ１５は、実質的に複数の第２の透過性リブ８２の下端から、複数の第２の透過性リブ８２の上端まで、複数の第２の透過性リブ８２のそれぞれの側に沿って延在し得る。複数の第２の透過性リブ８２は、第１の誘電体材料１６をエッチングすることによって、又は第１の誘電体材料１６の上に配置された薄膜をエッチングすることによって、上端面１６ｔに形成され得る。偏光子８０、９０、及び１００において、第１の誘電体材料１６は、上記の偏光子１０、２０、及び３０に対する第１の誘電体材料１６の説明と類似した単層又は多層であり得る。
偏光子８０、９０、及び１００において、複数の第１のワイヤ１３又は複数の第２のワイヤ１５は吸収性を、他方は反射性を有し得る。従って、偏光子４０及び５０の説明は、偏光子８０、９０、及び１００にも適用可能である。
図９〜図１０に示されたように、第２の誘電体材料６６は、それぞれの第２のリブグループ８４と、隣接する第２のリブグループ８４との間の複数の第２の間隙１７（図８を参照）を十分に充填し得る。図９のワイヤグリッド偏光子９０に示されたように、第２の誘電体材料６６は、複数の第２の間隙１７から、複数の第２のリブグループ８４の上端の上方及び上に延在し得る。従って、第２の誘電体材料６６は、複数の第２のリブグループ８４と、複数の第２のリブグループ８４の上方の第２の誘電体上層６６ｂとの間に、複数の第２の誘電体リブ６６ａを含み得る。第２の誘電体材料６６は、単層かつ単一の材料であり得るか、又は第２の誘電体材料６６は、多層かつ複数の異なる材料から成る複数の層であり得る。
第２の誘電体上層６６ｂは、複数の第２のリブグループ８４の上端までエッチングされ得る。従って、図１０のワイヤグリッド偏光子１００に示されたように、第２の誘電体材料６６は、１つの第２の間隙１７中の第２の誘電体リブ６６ａを隣接する第２の間隙１７中の第２の誘電体リブ６６ａから分離した状態で、分離した複数の第２の誘電体リブ６６ａを形成し得る。「分離」とは、それぞれの第２の誘電体リブ６６ａが、同じ材料によって、隣接する第２の誘電体リブ６６ａに結合されていないことを意味する。分離した複数の第２の誘電体リブ６６ａを有することで、そのような複数のリブが、偏光機能を有することが可能になり得る。例えば、複数の第２の誘電体リブ６６ａは、それが反射性を有する場合には、光を異なる複数の偏光状態に分離し、吸収性を有する場合には、１つの偏光状態を選択的に吸収し、又は透過性材料で作成されている場合には、複屈折の透過性薄膜として作用し得る。
偏光子８０、９０、又は１００の選択は、製造コスト検討、複数の耐久性要件、及び１つの第２の誘電体リブ６６ａを別の第２の誘電体リブ６６ａから分離する必要性があるか否かに依存し得る。偏光子８０は、（１）偏光子９０及び１００より製造工程が少なくとも１つ少ない、及び（２）いくつかの設計において、複数の第２の間隙１７中の空気がＴｐを改善し得る、という利点を有する。偏光子９０及び１００は、偏光子８０より良好な耐久性を有し得る。偏光子９０において、複数の第２のワイヤ１５は完全に埋め込まれ、この状態は、複数の第２のワイヤ１５が腐食する懸念がある場合には、有益であり得る。偏光子１００において、複数の第２のワイヤ１５はほとんど埋め込まれ、環境があまり腐食性でない場合には、この状態は十分な腐食防止になり得る。偏光子１００において、複数の第２の誘電体リブ６６ａは互いに分離され、この状態は、複数の第２の誘電体リブ６６ａが、異なる複数の偏光状態を分離するため、又は１つの偏光状態を吸収するために用いられ場合には、有益であり得る。例えば、複数の第２のワイヤ１５又は複数の第２の誘電体リブ６６ａのうち一方が反射性を有し、他方が吸収性を有し得る。
複数の第２の透過性リブ８２は、例えば、レジストをパターニングしてエッチングするなどの標準的なリソグラフィ技術によって、形成され得る。ピッチＰ１５が非常に小さい、又は隣接する複数の第２のワイヤ１５間の距離が非常に短いことが有益であり得る。複数の第２の透過性リブ８２のピッチＰ８２は、現在の技術によって制限され得るが、本発明は、２つの第２のワイヤ１５を第２の透過性リブ８２毎に作成し、また複数の第２のワイヤのピッチＰ１５を、複数の第２の透過性リブ８２のピッチＰ８２と比較して、実質的に約半分に区切る方法を説明する。複数の第２の透過性リブ８２のピッチＰ８２は、例えば１つの態様では２００ナノメートル未満、別の態様では１５０ナノメートル未満、又は別の態様では１１０ナノメートル未満であり得るが、複数の第２のワイヤ１５のピッチＰ１５は、これらの数値の約半分になり得る。
ワイヤグリッド偏光子８０、９０、１００は、比較的高アスペクト比（第２のワイヤの厚さＴｈ２を第２のワイヤの幅Ｗ１５で割った値）の第２のワイヤ１５で作成され得る。モデリングによって、アスペクト比が８〜６０の第２のワイヤ１５で良好な偏光特性が示された。モデリングによって、幅Ｗが５〜２０ｎｍ、厚さＴｈ２が１５０〜３００ｎｍの第２のワイヤ１５で、可視スペクトルにおいて良好な偏光特性が示された。
第１の方法（図１１〜図１８、及び図６〜図７）
ワイヤグリッド偏光子を作成する第１の方法は、次の複数の段階のいくつか、又は全てを備え得る。複数の段階は、示された順序で実行され得る。
１．基板１１の上に配置された、互いに平行な細長い複数の第１の透過性リブ１２で作られたアレイを有する、透過性基板１１を提供する段階。複数の第１の透過性リブ１２の間に、互いに平行な細長い、固形物のない複数の第１の間隙１１７のアレイが存在し得る。図１１を参照。
２．基板１１及び複数の第１の透過性リブ１２を第１のコーティング１２３でコンフォーマルコーティングするとともに、複数の第１の透過性リブ１２の間に、固形物のない複数の第１の間隙１１７を維持する段階。コンフォーマルコーティングは、原子層堆積法又は他のコンフォーマルコーティング法によって、成され得る。第１のコーティング１２３の幅Ｗ１２３は、複数の第１のワイヤ１３の幅Ｗ１３にほぼ等しくなり得る。図１及び図１２を参照。
３．第１のコーティング１２３をエッチングして、複数の水平部分１２１を取り除き、複数の第１の透過性リブ１２の複数の側に沿って、鉛直の複数の第１のワイヤ１３を残し、第１の透過性リブ１２をはさむ複数の第１のワイヤ１３の組をそれぞれが有する複数の第１のリブグループ１４を形成する段階。エッチングは、複数の水平部分１２１を優先的に取り除くとともに、鉛直な複数の第１のワイヤ１３を残す、異方性エッチングであり得る。図１２〜図１３を参照。
４．複数の第１の間隙１１７、及び複数の第１のリブグループ１４の上方を、第１の誘電体材料１６で埋め戻す段階。埋め戻しは、液体材料（例えば、スピンオンガラス）を回転塗布し、次に、複数の揮発性化学物質を放出させ、また硬化させるべく焼成することを含む、様々な方法で成され得る。埋め戻しは、原子層堆積によって成され得る。図１４を参照。
５．複数の第１のリブグループ１４の上方に、十分に平坦な平面状の上端面１６ｔを形成する段階。本上端面１６ｔの形成は、以下を含む様々な方法によって成され得る。
（ａ）第１の誘電体材料１６は、図１４に示されたように、十分に平坦な平面状の上端面１６ｔを形成し得る。従って、本形成は、段階４のプロセス完了である。
（ｂ）材料の追加層が、第１の誘電体材料の上端に追加され得て、本追加層の上端面は、上端面１６ｔを形成し得る。
（ｃ）第１の誘電体材料１６をエッチングして、分離した複数の第１の誘電体リブ１６ａを形成する。十分に平坦な平面状の上端面１６ｔは、複数のリブグループ１４の上端、及び複数の第１の誘電体リブ１６ａの上端を有し得る。図１５を参照。
（ｄ）第１の誘電体材料１６をエッチングして、分離した複数の第１の誘電体リブ１６ａを形成する。複数の第１のリブグループ１４及び複数の第１の誘電体リブ１２の上に、入射光に対して十分に透過性である透過性誘電体層１６ｃを設けて、十分に平坦な平面状の上端面１６ｔを、透過性誘電体層１６ｃの材料で形成する。図１６を参照。
６．上端面１６ｔの上に、連続薄膜の上層材料１７５を設ける段階。図１７を参照。
７．薄膜の上層材料１７５をエッチングして、第１の誘電体材料１６の上端面１６ｔの上に配置された互いに平行な細長い複数の第２のワイヤ１５のアレイと、複数の第２のワイヤ１５の間に固形物のない複数の第２の間隙１７とを形成する段階。図１８を参照。
８．複数の第２の間隙１７及び複数の第２のワイヤ１５の上方を、第２の誘電体材料６６で埋め戻す段階。埋め戻しは、上記の段階４で説明されたように、成され得る。図６を参照。
９．第２の誘電体材料６６をエッチングして、分離した複数の第２の誘電体リブ６６ａを形成する段階。図７を参照。
第１のコーティング１２３及び複数の第１のワイヤ１３、又は、薄膜の上層材料１７５及び複数の第２のワイヤ１５は、吸収性を有し得て、他方は反射性を有し得る。
第２の方法（図１１〜図１６、及び図１９〜図２３）
ワイヤグリッド偏光子を作成する第２の方法は、次の複数の段階のいくつか、又は全てを備え得る。複数の段階は、示された順序で実行され得る。
段階１〜４は、上記の第１の方法に基づく。
５．複数の第１のリブグループ１４の上方に、十分に平坦な平面状の上端面１６ｔを形成する段階。本上端面１６ｔの形成は、以下を含む様々な方法によって成され得る。
（ａ）第１の誘電体材料１６は、図１４に示されたように、十分に平坦な平面状の上端面１６ｔを形成し得る。従って、本形成は、段階４のプロセス完了である。
（ｂ）材料の追加層が、第１の誘電体材料１６の上端に追加され得る。本追加層の上端面は、上端面１６ｔを形成し得る。
（ｃ）第１の誘電体材料１６をエッチングして、分離した複数の第１の誘電体リブ１６ａを形成する。複数の第１のリブグループ１４及び複数の第１の誘電体リブ１２の上に、入射光に対して十分に透過性を有する透過性誘電体層１６ｃを設けて、十分に平坦な平面状の上端面１６ｔを、透過性誘電体層１６ｃの材料で形成する。図１６を参照。
６．上端面１６ｔをエッチングして、互いに平行な細長い複数の第２の透過性リブ８２のアレイを形成する段階。複数の第２の透過性リブ８２は、入射光に対して十分に透過性を有し得る。図１９を参照。図１９〜図２３は、第１の誘電体材料１６の中での複数の第２の透過性リブ８２の形成を示すが、段階５に示されたように、複数の第２の透過性リブ８２は、第１の誘電体材料１６の上方の別の材料の中に形成される場合があることに留意されたい。
７．複数の第２の透過性リブ８２を第２のコーティング２０３でコンフォーマルコーティングするとともに、複数の第２の透過性リブ８２の間に、固形物のない複数の第２の間隙１７を維持する段階。第２のコーティング２０３の幅Ｗ２０３は、複数の第２のワイヤ１５の幅Ｗ１５にほぼ等しくなり得る。図８及び図２０を参照。
８．第２のコーティング２０３をエッチングして、複数の水平部分２０１を取り除き、複数の第２の透過性リブ８２の複数の側に沿って、鉛直の複数の第２のワイヤ１５を残し、第２の透過性リブ８２をはさむ複数の第２のワイヤ１５の組をそれぞれが有する複数の第２のリブグループ８４を形成する段階。図２０〜図２１を参照。
９．複数の第２の間隙１７を十分に充填し、複数の第２のリブグループ８４の上方に延在する第２の誘電体材料６６で、複数の第２の間隙１７を埋め戻す段階。図２２を参照。
１０．第２の誘電体材料６６をエッチングして、１つの第２の間隙１７中の第２の誘電体リブ６６ａを隣接する第２の間隙１７中の第２の誘電体リブ６６ａから分離した状態で、分離した複数の第２の誘電体リブ６６ａを形成する段階。図２３を参照。
第１のコーティング１２３及び複数の第１のワイヤ１３、又は、第２のコーティング２０３及び複数の第２のワイヤ１５は、吸収性を有し得て、他方は反射性を有し得る。
全ての実施形態の一般的な情報
２０１１年１２月１５日に出願された米国特許出願第１３／３２６，５６６号、米国特許第７，５７０，４２４号、及び同第７，９６１，３９３号は、それらの全体を参照によって本明細書に組み込まれたものとし、本明細書に説明された様々な偏光子構造及び方法のための、可能性のある複数の基板１１材料、複数の誘電体材料、複数の吸収性材料、及び複数の偏光用材料（すなわち、複数の反射性材料）に関する複数の例を提供する。例えば、複数の反射性ワイヤ４５の材料としてアルミニウムが用いられ、可視光を偏光し得る。また吸収性ワイヤ４３の材料としてシリコンが用いられ、可視光の１つの偏光を選択的に吸収し得る。材料の選択は、所望する偏光の波長範囲、全体的な偏光子構造、複数の耐久性要件、及び複数の性能要件に依存する。
材料の光との相互作用（すなわち、材料が主に吸収性、反射性、又は透過性を有するか否か）は、材料中の複数の要素だけでなく、結晶構造及び化学量論組成にも依存することに留意されたい。複数の偏光子に使用する複数の異なる材料に関するこれらの特性は、米国特許第７，５７０，４２４号、及び同第７，９６１，３９３に、詳しく論じられている。
複数の第１のワイヤ１３及び複数の第２のワイヤ１５は、本明細書説明された複数の実施形態のいくつかにおいて、部分的又は完全に埋め込まれる。ワイヤグリッド偏光子の複数のワイヤを埋め込むことは、ワイヤグリッド偏光子の耐久性を高め得るが、いくつか偏光設計において、複数のワイヤを埋め込むことは、特にｐ偏光の透過を減少させる（Ｔｐを減少させる）ことによって、ワイヤグリッド偏光子性能に悪影響を及ぼすこともあり得る。従って、埋め込まれた複数のワイヤグリッド偏光子は、例えば、複数のコンピュータプロジェクタ、又は半導体解析機器など、高い偏光子性能を必要とする複数の用途では、実際には実装されないことが多かった。本明細書に示され、とりわけ適切なアスペクト比と組み合わされた複数の特定の設計は、複数のワイヤが部分的又は完全に埋め込まれているが、良好なワイヤグリッド偏光子性能を提供し得ることが、モデリングによって示された。
本明細書に説明された複数の偏光子、及び本明細書に説明された複数の方法で作成された複数の偏光子で得られ得る偏光子性能の複数の例は、以下を含む。
１．単一波長の光において、１つの偏光（例えば、ｐ偏光）の少なくとも９０％を透過し、反対の偏光（例えば、ｓ偏光）の少なくとも９０％を吸収する。又は、
２．４００〜７００ｎｍの全波長において、１つの偏光（例えば、ｐ偏光）の少なくとも９０％を透過し、反対の偏光（例えば、ｓ偏光）の少なくとも８０％を吸収する。
本明細書に説明された複数の偏光子、及び本明細書に説明された複数の方法で作成された複数の偏光子で得られ得る偏光子性能の複数の例は、以下を含む。 （１）単一波長の光において、１つの偏光（例えば、ｐ偏光）の少なくとも９０％を透過し、反対の偏光（例えば、ｓ偏光）の少なくとも９０％を吸収する。又は、 （２）４００〜７００nmの全波長において、１つの偏光（例えば、ｐ偏光）の少なくとも９０％を透過し、反対の偏光（例えば、ｓ偏光）の少なくとも８０％を吸収する。
（項目１）
（ａ）透過性基板と、
（ｂ）上記透過性基板の上に配置された互いに平行な細長い複数の第１のリブグループのアレイであって、それぞれの第１のリブグループは、
（ｉ）中央の第１の透過性リブと、
（ｉｉ）上記第１の透過性リブのそれぞれの側に沿って配置された第１のワイヤを含む複数の第１のワイヤの組とを有する、上記アレイと、
（ｃ）それぞれの第１のリブグループと、隣接する第１のリブグループとの間の複数の第１の間隙を十分に充填する第１の誘電体材料と、
（ｄ）上記複数の第１のリブグループと、上記第１の誘電体材料との上に配置された互いに平行な細長い複数の第２のワイヤのアレイとを備え、
（ｅ）上記複数の第１のワイヤ又は上記複数の第２のワイヤは吸収性を有し、上記複数の第１のワイヤ又は上記複数の第２のワイヤの他方は反射性を有する、ワイヤグリッド偏光子。
（項目２）
上記複数の第２のワイヤは、互いに平行な細長い複数の第２のリブグループのアレイの一部であり、
それぞれの第２のリブグループは、
（ａ）中央の第２の透過性リブと、
（ｂ）上記第２の透過性リブのそれぞれの側に沿って配置された第２のワイヤを含む、上記複数の第２のワイヤの組と、
（ｃ）それぞれの第２のリブグループと隣接する第２のリブグループとの間の複数の第２の間隙とを有する、項目１に記載のワイヤグリッド偏光子。
（項目３）
上記複数の第２の間隙を十分に充填する第２の誘電体材料をさらに備える、項目２に記載のワイヤグリッド偏光子。
（項目４）
上記第２の誘電体材料は、上記複数の第１の間隙から、上記複数の第２のリブグループの上端の上方及び上に延在し、
上記第２の誘電体材料は、入射光に対して十分に透過性を有する、項目３に記載のワイヤグリッド偏光子。
（項目５）
（ａ）上記第１の誘電体材料は、上記複数の第１の間隙から、上記複数の第１のリブグループの上端の上方及び上に延在し、十分に平坦な平面状の上端面を有し、
（ｂ）上記第１の誘電体材料は、入射光に対して十分に透過性を有し、
（ｃ）上記複数の第２のワイヤは、上記第１の誘電体材料の上端面に配置される、項目１から４の何れか一項に記載のワイヤグリッド偏光子。
（項目６）
上記第１の誘電体材料は、１つの第１の間隙中の第１の誘電体リブを隣接する第１の間隙中の第１の誘電体リブから分離した状態で、分離した複数の第１の誘電体リブを形成する、項目１から５の何れか一項に記載のワイヤグリッド偏光子。
（項目７）
（ａ）上記複数の第１のワイヤは反射性を有し、上記複数の第２のワイヤは吸収性を有し、
（ｂ）上記複数の第１の誘電体リブは吸収性を有し、
（ｃ）十分に平坦な平面状の透過性誘電体層は、（ｉ）上記複数の第１のリブグループの上端、及び上記複数の第１の誘電体リブの上端と、（ｉｉ）上記複数の第２のワイヤの下端との間に配置される、項目６に記載のワイヤグリッド偏光子。
（項目８）
上記複数の第１のワイヤは吸収性を有し、上記複数の第２のワイヤは反射性を有する、項目１から７の何れか一項に記載のワイヤグリッド偏光子。
（項目９）
上記複数の第１のワイヤは反射性を有し、上記複数の第２のワイヤは吸収性を有する、項目１から８の何れか一項に記載のワイヤグリッド偏光子。
（項目１０）
複数の透過性リブのピッチは、１５０ナノメートル未満である、項目１から９の何れか一項に記載のワイヤグリッド偏光子。
（項目１１）
単一波長の光において、１つの偏光の少なくとも９０％を透過し、反対の偏光の少なくとも９０％を吸収する、項目１から１０の何れか一項に記載のワイヤグリッド偏光子。
（項目１２）
４００〜７００ｎｍの全ての光波長において、１つの偏光の少なくとも９０％を透過し、反対の偏光の少なくとも８０％を吸収する、項目１から１１の何れか一項に記載のワイヤグリッド偏光子。
（項目１３）
ワイヤグリッド偏光子を作成する方法であって、
（ａ）透過性基板の上に配置された互いに平行な細長い複数の第１の透過性リブのアレイを有する、上記透過性基板を提供する段階と、
（ｂ）上記透過性基板と上記複数の第１の透過性リブとを、第１のコーティングでコンフォーマルコーティングするとともに、上記複数の第１の透過性リブの間に、固形物のない複数の第１の間隙を維持する段階と、
（ｃ）上記第１のコーティングをエッチングして、複数の水平部分を取り除き、上記複数の第１の透過性リブの複数の側に沿って、鉛直の複数の第１のワイヤを残し、第１の透過性リブをはさむ複数の第１のワイヤの組をそれぞれが有する複数の第１のリブグループを形成する段階と、
（ｄ）上記複数の第１の間隙を、第１の誘電体材料で埋め戻す段階と、
（ｅ）上記複数の第１のリブグループの上方に、十分に平坦な平面状の上端面を形成する段階と、
（ｆ）上記上端面の上に、連続薄膜の上層材料を設ける段階と、
（ｇ）上記薄膜の上層材料をエッチングして、上記第１の誘電体材料の上端面の上に配置された、互いに平行な細長い複数の第２のワイヤのアレイと、上記複数の第２のワイヤの間に固形物のない複数の第２の間隙とを形成する段階とを備え、
上記複数の第１のワイヤ又は上記複数の第２のワイヤは吸収性を有し、上記複数の第１のワイヤ又は上記複数の第２のワイヤの他方は反射性を有する、方法。
（項目１４）
上記複数の第１の間隙を埋め戻し、十分に平坦な平面状の上端面を形成する段階は、
（ａ）上記複数の第１のリブグループの上方を、上記第１の誘電体材料で埋め戻す段階であって、上記第１の誘電体材料は、入射光に対して十分に吸収性を有し、上記複数の第１のワイヤは反射性を有する、埋め戻す段階と、
（ｂ）上記第１の誘電体材料をエッチングして、１つの第１の間隙中の第１の誘電体リブを隣接する第１の間隙中の第１の誘電体リブから分離した状態で、分離した複数の第１の誘電体リブを形成する段階と、
（ｃ）上記複数の第１のリブグループ及び上記複数の第１の誘電体リブの上に、透過性誘電体層を設けて、十分に平坦な平面状の上記上端面を、上記透過性誘電体層の材料で形成する段階とをさらに含む、項目１３に記載の方法。
（項目１５）
上記複数の第１の間隙を埋め戻し、十分に平坦な平面状の上端面を形成する段階は、上記複数の第１のリブグループの上方を、上記第１の誘電体材料で埋め戻し、十分に平坦な平面状の上記上端面を、上記第１の誘電体材料の材料で形成する段階をさらに含む、項目１３又は１４に記載の方法。
（項目１６）
上記複数の第２の間隙を、第２の誘電体材料で埋め戻す段階をさらに備える、項目１３から１５の何れか一項に記載の方法。
（項目１７）
上記複数の第２の間隙を埋め戻す段階は、上記複数の第２のワイヤの上方を、第２の誘電体材料で埋め戻す段階をさらに有する、項目１３から１６の何れか一項に記載の方法。
（項目１８）
ワイヤグリッド偏光子を作成する方法であって、
（ａ）透過性基板の上に配置された互いに平行な細長い複数の第１の透過性リブのアレイを有する、上記透過性基板を提供する段階と、
（ｂ）上記透過性基板と上記複数の第１の透過性リブとを、第１のコーティングでコンフォーマルコーティングするとともに、上記複数の第１の透過性リブの間に、固形物のない複数の第１の間隙を維持する段階と、
（ｃ）上記第１のコーティングをエッチングして、複数の水平部分を取り除き、上記複数の第１の透過性リブの複数の側に沿って、鉛直の複数の第１のワイヤを残し、第１の透過性リブをはさむ上記複数の第１のワイヤの組をそれぞれが有する複数の第１のリブグループを形成する段階と、
（ｄ）上記複数の第１の間隙を、第１の誘電体材料で埋め戻す段階と、
（ｅ）上記複数の第１のリブグループの上方に、十分に平坦な平面状の上端面を形成する段階と、
（ｆ）上記上端面をエッチングして、互いに平行な細長い複数の第２の透過性リブのアレイを形成する段階と、
（ｇ）上記複数の第２の透過性リブを、第２のコーティングでコンフォーマルコーティングするとともに、上記複数の第２の透過性リブの間に、固形物のない複数の第２の間隙を維持する段階と、
（ｈ）上記第２のコーティングをエッチングして、複数の水平部分を取り除き、上記複数の第２の透過性リブの複数の側に沿って鉛直の複数の第２のワイヤを残して、第２の透過性リブをはさむ上記複数の第２のワイヤの組をそれぞれ有する複数の第２のリブグループを形成する段階とを備え、
上記複数の第１のワイヤ又は上記複数の第２のワイヤは吸収性を有し、上記複数の第１のワイヤ又は上記複数の第２のワイヤの他方は反射性を有する、方法。
（項目１９）
上記複数の第２の間隙を十分に充填して、上記複数の第２のリブグループの上方に延在する第２の誘電体材料で、上記複数の第２の間隙を埋め戻す段階をさらに備える、項目１８に記載の方法。
（項目２０）
第２の誘電体材料をエッチングして、１つの第２の間隙中の第２の誘電体リブを隣接する第２の間隙中の第２の誘電体リブから分離した状態で、分離した複数の第２の誘電体リブを形成する段階をさらに備える、項目１８又は１９に記載の方法。

Claims (20)

  1. （ａ）透過性基板と、
    （ｂ）前記透過性基板の上に配置された互いに平行な細長い複数の第１のリブグループのアレイであって、それぞれの第１のリブグループは、
    （ｉ）中央の第１の透過性リブと、
    （ｉｉ）前記第１の透過性リブのそれぞれの側に沿って配置された第１のワイヤを含む複数の第１のワイヤの組とを有する、前記アレイと、
    （ｃ）それぞれの第１のリブグループと、隣接する第１のリブグループとの間の複数の第１の間隙を十分に充填する第１の誘電体材料と、
    （ｄ）前記複数の第１のリブグループと、前記第１の誘電体材料との上に配置された互いに平行な細長い複数の第２のワイヤのアレイとを備え、
    （ｅ）前記複数の第１のワイヤ又は前記複数の第２のワイヤは吸収性を有し、前記複数の第１のワイヤ又は前記複数の第２のワイヤの他方は反射性を有する、ワイヤグリッド偏光子。
  2. 前記複数の第２のワイヤは、互いに平行な細長い複数の第２のリブグループのアレイの一部であり、
    それぞれの第２のリブグループは、
    （ａ）中央の第２の透過性リブと、
    （ｂ）前記第２の透過性リブのそれぞれの側に沿って配置された第２のワイヤを含む、前記複数の第２のワイヤの組と、
    （ｃ）それぞれの第２のリブグループと隣接する第２のリブグループとの間の複数の第２の間隙とを有する、請求項１に記載のワイヤグリッド偏光子。
  3. 前記複数の第２の間隙を十分に充填する第２の誘電体材料をさらに備える、請求項２に記載のワイヤグリッド偏光子。
  4. 前記第２の誘電体材料は、前記複数の第１の間隙から、前記複数の第２のリブグループの上端の上方及び上に延在し、
    前記第２の誘電体材料は、入射光に対して十分に透過性を有する、請求項３に記載のワイヤグリッド偏光子。
  5. （ａ）前記第１の誘電体材料は、前記複数の第１の間隙から、前記複数の第１のリブグループの上端の上方及び上に延在し、十分に平坦な平面状の上端面を有し、
    （ｂ）前記第１の誘電体材料は、入射光に対して十分に透過性を有し、
    （ｃ）前記複数の第２のワイヤは、前記第１の誘電体材料の上端面に配置される、請求項１から４の何れか一項に記載のワイヤグリッド偏光子。
  6. 前記第１の誘電体材料は、１つの第１の間隙中の第１の誘電体リブを隣接する第１の間隙中の第１の誘電体リブから分離した状態で、分離した複数の第１の誘電体リブを形成する、請求項１から５の何れか一項に記載のワイヤグリッド偏光子。
  7. （ａ）前記複数の第１のワイヤは反射性を有し、前記複数の第２のワイヤは吸収性を有し、
    （ｂ）前記複数の第１の誘電体リブは吸収性を有し、
    （ｃ）十分に平坦な平面状の透過性誘電体層は、（ｉ）前記複数の第１のリブグループの上端、及び前記複数の第１の誘電体リブの上端と、（ｉｉ）前記複数の第２のワイヤの下端との間に配置される、請求項６に記載のワイヤグリッド偏光子。
  8. 前記複数の第１のワイヤは吸収性を有し、前記複数の第２のワイヤは反射性を有する、請求項１から７の何れか一項に記載のワイヤグリッド偏光子。
  9. 前記複数の第１のワイヤは反射性を有し、前記複数の第２のワイヤは吸収性を有する、請求項１から８の何れか一項に記載のワイヤグリッド偏光子。
  10. 複数の透過性リブのピッチは、１５０ナノメートル未満である、請求項１から９の何れか一項に記載のワイヤグリッド偏光子。
  11. 単一波長の光において、１つの偏光の少なくとも９０％を透過し、反対の偏光の少なくとも９０％を吸収する、請求項１から１０の何れか一項に記載のワイヤグリッド偏光子。
  12. ４００〜７００ｎｍの全ての光波長において、１つの偏光の少なくとも９０％を透過し、反対の偏光の少なくとも８０％を吸収する、請求項１から１１の何れか一項に記載のワイヤグリッド偏光子。
  13. ワイヤグリッド偏光子を作成する方法であって、
    （ａ）透過性基板の上に配置された互いに平行な細長い複数の第１の透過性リブのアレイを有する、前記透過性基板を提供する段階と、
    （ｂ）前記透過性基板と前記複数の第１の透過性リブとを、第１のコーティングでコンフォーマルコーティングするとともに、前記複数の第１の透過性リブの間に、固形物のない複数の第１の間隙を維持する段階と、
    （ｃ）前記第１のコーティングをエッチングして、複数の水平部分を取り除き、前記複数の第１の透過性リブの複数の側に沿って、鉛直の複数の第１のワイヤを残し、第１の透過性リブをはさむ複数の第１のワイヤの組をそれぞれが有する複数の第１のリブグループを形成する段階と、
    （ｄ）前記複数の第１の間隙を、第１の誘電体材料で埋め戻す段階と、
    （ｅ）前記複数の第１のリブグループの上方に、十分に平坦な平面状の上端面を形成する段階と、
    （ｆ）前記上端面の上に、連続薄膜の上層材料を設ける段階と、
    （ｇ）前記薄膜の上層材料をエッチングして、前記第１の誘電体材料の上端面の上に配置された、互いに平行な細長い複数の第２のワイヤのアレイと、前記複数の第２のワイヤの間に固形物のない複数の第２の間隙とを形成する段階とを備え、
    前記複数の第１のワイヤ又は前記複数の第２のワイヤは吸収性を有し、前記複数の第１のワイヤ又は前記複数の第２のワイヤの他方は反射性を有する、方法。
  14. 前記複数の第１の間隙を埋め戻し、十分に平坦な平面状の上端面を形成する段階は、
    （ａ）前記複数の第１のリブグループの上方を、前記第１の誘電体材料で埋め戻す段階であって、前記第１の誘電体材料は、入射光に対して十分に吸収性を有し、前記複数の第１のワイヤは反射性を有する、埋め戻す段階と、
    （ｂ）前記第１の誘電体材料をエッチングして、１つの第１の間隙中の第１の誘電体リブを隣接する第１の間隙中の第１の誘電体リブから分離した状態で、分離した複数の第１の誘電体リブを形成する段階と、
    （ｃ）前記複数の第１のリブグループ及び前記複数の第１の誘電体リブの上に、透過性誘電体層を設けて、十分に平坦な平面状の上記上端面を、前記透過性誘電体層の材料で形成する段階とをさらに含む、請求項１３に記載の方法。
  15. 前記複数の第１の間隙を埋め戻し、十分に平坦な平面状の上端面を形成する段階は、前記複数の第１のリブグループの上方を、前記第１の誘電体材料で埋め戻し、十分に平坦な平面状の前記上端面を、前記第１の誘電体材料の材料で形成する段階をさらに含む、請求項１３又は１４に記載の方法。
  16. 前記複数の第２の間隙を、第２の誘電体材料で埋め戻す段階をさらに備える、請求項１３から１５の何れか一項に記載の方法。
  17. 前記複数の第２の間隙を埋め戻す段階は、前記複数の第２のワイヤの上方を、第２の誘電体材料で埋め戻す段階をさらに有する、請求項１３から１６の何れか一項に記載の方法。
  18. ワイヤグリッド偏光子を作成する方法であって、
    （ａ）透過性基板の上に配置された互いに平行な細長い複数の第１の透過性リブのアレイを有する、前記透過性基板を提供する段階と、
    （ｂ）前記透過性基板と前記複数の第１の透過性リブとを、第１のコーティングでコンフォーマルコーティングするとともに、前記複数の第１の透過性リブの間に、固形物のない複数の第１の間隙を維持する段階と、
    （ｃ）前記第１のコーティングをエッチングして、複数の水平部分を取り除き、前記複数の第１の透過性リブの複数の側に沿って、鉛直の複数の第１のワイヤを残し、第１の透過性リブをはさむ前記複数の第１のワイヤの組をそれぞれが有する複数の第１のリブグループを形成する段階と、
    （ｄ）前記複数の第１の間隙を、第１の誘電体材料で埋め戻す段階と、
    （ｅ）前記複数の第１のリブグループの上方に、十分に平坦な平面状の上端面を形成する段階と、
    （ｆ）前記上端面をエッチングして、互いに平行な細長い複数の第２の透過性リブのアレイを形成する段階と、
    （ｇ）前記複数の第２の透過性リブを、第２のコーティングでコンフォーマルコーティングするとともに、前記複数の第２の透過性リブの間に、固形物のない複数の第２の間隙を維持する段階と、
    （ｈ）前記第２のコーティングをエッチングして、複数の水平部分を取り除き、前記複数の第２の透過性リブの複数の側に沿って鉛直の複数の第２のワイヤを残して、第２の透過性リブをはさむ前記複数の第２のワイヤの組をそれぞれ有する複数の第２のリブグループを形成する段階とを備え、
    前記複数の第１のワイヤ又は前記複数の第２のワイヤは吸収性を有し、前記複数の第１のワイヤ又は前記複数の第２のワイヤの他方は反射性を有する、方法。
  19. 前記複数の第２の間隙を十分に充填して、前記複数の第２のリブグループの上方に延在する第２の誘電体材料で、前記複数の第２の間隙を埋め戻す段階をさらに備える、請求項１８に記載の方法。
  20. 第２の誘電体材料をエッチングして、１つの第２の間隙中の第２の誘電体リブを隣接する第２の間隙中の第２の誘電体リブから分離した状態で、分離した複数の第２の誘電体リブを形成する段階をさらに備える、請求項１８又は１９に記載の方法。
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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20150077851A1 (en) 2010-12-30 2015-03-19 Moxtek, Inc. Multi-layer absorptive wire grid polarizer
US9632223B2 (en) 2013-10-24 2017-04-25 Moxtek, Inc. Wire grid polarizer with side region
US9684203B2 (en) * 2014-06-25 2017-06-20 Moxtek, Inc. Wire grid polarizer with dual absorptive regions
US9632224B2 (en) 2014-06-25 2017-04-25 Moxtek, Inc. Broadband, selectively-absorptive wire grid polarizer
US10234613B2 (en) 2015-02-06 2019-03-19 Moxtek, Inc. High contrast inverse polarizer
US10054717B2 (en) * 2015-04-03 2018-08-21 Moxtek, Inc. Oxidation and moisture barrier layers for wire grid polarizer
US9995864B2 (en) 2015-04-03 2018-06-12 Moxtek, Inc. Wire grid polarizer with silane protective coating
US9703028B2 (en) 2015-04-03 2017-07-11 Moxtek, Inc. Wire grid polarizer with phosphonate protective coating
US20170059758A1 (en) 2015-08-24 2017-03-02 Moxtek, Inc. Small-Pitch Wire Grid Polarizer
US10175401B2 (en) 2015-11-12 2019-01-08 Moxtek, Inc. Dual-purpose, absorptive, reflective wire grid polarizer
KR102567008B1 (ko) * 2016-03-18 2023-08-14 삼성디스플레이 주식회사 금속선 편광자를 포함하는 표시 장치 및 그 제조 방법
US10139537B2 (en) 2016-11-22 2018-11-27 Moxtek, Inc. Multiple-stack wire grid polarizer
KR102101264B1 (ko) * 2016-12-08 2020-04-17 한국과학기술원 고투과성 나노와이어 그리드 편광자 및 그의 제조 방법
US10852464B2 (en) 2018-03-01 2020-12-01 Moxtek, Inc. High-contrast polarizer
KR102087358B1 (ko) 2018-08-10 2020-03-10 한국과학기술원 저반사 편광자
KR102168744B1 (ko) * 2019-05-24 2020-10-22 한국과학기술원 와이어 그리드 편광자

Family Cites Families (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1021385A (ja) 1996-07-03 1998-01-23 N T T Data Tsushin Kk 画像処理方法及び装置
US5991075A (en) * 1996-11-25 1999-11-23 Ricoh Company, Ltd. Light polarizer and method of producing the light polarizer
JPH10213785A (ja) * 1996-11-25 1998-08-11 Ricoh Co Ltd 偏光子及びその製造方法及び偏光子を備えるディスプレイまたは表示装置
JP3372466B2 (ja) 1997-12-22 2003-02-04 ティーディーケイ株式会社 偏光板の製造方法
US6288840B1 (en) 1999-06-22 2001-09-11 Moxtek Imbedded wire grid polarizer for the visible spectrum
US6122103A (en) 1999-06-22 2000-09-19 Moxtech Broadband wire grid polarizer for the visible spectrum
JP2004062148A (ja) 2002-06-04 2004-02-26 Canon Inc 光学部品及びその製造方法
US6665119B1 (en) 2002-10-15 2003-12-16 Eastman Kodak Company Wire grid polarizer
DE10327963A1 (de) 2003-06-19 2005-01-05 Carl Zeiss Jena Gmbh Polarisationsstrahlteiler
JP4425059B2 (ja) 2003-06-25 2010-03-03 シャープ株式会社 偏光光学素子、およびそれを用いた表示装置
JP2005242080A (ja) * 2004-02-27 2005-09-08 Victor Co Of Japan Ltd ワイヤグリッドポラライザ
US7670758B2 (en) 2004-04-15 2010-03-02 Api Nanofabrication And Research Corporation Optical films and methods of making the same
US20060056024A1 (en) * 2004-09-15 2006-03-16 Ahn Seh W Wire grid polarizer and manufacturing method thereof
US7961393B2 (en) 2004-12-06 2011-06-14 Moxtek, Inc. Selectively absorptive wire-grid polarizer
US7570424B2 (en) 2004-12-06 2009-08-04 Moxtek, Inc. Multilayer wire-grid polarizer
US20070297052A1 (en) 2006-06-26 2007-12-27 Bin Wang Cube wire-grid polarizing beam splitter
WO2008022097A2 (en) * 2006-08-15 2008-02-21 Api Nanofabrication And Research Corp. Methods for forming patterned structures
JP5933910B2 (ja) * 2006-08-15 2016-06-15 ポラリゼーション ソリューションズ エルエルシー 偏光子薄膜及びこの製作方法
US8755113B2 (en) 2006-08-31 2014-06-17 Moxtek, Inc. Durable, inorganic, absorptive, ultra-violet, grid polarizer
JP4795214B2 (ja) * 2006-12-07 2011-10-19 チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド ワイヤーグリッド偏光子及びその製造方法
JP4488033B2 (ja) * 2007-02-06 2010-06-23 ソニー株式会社 偏光素子及び液晶プロジェクター
US7957062B2 (en) * 2007-02-06 2011-06-07 Sony Corporation Polarizing element and liquid crystal projector
US20090231702A1 (en) 2008-03-17 2009-09-17 Qihong Wu Optical films and methods of making the same
US8506827B2 (en) 2008-09-22 2013-08-13 Polarization Solutions, Llc Short pitch metal gratings and methods for making the same
US20120075699A1 (en) 2008-10-29 2012-03-29 Mark Alan Davis Segmented film deposition
US8467128B2 (en) 2008-11-19 2013-06-18 Shanghai Lexvu Opto Microelectronics Technology Co., Ltd. Polarizing cube and method of fabricating the same
KR101610376B1 (ko) * 2009-04-10 2016-04-08 엘지이노텍 주식회사 와이어 그리드 편광자, 이를 포함하는 액정 표시 장치 및 와이어 그리드 편광자의 제조 방법
US20100302481A1 (en) * 2009-06-01 2010-12-02 Baum Alexandra Absorbing wire grid polarizer
US8913321B2 (en) 2010-09-21 2014-12-16 Moxtek, Inc. Fine pitch grid polarizer
US8611007B2 (en) 2010-09-21 2013-12-17 Moxtek, Inc. Fine pitch wire grid polarizer
US20150077851A1 (en) 2010-12-30 2015-03-19 Moxtek, Inc. Multi-layer absorptive wire grid polarizer
US20140300964A1 (en) 2010-12-30 2014-10-09 Mark Alan Davis Wire grid polarizer with substrate channels
US9632223B2 (en) 2013-10-24 2017-04-25 Moxtek, Inc. Wire grid polarizer with side region
US9726897B2 (en) 2014-05-28 2017-08-08 Motex, Inc. Cube polarizer with minimal optical path length difference
US9684203B2 (en) 2014-06-25 2017-06-20 Moxtek, Inc. Wire grid polarizer with dual absorptive regions
US9632224B2 (en) 2014-06-25 2017-04-25 Moxtek, Inc. Broadband, selectively-absorptive wire grid polarizer
US20160231487A1 (en) 2015-02-06 2016-08-11 Moxtek, Inc. High Contrast Inverse Polarizer
US9995864B2 (en) 2015-04-03 2018-06-12 Moxtek, Inc. Wire grid polarizer with silane protective coating

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