JP5742151B2 - 機能性基板とその製造方法及び該機能性基板を含むタッチパネル - Google Patents
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Description
しかしながら、透明導電膜をパターニングして用いて透明回路を形成するようにした場合、透明導電膜の存在する部分と存在しない部分の光学的干渉効果が異なり、色差が発生する。そして光学的に均等で不可視であることが望まれる透明回路において、その回路部分が視認され得るという問題があった。
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の機能性基板において、前記基板が、プラスチックフィルム又はガラスであることを特徴とする。
請求項3に記載の発明は、粘着剤または接着剤を用い、請求項1又は請求項2に記載の機能性基板と他の基板を貼り合わせた積層体である。
請求項4に記載の発明は、請求項1又は請求項2に記載の機能性基板を用いたタッチパネルである。
請求項5に記載の発明は、請求項3に記載の積層体を用いたタッチパネルである。
請求項6に記載の発明は、請求項1又は請求項2の機能性基板について、真空装置内に複数の材料のターゲットを配置し、透明な基板をロールから連続的に巻出し、装置内を大気に解放することなく他の光学薄膜およびパターニングされた光学薄膜を形成し、その後にロールに巻き取ることを特徴とする、機能性基板の製造方法である。
請求項7に記載の発明は、請求項3の積層体について、真空装置内に複数の材料のターゲットを配置し、透明な基板をロールから連続的に巻出し、装置内を大気に解放することなく他の光学薄膜およびパターニングされた光学薄膜を形成し、その後にロールに巻き取ることを特徴とする、積層体の製造方法である。
11…第1の光学薄膜
12…第2の光学薄膜
13…第3の光学薄膜
14…第4の光学薄膜
21…光学薄膜(屈折率2.30・Nb2O5)
22…光学薄膜(屈折率1.46・SiO2)
23…光学薄膜(屈折率2.30・Nb2O5)
24…光学薄膜(屈折率2.03・ITO)
31…光学薄膜(屈折率2.30・Nb2O5)
32…光学薄膜(屈折率1.46・SiO2)
33…光学薄膜(屈折率2.07・ZrO2)
34…光学薄膜屈折率2.03・ITO)
41…光学薄膜(屈折率2.30・Nb2O5)
42…光学薄膜(屈折率1.45・SiO2)
43…光学薄膜(屈折率1.98・ITO)
Claims (7)
- 基板の少なくとも一方の面に、パターニングされた光学薄膜と、前記基板とは屈折率の異なる3層の他の光学薄膜とが形成された機能性基板において、
前記光学薄膜の屈折率がn1であり、
前記光学薄膜に隣接した他の光学薄膜の屈折率がn2であり、
前記光学薄膜と前記光学薄膜に隣接した他の光学薄膜との屈折率比が0.85以上、1.0以下(0.85≦n1/n2≦1.0、n1≦n2)であり、
前記光学薄膜に隣接した他の光学薄膜の膜厚が2nm以上3nm以下であり、
前記3層の他の光学薄膜と前記光学薄膜とが、前記基板側からこの順に配置され、
前記光学薄膜の形成材料が、ITOであり、
前記光学薄膜に隣接した他の光学薄膜の形成材料が、酸化ニオブ、および、酸化ジルコニウムのいずれか1つであり、
前記光学薄膜に隣接した他の光学薄膜のうち、前記光学薄膜に覆われた部分と、前記光学薄膜に覆われていない部分との間において、L*a*b*表色系(D65光源、2度視野の色相)での透過色差ΔE*abtが1以下であり、かつ、反射色差ΔE*abrが5以下であることを特徴とする機能性基板。 - 前記基板が、プラスチックフィルム又はガラスであることを特徴とする請求項1に記載の機能性基板。
- 粘着剤または接着剤を用い、請求項1又は請求項2に記載の機能性基板と他の基板を貼り合わせた積層体。
- 請求項1又は請求項2に記載の機能性基板を用いたタッチパネル。
- 請求項3に記載の積層体を用いたタッチパネル。
- 請求項1又は請求項2の機能性基板について、真空装置内に複数の材料のターゲットを配置し、透明な基板をロールから連続的に巻出し、装置内を大気に解放することなく他の光学薄膜およびパターニングされた光学薄膜を形成し、その後にロールに巻き取ることを
特徴とする、機能性基板の製造方法。 - 請求項3の積層体について、真空装置内に複数の材料のターゲットを配置し、透明な基板をロールから連続的に巻出し、装置内を大気に解放することなく他の光学薄膜およびパターニングされた光学薄膜を形成し、その後にロールに巻き取ることを特徴とする、積層体の製造方法。
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