JP2015114599A5 - - Google Patents
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- 230000003287 optical Effects 0.000 claims description 14
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L Magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 8
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 8
- VFZCPZOOBHMUBZ-UHFFFAOYSA-N [Mg].FOF Chemical compound [Mg].FOF VFZCPZOOBHMUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 2
- GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N oxozirconium Chemical compound [Zr]=O GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims 1
Description
基材上に設ける光学多層膜であって、前記光学多層膜は、屈折率が１．７６以上２．７以下の膜、酸フッ化マグネシウム膜、フッ化マグネシウム膜をこの順に隣接して積層しており、前記酸フッ化マグネシウム膜は、下記式（１）の組成を有することを特徴とする光学多層膜。
ＭｇｘＯｙＦｚ（０．０１≦ｚ／ｘ≦１．４５ 、０．０１≦ｚ／ｙ≦３．１７を満たす） 式（１）
ＭｇｘＯｙＦｚ（０．０１≦ｚ／ｘ≦１．４５ 、０．０１≦ｚ／ｙ≦３．１７を満たす） 式（１）
Claims (9)
- 基材上に設ける光学多層膜であって、
前記光学多層膜は、屈折率が１．７６以上２．７以下の膜、酸フッ化マグネシウム膜、フッ化マグネシウム膜をこの順に隣接して積層しており、
前記酸フッ化マグネシウム膜は、下記式（１）の組成を有することを特徴とする光学多層膜。
ＭｇｘＯｙＦｚ（０．０１≦ｚ／ｘ≦１．４５ 、０．０１≦ｚ／ｙ≦３．１７を満たす） 式（１） - 前記酸フッ化マグネシウム膜の膜厚が５ｎｍ以上１．５μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の光学多層膜。
- 前記屈折率が１．７６以上２．７以下の膜は、ＺｒＯ ２ 、Ｔａ ２ Ｏ ５ 、Ｎｂ ２ Ｏ ５ 、ＴｉＯ ２ のいずれかを有することを特徴とする請求項１又は２に記載の光学多層膜。
- 前記フッ化マグネシウム膜は、５５０ｎｍにおける屈折率が１．４０以下であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光学多層膜。
- レンズ上に請求項１乃至４に記載の光学多層膜が設けられたことを特徴とする光学レンズ。
- 基板上に、屈折率が１．７６以上２．７以下の膜を設ける工程と、
前記屈折率が１．７６以上２．７以下の膜の上に下記式（１）の組成を有する酸フッ化マグネシウム膜を成膜する工程と、
ＭｇｘＯｙＦｚ（１≦ｚ／ｘ≦１．４５、０．０１≦ｚ／ｙ≦３．１７を満たす） 式（１）
前記酸フッ化マグネシウム膜の上にフッ化マグネシウム膜を成膜する工程と、を有することを特徴とする光学多層膜の製造方法。 - 前記フッ化マグネシウム膜を成膜する工程は、スパッタ法を用いることを特徴とする請求項６に記載の光学多層膜の製造方法。
- 前記酸フッ化マグネシウム膜を成膜する工程及び前記フッ化マグネシウム膜を成膜する工程は、スパッタ法を用いることを特徴とする請求項６に記載の光学多層膜の製造方法。
- 前記屈折率が１．７６以上２．７以下の膜は、ＺｒＯ ２ 、Ｔａ ２ Ｏ ５ 、Ｎｂ ２ Ｏ ５ 、ＴｉＯ ２ のいずれかを有することを特徴とする請求項７又は８に記載の光学多層膜の製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013258141A JP6366263B2 (ja) | 2013-12-13 | 2013-12-13 | 光学多層膜、光学レンズ及び光学多層膜の製造方法 |
| US15/103,781 US10114150B2 (en) | 2013-12-13 | 2014-12-05 | Optical multilayer coating, optical lens, and method of manufacturing optical multilayer coating |
| PCT/JP2014/006108 WO2015087534A1 (en) | 2013-12-13 | 2014-12-05 | Optical multilayer coating, optical lens, and method of manufacturing optical multilayer coating |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013258141A JP6366263B2 (ja) | 2013-12-13 | 2013-12-13 | 光学多層膜、光学レンズ及び光学多層膜の製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2015114599A JP2015114599A (ja) | 2015-06-22 |
| JP2015114599A5 true JP2015114599A5 (ja) | 2017-02-02 |
| JP6366263B2 JP6366263B2 (ja) | 2018-08-01 |
Family
ID=52347372
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013258141A Active JP6366263B2 (ja) | 2013-12-13 | 2013-12-13 | 光学多層膜、光学レンズ及び光学多層膜の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10114150B2 (ja) |
| JP (1) | JP6366263B2 (ja) |
| WO (1) | WO2015087534A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11572617B2 (en) | 2016-05-03 | 2023-02-07 | Applied Materials, Inc. | Protective metal oxy-fluoride coatings |
| JP6995491B2 (ja) | 2017-04-21 | 2022-01-14 | キヤノン株式会社 | 光学薄膜、光学素子、光学素子の製造方法 |
| JP7418098B2 (ja) * | 2019-04-26 | 2024-01-19 | キヤノン株式会社 | 光学多層膜の成膜方法および光学素子の製造方法 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4273826A (en) * | 1979-12-03 | 1981-06-16 | Owens-Illinois, Inc. | Process of making glass articles having antireflective coatings and product |
| JP3079580B2 (ja) * | 1990-12-25 | 2000-08-21 | 株式会社ニコン | 光学部品用薄膜及びこれを有する光学部品及びその製造方法 |
| US5332618A (en) * | 1992-02-07 | 1994-07-26 | Tru Vue, Inc. | Antireflection layer system with integral UV blocking properties |
| JP3625876B2 (ja) * | 1994-11-14 | 2005-03-02 | オリンパス株式会社 | 光学薄膜の製造方法および該光学薄膜を有する光学部品 |
| JP3585276B2 (ja) * | 1994-12-01 | 2004-11-04 | オリンパス株式会社 | 光学薄膜の製造方法およびこの光学薄膜を有する基板 |
| US5719705A (en) * | 1995-06-07 | 1998-02-17 | Sola International, Inc. | Anti-static anti-reflection coating |
| JPH09291358A (ja) | 1996-04-24 | 1997-11-11 | Olympus Optical Co Ltd | 光学薄膜の製造方法および光学薄膜 |
| JP3967416B2 (ja) * | 1997-02-28 | 2007-08-29 | オリンパス株式会社 | 光学薄膜の成膜方法および成膜装置 |
| FR2793889B1 (fr) * | 1999-05-20 | 2002-06-28 | Saint Gobain Vitrage | Substrat transparent a revetement anti-reflets |
| EP2128658A3 (en) * | 2008-05-22 | 2011-05-11 | Fujinon Corporation | Reflection reducing film, optical member and optical system |
| US20120212830A1 (en) * | 2011-02-23 | 2012-08-23 | Qioptiq Photonics GmbH | Nonpolarizing beam splitter |
| JP5932251B2 (ja) * | 2011-06-17 | 2016-06-08 | キヤノン株式会社 | フッ化膜形成方法及び光学素子の製造方法 |
| US20140147594A1 (en) * | 2012-11-27 | 2014-05-29 | Intermolecular Inc. | Magnesium Fluoride and Magnesium Oxyfluoride based Anti-Reflection Coatings via Chemical Solution Deposition Processes |
-
2013
- 2013-12-13 JP JP2013258141A patent/JP6366263B2/ja active Active
-
2014
- 2014-12-05 WO PCT/JP2014/006108 patent/WO2015087534A1/en active Application Filing
- 2014-12-05 US US15/103,781 patent/US10114150B2/en active Active
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| JP2009186611A5 (ja) | ||
| JP2012137747A5 (ja) | ||
| JP2014078152A5 (ja) | ||
| JP2007063574A5 (ja) | ||
| JP2011257689A5 (ja) |