JP2007059306A5 - - Google Patents
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Claims (17)
- 一対の電極間の少なくとも一方に誘電体を設け、一方の電極上に被処理物を載置し、前記電極間に処理用ガスを供給しつつ電極間に高周波電力を供給することで、電極間に大気圧近傍の圧力下でプラズマを生成させ、前記被処理物を処理するプラズマ処理方法において、前記被処理物は少なくとも非平面形状の被処理面を有し、かつ被処理面に照射されるプラズマ状態のガスの流速を被処理面内で不均一にすることで前記被処理物を処理することを特徴とするプラズマ処理方法。
- 処理用ガスは複数系統で供給し、１つ以上のガス系統でガスの供給流量が異なることを特徴とする請求項１記載のプラズマ処理方法。
- 被処理面と電極のなす距離が大きい領域ではプラズマ状態のガスの流速を大きくし、被処理面と電極のなす距離が小さい領域ではプラズマ状態のガスの流速を小さくすることを特徴とする請求項２記載のプラズマ処理方法。
- 一対の電極間の少なくとも一方に誘電体を設け、一方の電極上に被処理物を載置し、前記電極間に処理用ガスを供給しつつ電極間に高周波電力を供給することで、電極間に大気圧近傍の圧力下でプラズマを生成させ、前記被処理物を処理するプラズマ処理方法において、プラズマ状態のガスが不活性ガスを含み、かつ不活性ガスの濃度を被処理面内で不均一にすること
を特徴とするプラズマ処理方法。 - 処理用ガスは複数系統で供給し、被処理面の形状に合わせて、不活性ガスの濃度が面内で不均一になるように、１つ以上のガス系統で不活性ガス濃度が異なることを特徴とする請求項４記載のプラズマ処理方法。
- 被処理面内で、被処理面と電極のなす距離が大きい領域では不活性ガスの濃度を高くし、被処理面と電極のなす距離が小さい領域では不活性ガスの濃度を低くすることを特徴とする請求項４に記載のプラズマ処理方法。
- 一対の電極間の少なくとも一方に固体誘電体を設け、電極に連結可能な高周波電源と電極間に処理用ガスを供給できるガス供給装置を設け、電極内部のガス流路を経由して、被処理物の被処理面全面に処理用ガスを供給することが可能なガス噴出面を設けたプラズマ処理装置において、
ガス噴出面が複数のガス噴出口を備え、全てのガス噴出口のうち開口断面積の大きさが異なるものを１つ以上備えること
を特徴とするプラズマ処理装置。 - ガス噴出口の開口断面積の大きさが、ガス噴出面内の中心部から外周部に向かって段階的に大きく、もしくは小さくなることを特徴とする請求項７記載のプラズマ処理装置。
- 一対の電極間の少なくとも一方に固体誘電体を設け、電極に連結可能な高周波電源と電極間に処理用ガスを供給できるガス供給装置を設け、電極内部のガス流路を経由して、被処理物の被処理面全面に処理用ガスを供給することが可能なガス噴出面を設けたプラズマ処理装置において、
ガス噴出面が複数のガス噴出口を備え、全てのガス噴出口のうち電極内部のガス流路の長さが異なるものを１つ以上備えること
を特徴とするプラズマ処理装置。 - ガス噴出面内において、電極内部のガス流路の長さが、中心部から外周部に向かって段階的に長く、もしくは短くなることを特徴とする請求項９記載のプラズマ処理装置。
- 単位面積あたりにおけるガス噴出口の開口断面積の総和が、ガス噴出面内全面でほぼ一定であることを特徴とする請求項７または９に記載のプラズマ処理装置。
- 一対の電極間の少なくとも一方に固体誘電体を設け、電極に連結可能な高周波電源と電極間に処理用ガスを供給できるガス供給装置を設け、電極内部のガス流路を経由して、被処理物の被処理面全面に処理用ガスを供給することが可能なガス噴出面を設けたプラズマ処理装置において、
ガス噴出面が複数のガス噴出口を備え、ガス噴出口の数が粗な部分と密な部分を設けていること
を特徴とするプラズマ処理装置。 - ガス噴出面内において、ガス噴出口の数の粗密が、中心部から外周部に向かって段階的に疎に、もしくは密になることを特徴とする請求項１２記載のプラズマ処理装置。
- 一対の電極間の少なくとも一方に固体誘電体を設け、電極間に処理用ガスを供給しつつ高周波電力を供給することで、大気圧近傍の圧力下でプラズマを生成し、プラズマ状態のガスを被処理物に対して照射し、平面でない被処理面をプラズマ処理する方法において、
プラズマから放出され、被処理物を透過し、且つ１５０ｎｍから９５０ｎｍの間のいずれ
かの波長の光を光検出器で検出しつつ、被処理物の表面を処理すること
を特徴とするプラズマ処理方法。 - 電極と光検出器の相対位置を変化させつつ検出した光を分光し、相対位置に対する所望の波長の強度の大きさのプロファイルを記録することを特徴とする請求項１４記載のプラズマ処理方法。
- プロファイルの形状からガスの流速、流量あるいは濃度を再計算し、プラズマ条件にフィードバックして、ガスの流速、流量あるいは濃度を変化させることを特徴とする請求項１５記載のプラズマ処理方法。
- 処理用ガスは複数系統で供給し、フィードバックされた発光強度プロファイルを相対位置に対して均一になるように、１つ以上のガス系統で処理用ガスの供給流量、流速および不活性ガス濃度を変化させることを特徴とする請求項１６記載のプラズマ処理方法。
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