JP2007039723A - 電解用の貴金属電極とその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】
Ti電極基材の上にPt層を有する、アルカリイオン整水器用の電極において、従来品よりも薄いPt層でありながら、寿命が延長された電極と、その製造方法を提供すること。
【解決手段】
Ti電極基材をスパッタリング装置に入れ、Arガスを用いたエッチングにより表面に存在するTiOを除去したのち、Tiターゲットを用いてTiのスパッタリングを行なってTiスパッタ層を形成し、つぎに雰囲気にアセチレンおよび窒素ガスを導入してTiCNのスパッタ層を形成し、最後にPtのスパッタリングを行なってPt表面層を形成する。下記の表面層構成を有する電極が得られる。
(内部) (表面)
Ti電極基材/Tiスパッタ層/TiCNスパッタ層/Ptスパッタ層
【選択図】 図1

Description

本発明は、改良された電解用の貴金属電極と、その製造方法に関する。本発明において、「貴金属」とは、Pt,Ir,Ru,RhおよびPdの総称であり、「PVD」とは、スパッタリングおよびイオンプレーティングを含めた物理的蒸着処理を意味し、「Ti電極基材」とは、純Tiだけでなく、いわゆるバルブ合金のようなTi合金で製造した電極基材を包含する語である。本発明は、とくに貴金属としてPtを用いたアルカリイオン整水器の電極に適用した場合に好適であるから、以下、これを代表として説明を進める。
アルカリイオン整水器、すなわち隔膜を存在させて水を電解し、陽極においてアルカリ性の水を得、陰極において酸性の水を得る装置に使用する電極は、通常、Tiの電極基材の表面に、Ptの層を電解メッキにより設けることにより製造している。Ti電極基材は、まず酸によるエッチングを行なってその表面を粗面化し、メッキされるPtの密着性を高くしている。
電極基材としてTiを選択した場合の問題は、長期の電極使用にともなって、陽極のTi基材の表面に酸化物被膜が形成され、これが電気的に絶縁性であるため、電極表面の抵抗が高まることにある。この問題の解決策として、Ti表面にPtなどの貴金属層を設けてから、Irまたは酸化Irの被膜を設けることが行なわれている。
水溶液電解において酸素発生用電極として用いる、Ti電極基材上に白金属金属またはその酸化物からなる電極活物質の被覆を設けた電極の耐久性を向上させることを意図して、Ti基材と電極活物質との間の中間層として、Taのスパッタ膜を存在させ、
電極活物質層/Taへの白金族金属の拡散層/Taスパッタ層/Ti基体
となる構造をつくったものが提案されている。スパッタリングによりTi基材の表面に形成されたTa層は、電極活物質を表面に担持する際の熱処理により、結晶構造がβ相からα相に変化し、電極活物質とTaとの合金層が形成される(特許文献1)。
特開平6−306669
アルカリイオン整水器などの電極を、Ti電極基材の上にPt層を電解メッキして形成する従来の技術によって製造するときは、メッキ膜厚が、基材上の場所による電流分布の差異によって異なるという問題がある。具体的には、エッジとそれに近い部分は電流密度が高くなり、メッキ層が厚くなる。そこで、電極の製造に当たっては、メッキ膜厚の平均値および最低膜厚で管理しているのが現状である。通常、Pt層の厚さは、陰極用は0.15μm程度であるが、陽極用は0.25μmまたはそれ以上となる。この程度のPt層を設けても、電極寿命は、アルカリイオン整水器において、毎日15分間使用したとして5年程度であり、耐久力の向上が求められていた。
発明者らは、スパッタリング技術による薄膜の形成が、電解メッキによるよりは薄く均一な膜厚を実現する上で有利であることに注目し、Ti電極基材の上にPt層を有する電極の製造に利用することを着想した。鋭意研究の結果、Pt層の下にTi(C,N)のスパッタ層を設けることが、電極の耐久性を高める上で効果的であること、同様の効果はスパッタリングに限らず、イオンプレーティングなど、PVD処理により得られること、またこの効果が、Pt以外の貴金属についても得られることを見出して、本発明に至った。
本発明の目的は、上記した発明者らが得た新知見を活用し、Ti電極基材の上に貴金属の層を有する電極において、従来品よりも薄い貴金属層でありながら、寿命が延長された電解用の電極を提供すること、およびその製造方法を提供することにある。
本発明の電解用電極は、図1に示すように、下記の表面層構成を有する。
(内部) (表面)
Ti電極基材/TiPVD層/Ti(C,N)PVD層/貴金属PVD層
ここで「Ti(C,N)」は、TiC、TiNおよびTiCNのさまざまな割合の混合物を意味し、組成としては、TiCxNy(0≦x≦1、0≦y≦1、x+y=1)と表わすことができる。
上記の電解用白金電極を製造する本発明の方法は、Ti電極基材をPVD処理装置に入れ、Arガスを用いたエッチングにより、表面に存在する酸化被膜を除去したのち、TiのPVD処理、たとえばTiターゲットを用いたTiのスパッタリングによってTiPVD層を形成し、つぎに雰囲気にアセチレンおよび窒素ガスを導入してTi(C,N)のスパッタ層を形成し、最後に貴金属のPVD処理、たとえばこれもPtのスパッタリングを行なって、貴金属の表面層を形成することからなる。
本発明の電解用の貴金属電極は、PVD処理によって貴金属の表面層を形成するから、膜厚が均一であり、したがって、従来の電解メッキによるPt層などよりも薄い層であっても、その膜厚管理が容易であり、均一な厚さの貴金属層を得ることができる。アルカリイオン整水器においては、電極寿命はPt層の最少膜厚によって決定され、両者はほぼ比例関係にあることが確認されている。つまり、Ptメッキ層の最少厚さが半分であれば、電極寿命は半分である。本発明に従った場合、アルカリイオン整水器の陽極であれば、Pt層の厚さを、陰極用の0.15μmよりも薄い0.10μm台前半の薄いものにしてもなお、従来の約2倍の長寿命を享受することができる。
この理由としては、まずTi電極基材上のアンダーレイヤーとして設けるTi層がスパッタリングなどのPVD処理により設けられたものであって、基材とよく密着していること、また、その上のTi(C,N)の層もまたスパッタリングのようなPVD処理により設けられ、Ti原子の拡散によりTiアンダーレイヤー層とよく一体化していること、さらに、表層のPt層もTi(C,N)層へのスパッタリングで代表されるPVD処理により設けられ、それとよく密着していることが挙げられる。Ti(C,N)は導電性を有し、電解液に接触しても変化しないから、Ti基材からPt層に至る電極全体の導電性は、長期の使用によっても低下することがない。
スパッタリング技術は、形成する膜厚の管理が容易であるから、電解メッキによってPt層を形成していた従来技術よりも薄く、均一な膜を、高度にコントロールした状態で実現することができる。本発明の製造方法において、PVD処理としてスパッタリングを行なった場合は、上述のアンダーレイヤーTi層形成以降の全工程をスパッタリングにより実施し、ターゲットの交換および雰囲気の調節により各工程が行えるので、電極製造の所要時間は短い。このことは、高価な貴金属の使用量を半減することができることとあいまって、電極自体のコストを低減するのに役立つ。電極が長寿命であると、それを使用するアルカリイオン整水器をはじめとする電解装置の寿命を長くでき、または運転コストを節減することができる。
上記した本発明の効果は、PVD処理の方法として、スパッタリングでなくイオンプレーティングなどの技術を採用した場合でも、また、貴金属としてPt以外のものを選択した場合でも、同様に得られる。
Ti(C,N)層の組成は、PVD操作の条件を調節することによって、ある範囲内で変化させることができる。具体的には、主としてPVD処理の雰囲気に導入するNガスおよびアセチレンガスの分圧をコントロールすることによって、TiCxNyで表わされる生成物において、0≦x≦1、0≦y≦1(x+y=1)の範囲内で制御することができる。本発明の目的にとって好ましいのは、C:N=1:1前後のものである。
本発明の電解用電極の各層の厚さは、アルカリイオン整水器用の電極の場合、製造所要時間およびコストと、使用寿命とのバランスを考えて、下記の範囲が好適である。
Ti層:0.01〜0.10μm
Ti(C,N)層:0.05〜0.50μm
Pt層:基本的には任意であるが、0.05〜2.0μm
Ti層は、電極基体のTiとTi(C,N)層とを密着させる活性な金属層でなければならず、そのためには10nm(0.01μm)以上の厚さをもつ必要がある。それ以上であれば、0.10μmを超える厚い層であってもかまわないが、コスト面からは薄い方が有利である。Ti(C,N)層は、この電極を陽極として使用したときにTi層が酸化されないよう、0.05μm以上の厚さをもつ必要がある。この層は、厚いことが好ましいが、やはりコストの問題で0.50μmという一応の限度を設けた。Pt層の厚さは、電極に期待する寿命を考慮して決定すべきであって、前述したように、使用条件が、陽極用は相対的に過酷であり陰極用は穏和であるから、前者は厚めにし、後者は薄めでよい。
純Tiの縦135mm、横42mm、厚さ0.5mmの板をスパッタリング装置に入れ、下記の条件で装置を運転することにより、図1に示した表面層構成の電解用電極を製造した(実施例)。
雰囲気 圧力(Torr) 時間(分) ターゲット
清浄化工程 Ar 2×10-2 10 −
Ti層形成 Ar 3×10-3 2 Ti
Ti(C,N)層形成 Ar:N2:C22 3.5×10-3 5 Ti
ガス成分比 40:8:3
Pt層形成 Ar 1.5×10-3 30 Pt
比較のため、同じTi電極基材の上に、清浄化工程に続いて直ちにPt層をスパッタリングにより形成したもの(比較例)、および、従来技術に従って、エッチング−Pt電解メッキの工程を行なって得た電極(従来例)を用意した。各電極のPt層の厚さはつぎのとおりである。
陽極用(μm) 陰極用(μm)
実施例 0.13 0.13
比較例 0.13 0.14
従来例 0.22 0.21
これらの電極を、陽極用と陰極用の1対ずつ使用し、水道水に対して直流電流を流す電解を実施した。電流を正方向に50秒間流した後、逆方向に10秒間流すサイクルを繰り返し、12日間連続的に電解して、その間の電流値の変化を記録した。この逆方向の電流を流すのは、アルカリイオン整水器の電極の場合、陰極にカルシウムなどが付着して機能を損なうことを防ぐ、洗浄の目的で逆方向に通電する操作をシミュレートして行なうものである。
実際の使用条件は、通常、15分間使用(正方向に通電)して20秒間洗浄(逆方向に通電)する。この電流の方向の変換は、電極の寿命に大きな影響を与えることがわかっており、実際の使用条件にくらべると、上記のシミュレーションは、一種の促進試験であって、1日の促進試験が、実際のアルカリイオン整水器の使用1年分に相当すると考えられる。電極寿命としては、電解電流が初期値の80%に低下したときをもって限界としている。前述のように、アルカリイオン整水器の寿命は、通常の使用状況で約5年であるから、電解用電極としては5日の促進試験に耐えられることが必要であるが、使用条件のバラツキを考慮すると、7〜8日の促進試験に耐えることが望ましい。
電解時間の経過に伴う電解電流の値は、図2(正電解すなわち陽極側として通電する時間が圧倒的である電極)および図3(負電解すなわち陰極側として通電する時間が圧倒的である電極)に、それぞれ示す。図2のグラフによれば、本発明の実施例は、Pt層の厚さが0.13μmと、従来例(メッキ製品)の厚さ0.22μmの半分近い薄さであるが、ほぼ同等の寿命を示している。前記したように、電極寿命とPt層の厚さとは比例関係にあるから、本発明の電極において従来例と同じ厚さのPt層を与えたならば、2倍近い寿命を示すことが明らかである。
本発明は、上記したように、アルカリイオン整水器、すなわち水を電解して酸性水とアルカリ性水とを得る装置のPt電極に適用した場合とくに好適なものであるが、適用場面はこれに限らず、一般にTi電極基材に白金族金属の被覆層を設けた電極であって、いわゆる機能性水、すなわち強酸性水や次亜塩素酸水を製造する装置、さらには高周波還元水を製造する装置などに適用できる。本発明の電極をそれらの装置に採用することにより、メンテナンスが簡易にでき、かつ、装置の建設および運転のコストが低減される。
本発明に従う電解用電極の一例について、その表面の層構成を示す概念的な断面図。 本発明の実施例のデータであって、電解時間の経過に伴う電極電流値の変化を、陽極側について記録したグラフ。図2において、グラフの符号1は従来例、2は実施例、3は比較例を示す。 本発明の実施例のデータであって、電解時間の経過に伴う電極電流値の変化を、陰極側について記録したグラフ。図3においても、グラフの符号1は従来例、2は実施例、3は比較例を示す。
符号の説明
1 Ti電極基材
2 Tiスパッタ層
3 Ti(C,N)スパッタ層
4 Ptスパッタ層

Claims (5)

  1. 下記の表面層構成を有する電解用の貴金属電極。
    (内部) (表面)
    Ti電極基材/TiPVD層/Ti(C,N)PVD層/貴金属PVD層
  2. Ti(C,N)PVD層の組成が、TiCxNy(0≦x≦1、0≦y≦1、x+y=1)である請求項1の貴金属電極。
  3. 各層の厚さが下記の範囲にある請求項1の貴金属電極。
    TiPVD層: 0.01〜0.10μm
    Ti(C,N)PVD層:0.05〜0.50μm
    貴金属PVD: 0.05〜2.00μm
  4. 貴金属がPtである、アルカリイオン整水器に用いる請求項1の貴金属電極。
  5. Ti電極基材をPVD装置に入れ、Arガスを用いたエッチングにより表面に存在する酸化被膜を除去したのち、TiのPVDを行なってTi電極基材上にTiPVD層を形成し、つぎに雰囲気にアセチレンおよび窒素ガスを導入してTi(C,N)のPVD層を形成し、最後に貴金属のPVDを行なって貴金属表面層を形成することからなる電解用の貴金属電極の製造方法。

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013503967A (ja) * 2009-09-03 2013-02-04 インドゥストリエ・デ・ノラ・ソチエタ・ペル・アツィオーニ 連続プロセスでの真空蒸着技術による電極表面の活性化
JP2014181408A (ja) * 2013-03-18 2014-09-29 Robert Bosch Gmbh Pem電解槽の陽極のチタンコンポーネントにおけるパッシベーション酸化物層のインサイチュ還元方法
JP2014181407A (ja) * 2013-03-18 2014-09-29 Robert Bosch Gmbh Pem電解槽の陽極のチタンコンポーネントにおけるパッシベーション酸化物層の改善されたインサイチュ還元方法
JP2016510088A (ja) * 2013-02-12 2016-04-04 トレードストーン テクノロジーズ インク 電解槽用金属部品の耐食性導電表面
JP2020153000A (ja) * 2019-03-22 2020-09-24 株式会社豊田中央研究所 電気化学反応デバイス

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61500321A (ja) * 1983-11-02 1986-02-27 ヘレウス・エレクトロデン・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクタ−・ハフツング 極性反転可能な電極
JP2005513276A (ja) * 2002-01-03 2005-05-12 バイエル マテリアルサイエンス アーゲー 酸性媒質における電気分解用の電極
JP2006130486A (ja) * 2004-11-02 2006-05-25 Kurieiteitsuku Japan:Kk 窒化チタン被膜上に貴金属コーティングをした構造体

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61500321A (ja) * 1983-11-02 1986-02-27 ヘレウス・エレクトロデン・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクタ−・ハフツング 極性反転可能な電極
JP2005513276A (ja) * 2002-01-03 2005-05-12 バイエル マテリアルサイエンス アーゲー 酸性媒質における電気分解用の電極
JP2006130486A (ja) * 2004-11-02 2006-05-25 Kurieiteitsuku Japan:Kk 窒化チタン被膜上に貴金属コーティングをした構造体

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013503967A (ja) * 2009-09-03 2013-02-04 インドゥストリエ・デ・ノラ・ソチエタ・ペル・アツィオーニ 連続プロセスでの真空蒸着技術による電極表面の活性化
JP2016510088A (ja) * 2013-02-12 2016-04-04 トレードストーン テクノロジーズ インク 電解槽用金属部品の耐食性導電表面
JP2014181408A (ja) * 2013-03-18 2014-09-29 Robert Bosch Gmbh Pem電解槽の陽極のチタンコンポーネントにおけるパッシベーション酸化物層のインサイチュ還元方法
JP2014181407A (ja) * 2013-03-18 2014-09-29 Robert Bosch Gmbh Pem電解槽の陽極のチタンコンポーネントにおけるパッシベーション酸化物層の改善されたインサイチュ還元方法
JP2020153000A (ja) * 2019-03-22 2020-09-24 株式会社豊田中央研究所 電気化学反応デバイス

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