JP2007038502A - タイヤ加硫成形用金型の洗浄方法及びその装置 - Google Patents

タイヤ加硫成形用金型の洗浄方法及びその装置 Download PDF

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Abstract

【課題】高周波放電により発生した高密度プラズマをバイアス放電により、これによりモールドの汚れ面の高速エッチングを可能として洗浄処理時間の短縮化を図ることが出来るタイヤ加硫成形用金型の洗浄方法及びその装置を提供する。
【解決手段】電極テーブル4は、下部電極9a,9b及び絶縁体10aを介して洗浄処理槽3の床面3a上に設置され、この床面3aに、前記フィルター1,真空ポンプ2等の減圧手段が接続されて排気を行うように構成されている。前記下部電極9a,9bには、絶縁体10bを介して40〜100KHzに設定したバイアス電圧を印加するバイアス電源11が接続されている。高周波電源5と前記バイアス電源11とには、高周波電力の出力、及びこの高周波電力の印加に対応してバイアス電源の出力を段階的に上げて制御するステップ制御装置12が接続してあり、それぞれの出力を段階的に上げてステップ制御を行うように構成してある。
【選択図】 図1

Description

この発明は、タイヤ加硫成形用金型の洗浄方法及びその装置に係わり、更に詳しくは高密度プラズマをモールド汚れ面に効率良く発生させてタイヤ加硫成形用金型の洗浄スピードを速めて、洗浄時間の短縮を図ることが出来るタイヤ加硫成形用金型の洗浄方法及びその装置に関するものである。
従来、タイヤ加硫成形用金型の洗浄装置としては、例えば、図3及び図4に示すようにフィルター1,真空ポンプ2等の減圧手段を接続した洗浄処理槽3内の電極テーブル4上に、高周波電源5(13.56MHzの高周波発振器)及びオートチューニング装置6を介して接続された板状の電極7(パワー電極)を鉛直向きに配置し、前記洗浄処理槽3の一部に、前記板状の電極7に相対向して配置したセクターモールドWと板状の電極7との間に反応ガスQを供給すると共に、モールドWの汚れ面Wxと前記板状の電極7との間に反応ガスQを噴射させながらプラズマZを生成させ、プラズマ放電と反応ガスQとの化学反応によってセクターモールドWの汚れを除去するように構成している(例えば、特許文献1参照)。
なお、前記オートチューニング装置6とは、高周波電源5の出力とプラズマ負荷との両者のインピーダンスマッチングを取ることによって高周波電力の反射波Sをなくし、進行波電力の出力波Saを効率良く負荷側に電送する装置である。
ところで、近年スタッドレスタイヤのパターンの微細化、三次元サイプ、マイクログルーブの採用等で、モールドの物理的ダメージの少ないプラズマクリーニングへ移行してきているが、タイヤ加硫成形用金型の洗浄方法に使用されるプラズマクリーニングの課題としては、処理時間が従来の洗浄方法(ショットブラスト等)に比べて処理時間が長いことであり、特にスタッドレスの汚れが酷いモールドは少なくとも2回以上プラズマ処理し、処理能力(処理時間)を更に悪化させる傾向にあった。
特開2001−293729号公報
この発明はかかる従来の問題点に着目し、高周波放電により発生した高密度プラズマをバイアス放電により大きいイオン衝撃エネルギーに発生させて加速し、これによりモールドの汚れ面の高速エッチングを可能として洗浄処理時間の短縮化を図ることが出来るタイヤ加硫成形用金型の洗浄方法及びその装置を提供することを目的とするものである。
この発明は上記目的を達成するため、この発明のタイヤ加硫成形用金型の洗浄方法は、板状の電極にプラズマ生成用の高周波電力を供給すると共に、前記セクターモールドの下面の電極テーブルにバイアス電圧を印加することを要旨とするものである。
ここで、前記高周波電力の出力を段階的に上げてステップ制御を行い、また前記バイアス電圧の印加の開始を、プラズマ生成用の高周波電力の印加と同時、または所定時間遅延させ、バイアス電圧の出力を段階的に上げてステップ制御を行うものである。また前記セクターモールドを前記洗浄処理槽内に配設する前に所定温度に予熱・加温する。
また、この発明のタイヤ加硫成形用金型の洗浄装置は、セクターモールドを載置する電極テーブルにバイアス電源を接続したことを要旨とするものである。
ここで、前記高周波電源と板状の電極との接続回路にオートチューニング装置を設け、前記高周波電源と前記バイアス電源とに、高周波電力の出力、及びこの高周波電力の印加に対応してバイアス電源の出力を段階的に上げて制御するステップ制御装置を接続するものである。
また、前記洗浄処理槽の近傍に、洗浄するセクターモールドを予め所定の温度に予熱する予熱・加温装置を設置し、前記板状の電極を、アルミ一体構造に構成し、セクターモールドと相対しない面を絶縁体で覆うように構成し、更に前記洗浄処理槽の下部に、減圧排気手段を接続して構成するものである。
このように構成することで、高周波放電により発生した高密度プラズマをバイアス放電により大きいイオン衝撃エネルギーに発生させて加速し、これによりモールドの汚れ面の高速エッチングを可能として洗浄処理時間の短縮化を図ることが出来る。
即ち、板状の電極の一方にプラズマ生成用の高周波電力を供給し、他方の電極にバイアス電圧を印加することにより、セクターモールド側に負のセルフバイアス電圧が形成され、プラズマ中の正イオンがこのセルフバイアス電圧により加速されセクター側(陰極)に引っ張られることで、大きいイオン衝撃エネルギーを発生させ、これによりモールドの汚れ面の高速エッチングを可能とするものである。
この発明は上記のように構成したので、以下のような優れた効果を奏するものである。(a).板状の電極にプラズマ生成用の高周波電力を供給すると共に、前記セクターモールドの下面の電極テーブルにバイアス電圧を印加することにより、高密度プラズマをモールド汚れ面に効率良く発生させてタイヤ加硫成形用金型の洗浄スピードを速めて、洗浄時間の短縮を図ることが出来る。
(b).またバイアス電圧を、例えば、40〜100KHzに設定することで、バイアス電圧の周期が長くなり、バイアス用のチューニング装置を設置する必要がない。
(c).高周波電力の出力と、バイアス電圧の出力を段階的に上げるステップ制御を行うことにより、チューニングが追従し易くなりプラズマが安定し、精度の高いプラズマ洗浄を行うことが出来る。
(d).更に、洗浄処理槽の近傍に、洗浄するタイヤ加硫成形用金型を予め所定の温度に予熱する予熱・加温装置を設置し、セクターモールドを前記洗浄処理槽内に配設する前に例えば、100°C〜160°Cに予熱・加温することで、セクターモールドの湿気を除去し、真空度を早期に安定させてプラズマを活性化させモールド温度が設定温度まで上昇する時間の短縮化を図ることが出来る。
以下、添付図面に基づき、この発明の実施形態を説明する。なお、従来例と同一構成要素は、同一符号を付して説明は省略する。
図1は、この発明のタイヤ加硫成形用金型の洗浄方法を実施するための洗浄装置の概略縦断正面図、図2は図1の概略縦断側面図を示し、3はフィルター1,真空ポンプ2等の減圧手段を接続した洗浄処理槽、4は洗浄処理槽3内に配設されたセクターモールドWを載置する電極テーブル4を示し、前記洗浄処理槽3内には、高周波電源5(電波法で工業周波数と定められている13.56MHzの高周波発振器)及びオートチューニング装置6を介して接続されたアルミ一体構造の板状の電極7(パワー電極)が鉛直向きに吊設され、この電極7は、セクターモールドWと相対しない面を絶縁体で覆うように構成してある。
前記洗浄処理槽3の側面の一部には、前記板状の電極7に相対向して配置したセクターモールドWと板状の電極7との間に反応ガスQ(酸素と四フッ化炭素の混合気体)を供給する反応ガス供給装置8が接続され、この反応ガス供給装置8によりモールドWの汚れ面Wxと前記板状の電極7との間に反応ガスQを噴射させながらプラズマZを生成させ、プラズマ放電と反応ガスQとの化学反応によってセクターモールドWの汚れを除去するように構成している。
前記電極テーブル4は、下部電極9a,9b及び絶縁体10aを介して洗浄処理槽3の床面3a上に設置され、この床面3aに、前記フィルター1,真空ポンプ2等の減圧手段が接続されて排気を行うように構成されている。前記下部電極9a,9bには、絶縁体10bを介して40〜100KHzに設定したバイアス電圧を印加するバイアス電源11が接続されている。
また、前記高周波電源5と前記バイアス電源11とには、高周波電力の出力、及びこの高周波電力の印加に対応してバイアス電源の出力を段階的に上げて制御するステップ制御装置12が接続してあり、それぞれの出力を段階的に上げてステップ制御を行うように構成してある。なお、この実施形態では、バイアス電圧の印加の開始を、プラズマ生成用の高周波電力の印加と同時、または10秒〜5分間遅延させ、バイアス電圧の出力を段階的に上げてステップ制御を行うことが好ましい。なお、バイアス電圧の印加の開始を高周波電力の印加と同時、または10秒〜5分間に設定することで、オートチューニング装置6が追従し易くなる。
また、この発明では前記洗浄処理槽3の近傍に、洗浄するセクターモールドWを予め所定の温度に予熱する図示しない予熱・加温装置が設置してあり、これによりセクターモールドWを前記洗浄処理槽3内に配設する前に100°C〜160°Cに予熱・加温することで、セクターモールドWの湿気を除去し、真空度を早期に安定させてプラズマを活性化させモールド温度が設定温度まで上昇する時間の短縮化を図ることが出来る。
前記洗浄処理槽3内は、フィルター1,真空ポンプ2等の減圧手段により60〜90Paの減圧雰囲気に維持されるように設定され、また反応ガスQは、酸素と四フッ化炭素の混合気体を使用し、噴射圧力0.15MPaで、流量400SCCM、100SCCMで洗浄処理槽1内に噴射させるように構成している。
なお、この発明の実施形態では、スタッドレスタイヤの場合、3Kw/80分で2回処理していたのをバイアス電圧を1Kw印加することにより1回に短縮出来た。
この発明は、上記のように構成され、洗浄処理槽3内の電極テーブル4上にセクターモールドWの汚れ面Wxが板状の電極7と相対向する位置に配置し、前記洗浄処理槽3内を減圧雰囲気にした状態で、前記モールドWの汚れ面Wxと前記板状の電極7との間に反応ガスQを噴射させながらプラズマZを生成させる。
そして、プラズマ放電と反応ガスQとの化学反応によってセクターモールドWの汚れ面Wxを洗浄する際、前記板状の電極7にプラズマ生成用の高周波電力(13.56MHz)を供給すると共に、前記セクターモールドWの下面の電極テーブル4にバイアス電圧(40〜100KHz)を印加する。
このように、バイアス電圧を印加することにより、セクター側に負のセルフバイアス電圧が形成され、プラズマ中の正イオンがこのセルフバイアス電圧により加速されセクター側(陰極)に引っ張られることで、大きいイオン衝撃エネルギーを発生させることが出来、この結果セクターモールドWの汚れ面の高速エッチングが可能となる。
これにより、高密度プラズマをモールド汚れ面に効率良く発生させてタイヤ加硫成形用金型の洗浄スピードを速めて、洗浄時間の短縮を図ることが出来るのである。なお、実験ではバイアス電圧を印加すると、セクターモールドWの骨の周りにイオンシースが集まり青白く発光するのを目で確認することが出来た。
また、この実施形態では、前記高周波電力の出力をステップ制御装置12を介して段階的に上げてステップ制御を行い、また前記バイアス電圧の印加の開始を、プラズマ生成用の高周波電力の印加と同時、または10秒〜5分間遅延させ、バイアス電圧の出力を段階的に上げてステップ制御を行うことで、チューニングが追従し易くなりプラズマが安定し、精度の高いプラズマ洗浄を行うことが出来る。
この発明のタイヤ加硫成形用金型の洗浄方法を実施するための洗浄装置の概略縦断正面図である。 図1の概略縦断側面図である。 従来の洗浄装置の概略縦断正面図である。 図3の概略縦断側面図である。
符号の説明
1 フィルター 2 真空ポンプ
3 洗浄処理槽 4 電極テーブル
5 高周波電源 6 オートチューニング装置
7 電極 Q 反応ガス
8 反応ガス供給装置 Z プラズマ
9a,9b 下部電極
10a,10b 絶縁体 11 バイアス電源
12 ステップ制御装置
W セクターモールド Wx 汚れ面

Claims (9)

  1. 洗浄処理槽内の電極テーブル上にセクターモールドの汚れ面を板状の電極と相対向する位置に配置し、前記洗浄処理槽内を減圧雰囲気にした状態で、前記モールド汚れ面と前記板状電極との間に反応ガスを噴射させながらプラズマを生成させ、プラズマ放電と反応ガスとの化学反応によってセクターモールドの汚れ面を洗浄するタイヤ加硫成形用金型の洗浄方法において、
    前記板状の電極にプラズマ生成用の高周波電力を供給すると共に、前記セクターモールドの下面の電極テーブルにバイアス電圧を印加することを特徴とするタイヤ加硫成形用金型の洗浄方法。
  2. 前記高周波電力の出力を段階的に上げてステップ制御を行う請求項1に記載のタイヤ加硫成形用金型の洗浄方法。
  3. 前記バイアス電圧の印加の開始を、プラズマ生成用の高周波電力の印加と同時、または所定時間遅延させ、バイアス電圧の出力を段階的に上げてステップ制御を行う請求項1または2に記載のタイヤ加硫成形用金型の洗浄方法。
  4. 前記セクターモールドを前記洗浄処理槽内に配設する前に所定温度に予熱・加温する請求項1,2または3に記載のタイヤ加硫成形用金型の洗浄方法。
  5. 減圧排気手段を接続した洗浄処理槽内の電極テーブル上に、高周波電源と接続された板状の電極を鉛直向きに配置し、前記洗浄処理槽の一部に、前記板状の電極に相対向して配置したセクターモールドと板状の電極との間に反応ガスを噴射させる噴射孔を設けたタイヤ加硫成形用金型の洗浄装置において、
    前記セクターモールドを載置する電極テーブルにバイアス電源を接続したことを特徴とするタイヤ加硫成形用金型の洗浄装置。
  6. 前記高周波電源と板状の電極との接続回路にオートチューニング装置を設け、前記高周波電源と前記バイアス電源とに、高周波電力の出力、及びこの高周波電力の印加に対応してバイアス電源の出力を段階的に上げて制御するステップ制御装置を接続した請求項5に記載のタイヤ加硫成形用金型の洗浄装置。
  7. 前記洗浄処理槽の近傍に、洗浄するセクターモールドを予め所定の温度に予熱する予熱・加温装置を設置した請求項5または6に記載のタイヤ加硫成形用金型の洗浄装置。
  8. 前記板状の電極を、アルミ一体構造に構成し、セクターモールドと相対しない面を絶縁体で覆うように構成した請求項5,6または7に記載のタイヤ加硫成形用金型の洗浄装置。
  9. 前記洗浄処理槽の下部に、減圧排気手段を接続した請求項5,6,7または8に記載のタイヤ加硫成形用金型の洗浄装置。
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US11/988,829 US8012264B2 (en) 2005-08-02 2006-08-01 Method and apparatus for cleaning tire vulcanization mold
CNA2006800282707A CN101232984A (zh) 2005-08-02 2006-08-01 轮胎硫化模具的清洗方法以及装置
EP06782115.7A EP1911559B1 (en) 2005-08-02 2006-08-01 Method and apparatus for cleaning a tire vulcanization mold
KR1020087003380A KR101327650B1 (ko) 2005-08-02 2006-08-01 타이어 가황 금형의 세정 방법 및 장치
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102626702A (zh) * 2012-04-27 2012-08-08 成都聚合科技有限公司 一种清洗高倍聚光光伏光电转换接收器基板工艺
WO2015199113A1 (ja) * 2014-06-26 2015-12-30 横浜ゴム株式会社 モールドの洗浄システム

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102328343B (zh) * 2011-09-02 2013-10-30 王本淼 一种制作空腔构件用自动控制机械模具系统
CN105382978B (zh) * 2014-09-03 2021-09-10 山东豪迈机械科技股份有限公司 清洗工件的方法及设备、轮胎活络模具的清洗方法及设备
JP6583010B2 (ja) * 2016-01-19 2019-10-02 住友ゴム工業株式会社 ベントホール洗浄装置及びベントホール洗浄方法。
US10981345B2 (en) 2017-02-23 2021-04-20 Himile Mechanical Science And Technology (Shandong) Co., Ltd Method and apparatus for cleaning workpiece, and method and apparatus for cleaning (pore-free) tire segment mold
CN107442453A (zh) * 2017-08-31 2017-12-08 重庆市庆颖摩托车配件有限公司 一种轮胎清洗装置
CN111516209A (zh) * 2018-09-19 2020-08-11 张海亭 一种注塑模具进料口除渣设备的组成
CN111559103A (zh) * 2020-05-21 2020-08-21 中国科学院半导体研究所 用于轮胎模具的激光清洗装置及方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08207056A (ja) * 1995-02-07 1996-08-13 Bridgestone Corp 加硫金型を清浄するプラズマ生成装置及びその電極
JPH08216164A (ja) * 1995-02-17 1996-08-27 Bridgestone Corp 加硫金型の清浄方法
JPH1119945A (ja) * 1997-07-07 1999-01-26 Bridgestone Corp 加硫金型の清浄方法
JP2001293729A (ja) * 2000-04-17 2001-10-23 Yokohama Rubber Co Ltd:The タイヤ加硫成形用金型の洗浄方法
JP2005002432A (ja) * 2003-06-13 2005-01-06 Konica Minolta Holdings Inc プラズマエッチング装置並びにそれを用いた光学素子成形用金型に用いる母型の製作方法、光学素子成形用金型、光学素子成形用金型の製作方法、光学素子の製作方法及び光学素子
JP2005209273A (ja) * 2004-01-22 2005-08-04 Tdk Corp 磁性材を含む被加工体の加工方法及び磁気記録媒体の製造方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08244041A (ja) * 1995-03-13 1996-09-24 Bridgestone Corp 加硫金型の清浄方法
US5769953A (en) * 1995-05-01 1998-06-23 Bridgestone Corporation Plasma and heating method of cleaning vulcanizing mold for ashing residue
JPH11188743A (ja) * 1997-12-25 1999-07-13 Bridgestone Corp 加硫金型の清浄化方法及び装置
JPH11188742A (ja) * 1997-12-25 1999-07-13 Bridgestone Corp 加硫金型の清浄化方法及び装置
EP1879213B1 (en) * 1999-05-26 2012-03-14 Tokyo Electron Limited Plasma processing apparatus
JP4849705B2 (ja) * 2000-03-24 2012-01-11 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置、プラズマ生成導入部材及び誘電体
JP4219628B2 (ja) * 2001-07-27 2009-02-04 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置および基板載置台
TWI241868B (en) * 2002-02-06 2005-10-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd Plasma processing method and apparatus
JP4330949B2 (ja) * 2003-07-01 2009-09-16 東京エレクトロン株式会社 プラズマcvd成膜方法
KR20050004995A (ko) * 2003-07-01 2005-01-13 삼성전자주식회사 플라즈마를 이용하는 기판 가공 장치
JP4413084B2 (ja) * 2003-07-30 2010-02-10 シャープ株式会社 プラズマプロセス装置及びそのクリーニング方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08207056A (ja) * 1995-02-07 1996-08-13 Bridgestone Corp 加硫金型を清浄するプラズマ生成装置及びその電極
JPH08216164A (ja) * 1995-02-17 1996-08-27 Bridgestone Corp 加硫金型の清浄方法
JPH1119945A (ja) * 1997-07-07 1999-01-26 Bridgestone Corp 加硫金型の清浄方法
JP2001293729A (ja) * 2000-04-17 2001-10-23 Yokohama Rubber Co Ltd:The タイヤ加硫成形用金型の洗浄方法
JP2005002432A (ja) * 2003-06-13 2005-01-06 Konica Minolta Holdings Inc プラズマエッチング装置並びにそれを用いた光学素子成形用金型に用いる母型の製作方法、光学素子成形用金型、光学素子成形用金型の製作方法、光学素子の製作方法及び光学素子
JP2005209273A (ja) * 2004-01-22 2005-08-04 Tdk Corp 磁性材を含む被加工体の加工方法及び磁気記録媒体の製造方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102626702A (zh) * 2012-04-27 2012-08-08 成都聚合科技有限公司 一种清洗高倍聚光光伏光电转换接收器基板工艺
WO2015199113A1 (ja) * 2014-06-26 2015-12-30 横浜ゴム株式会社 モールドの洗浄システム
JP2016007845A (ja) * 2014-06-26 2016-01-18 横浜ゴム株式会社 モールドの洗浄システム
US10857747B2 (en) 2014-06-26 2020-12-08 The Yokohama Rubber Co., Ltd. Mold cleaning system

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