JPH11188743A - 加硫金型の清浄化方法及び装置 - Google Patents
加硫金型の清浄化方法及び装置Info
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- JPH11188743A JPH11188743A JP36723097A JP36723097A JPH11188743A JP H11188743 A JPH11188743 A JP H11188743A JP 36723097 A JP36723097 A JP 36723097A JP 36723097 A JP36723097 A JP 36723097A JP H11188743 A JPH11188743 A JP H11188743A
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- mold
- gas
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- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
- B29C33/70—Maintenance
- B29C33/72—Cleaning
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
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- B29C2033/725—Cleaning cleaning by plasma treatment
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- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 真空処理槽と、この真空処理槽内に配置
された電極と、この電極及び真空処理槽内に配置される
加硫金型とそれぞれ接続される高周波電源と、上記真空
処理槽に連結され、反応性ガスをこの槽内に導入するガ
ス導入管とを具備し、上記電極と加硫金型間に高周波電
源より電圧を印加して、上記真空処理槽内に導入された
反応性ガスにプラズマを生起させ、このプラズマを上記
加硫金型に作用させて、この金型表面のエラストマ残滓
をアッシングして除去するようにした加硫金型の清浄装
置において、上記ガス導入管にオゾナイザーを配設し
て、このオゾナイザーにより反応性ガスを励起させ、こ
の励起させた反応性ガスを上記真空処理槽内に導入する
ようにしたことを特徴とする金型の清浄装置。 【効果】 本発明によれば、加硫金型のエラストマ残滓
を短時間でかつ使用ガス量、排気ガス量を低減して効率
よく確実にアッシング除去することができる。
された電極と、この電極及び真空処理槽内に配置される
加硫金型とそれぞれ接続される高周波電源と、上記真空
処理槽に連結され、反応性ガスをこの槽内に導入するガ
ス導入管とを具備し、上記電極と加硫金型間に高周波電
源より電圧を印加して、上記真空処理槽内に導入された
反応性ガスにプラズマを生起させ、このプラズマを上記
加硫金型に作用させて、この金型表面のエラストマ残滓
をアッシングして除去するようにした加硫金型の清浄装
置において、上記ガス導入管にオゾナイザーを配設し
て、このオゾナイザーにより反応性ガスを励起させ、こ
の励起させた反応性ガスを上記真空処理槽内に導入する
ようにしたことを特徴とする金型の清浄装置。 【効果】 本発明によれば、加硫金型のエラストマ残滓
を短時間でかつ使用ガス量、排気ガス量を低減して効率
よく確実にアッシング除去することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ゴムタイヤ、防振
ゴム等のゴム製品、エラストマー等のプラスチック製品
などの加硫成形に繰返し用いられる加硫金型に生成した
上記材料からの残滓を除去する加硫金型の清浄化方法及
び装置に関する。
ゴム等のゴム製品、エラストマー等のプラスチック製品
などの加硫成形に繰返し用いられる加硫金型に生成した
上記材料からの残滓を除去する加硫金型の清浄化方法及
び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】エラス
トマー製品、とりわけゴムタイヤ製品や防振ゴム製品な
どは要求性能を満たすため、天然ゴム、合成ゴム又はこ
れらのブレンドゴムに硫黄等の架橋剤やカーボンブラッ
ク等の補強材などを配合するほか、加硫促進剤や各種耐
久性保持のための各種薬品を配合する必要がある。
トマー製品、とりわけゴムタイヤ製品や防振ゴム製品な
どは要求性能を満たすため、天然ゴム、合成ゴム又はこ
れらのブレンドゴムに硫黄等の架橋剤やカーボンブラッ
ク等の補強材などを配合するほか、加硫促進剤や各種耐
久性保持のための各種薬品を配合する必要がある。
【０００３】このようにして調合した未加硫ゴム組成物
を加硫成形する際、一般的に２００℃に近い高温度で架
橋反応などの化学反応を生じさせるので、ゴム組成物は
流動性を増すばかりでなく、一部がガス化し、その結
果、加硫金型の成形表面はもとより、金型の合せ面の極
く狭い隙間や空気抜きのいわゆるベントホールなどの穴
などにもゴム組成物及びその化学反応生成物が加硫成形
の都度、微量ながら残滓物として強固に付着するのは不
可避である。この加硫成形を多数回にわたり繰返すこと
により残滓物は看過し得ないほどの厚さで堆積する。こ
のことはゴム組成物に限らず他のエラストマーについて
も大同小異で同様に生じる。
を加硫成形する際、一般的に２００℃に近い高温度で架
橋反応などの化学反応を生じさせるので、ゴム組成物は
流動性を増すばかりでなく、一部がガス化し、その結
果、加硫金型の成形表面はもとより、金型の合せ面の極
く狭い隙間や空気抜きのいわゆるベントホールなどの穴
などにもゴム組成物及びその化学反応生成物が加硫成形
の都度、微量ながら残滓物として強固に付着するのは不
可避である。この加硫成形を多数回にわたり繰返すこと
により残滓物は看過し得ないほどの厚さで堆積する。こ
のことはゴム組成物に限らず他のエラストマーについて
も大同小異で同様に生じる。
【０００４】このような加硫金型に強固に付着堆積した
加硫残滓は成形品の外観、品質に悪影響を与えるため、
加硫金型から残滓を除去する必要がある。
加硫残滓は成形品の外観、品質に悪影響を与えるため、
加硫金型から残滓を除去する必要がある。
【０００５】従来、上記のような加硫金型に生成した残
滓をアッシングして除去する方法としては、真空処理槽
内に反応性ガスを導入すると共に、上記真空処理槽内に
配置され、高周波電源に接続された２個の電極間に電圧
を印加して、上記反応性ガスにプラズマを生起させ、こ
のプラズマを真空処理槽内に配置した加硫金型に作用さ
せて、この金型表面のエラストマ残滓を除去する方法が
知られている（特開平６−２８５８６８号、同８−２１
６１６４号、同８−２４４０４１号公報）。
滓をアッシングして除去する方法としては、真空処理槽
内に反応性ガスを導入すると共に、上記真空処理槽内に
配置され、高周波電源に接続された２個の電極間に電圧
を印加して、上記反応性ガスにプラズマを生起させ、こ
のプラズマを真空処理槽内に配置した加硫金型に作用さ
せて、この金型表面のエラストマ残滓を除去する方法が
知られている（特開平６−２８５８６８号、同８−２１
６１６４号、同８−２４４０４１号公報）。
【０００６】また、真空処理槽内に配置された加硫金型
の内面に向けて予めプラズマ化された反応性ガスをシャ
ワ管の多数の噴出孔から噴出させて、上記加硫金型にプ
ラズマ化された反応性ガスを作用させ、表面のエラスト
マ残滓をアッシングして除去するようにした加硫金型の
清浄方法も知られている（特開平８−３００３６６号公
報）。
の内面に向けて予めプラズマ化された反応性ガスをシャ
ワ管の多数の噴出孔から噴出させて、上記加硫金型にプ
ラズマ化された反応性ガスを作用させ、表面のエラスト
マ残滓をアッシングして除去するようにした加硫金型の
清浄方法も知られている（特開平８−３００３６６号公
報）。
【０００７】このように、プラズマによる加硫金型の清
浄化は公知であるが、高周波容量結合型のプラズマを用
いた加硫金型の清浄装置では、比較的装置自体の構造は
簡単であるが、プラズマの密度が低く、洗浄に時間がか
かる上、使用する反応性ガスの利用効率も低いため、多
量のガスを使用する必要があること、一方、マイクロ波
ダウンフロー方式等の異なる方式による高密度プラズマ
を用いる方法では、全体に均一にガスを吹き付けるのが
困難な場合が生じ、大型の金型を洗浄することが困難で
ある。
浄化は公知であるが、高周波容量結合型のプラズマを用
いた加硫金型の清浄装置では、比較的装置自体の構造は
簡単であるが、プラズマの密度が低く、洗浄に時間がか
かる上、使用する反応性ガスの利用効率も低いため、多
量のガスを使用する必要があること、一方、マイクロ波
ダウンフロー方式等の異なる方式による高密度プラズマ
を用いる方法では、全体に均一にガスを吹き付けるのが
困難な場合が生じ、大型の金型を洗浄することが困難で
ある。
【０００８】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、洗浄時間の短縮化が図れると共に、反応性ガスの供
給・排出量を削減することができ、洗浄する金型の大き
さ・形状を選ばず、良好に洗浄を行うことができ、簡便
な装置構成の加硫金型の清浄化方法及び装置を提供する
ことを目的とする。
で、洗浄時間の短縮化が図れると共に、反応性ガスの供
給・排出量を削減することができ、洗浄する金型の大き
さ・形状を選ばず、良好に洗浄を行うことができ、簡便
な装置構成の加硫金型の清浄化方法及び装置を提供する
ことを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するため、下記の加硫金型の清浄化方法及び装置を提
供する。
成するため、下記の加硫金型の清浄化方法及び装置を提
供する。
【００１０】請求項１：真空処理槽内に反応性ガスを導
入すると共に、それぞれ上記真空処理槽内に配置され、
高周波電源に接続された電極と加硫金型間に電圧を印加
して、上記反応性ガスにプラズマを生起させ、このプラ
ズマを上記加硫金型に作用させて、この金型表面のエラ
ストマ残滓をアッシングして除去するに際し、上記反応
性ガスを予めオゾナイザー中を通過させ、これによって
励起された反応性ガスを上記真空処理槽内に導入するよ
うにしたことを特徴とする加硫金型の清浄化方法。
入すると共に、それぞれ上記真空処理槽内に配置され、
高周波電源に接続された電極と加硫金型間に電圧を印加
して、上記反応性ガスにプラズマを生起させ、このプラ
ズマを上記加硫金型に作用させて、この金型表面のエラ
ストマ残滓をアッシングして除去するに際し、上記反応
性ガスを予めオゾナイザー中を通過させ、これによって
励起された反応性ガスを上記真空処理槽内に導入するよ
うにしたことを特徴とする加硫金型の清浄化方法。
【００１１】請求項２：真空処理槽と、この真空処理槽
内に配置された電極と、この電極及び真空処理槽内に配
置される加硫金型とそれぞれ接続される高周波電源と、
上記真空処理槽に連結され、反応性ガスをこの槽内に導
入するガス導入管とを具備し、上記電極と加硫金型間に
高周波電源より電圧を印加して、上記真空処理槽内に導
入された反応性ガスにプラズマを生起させ、このプラズ
マを上記加硫金型に作用させて、この金型表面のエラス
トマ残滓をアッシングして除去するようにした加硫金型
の清浄装置において、上記ガス導入管にオゾナイザーを
配設して、このオゾナイザーにより反応性ガスを励起さ
せ、この励起させた反応性ガスを上記真空処理槽内に導
入するようにしたことを特徴とする金型の清浄装置。
内に配置された電極と、この電極及び真空処理槽内に配
置される加硫金型とそれぞれ接続される高周波電源と、
上記真空処理槽に連結され、反応性ガスをこの槽内に導
入するガス導入管とを具備し、上記電極と加硫金型間に
高周波電源より電圧を印加して、上記真空処理槽内に導
入された反応性ガスにプラズマを生起させ、このプラズ
マを上記加硫金型に作用させて、この金型表面のエラス
トマ残滓をアッシングして除去するようにした加硫金型
の清浄装置において、上記ガス導入管にオゾナイザーを
配設して、このオゾナイザーにより反応性ガスを励起さ
せ、この励起させた反応性ガスを上記真空処理槽内に導
入するようにしたことを特徴とする金型の清浄装置。
【００１２】本発明においては、特に高周波容量結合型
プラズマのガス導入部分にオゾナイザーを複合すること
で、ガス導入時に反応性ガスがオゾナイザーを通過する
ことにより、より反応性の高い状態に励起され、これに
よって反応性の高い励起状態の活性種を真空処理槽内に
多量に生成することができ、洗浄時間の短縮が可能とな
る。また、ガスの使用効率が高くなり、ガスの使用量、
排気ガス量の削減が可能となる。更に、本発明の装置
は、その構成も比較的簡単で、金型の大きさ、形状を選
ばず、良好に洗浄を行うことができる。
プラズマのガス導入部分にオゾナイザーを複合すること
で、ガス導入時に反応性ガスがオゾナイザーを通過する
ことにより、より反応性の高い状態に励起され、これに
よって反応性の高い励起状態の活性種を真空処理槽内に
多量に生成することができ、洗浄時間の短縮が可能とな
る。また、ガスの使用効率が高くなり、ガスの使用量、
排気ガス量の削減が可能となる。更に、本発明の装置
は、その構成も比較的簡単で、金型の大きさ、形状を選
ばず、良好に洗浄を行うことができる。
【００１３】
【発明の実施の形態及び実施例】以下、本発明の加硫金
型清浄装置について図面を参照して更に詳しく説明する
と、図１中１は、本発明の一実施例にかかる加硫金型清
浄装置を示すもので、この装置１は、加硫金型に付着し
ている残滓を、複合プラズマ流でアッシングして除去す
る装置である。
型清浄装置について図面を参照して更に詳しく説明する
と、図１中１は、本発明の一実施例にかかる加硫金型清
浄装置を示すもので、この装置１は、加硫金型に付着し
ている残滓を、複合プラズマ流でアッシングして除去す
る装置である。
【００１４】本実施例にかかる加硫金型清浄装置１は、
図１に示されるように、真空処理槽２の外壁にガス導入
管３とガス排出管４とがそれぞれ連結されていると共
に、該処理槽２内に高周波容量結合型プラズマ発生装置
５が配備されるものである。
図１に示されるように、真空処理槽２の外壁にガス導入
管３とガス排出管４とがそれぞれ連結されていると共
に、該処理槽２内に高周波容量結合型プラズマ発生装置
５が配備されるものである。
【００１５】上記高周波容量結合型プラズマ発生装置５
は、支持体６の外周部に保持された円筒状の電極７と、
定盤８上に支持され、内面が上記電極７に対向し、この
電極７と所定間隔離間して配置された加硫金型９と、高
周波電源１０とを具備し、上記電極７は支持体６を介し
て高周波電源１０と接続されていると共に、上記金型９
は定盤８を介して高周波電源１０と接続され、金型９が
一方の電極を構成している。なお、上記支持体６は、図
示していないが、特開平８−２１６１６４号公報や特開
平８−２４４０４１号公報に記載された構成とすること
ができる。
は、支持体６の外周部に保持された円筒状の電極７と、
定盤８上に支持され、内面が上記電極７に対向し、この
電極７と所定間隔離間して配置された加硫金型９と、高
周波電源１０とを具備し、上記電極７は支持体６を介し
て高周波電源１０と接続されていると共に、上記金型９
は定盤８を介して高周波電源１０と接続され、金型９が
一方の電極を構成している。なお、上記支持体６は、図
示していないが、特開平８−２１６１６４号公報や特開
平８−２４４０４１号公報に記載された構成とすること
ができる。
【００１６】また、上記ガス導入管３には、オゾナイザ
ー１１が配備されている。なお、１２はバルブである。
ー１１が配備されている。なお、１２はバルブである。
【００１７】上記加硫金型清浄装置を用いて加硫金型９
内面の加硫残滓を除去する場合は、まずガス排気管４に
連結した図示していない真空装置を作動させ、真空処理
槽２内を１０-1〜１０-5Ｔｏｒｒ、特に１０-1〜１０-3
Ｔｏｒｒの減圧にした後、ガス導入管３から槽２内に反
応性ガスを導入する。この場合、この反応性ガスは、ガ
ス導入管３に配備されたオゾナイザー１１を通過するこ
とによって反応性の高い状態に励起されて槽２内に導入
されると共に、高周波電源１０によって電極７と加硫金
型９との間に高電圧が印加され、これによって電極７と
加硫金型９との間に上記オゾナイザー１１によって励起
された反応性ガスのプラズマが生成され、反応性の高い
励起状態の活性種が多量に生成されて、このプラズマが
金型のエラストマ残滓に作用すると共に、加硫金型が１
５０〜２００℃程度まで加熱され、これによって加硫金
型に付着しているエラストマ残滓が短時間でアッシング
除去されるものである。
内面の加硫残滓を除去する場合は、まずガス排気管４に
連結した図示していない真空装置を作動させ、真空処理
槽２内を１０-1〜１０-5Ｔｏｒｒ、特に１０-1〜１０-3
Ｔｏｒｒの減圧にした後、ガス導入管３から槽２内に反
応性ガスを導入する。この場合、この反応性ガスは、ガ
ス導入管３に配備されたオゾナイザー１１を通過するこ
とによって反応性の高い状態に励起されて槽２内に導入
されると共に、高周波電源１０によって電極７と加硫金
型９との間に高電圧が印加され、これによって電極７と
加硫金型９との間に上記オゾナイザー１１によって励起
された反応性ガスのプラズマが生成され、反応性の高い
励起状態の活性種が多量に生成されて、このプラズマが
金型のエラストマ残滓に作用すると共に、加硫金型が１
５０〜２００℃程度まで加熱され、これによって加硫金
型に付着しているエラストマ残滓が短時間でアッシング
除去されるものである。
【００１８】ここで、上記反応性ガスとしては、酸素ガ
ス単体又は酸素ガスを主成分とするハロゲン化物ガスと
の混合ガスなどを好適に使用し得、酸素ガスとしては、
Ｏ2、Ｏ3が挙げられ、ハロゲン化物ガスとしては、Ｆ
（フッ素）、ＣＦ4、ＮＦ3、ＳＦ6などを好適に使用し
得るが、特に制限されるものではない。
ス単体又は酸素ガスを主成分とするハロゲン化物ガスと
の混合ガスなどを好適に使用し得、酸素ガスとしては、
Ｏ2、Ｏ3が挙げられ、ハロゲン化物ガスとしては、Ｆ
（フッ素）、ＣＦ4、ＮＦ3、ＳＦ6などを好適に使用し
得るが、特に制限されるものではない。
【００１９】上記反応性ガスの流入量（ＳＣＣＭ）は、
適宜調整されるが、例えば、酸素ガスとハロゲン化物ガ
スとの混合ガスを使用する場合、酸素ガス１００〜１０
０００ＳＣＣＭ、特に１００〜２０００ＳＣＣＭに対し
て、ハロゲン化物ガス０〜５０％、特に５〜３０％とす
ることが好ましい。
適宜調整されるが、例えば、酸素ガスとハロゲン化物ガ
スとの混合ガスを使用する場合、酸素ガス１００〜１０
０００ＳＣＣＭ、特に１００〜２０００ＳＣＣＭに対し
て、ハロゲン化物ガス０〜５０％、特に５〜３０％とす
ることが好ましい。
【００２０】また、オゾナイザーとしては、電力１００
Ｗ〜１０ＫＷ、特に１〜５ＫＷで、周波数５０Ｈｚ〜１
００ＫＨｚ、特に１〜２０ＫＨｚという条件で反応性ガ
スを通過させることが好ましい。
Ｗ〜１０ＫＷ、特に１〜５ＫＷで、周波数５０Ｈｚ〜１
００ＫＨｚ、特に１〜２０ＫＨｚという条件で反応性ガ
スを通過させることが好ましい。
【００２１】更に、高周波容量結合型プラズマの生成条
件も適宜選定されるが、周波数１０ＫＨｚ〜１００ＭＨ
ｚ、特に１〜１００ＭＨｚ、電力１〜２０ＫＷ、特に５
〜１０ＫＷの条件とすることが好ましい。
件も適宜選定されるが、周波数１０ＫＨｚ〜１００ＭＨ
ｚ、特に１〜１００ＭＨｚ、電力１〜２０ＫＷ、特に５
〜１０ＫＷの条件とすることが好ましい。
【００２２】本発明によれば、反応性ガスに対し、オゾ
ナイザー処理後、プラズマ処理を行うので、反応性ガス
を効率よくプラズマ化することができ、反応性ガスの無
駄が回避され、供給量及び排出量の削減を図ることがで
きる。そして、上記プラズマ処理により、プラズマ流の
高密度化が達成されるので、残滓に対するアッシング速
度が飛躍的に向上する。
ナイザー処理後、プラズマ処理を行うので、反応性ガス
を効率よくプラズマ化することができ、反応性ガスの無
駄が回避され、供給量及び排出量の削減を図ることがで
きる。そして、上記プラズマ処理により、プラズマ流の
高密度化が達成されるので、残滓に対するアッシング速
度が飛躍的に向上する。
【００２３】次に、下記実験例により本発明の効果を具
体的に示す。 〔実験例〕外径４８０ｍｍ、高さ２２０ｍｍの円筒形電
極の周囲に８の割金型（セグメントＮｏ．１〜８）から
なり、最大内径が５５０ｍｍの加硫金型を配置した図１
に示す装置を用い、反応性ガスとしてＯ2ガス及びＣＦ4
ガスの混合ガスをＯ2を５００ＳＣＣＭ、ＣＦ4を２５０
ＳＣＣＭの流量（Ｏ2：ＣＦ4＝２：１の流量比）で真空
処理槽内に導入した。この場合、反応性ガス圧力を１．
５Ｔｏｒｒに保持した。
体的に示す。 〔実験例〕外径４８０ｍｍ、高さ２２０ｍｍの円筒形電
極の周囲に８の割金型（セグメントＮｏ．１〜８）から
なり、最大内径が５５０ｍｍの加硫金型を配置した図１
に示す装置を用い、反応性ガスとしてＯ2ガス及びＣＦ4
ガスの混合ガスをＯ2を５００ＳＣＣＭ、ＣＦ4を２５０
ＳＣＣＭの流量（Ｏ2：ＣＦ4＝２：１の流量比）で真空
処理槽内に導入した。この場合、反応性ガス圧力を１．
５Ｔｏｒｒに保持した。
【００２４】この状態で電極と加硫金型との間に周波数
１３．５６ＭＨｚ、電力５ＫＷの条件で電圧を印加し、
１２０分間の処理を行った（比較例）。
１３．５６ＭＨｚ、電力５ＫＷの条件で電圧を印加し、
１２０分間の処理を行った（比較例）。
【００２５】また、上記混合ガスを真空処理槽内に導入
する前に、オゾナイザーに周波数２０ＫＨｚ、電力３Ｋ
Ｗの条件で通過させた以外は上記と同様にして処理を行
った（実施例）。
する前に、オゾナイザーに周波数２０ＫＨｚ、電力３Ｋ
Ｗの条件で通過させた以外は上記と同様にして処理を行
った（実施例）。
【００２６】加硫金型の各セグメントＮｏ．１〜８の処
理直後における温度、及び残滓の灰化程度、灰化均一性
を下記基準に基づいて評価した結果を表１に示す。灰化程度（灰化性平均） 灰化程度は５点評価とし、大きい程優れた灰化状況を示
し、４点以上を合格レベルとした。灰化均一性 ほぼ均一に灰化除去できたものを○、そうでないものを
×とした。
理直後における温度、及び残滓の灰化程度、灰化均一性
を下記基準に基づいて評価した結果を表１に示す。灰化程度（灰化性平均） 灰化程度は５点評価とし、大きい程優れた灰化状況を示
し、４点以上を合格レベルとした。灰化均一性 ほぼ均一に灰化除去できたものを○、そうでないものを
×とした。
【００２７】
【表１】
【００２８】
【発明の効果】本発明によれば、加硫金型のエラストマ
残滓を短時間でかつ使用ガス量、排気ガス量を低減して
効率よく確実にアッシング除去することができる。
残滓を短時間でかつ使用ガス量、排気ガス量を低減して
効率よく確実にアッシング除去することができる。
【図１】本発明の一実施例にかかる加硫金型清浄装置の
概略図である。
概略図である。
１ 加硫金型清浄装置 ２ 真空処理槽 ３ ガス導入管 ４ ガス排出管 ５ 高周波容量結合型プラズマ発生装置 ６ 支持体 ７ 電極 ８ 定盤 ９ 加硫金型 １０ 高周波電源 １１ オゾナイザー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｂ２９Ｋ 105:24
Claims (2)
- 【請求項１】 真空処理槽内に反応性ガスを導入すると
共に、それぞれ上記真空処理槽内に配置され、高周波電
源に接続された電極と加硫金型間に電圧を印加して、上
記反応性ガスにプラズマを生起させ、このプラズマを上
記加硫金型に作用させて、この金型表面のエラストマ残
滓をアッシングして除去するに際し、上記反応性ガスを
予めオゾナイザー中を通過させ、これによって励起され
た反応性ガスを上記真空処理槽内に導入するようにした
ことを特徴とする加硫金型の清浄化方法。 - 【請求項２】 真空処理槽と、この真空処理槽内に配置
された電極と、この電極及び真空処理槽内に配置される
加硫金型とそれぞれ接続される高周波電源と、上記真空
処理槽に連結され、反応性ガスをこの槽内に導入するガ
ス導入管とを具備し、上記電極と加硫金型間に高周波電
源より電圧を印加して、上記真空処理槽内に導入された
反応性ガスにプラズマを生起させ、このプラズマを上記
加硫金型に作用させて、この金型表面のエラストマ残滓
をアッシングして除去するようにした加硫金型の清浄装
置において、上記ガス導入管にオゾナイザーを配設し
て、このオゾナイザーにより反応性ガスを励起させ、こ
の励起させた反応性ガスを上記真空処理槽内に導入する
ようにしたことを特徴とする金型の清浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36723097A JPH11188743A (ja) | 1997-12-25 | 1997-12-25 | 加硫金型の清浄化方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36723097A JPH11188743A (ja) | 1997-12-25 | 1997-12-25 | 加硫金型の清浄化方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11188743A true JPH11188743A (ja) | 1999-07-13 |
Family
ID=18488802
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36723097A Pending JPH11188743A (ja) | 1997-12-25 | 1997-12-25 | 加硫金型の清浄化方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11188743A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1911559A1 (en) * | 2005-08-02 | 2008-04-16 | The Yokohama Rubber Co., Ltd. | Method and equipment for cleaning tire vulcanization die |
-
1997
- 1997-12-25 JP JP36723097A patent/JPH11188743A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1911559A1 (en) * | 2005-08-02 | 2008-04-16 | The Yokohama Rubber Co., Ltd. | Method and equipment for cleaning tire vulcanization die |
| US8012264B2 (en) * | 2005-08-02 | 2011-09-06 | The Yokohama Rubber Co., Ltd. | Method and apparatus for cleaning tire vulcanization mold |
| EP1911559A4 (en) * | 2005-08-02 | 2012-03-28 | Yokohama Rubber Co Ltd | METHOD AND EQUIPMENT FOR CLEANING A VULCANIZATION LINE OF TIRES |
| KR101327650B1 (ko) * | 2005-08-02 | 2013-11-12 | 요코하마 고무 가부시키가이샤 | 타이어 가황 금형의 세정 방법 및 장치 |
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