JP2007035773A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007035773A5 JP2007035773A5 JP2005214226A JP2005214226A JP2007035773A5 JP 2007035773 A5 JP2007035773 A5 JP 2007035773A5 JP 2005214226 A JP2005214226 A JP 2005214226A JP 2005214226 A JP2005214226 A JP 2005214226A JP 2007035773 A5 JP2007035773 A5 JP 2007035773A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electromagnetic wave
- detection device
- wave detection
- electrode
- conversion element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 18
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims 10
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims 8
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims 1
Claims (14)
- 絶縁基板の第1面上に配置された第1の電極、該第1の電極上に配置された第2の電極、及び前記第1の電極と前記第2の電極との間に配置された半導体層を備えた、電磁波を電気信号に変換する変換素子と、
該変換素子に接続されたスイッチ素子と、を有する画素が複数設けられた電磁波検出装置であって、
前記第1の電極は前記絶縁基板の前記第1面と対向する第2面側に配置された光源から発せられた光を透過する光透過性導電材料によって構成され、且つ、前記スイッチ素子は前記光源からの前記光が前記スイッチ素子へ入射することを防ぐ遮光部材を有する電磁波検出装置。 - 請求項1に記載の電磁波検出装置において、前記スイッチ素子は、前記絶縁基板上に配置された薄膜トランジスタであり、前記遮光部材は前記薄膜トランジスタのゲート電極であることを特徴とする電磁波検出装置。
- 請求項1または2に記載の電磁波検出装置において、前記遮光部材は、前記スイッチ素子のチャネル領域よりも大きい面積を有し、前記チャネル領域と前記絶縁基板との間に配置されていることを特徴とする電磁波検出装置。
- 請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の電磁波検出装置において、前記変換素子は前記スイッチ素子上に配置され、前記第1の電極と前記スイッチ素子との間に光透過性の層間絶縁層を有することを特徴とする電磁波検出装置。
- 請求項4に記載の電磁波検出装置において、前記第1の電極は前記層間絶縁層と接して配置されている電磁波検出装置。
- 請求項4または5に記載の電磁波検出装置において、前記層間絶縁層は光透過性の有機絶縁材料によって構成されていることを特徴とする電磁波検出装置。
- 請求項4から請求項6のいずれか1項に記載の電磁波検出装置において、層間絶縁層の厚さは2〜10μmである電磁波検出装置。
- 請求項5から請求項7のいずれか1項に記載の電磁波検出装置において、前記第1の電極の屈折率が前記層間絶縁層との屈折率より大きく、前記第1の電極の屈折率と前記層間絶縁層の屈折率の差が0.2以下であることを特徴とする電磁波検出装置。
- 請求項1から8のいずれか1項に記載の電磁波検出装置において、前記変換素子は、前記半導体層が非単結晶半導体によって構成されている光電変換素子であることを特徴とする電磁波検出装置。
- 請求項9に記載の電磁波検出装置において、前記光電変換素子はMIS型センサである電磁波検出装置。
- 請求項9に記載の電磁波検出装置において、前記光電変換素子はPIN型センサである電磁波検出装置。
- 請求項9から請求項11のいずれか1項に記載の電磁波検出装置を用いた放射線検出装置であって、前記光電変換素子上に、入射する放射線を前記光電変換素子が感知可能な波長帯域の光に変換する波長変換体を設けた放射線検出装置。
- 請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の電磁波検出装置を用いた放射線検出装置であって、前記変換素子は入射する放射線を電気信号に変換する半導体素子である放射線検出装置。
- 請求項12又は請求項13に記載の放射線検出装置と、
前記放射線検出装置からの信号を処理する信号処理手段と、
前記信号処理手段からの信号を記録するための記録手段と、
前記信号処理手段からの信号を表示するための表示手段と、
前記信号処理手段からの信号を伝送するための伝送処理手段と、
放射線を発生させるための放射線源とを具備することを特徴とする放射線撮像システム。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005214226A JP5207583B2 (ja) | 2005-07-25 | 2005-07-25 | 放射線検出装置および放射線検出システム |
PCT/JP2006/314931 WO2007013570A1 (en) | 2005-07-25 | 2006-07-21 | Radiation detecting apparatus, and radiation image pickup system |
EP06781842.7A EP1910870A4 (en) | 2005-07-25 | 2006-07-21 | RADIATION DETECTION DEVICE AND RADIATION PICTURE DETECTING SYSTEM |
CN2006800271666A CN101228459B (zh) | 2005-07-25 | 2006-07-21 | 放射线检测设备和放射线图像拾取系统 |
US11/917,334 US7829858B2 (en) | 2005-07-25 | 2006-07-21 | Radiation detecting apparatus, and radiation image pickup system |
US12/896,704 US8164065B2 (en) | 2005-07-25 | 2010-10-01 | Radiation detecting apparatus, and radiation image pickup system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005214226A JP5207583B2 (ja) | 2005-07-25 | 2005-07-25 | 放射線検出装置および放射線検出システム |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012218383A Division JP5442087B2 (ja) | 2012-09-28 | 2012-09-28 | 放射線検出装置および放射線撮像システム |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007035773A JP2007035773A (ja) | 2007-02-08 |
JP2007035773A5 true JP2007035773A5 (ja) | 2008-09-11 |
JP5207583B2 JP5207583B2 (ja) | 2013-06-12 |
Family
ID=37683460
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005214226A Expired - Fee Related JP5207583B2 (ja) | 2005-07-25 | 2005-07-25 | 放射線検出装置および放射線検出システム |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7829858B2 (ja) |
EP (1) | EP1910870A4 (ja) |
JP (1) | JP5207583B2 (ja) |
CN (1) | CN101228459B (ja) |
WO (1) | WO2007013570A1 (ja) |
Families Citing this family (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7638772B2 (en) * | 2007-02-28 | 2009-12-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Imaging apparatus and radiation imaging system |
JP5328169B2 (ja) * | 2007-02-28 | 2013-10-30 | キヤノン株式会社 | 撮像装置及び放射線撮像システム |
JP5142943B2 (ja) * | 2007-11-05 | 2013-02-13 | キヤノン株式会社 | 放射線検出装置の製造方法、放射線検出装置及び放射線撮像システム |
JP5489542B2 (ja) * | 2008-07-01 | 2014-05-14 | キヤノン株式会社 | 放射線検出装置及び放射線撮像システム |
JP5335385B2 (ja) * | 2008-11-20 | 2013-11-06 | キヤノン株式会社 | 放射線検出器、半導体撮像素子アレイおよび制御方法 |
CN101762922B (zh) | 2008-12-24 | 2012-05-30 | 京东方科技集团股份有限公司 | 触摸式电子纸及其制造方法 |
TWI415283B (zh) * | 2009-02-18 | 2013-11-11 | Au Optronics Corp | X射線感測器及其製作方法 |
JP2010245366A (ja) * | 2009-04-08 | 2010-10-28 | Fujifilm Corp | 電子素子及びその製造方法、並びに表示装置 |
DE102009024225A1 (de) * | 2009-06-08 | 2010-12-16 | Siemens Aktiengesellschaft | Röntgendetektor |
JP2011238897A (ja) * | 2010-04-13 | 2011-11-24 | Canon Inc | 検出装置及びその製造方法並びに検出システム |
US9473714B2 (en) * | 2010-07-01 | 2016-10-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Solid-state imaging device and semiconductor display device |
JP2012079820A (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Canon Inc | 検出装置及び放射線検出システム |
US8772728B2 (en) * | 2010-12-31 | 2014-07-08 | Carestream Health, Inc. | Apparatus and methods for high performance radiographic imaging array including reflective capability |
JP2012145537A (ja) * | 2011-01-14 | 2012-08-02 | Canon Inc | 放射線検出装置、放射線検出システム、及び放射線検出装置の製造方法 |
JP2013026332A (ja) * | 2011-07-19 | 2013-02-04 | Sony Corp | 固体撮像素子および製造方法、並びに電子機器 |
JP6169922B2 (ja) * | 2012-08-29 | 2017-07-26 | 東芝メディカルシステムズ株式会社 | X線検出サブモジュール、x線検出モジュールおよびx線ct装置 |
JP5709810B2 (ja) | 2012-10-02 | 2015-04-30 | キヤノン株式会社 | 検出装置の製造方法、その検出装置及び検出システム |
JP2014225527A (ja) * | 2013-05-15 | 2014-12-04 | キヤノン株式会社 | 検出装置、及び、検出システム |
US9093347B2 (en) * | 2013-05-15 | 2015-07-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Detecting apparatus and detecting system |
US9360564B2 (en) * | 2013-08-30 | 2016-06-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Imaging device |
WO2016076824A1 (en) | 2014-11-10 | 2016-05-19 | Halliburton Energy Services, Inc. | Energy detection apparatus, methods, and systems |
KR102226601B1 (ko) * | 2014-12-02 | 2021-03-15 | 삼성디스플레이 주식회사 | 터치 패널 및 그 제조방법 |
WO2016167179A1 (ja) * | 2015-04-13 | 2016-10-20 | シャープ株式会社 | 撮像パネル、及びそれを備えたx線撮像装置 |
DE102015220793A1 (de) * | 2015-10-23 | 2017-04-27 | Siemens Healthcare Gmbh | Röntgendetektor und/oder Gammadetektor mit Lichtbias |
EP3619555B1 (en) * | 2017-05-03 | 2023-11-29 | Shenzhen Xpectvision Technology Co., Ltd. | Method of making radiation detector |
WO2018205028A1 (en) * | 2017-05-09 | 2018-11-15 | Ka Imaging Inc. | Apparatus for radiation detection in a digital imaging system |
KR102432252B1 (ko) * | 2017-06-13 | 2022-08-16 | 삼성전자주식회사 | 엑스선 검출기, 이를 포함한 엑스선 촬영 장치 및 그 제조 방법 |
CN109786499A (zh) * | 2019-01-11 | 2019-05-21 | 惠科股份有限公司 | 半导体、x射线探测器及显示设备 |
CN110335876A (zh) * | 2019-04-29 | 2019-10-15 | 上海天马微电子有限公司 | 放射线图像检测面板及其制作方法、放射线图像检测装置 |
JP2022135295A (ja) * | 2021-03-05 | 2022-09-15 | 株式会社東芝 | 放射線検出器 |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56138964A (en) * | 1980-03-31 | 1981-10-29 | Canon Inc | Photoelectric converter |
US4390791A (en) | 1980-03-31 | 1983-06-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Solid-state photoelectric transducer |
JPS56138965A (en) * | 1980-03-31 | 1981-10-29 | Canon Inc | Photoelectric converter |
JPH0783096B2 (ja) * | 1985-12-17 | 1995-09-06 | セイコーエプソン株式会社 | 固体撮像装置 |
JPS63269569A (ja) * | 1987-04-27 | 1988-11-07 | Seiko Epson Corp | 固体撮像装置 |
US5142567A (en) | 1988-05-09 | 1992-08-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Communication apparatus having alternate message communication |
US5138655A (en) | 1990-02-17 | 1992-08-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Telephone apparatus capable of setting card unit therein |
EP0619676A3 (en) * | 1993-04-09 | 1995-05-24 | Kanegafuchi Chemical Ind | Method and device for reading images. |
JP3066944B2 (ja) * | 1993-12-27 | 2000-07-17 | キヤノン株式会社 | 光電変換装置、その駆動方法及びそれを有するシステム |
JP3957803B2 (ja) | 1996-02-22 | 2007-08-15 | キヤノン株式会社 | 光電変換装置 |
JP4150079B2 (ja) | 1996-07-08 | 2008-09-17 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 半導体x線検出器を有するx線検査装置 |
JP4044187B2 (ja) * | 1997-10-20 | 2008-02-06 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | アクティブマトリクス型表示装置およびその作製方法 |
JP3869952B2 (ja) | 1998-09-21 | 2007-01-17 | キヤノン株式会社 | 光電変換装置とそれを用いたx線撮像装置 |
KR100297790B1 (ko) | 1999-06-05 | 2001-10-29 | 윤종용 | 타임랩스방식의 음성 신호 기록/재생방법 및 그에 따른 장치 |
JP3658247B2 (ja) | 1999-07-06 | 2005-06-08 | キヤノン株式会社 | 電源装置及びその制御方法、画像形成装置 |
JP4573943B2 (ja) * | 2000-04-20 | 2010-11-04 | キヤノン株式会社 | 光走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置 |
JP2001345000A (ja) | 2000-05-31 | 2001-12-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置 |
DE10034575A1 (de) | 2000-07-14 | 2002-01-24 | Philips Corp Intellectual Pty | Röntgendetektor mit verbesserter Lichtausbeute |
JP5016746B2 (ja) * | 2000-07-28 | 2012-09-05 | キヤノン株式会社 | 撮像装置及びその駆動方法 |
US6847039B2 (en) | 2001-03-28 | 2005-01-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Photodetecting device, radiation detecting device, and radiation imaging system |
US6765187B2 (en) | 2001-06-27 | 2004-07-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Imaging apparatus |
US7034309B2 (en) | 2001-11-13 | 2006-04-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Radiation detecting apparatus and method of driving the same |
US7214945B2 (en) | 2002-06-11 | 2007-05-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Radiation detecting apparatus, manufacturing method therefor, and radiation image pickup system |
JP2004096079A (ja) * | 2002-07-11 | 2004-03-25 | Sharp Corp | 光電変換装置、画像読取装置および光電変換装置の製造方法 |
EP1420453B1 (en) | 2002-11-13 | 2011-03-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Image pickup apparatus, radiation image pickup apparatus and radiation image pickup system |
KR100755287B1 (ko) | 2003-02-14 | 2007-09-04 | 캐논 가부시끼가이샤 | 방사선 촬상장치 |
JP4217505B2 (ja) * | 2003-02-28 | 2009-02-04 | キヤノン株式会社 | 撮像装置及びx線撮像装置 |
JP2005175418A (ja) | 2003-11-19 | 2005-06-30 | Canon Inc | 光電変換装置 |
-
2005
- 2005-07-25 JP JP2005214226A patent/JP5207583B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-07-21 CN CN2006800271666A patent/CN101228459B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2006-07-21 EP EP06781842.7A patent/EP1910870A4/en not_active Withdrawn
- 2006-07-21 WO PCT/JP2006/314931 patent/WO2007013570A1/en active Application Filing
- 2006-07-21 US US11/917,334 patent/US7829858B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-10-01 US US12/896,704 patent/US8164065B2/en not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2007035773A5 (ja) | ||
CN108140125B (zh) | 光学指纹成像系统和面阵传感器 | |
JP5207583B2 (ja) | 放射線検出装置および放射線検出システム | |
US8492726B2 (en) | Radiation detection apparatus and radiation detection system | |
TWI676120B (zh) | 生理特徵偵測識別方法和光偵測裝置 | |
US20160163747A1 (en) | Photoelectric conversion device and electronic apparatus | |
JP2007201246A5 (ja) | ||
US20110180714A1 (en) | Radiation detector | |
JP2007049122A5 (ja) | ||
US11544958B2 (en) | Light detection apparatus and application thereof | |
WO2013143295A1 (zh) | X射线检测装置的阵列基板及其制造方法 | |
WO2020010846A1 (zh) | 感光元件、探测基板及其制造方法 | |
JP2007329434A5 (ja) | ||
JP2009043826A5 (ja) | ||
JP2006017742A5 (ja) | ||
WO2017004981A1 (zh) | 非可见光平板检测器及其制备方法、影像设备 | |
TW201118409A (en) | X-ray imaging device | |
US20240072182A1 (en) | Optical sensor and display device including the optical sensor | |
CN110890392A (zh) | 有源矩阵式影像感测装置 | |
JP2007329433A5 (ja) | ||
CN110783355B (zh) | 一种探测面板、其制作方法及检测装置 | |
Bae et al. | 76‐2: Invited paper: optical fingerprint sensor based on a‐Si: H TFT technology | |
CN111356938A (zh) | 放射线检测器和放射线检测系统 | |
JP2007163216A5 (ja) | ||
CN110797365B (zh) | 一种探测面板、其制作方法及光电检测装置 |