JP2007027662A - レーザトリミング評価方法およびレーザトリミング用レーザ強度設定方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 ウエハ1内に評価用薄膜抵抗体2を設け、レーザトリミング用薄膜抵抗体をレーザトリミングする前に、評価用薄膜抵抗体2に対し所定のレーザ強度のレーザビームにより完全に切り離すレーザトリミングを行った後に、評価用薄膜抵抗体2の絶縁抵抗値を測定した結果、十分な絶縁抵抗値が得られないと、レーザの高強度化、完全に切り離すレーザトリミング及び絶縁抵抗値の測定を十分な絶縁抵抗値が得られるまで行って、十分な絶縁抵抗値が得られた当該レーザ強度に基づいて、レーザトリミング用薄膜抵抗体をレーザトリミングする際のレーザビームのレーザ強度を設定する。
【選択図】 図1
Description
図1は、本実施形態におけるウエハ1の平面図である。図2はウエハの一部領域における平面図である。図3には、図2のA−A線での縦断面図を示す。
図3においてウエハ(シリコン基板10)はXYテーブル28上にチャックされ、XYテーブル28が水平方向(前後左右)に移動してウエハを移動させることができるようになっている。また、XYテーブル28の上方、即ち、ウエハ(シリコン基板10)の上方においてレーザ装置20が配置されている。レーザ装置20にはレーザ発振器21に加えて直線偏光器22が備えられ、直線偏光器22はレーザ発振器21のレーザビームの光軸上に配置されている。そして、レーザ発振器21から出力されたレーザビームが直線偏光器22を通過する。このレーザビームLbが、薄膜抵抗体18(2)に対し照射される。このとき、レーザ装置20内においてレーザスキャナ(図示略)によりレーザビームLbが水平方向(XY方向)に走査されてトリミングが行われるようになっている。レーザスキャナとして、例えばガルバノメータスキャナを用いる。偏光子としての直線偏光器22として偏光板を挙げることができる。
レーザトリミング用薄膜抵抗体18をレーザトリミングする前に、図4に示すように、パッド15,16にプローブ針25,26を当てた状態において、所定の強さのレーザビームLbを評価用薄膜抵抗体2に照射して評価用薄膜抵抗体2をフルカット、即ち、完全に切り離すトリミングを行って、トリミング跡17aを形成する。そして、計測器27により評価用薄膜抵抗体2の電気的特性を測定する。具体的には、レーザエネルギーが0.25μJでトリミングを行った結果、評価用薄膜抵抗体2の絶縁抵抗値が1kΩであった。例えば、100MΩ未満では切れ残りと判断すると、レーザ強度不足(エネルギー不足)で絶縁されていない。つまり、評価用薄膜抵抗体2に対し完全に切り離すレーザトリミングを行った後に絶縁抵抗値を測定して、測定結果からトリミング跡の良否判定を行う。さらに、この良否判定の原理を利用して以下のようにする。
レーザトリミング用薄膜抵抗体18を有する半導体装置におけるレーザトリミング評価方法として、ウエハ1内に評価用薄膜抵抗体2を設け、この評価用薄膜抵抗体2に対し完全に切り離すレーザトリミングを行った後に当該評価用薄膜抵抗体2の絶縁抵抗値を測定して、当該測定結果からトリミング跡の良否判定を行うようにした。これにより、外観検査によらずトリミング跡の良否判定を確実に行うことができる。
つまり、従来の薄膜レーザトリミングでは、レーザ強度不足(レーザビームのエネルギー不足)やフォーカスずれやICチップのトリミングウインドウの狭化等により、切れ残りが発生していてもトリミングする長さが長くなれば特性は合わせ込めてしまい電気的な切れ残りの検出は困難であった(トリミング中の電気特性やトリミング後の外観では切れ残りを検出できなかった)。これに対し本実施形態においては評価用専用パターンを用いてレーザ強度を変更しつつフルカットおよび絶縁抵抗値の測定を繰り返して外観では検出困難な切れ残りを電気的に評価することで最適なレーザ強度に設定されたレーザビームにより製品の薄膜抵抗体をトリミングして切れ残りのある製品(薄膜抵抗体18)が流出するのを防止することができる。
レーザ強度の最適値の決定において、ウエハ内の複数箇所(9点/ウエハ)でエネルギー評価を行う際に、複数箇所の最適レーザ強度を元にウエハ面内でのそれぞれの最適トリミングのためのレーザ強度を計算し、ウエハ面内の位置によりレーザ強度を変えてトリミングしてもよい。
図6は、兼用できた例であり、デジタル回路における接地用パッド30とアナログ回路における接地用パッド31は、ICチップ内に大電流を流しても問題ないように形成されている。パッド30,31は接地用パッド(GNDパッド)ではなく電源パッドでもよい。このように、パッド30,31は、IC回路上はそれぞれ別々の回路のグラント端子(もしくは電源端子)に接続されている。接地用パッド30と接地用パッド31はICチップ内では評価用薄膜抵抗体2でのみ接続されている。
Claims (5)
- レーザトリミング用薄膜抵抗体(18)を有する半導体装置におけるレーザトリミング評価方法であって、
ウエハ(1)内に評価用薄膜抵抗体(2)を設け、この評価用薄膜抵抗体(2)に対し完全に切り離すレーザトリミングを行った後に当該評価用薄膜抵抗体(2)の絶縁抵抗値を測定して、当該測定結果からトリミング跡の良否判定を行うようにしたことを特徴とするレーザトリミング評価方法。 - 前記評価用薄膜抵抗体(2)を、チップ内の回路用として等電位にされるパッド(30,31)間に設けたことを特徴とする請求項1に記載のレーザトリミング評価方法。
- レーザトリミング用薄膜抵抗体(18)を有する半導体装置におけるレーザトリミング用レーザ強度設定方法であって、
ウエハ(1)内に評価用薄膜抵抗体(2)を設け、前記レーザトリミング用薄膜抵抗体(18)をレーザトリミングする前に、前記評価用薄膜抵抗体(2)に対し所定のレーザ強度のレーザビーム(Lb)により完全に切り離すレーザトリミングを行った後に当該評価用薄膜抵抗体(2)の絶縁抵抗値を測定した結果、十分な絶縁抵抗値が得られていると当該レーザ強度に基づいて、前記レーザトリミング用薄膜抵抗体(18)をレーザトリミングする際のレーザビーム(Lb)のレーザ強度を設定するようにしたことを特徴とするレーザトリミング用レーザ強度設定方法。 - レーザトリミング用薄膜抵抗体(18)を有する半導体装置におけるレーザトリミング用レーザ強度設定方法であって、
ウエハ(1)内に評価用薄膜抵抗体(2)を設け、前記レーザトリミング用薄膜抵抗体(18)をレーザトリミングする前に、前記評価用薄膜抵抗体(2)に対し所定のレーザ強度のレーザビーム(Lb)により完全に切り離すレーザトリミングを行った後に、当該評価用薄膜抵抗体(2)の絶縁抵抗値を測定した結果、十分な絶縁抵抗値が得られないと、レーザの高強度化、前記完全に切り離すレーザトリミング及び絶縁抵抗値の測定を十分な絶縁抵抗値が得られるまで行って、十分な絶縁抵抗値が得られた当該レーザ強度に基づいて、前記レーザトリミング用薄膜抵抗体(18)をレーザトリミングする際のレーザビーム(Lb)のレーザ強度を設定するようにしたことを特徴とするレーザトリミング用レーザ強度設定方法。 - 前記評価用薄膜抵抗体(2)を、チップ内の回路用として等電位にされるパッド(30,31)間に設けたことを特徴とする請求項3または4に記載のレーザトリミング用レーザ強度設定方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005211811A JP4508023B2 (ja) | 2005-07-21 | 2005-07-21 | レーザトリミング評価方法およびレーザトリミング用レーザ強度設定方法 |
US11/407,046 US7721417B2 (en) | 2005-07-21 | 2006-04-20 | Manufacturing method for semiconductor device having a thin film resistor |
US12/292,352 US7800479B2 (en) | 2005-07-21 | 2008-11-18 | Semiconductor device having a trim cut and method of evaluating laser trimming thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005211811A JP4508023B2 (ja) | 2005-07-21 | 2005-07-21 | レーザトリミング評価方法およびレーザトリミング用レーザ強度設定方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007027662A true JP2007027662A (ja) | 2007-02-01 |
JP4508023B2 JP4508023B2 (ja) | 2010-07-21 |
Family
ID=37678536
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005211811A Expired - Fee Related JP4508023B2 (ja) | 2005-07-21 | 2005-07-21 | レーザトリミング評価方法およびレーザトリミング用レーザ強度設定方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7721417B2 (ja) |
JP (1) | JP4508023B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN109872853A (zh) * | 2019-02-22 | 2019-06-11 | 西安微电子技术研究所 | 一种CrSi2薄膜电阻及其激光修调方法 |
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-
2005
- 2005-07-21 JP JP2005211811A patent/JP4508023B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-04-20 US US11/407,046 patent/US7721417B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-11-18 US US12/292,352 patent/US7800479B2/en not_active Expired - Fee Related
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CN109872853A (zh) * | 2019-02-22 | 2019-06-11 | 西安微电子技术研究所 | 一种CrSi2薄膜电阻及其激光修调方法 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4508023B2 (ja) | 2010-07-21 |
US20070018781A1 (en) | 2007-01-25 |
US7721417B2 (en) | 2010-05-25 |
US20090079536A1 (en) | 2009-03-26 |
US7800479B2 (en) | 2010-09-21 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
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R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4508023 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140514 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |