JP2007027379A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】ボートエレベータのモータ設置室の温度上昇を防止する。
【解決手段】ウエハ１をボート２１で保持しつつ処理する処理室２３と、ボート２１が処理室２３への搬入に待機する待機室１６と、ボート２１を待機室１６と処理室２３との間で昇降させるボートエレベータ１９と、待機室１６に清浄な窒素ガス３０を供給するクリーンユニット４０とを備えている熱処理装置１０において、ボートエレベータ１９のモータ１９ｂが設置されたモータ設置室５０に篭もり防止ダクト部５３の吸込口５４を接続し、吹出口５５をクリーンユニット４０の送風機４２の上流側に接続する。モータ設置室５０に窒素ガス３０を強制的に流通させることで、モータ設置室５０の温度上昇の発生を防止する。
【選択図】図４

Description

本発明は、基板処理装置に関し、特に、自然酸化膜の発生を防止する技術に係り、例えば、半導体集積回路装置（以下、ＩＣという。）の製造方法において半導体素子を含む半導体集積回路が作り込まれる半導体ウエハ（以下、ウエハという。）に熱処理（thermal treatment ）を施す熱処理装置（furnace ）に利用して有効なものに関する。

ＩＣの製造方法においてウエハに絶縁膜や金属膜等のＣＶＤ膜を形成したり不純物を拡散したりする熱処理工程には、熱処理装置が広く使用されている。
従来のこの種の熱処理装置は、複数枚のウエハをボートに保持しつつバッチ処理する処理室と、ボートが処理室への搬入出前後に待機する待機室と、待機室に清浄雰囲気を供給するフィルタおよび送風機からなるクリーンユニットと、待機室にフィルタに対向するように設けられてボートを待機室と処理室との間で昇降させるボートエレベータとを備えており、ボートエレベータの駆動装置であるモータが待機室から隔離されたモータ設置室に設置されているのが、一般的である。
そして、従来のこの種の熱処理装置としては、不活性ガスとしての窒素ガスをクリーンユニットから待機室に吹き出して循環させることにより、自然酸化膜がウエハに大気中の酸素（Ｏ₂ ）によって形成されるのを防止するように構成したものがある。例えば、特許文献１参照。
特開２００４−１１９８８８号公報

しかし、窒素ガスが待機室で循環される熱処理装置においても、モータ設置室は待機室から隔離されて袋小路のような状態になっているために、次のような問題点がある。
1) 通常、ボートアンローディング時には待機室の温度は、主に、処理室によって加熱されたウエハおよびボートからの発熱による熱輻射、熱伝達、熱対流作用により上昇するが、循環する窒素ガスによって冷却されるために、低下して行く。
しかし、特に、熱輻射による温度上昇は窒素ガスによる冷却効果よりも早く、冷却される前に熱輻射により熱せられた待機室の壁面等からモータ設置室に熱伝達されてしまい、モータ設置室は温度が上昇してしまう。
また、モータ設置室は袋小路になっていることにより、待機室を循環している窒素ガスが殆ど流入してこないために、熱が篭もり、温度が上昇してしまう。
2) モータ設置室の温度が上昇すると、モータに電力を供給するケーブルや回転部に塗布されたグリースおよびモータのコイルに使用されたエナメル等から有機物の揮発が発生する。
この発生した有機物は窒素ガス等モータ設置室や待機室の雰囲気とは重量が異なる場合が多く、この重量の相違によりモータ設置室から待機室へ有機物が移動し、挙句には、ウエハに対する有機物汚染の要因になり、歩留りの低下を招来してしまう。
3) 窒素ガスをモータ設置室にまで流通させ得るようにモータ設置室個別のクリーンユニットを設置することにより、モータ設置室の雰囲気の篭り現象を改善することが考えられる。
しかし、この場合には、熱処理装置全体の設計変更が必要になるばかりでなく、熱処理装置の幅を拡大しなければならず、熱処理装置のフットプリントが拡大してしまう。

本発明の目的は、装置全体のフットプリントの拡大化を回避しつつ、基板保持具エレベータの駆動装置設置室における温度上昇を抑制することができる基板処理装置を提供することにある。

前記した課題を解決するための手段のうち代表的なものは、次の通りである。
（１） 基板を基板保持具に保持しつつ処理する処理室と、
前記基板保持具が前記処理室への搬入出前後に待機する待機室と、
前記待機室の一側面に設けられて前記待機室に清浄雰囲気を供給するフィルタおよび送風機と、
前記待機室に前記フィルタに対向するように設けられて前記基板保持具を前記待機室と前記処理室との間で昇降させる基板保持具エレベータと、
前記基板保持具エレベータの駆動装置が設置された駆動装置設置室と、
少なくとも前記駆動装置設置室と前記送風機の上流側とを連絡する循環路と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。

前記した（１）の手段によれば、駆動装置設置室と送風機の上流側とを連絡した循環路によって駆動装置設置室の雰囲気が篭る現象を防止することができるので、フットプリントの拡大化を回避しつつ、駆動装置設置室における温度上昇を抑制することができる。

以下、本発明の一実施の形態を図面に即して説明する。

本実施の形態において、本発明に係る基板処理装置は、熱処理装置１０として図１〜図４に示されているように構成されている。
ところで、ウエハを収容して搬送するためのキャリア（搬送治具）としては、互いに対向する一対の面が開口された略立方体の箱形状に形成されているオープンカセットと、一つの面が開口された略立方体の箱形状に形成され開口面にキャップが着脱自在に装着されているＦＯＵＰ（front opening unified pod 。以下、ポッドという。）とがある。
ウエハのキャリアとしてポッドが使用される場合には、ウエハが密閉された状態で搬送されることになるため、周囲の雰囲気にパーティクル等が存在していたとしてもウエハの清浄度（クリーン度）は維持することができる。
そこで、本実施の形態においては、ウエハ１のキャリアとしてはポッド２が使用されている。

本実施の形態に係る熱処理装置１０は気密構造に構築された筐体１１を備えている。
筐体１１の正面壁には取付板１２が垂直に立設されており、取付板１２にはウエハ１をローディングおよびアンローディングするためのポート（以下、ウエハローディングポートという。）１３が、上下で一対設定されている。
ウエハローディングポート１３に対応する位置にはウエハ１を出し入れするためのウエハ搬入搬出口１４が開設されており、ウエハ搬入搬出口１４にはポッド２のキャップ３（図１参照）を着脱してポッド２を開閉するポッドオープナ１５が設置されている。

取付板１２の後方の空間には、基板保持具であるボート２１が処理室２３への搬入搬出に対して待機する待機室１６が設定されており、待機室１６の前側の空間にはウエハ移載装置（wafer transfer equipment )１７が設置されている。
ウエハ移載装置１７はウエハ移載装置エレベータ１８によって昇降されるように構成されており、ウエハローディングポート１３とボート２１との間でウエハ１を搬送してポッド２およびボート２１に受け渡すようになっている。
待機室１６の後側の空間には、基板保持具エレベータであるボートエレベータ１９が垂直に設置されており、ボートエレベータ１９はボート２１を支持したシールキャップ２０を垂直方向に昇降させるように構成されている。すなわち、シールキャップ２０はマニホールド２５を介してプロセスチューブ２４をシール可能な円盤形状に形成されており、シールキャップ２０の中心線上にはボート２１が垂直に立脚されている。
ボート２１は被処理基板としてのウエハ１を多数枚、中心を揃えて水平に配置した状態で保持するように構成されている。ボート２１はシールキャップ２０のボートエレベータ１９による昇降によってプロセスチューブ２４の処理室２３に対して搬入搬出されるようになっている。

筐体１１の後端部における上部にはプロセスチューブ設置室２２が設定されており、プロセスチューブ設置室２２には処理室２３を形成するプロセスチューブ２４がマニホールド２５を介して垂直に立脚されて待機室１６の上に設置されている。
図１に示されているように、マニホールド２５には処理室２３に原料ガスやパージガス等を導入するためのガス導入管２６と、処理室２３を真空排気するための排気管２７が接続されている。
プロセスチューブ２４の外側にはヒータユニット２８が同心円に配されて筐体１１に支持されており、ヒータユニット２８は処理室２３を全体にわたって均一または所定の温度分布に加熱するように構成されている。
処理室２３の下端部にある開口（炉口）はシャッタ２９によって開閉されるようになっている。

筐体１１には待機室１６に不活性ガスとしての窒素ガス３０を循環させる循環路３１を構成した循環ダクト３２が、図１〜図４に示されているように敷設されている。
循環ダクト３２は吸込口３３がアーム１９ｄおよびウエハ移載装置エレベータ１８のアームの昇降移動範囲に開設された吸込側ダクト部３４を備えており、吸込側ダクト部３４は待機室１６における一方の側面である右側面にウエハ移載装置エレベータ１８およびボートエレベータ１９を移載室から隔離するように（但し、両方のアームが可動する部分は連通している。）略全体面にわたって垂直に延在するように敷設されている。
吸込側ダクト部３４の下端部における前端には、メイン連絡ダクト部３５の吸込側端が接続されており、メイン連絡ダクト部３５は待機室１６の外部におけるウエハローディングポート１３の下方を横切るように水平に敷設されている。メイン連絡ダクト部３５の待機室１６に面する側壁には、吸込口３６が横長に大きく開設されている。
吸込側ダクト部３４の下端部における略中央位置には、サブ連絡ダクト部３７の吸込側端が接続されており、サブ連絡ダクト部３７は待機室１６内の底面上で左右方向に横切るように敷設されている。

メイン連絡ダクト部３５およびサブ連絡ダクト部３７の各吹出側端には、吹出口３８が略全面にわたって大きく開設された吹出側ダクト部３９の下端部がそれぞれ接続されており、吹出側ダクト部３９は待機室１６における吸込側ダクト部３４の反対側である左側面に垂直に敷設されている。
吹出側ダクト部３９の吹出口３８には、待機室１６に清浄化した雰囲気を供給するクリーンユニット４０が建て込まれている。
クリーンユニット４０はパーティクルを捕集するフィルタ４１と、清浄化した雰囲気を送風する複数の送風機４２とを備えており、フィルタ４１が待機室１６に露出するとともに、送風機４２群の下流側になるように構成されている。

図１および図３に示されているように、循環ダクト３２のメイン連絡ダクト部３５の吹出側端部には循環路３１に窒素ガス３０を供給する供給路としての供給管４３が接続されている。
図３および図４に示されているように、メイン連絡ダクト部３５の吸込側端部には、循環路３１から窒素ガス３０を排出する排出路としての排出管４４が接続されており、排出管４４には開閉弁４５が介設されている。
そして、ボート２１が処理室２３から搬出される際には、待機室１６から排出管４４によって排出される所定の流量の窒素ガス３０を待機室１６に供給管４３から供給し、ボート２１が処理室２３に搬入されている際には、窒素ガス３０を待機室１６に循環路３１によって循環させる制御が可能なように、開閉弁４５は構成されている。
また、図２に示されているように、循環ダクト３２の吹出側ダクト部３９の上端には、クリーンエアを導入するクリーンエア導入管４６が接続されており、クリーンエア導入管４６には止め弁４７が介設されている。

図２に示されているように、吹出側ダクト部３９の下端部には、吹出側ダクト部３９に回収された雰囲気を冷却するための冷却器４８が前後方向に延在するように敷設されている。本実施の形態において、冷却器４８は水冷式熱交換器によって構成されている。

図２〜図４に示されているように、ボートエレベータ１９は垂直に立脚されて回転自在に支承された送りねじ軸１９ａと、送りねじ軸１９ａを正逆回転させる駆動装置としてのモータ１９ｂと、送りねじ軸１９ａに螺合して正逆回転に伴って昇降する昇降台１９ｃと、昇降台１９ｃに片持ち支持されて先端部にシールキャップ２０およびボート２１が設置されたアーム１９ｄとを備えている。
筐体１１のボートエレベータ１９の真上には、ボートエレベータの駆動装置設置室であるモータ設置室５０が設定されており、モータ設置室５０にはボートエレベータ１９のモータ１９ｂが設置されている。モータ設置室５０はモータ１９ｂよりも充分に大きな容積を有する直方体の箱形状に形成されている。
モータ設置室５０と待機室１６とを隔てる隔壁５１には、連通口５２が吸込側ダクト部３４の内部とを連通させるように開設されている。
吸込側ダクト部３４内の側面には、モータ設置室５０と送風機４２の上流側を連絡する循環路としての篭もり防止ダクト部５３が上下方向および前後方向の略全長にわたって敷設されている。篭もり防止ダクト部５３の上端に開設された吸込口５４は、隔壁５１にモータ設置室５０に連通するように接続されており、篭もり防止ダクト部５３の下端に開設された吹出口５５は、送風機５６を介してメイン連絡ダクト部３５にその内部に連通するように接続されている。
なお、ウエハ移載装置エレベータ１８のモータも、同様にモータ設置室５０に設置するようにしてもよい。

次に、前記構成に係る熱処理装置の作用を説明する。

図１〜図３に示されているように、ウエハローディングポート１３の載置台に移載されたポッド２は、ポッドオープナ１５によってキャップ３（図１参照）を外されることにより開放される。
ウエハローディングポート１３においてポッド２が開放されると、ポッド２に収納された複数枚のウエハ１はウエハ移載装置１７によってボート２１に移載されて装填（チャージング）される。
予め指定された枚数のウエハ１が装填されると、ボート２１はボートエレベータ１９によって上昇されることにより、プロセスチューブ２４の処理室２３に搬入（ボートローディング）される。
ボート２１が上限に達すると、ボート２１を保持したシールキャップ２０の上面の周辺部がプロセスチューブ２４の下面にシール状態に当接するために、処理室２３は気密に閉じられた状態になる。

プロセスチューブ２４の処理室２３は気密に閉じられた状態で、所定の真空度に排気管２７によって真空排気されるとともに、ヒータユニット２８によって所定の温度に加熱される。
次いで、所定の処理ガスが処理室２３にガス導入管２６から所定の流量だけ供給される。
これにより、所望の熱処理がウエハ１に施される。

この処理中には、窒素ガス３０が待機室１６に循環路３１によって循環されている。
すなわち、供給管４３から循環路３１に供給された窒素ガス３０は、図２に示されているように、循環ダクト３２における吹出側ダクト部３９に建て込まれたクリーンユニット４０から待機室１６に吹き出し、待機室１６を流通して吸込口３３から吸込側ダクト部３４に吸い込まれる。吸込側ダクト部３４に吸い込まれた窒素ガス３０は、メイン連絡ダクト部３５およびサブ連絡ダクト部３７を経由して吹出側ダクト部３９に戻り、クリーンユニット４０から待機室１６に再び吹き出す。以降、窒素ガス３０は以上の流れを繰り返すことにより、待機室１６と循環路３１とを循環する。
ちなみに、この窒素ガス３０の循環ステップにおいては、排出管４４の開閉弁４５およびクリーンエア導入管４６の止め弁４７は閉じられている。

そして、予め設定された処理時間が経過すると、ボート２１がボートエレベータ１９によって下降されることにより、処理済みウエハ１を保持したボート２１が待機室１６における元の待機位置に搬出（ボートアンローディング）される。
ボート２１が処理室２３から搬出されると、処理室２３はシャッタ２９によって閉じられる。

処理済みのウエハ１を保持したボート２１が搬出される際（ボートアンローディングステップ時）には、開閉弁４５が開かれることにより、循環路３１の窒素ガス３０が排出管４４によって排出されるとともに、排出管４４から排出される窒素ガス３０の流量分に相当する窒素ガス３０の流量が供給管４３から補給される。
すなわち、供給管４３によって循環路３１に供給された窒素ガス３０は循環ダクト３２における吹出側ダクト部３９に建て込まれたクリーンユニット４０から待機室１６に吹き出し、待機室１６を流通して吸込側ダクト部３４の吸込口３３を通じて排出管４４によって排気される。
待機室１６を流通する間に、窒素ガス３０は熱処理されて高温になったウエハ１群およびこれを保持したボート２１に接触して熱交換することにより、これらを冷却する。
この際に、窒素ガス３０は供給管４３によって供給された直後の冷えた新鮮な窒素ガス３０であるので、ウエハ１群およびボート２１を高い熱交換効率をもって冷却することができる。
また、ウエハ１群およびボート２１を冷却して温度が上昇した窒素ガス３０は、排出管４４によって循環路３１から直ちに排気されることにより、循環路３１に介設されたクリーンユニット４０を通過することがなくなるために、クリーンユニット４０を温度上昇させることはない。したがって、クリーンユニット４０から有機汚染物質が発生することもない。
さらに、高温になったウエハ１に接触するのは不活性ガスである窒素ガス３０であるので、ウエハ１の表面に自然酸化膜が生成されることはない。
ちなみに、クリーンエア導入管４６の止め弁４７は閉じられている。
なお、循環路３１の温度上昇が少ない範囲では、温度が上昇した窒素ガス３０の一部を循環路３１で循環させてもよい。

待機室１６に搬出されたボート２１の処理済みウエハ１は、ボート２１からウエハ移載装置１７によってピックアップされてウエハローディングポート１３に搬送され、ウエハローディングポート１３に予め搬送されてキャップ３を外されて開放された空のポッド２に収納される。
ポッド２が処理済みウエハ１によって満たされると、ポッド２はポッドオープナ１５によってキャップ３を装着されて閉じられた後に、ウエハローディングポート１３から他の場所へ移送される。

以降、前述した作用が繰り返されることにより、ウエハ１が熱処理装置１０によってバッチ処理されて行く。

ところで、モータ設置室５０に篭もり防止ダクト部５３が接続されていない場合には、モータ設置室５０が袋小路の状態になっていることにより、待機室１６を循環している窒素ガス３０が殆ど流入してこないために、熱が篭もり、温度が上昇してしまう。
モータ設置室５０の温度が上昇すると、モータに電力を供給するケーブルやモータ１９ｂや送りねじ軸１９ａに塗布されたグリースおよびモータ１９ｂのコイルに使用されたエナメル等から有機物の揮発が発生する。この発生した有機物は窒素ガス３０等モータ設置室や待機室の雰囲気とは重量が異なると、モータ設置室から待機室へ移動し、挙句には、ウエハ１に対する有機物汚染の要因になり、熱処理装置の製造歩留りの低下を招来してしまう。

しかし、本実施の形態においては、モータ設置室５０に篭もり防止ダクト部５３が接続されているので、モータ設置室５０の温度が上昇する現象を抑制することができ、それによる有機物汚染や製造歩留りの低下が発生するのを未然に防止することができる。
すなわち、前述した窒素ガスの循環ステップにおいて、篭もり防止ダクト部５３の送風機５６が運転されると、モータ設置室５０には送風機５６の排気力が篭もり防止ダクト部５３の吸込口５４を通じて作用するために、図４に示されているように、待機室１６を循環している窒素ガス３０の一部が、モータ設置室５０に吸込側ダクト部３４の内部から連通口５２を通じて強制的に取り込まれる。
モータ設置室５０に取り込まれた窒素ガス３０は、吸込口５４から篭もり防止ダクト部５３に送風機５６の排気力によって吸い込まれ、篭もり防止ダクト部５３の吹出口５５からメイン連絡ダクト部３５の内部に吹き出す。メイン連絡ダクト部３５の内部に吹き出した窒素ガス３０は、循環路３１に従って循環する。
ちなみに、吸込側ダクト部３４の内部の窒素ガス３０の大部分は、メイン連絡ダクト部３５およびサブ連絡ダクト部３７を経由して吹出側ダクト部３９に戻り、クリーンユニット４０から待機室１６に吹き出し、前述した循環路３１を経由して循環する。

ところで、待機室１６に供給される窒素ガス３０の流量が一定であり、待機室１６から排気される窒素ガス３０の排気量も一定である場合には、モータ設置室５０の雰囲気（窒素ガス）を排気すると、総排気量が増加してしまうために、待機室１６内の圧力が低下してしまう。
待機室１６内の圧力が低下すると、待機室１６の外部の雰囲気（大気）が待機室１６内に流入し易くなるために、待機室１６内の酸素濃度が上昇してしまい、酸素濃度の管理が困難になってしまう。
本実施の形態においては、モータ設置室５０内の雰囲気（窒素ガス３０）は篭もり防止ダクト部５３によってメイン連絡ダクト部３５を介し循環路３１を通じて待機室１６内に戻されるので、総排気量は変化しない。
また、モータ設置室５０の排気によって循環路３１に流れた分の窒素ガス３０は、待機室１６内を循環している窒素ガスの循環量を増加させることによって補填する。これは、モータ設置室５０の窒素ガス３０が循環する窒素ガス３０に加算されたために、加算された窒素ガス３０の分だけ循環量を増加することができるからである。
さらに、モータ設置室５０の排気を増加することにより、一時的に低下するであろう圧力も循環量を増加することによって補填されるために、待機室１６内の圧力の低下は起こらない。したがって、待機室１６の外部の雰囲気が待機室１６内に流入することは無く、酸素濃度は一定に維持することができる。

なお、前述した熱処理が繰り返して実施されると、ボート２１や処理室２３の表面に反応生成物等が堆積するため、メンテナンス作業がボート２１やプロセスチューブ２４等について定期または不定期に実施される。
このメンテナンス作業の安全性を確保するために、メンテナンス作業に際しては、待機室１６の窒素ガス３０は除去される。
すなわち、メンテナンス作業の前に、供給管４３からの窒素ガス３０の供給および循環路３１の循環は停止され、クリーンエア導入管４６の止め弁４７が開かれて、クリーンエアがクリーンエア導入管４６によって循環ダクト３２の吹出側ダクト部３９に導入される。吹出側ダクト部３９に導入されたクリーンエアはクリーンユニット４０から待機室１６に吹き出し、待機室１６を流通して吸込側ダクト部３４の吸込口３３を通じて排出管４４によって排気される。これにより、待機室１６の窒素ガス３０は安全なクリーンエアに置換される。
この際には、クリーンユニット４０からのクリーンエアの吹き出しによって待機室１６が外部の圧力よりも高い正圧になることにより、待機室１６の外部の雰囲気が待機室１６に流入することは防止されるため、待機室１６の清浄度は維持することができる。

前記実施の形態によれば、次の効果が得られる。

1) モータ設置室に篭もり防止ダクト部を接続することにより、モータ設置室に窒素ガスを強制的に流通させることができるので、モータ設置室の温度が上昇する現象を抑制することができる。

2) モータ設置室の温度上昇を抑制することにより、モータ設置室の温度上昇に伴って発生する二次的障害、例えば、モータ設置室に設置された速度センサ等のセンサ類の熱による悪影響、モータに電力を供給するケーブルやその他のケーブル類、ボートエレベータの送りねじ軸やモータに塗布されたグリース等からの有機物の揮発を防止することができる。

3) 有機物の揮発等を防止することにより、ウエハに対する有機物汚染を防止することができるので、熱処理装置の製造歩留りを向上させることができる。

4) 篭もり防止ダクト部を待機室の側壁内面である吸込側ダクト部の側壁内面に敷設することにより、個別のクリーンユニットを設置しなくても済むばかりでなく、設計変更を抑制することができるとともに、熱処理装置のフットプリントの増加を回避することができる。

5) 篭もり防止ダクト部を待機室の側壁内面である吸込側ダクト部の側壁内面に敷設することにより、待機室内のスペースの減少を回避することができるので、メンテナンス等のための作業スペースを充分に確保することができ、また、部品点数や組付工数の増加を抑制することができる。

なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々に変更が可能であることはいうまでもない。

例えば、篭もり防止ダクト部の内部に風量調整ダンパを設置することにより、篭もり防止ダクト部を流通する窒素ガスの流量を調整自在に構成してもよい。
さらに、ボートエレベータの上部に温度センサを設置し、例えば、温度センサが５０℃以上を検出したら、風量調整ダンパを全開方向に制御するように構成すれば、なおのことよい。
また、篭もり防止ダクト部の内部の風量調整ダンパを熱処理装置のシーケンスフローのレシピに合わせて、ボートアンローディングステップ時に全開方向に制御し、通常時（待機室が所定の温度以下のステップ、例えば、ボートへのウエハチャージングステップ等）は、全閉方向に制御するように構成してもよい。
場合によっては、篭もり防止ダクト部の送風機は、省略してもよい。

クリーンユニットに設置するフィルタは、パーティクルを除去し、清浄化するタイプであればよいが、好ましくは、パーティクルを除去するタイプと有機物を除去するタイプとの両方を設置するようにするとよい。

例えば、清浄雰囲気としては、窒素ガスを使用するに限らず、クリーンエア等を使用してもよい。

前記実施の形態ではバッチ式縦形熱処理装置の場合について説明したが、本発明はこれに限らず、バッチ式縦形拡散装置等の基板処理装置全般に適用することができる。

本発明の一実施の形態である熱処理装置を示す側面断面図である。 一部切断正面図である。 待機室を示す平面断面図である。 図３のIV−IV線に沿う側面断面図である。

符号の説明

１…ウエハ（基板）、２…ポッド（ウエハキャリア）、３…キャップ、１０…熱処理装置（基板処理装置）、１１…筐体、１２…取付板、１３…ウエハローディングポート、１４…ウエハ搬入搬出口、１５…ポッドオープナ、１６…待機室、１７…ウエハ移載装置、１８…ウエハ移載装置エレベータ、１９…ボートエレベータ、１９ａ…送りねじ軸、１９ｂ…モータ（駆動装置）、１９ｃ…昇降台、１９ｄ…アーム、２０…シールキャップ、２１…ボート（基板保持台）、２２…プロセスチューブ設置室、２３…処理室、２４…プロセスチューブ、２５…マニホールド、２６…ガス導入管、２７…排気管、２８…ヒータユニット、２９…シャッタ、３０…窒素ガス（清浄雰囲気）、３１…循環路、３２…循環ダクト、３３…吸込口、３４…吸込側ダクト部、３５…メイン連絡ダクト部、３６…吸込口、３７…サブ連絡ダクト部、３８…吹出口、３９…吹出側ダクト部、４０…クリーンユニット、４１…フィルタ、４２…送風機、４３…供給管（供給路）、４４…排出管（排出路）、４５…開閉弁、４６…クリーンエア導入管、４７…止め弁、４８…冷却器、５０…モータ設置室（駆動装置設置室）、５１…隔壁、５２…連通口、５３…篭もり防止ダクト部、５４…吸込口、５５…吹出口、５６…送風機。

Claims (1)

1. 基板を基板保持具に保持しつつ処理する処理室と、
   前記基板保持具が前記処理室への搬入出前後に待機する待機室と、
   前記待機室の一側面に設けられて前記待機室に清浄雰囲気を供給するフィルタおよび送風機と、
   前記待機室に前記フィルタに対向するように設けられて前記基板保持具を前記待機室と前記処理室との間で昇降させる基板保持具エレベータと、
   前記基板保持具エレベータの駆動装置が設置された駆動装置設置室と、
   少なくとも前記駆動装置設置室と前記送風機の上流側とを連絡する循環路と、
   を備えていることを特徴とする基板処理装置。

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