JP2006527066A - 光硬化されかつ安定化されたコーティング - Google Patents

光硬化されかつ安定化されたコーティング Download PDF

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Abstract

耐久性および/または赤方偏移反応性ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール紫外線吸収体(UVA)を含む光硬化性コーティング配合剤は、α−ヒドロキシケトン光開始剤とビスアシルホスフィンオキシド光開始剤との組合せを利用して有効に光硬化される。反応性UVAは硬化の際に、反応してコーティングになる。光開始剤ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシドと1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンとの組合せが、この目的に特に有効である。

Description

本発明は、耐久性および/または赤方偏移反応性ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール紫外線吸収体を含む、コーティング配合剤を光硬化する方法を目的とする。
耐久性および/または赤方偏移ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールは、例えば米国特許第5,977,219号に開示されている。耐久性および/または赤方偏移ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールを含むソーラー制御フィルムが、米国特許第6,187,845号および同第6,191,199号に開示されている。
驚くべきことに、耐久性および/または赤方偏移反応性ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールUV吸収体を含む光硬化性コーティング配合剤は、α−ヒドロキシケトン光開始剤とビスアシルホスフィンオキシド光開始剤との組合せを用いることによって有効に光硬化される。UV吸収体は光硬化に必要な光を遮断するため、これは驚くべきことである。このことは、本発明のヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールのような極めて有効なUV吸収体は、赤方偏移しているせいでUV光をより多く吸収するので、それらについて、特に驚くべきことである。
本発明の目的は、反応してコーティングになる高性能の耐久性および/または赤方偏移ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール紫外線吸収体(UVA)を含む、保護する薄層光硬化されたコーティングを提供する。
コーティング組成物に紫外線もしくは日光または日光と同等な光源を照射することによって前記組成物を硬化させることを含む、保護フィルムコーティングを形成させる方法であって、
前記コーティング組成物が、
a)少なくとも1種のエチレン性不飽和重合性化合物、
b)エチレン性不飽和重合性基を含む少なくとも1種の耐久性および/または赤方偏移反応性ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールUV吸収体、ならびに
c)i)少なくとも1種のα−ヒドロキシケトン光開始剤、および
ii)少なくとも1種のビスアシルホスフィンオキシド光開始剤、
を含む光開始剤の組合せ、
を含み、
成分b)のヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールが、式:
Figure 2006527066
〔式中、
1は、水素またはハロゲンであり、
2は、ハロゲン、ニトロ、シアノ、炭素原子1〜12個のペルフルオロアルキル、−COOG3、−P(O)(C652、−CO−G3、−CO−NH−G3、−CO−N(G32、−N(G3)−CO−G3、E5SO−またはE5SO2−であり;
3は、水素、炭素原子1〜24個の直鎖状もしく分枝状アルキル、炭素原子2〜18個の直鎖状もしくは分枝状アルケニル、炭素原子5〜12個のシクロアルキル、炭素原子7〜15個のフェニルアルキル、フェニル、またはフェニル環上で炭素原子1〜4個のアルキル1〜4個によって置換された前記フェニルもしくは前記フェニルアルキルであり、
1は、水素、炭素原子1〜24個の直鎖状もしくは分枝状アルキル、炭素原子2〜24個の直鎖状もしくは分枝状アルケニル、炭素原子5〜12個のシクロアルキル、炭素原子7〜15個のフェニルアルキル、フェニル、またはフェニル環上で炭素原子1〜4個のアルキル1〜4個によって置換された前記フェニルもしくは前記フェニルアルキルであり;あるいはE1は、ヒドロキシ基1または2個によって置換された炭素原子1〜24個のアルキルであり、
1が、炭素原子7〜15個のフェニルアルキルもしくはフェニル、またはフェニル環上で炭素原子1〜4個のアルキル1〜4個によって置換された前記フェニルもしくは前記フェニルアルキルである場合に、G2は、水素であってもよく、
2は、炭素原子1〜24個の直鎖状もしくは分枝状アルキル鎖、炭素原子2〜18個の直鎖状もしくは分枝状アルケニル、炭素原子5〜12個のシクロアルキル、炭素原子7〜15個のフェニルアルキル、フェニル、またはフェニル環上で炭素原子1〜4個のアルキル1〜3個によって置換された前記フェニルもしくは前記フェニルアルキルであり;あるいはE2は、−OH、−OCOE6、−OE4、−NCO、−NH2、−NHCOE6、−NHE4もしくは−N(E42、またはそれらの混合物の1個以上によって置換された炭素原子1〜24個の前記アルキルまたは炭素原子2〜18個の前記アルケニルであり、ここでE4は、炭素原子1〜24個の直鎖状もしくは分枝状アルキルであり;あるいは前記アルキルまたは前記アルケニルは、−O−、−NH−もしくは−NE4−基またはそれらの混合物の1個以上によって中断されて、非置換になるか、あるいは−OH、−OE4もしくは−NH2基、またはそれらの混合の1個以上によって置換されることができ、
3は、炭素原子2〜24個の直鎖状または分枝状アルケニルであり、
5は、炭素原子1〜20個のアルキル、炭素原子2〜20個のヒドロキシアルキル、炭素原子2〜9個のアルコキシカルボニルによって置換されたアルキル、炭素原子3〜18個のアルケニル、炭素原子5〜12個のシクロアルキル、炭素原子7〜15個のフェニルアルキル、炭素原子6〜10個のアリール、炭素原子1〜4個のアルキル1もしくは2個によって置換された前記アリール、またはペルフルオロアルキル部分に炭素原子が6〜16個有する1,1,2,2−テトラヒドロペルフルオロアルキルであり、
Xは、−O−またはN(E16)−であり、
Yは、−O−またはN(E17)−であり、
Zは、C2〜C12アルキレン、窒素原子、酸素原子もしくはそれらの混合物の1〜3個によって中断されたC4〜C12アルキレンであるか、またはそれぞれヒドロキシル基で置換されたC3〜C12アルキレン、ブテニレン、ブチニレン、シクロヘキシレンもしくはフェニレンであり、
mは、0、1または2であり、
pは、1〜24であり、
6は、水素、直鎖状もしくは分枝状C1〜C18アルキル、C5〜C12シクロアルキル、直鎖状もしくは分枝状C2〜C18アルケニル、C6〜C14アリールまたはC7〜C15アラルキルであり、
15は、基:−CO−C(E18)=C(H)E19であるか、またはYが、−N(E17)−である場合に、E17と一緒になって基:−CO−CH=CH−CO−を形成し、ここでE18は、水素またはメチルであり、E19は、水素、メチルまたは−CO−Y−E20であり、ここでE20は、水素、C1〜C12アルキル、または式:
Figure 2006527066
(式中、E1、G1、G2、X、Zおよびmは、先に定義したとおりである)で示される基であり、
16およびE17は、互いに独立して、水素、C1〜C12アルキル、酸素原子1〜3個で中断されたC3〜C12アルキルであるか、またはシクロヘキシルもしくはC7〜C15アラルキルであり、Zがエチレンである場合に、E16は、E17と一緒になってまたエチレンを形成する〕で示される方法を開示する。
本発明の耐久性および/または赤方偏移反応性ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールは、2001年5月8日に出願された米国特許第5,977,219号、同第6,166,218号、同第6,262,151号、および同第6,458,872号、ならびに2001年1月29日に出願された米国特許出願第09/772,245号に包括的に記載されており、それらの関連の開示を、本明細書中に援用する。
例えば本発明のヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールにおいて、
1が、水素であり、
2が、水素、シアノ、クロロ、フルオロ、−CF3、−CO−G3、E5SO−またはE5SO2−であり、
3が、炭素原子1〜24個の直鎖状もしくは分枝状アルキル、炭素原子2〜18個の直鎖状もしくは分枝状アルケニル、炭素原子5〜12個のシクロアルキル、炭素原子7〜15個のフェニルアルキル、フェニル、またはフェニル環上で炭素原子1〜4個のアルキル1〜4個によって置換された前記フェニルもしくは前記フェニルアルキルであり、
1が、炭素原子7〜15個のフェニルアルキル、フェニル、またはフェニル環上で炭素原子1〜4個のアルキル1〜4個によって置換された前記フェニルもしくは前記フェニルアルキルであり、
3が、アリルであり、および
5が、炭素原子1〜20個のアルキル、炭素原子2〜20個のヒドロキシアルキル、炭素原子3〜18個のアルケニル、炭素原子5〜12個のシクロアルキル、炭素原子7〜15個のフェニルアルキル、炭素原子6〜10個のアリール、炭素原子1〜4個のアルキル1もしくは2個によって置換された前記アリール、またはペルフルオロアルキル部分が炭素原子6〜16個を有する1,1,2,2−テトラヒドロペルフルオロアルキルである。
例えば、本発明のヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールにおいて、
1が、水素であり、
2が、クロロ、フルオロ、−CF3、E5SO−またはE5SO2−であり、
1が、水素、または炭素原子1〜24個の直鎖状もしくは分枝状アルキルであり、
3が、アリルであり、および
5が、炭素原子1〜7個の直鎖状もしくは分枝状アルキルである。
別の実施態様は、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールUVAにおいて、
1が、水素であり、
2が、−CF3またはフルオロであり、
1が、水素、炭素原子1〜24個の直鎖状もしくは分枝状アルキル、または炭素原子7〜15個のフェニルアルキルであり、
2が、炭素原子1〜24個の直鎖状もしくは分枝状アルキル、炭素原子2〜18個の直鎖状もしくは分枝状アルケニル、炭素原子5〜12個のシクロアルキル、炭素原子7〜15個のフェニルアルキル、フェニル、またはフェニル環上で炭素原子1〜4個のアルキル1〜3個によって置換された前記フェニルもしくは前記フェニルアルキルであり、
1が、炭素原子7〜15個のフェニルアルキルである場合に、G2が、水素であってもよく、
3が、アリルであり、および
15が、基:−CO−C(E18)=C(H)E19であるか、またはYが、−N(E17)−である場合に、E17と一緒になって基:−CO−CH=CH−CO−を形成し、ここでE18は、水素またはメチルであり、E19は、水素またはメチルである。
別の実施態様では、本ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールUVAにおいて、
1が、水素であり、
2が、−CF3であり、
1が、炭素原子7〜15個のフェニルアルキル、フェニル、またはフェニル環上で炭素原子1〜4個のアルキル1〜4個によって置換された前記フェニルもしくは前記フェニルアルキルであり、
2が、炭素原子1〜24個の直鎖状もしくは分枝状アルキル、炭素原子2〜18個の直鎖状もしくは分枝状アルケニル、炭素原子5〜12個のシクロアルキル、炭素原子7〜15個のフェニルアルキル、フェニル、またはフェニル環上で炭素原子1〜4個のアルキル1〜3個によって置換された前記フェニルもしくは前記フェニルアルキルであり;あるいはE2は、−OH、−OCOE11、−NH2もしくは−NHCOE11、またはそれらの混合物の1個以上によって置換された炭素原子1〜24個の前記アルキルもしくは炭素原子2〜18個の前記アルケニルであるか、または前記アルキルもしくは前記アルケニルが、1個以上の−O−によって中断され、非置換になるか、もしくは1個以上の−OHによって置換されることができ、および
3が、アリルである。
別の実施態様では、本ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールUVAにおいて、
1が、水素であり、
2が、−CF3であり、
1が、水素、炭素原子4〜24個の直鎖状もしくは分枝状アルキル、または炭素原子7〜15個のフェニルアルキルであり、
3が、アリルである。
例えば、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールUVAが、式:
Figure 2006527066
(式中、
1は、t−ブチルまたはα−クミルであり、
2は、フェニルスルホンまたは−CF3である)で示される。
更に適切な個々の化合物は、
5−トリフルオロメチル−2−(2−ヒドロキシ−3−アリル−5−tert−オクチル−フェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、
Figure 2006527066

Figure 2006527066

である。
本ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールは、コーティング組成物の重量に基づいて、約0.5〜約5重量%使用する。例えば、本ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールは、コーティング組成物の重量に基づいて、約0.5〜約4重量%、約0.5〜約3重量%、約0.5〜約2重量%、または約0.5〜約1重量%使用する。例えば、本ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールは、コーティング組成物の重量に基づいて、約1〜約5重量%、約2〜約5重量%、約3〜約5重量%、または約4〜約5重量%使用する。例えば、本ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールは、コーティング配合剤の重量に基づいて、約1〜約4.5重量%または約2〜約4重量%使用する。
本発明のα−ヒドロキシケトン光開始剤およびビスアシルホスフィンオキシド光開始剤は公知であり、例えば、米国特許第5,942,290号、同第5,534,559号および同第6,020,528号に開示されており、それらの関連の開示を、本明細書中に援用する。
α−ヒドロキシケトン光開始剤は、式:
Figure 2006527066
(式中、
11およびR12は、互いに独立して、水素、C1〜C6アルキル、フェニル、C1〜C6アルコキシ、OSiR16(R172もしくは−O(CH2CH2O)q−C1〜C6アルキルであるか、または
11およびR12は、それらが結合する炭素原子と一緒になってシクロヘキシル環を形成し;
qは、1〜20の数であり;
13は、OH、C1〜C16アルコキシまたは−O(CH2CH2O)q−C1〜C6アルキルであり;
14は、水素、C1〜C18アルキル、C1〜C18アルコキシ、−OCH2CH2−OR15、基:CH2=C(CH3)−である)で示されるか、または
Figure 2006527066
(式中、
Iは、2〜10の数であり;
15は、水素、−COCH=CH2または−COC(CH3)=CH2であり;並びに
16およびR17は、互いに独立して、C1〜C8アルキルまたはフェニルである)である。
興味深いα−ヒドロキシケトン光開始剤は、R11およびR12が、互いに独立して、水素、C1〜C6アルキルもしくはフェニルであるか、またはR11およびR12が、それらが結合する炭素原子と一緒になってシクロヘキシル環を形成し;R13が、OHであり;R14が、水素、C1〜C12アルキル、C1〜C12アルコキシ、−OCH2CH2OR15、−C(CH3)=CH2であるか、または
Figure 2006527066

であるものである。
例えば、α−ヒドロキシケトン光開始剤として適しているのは、R11およびR12が、互いに独立して、メチルもしくはエチルであるか、またはR11およびR12が、それらが結合する炭素原子と一緒になってシクロヘキシル環を形成し;R13が、水素であり及びR14が、水素、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシまたは−OCH2CH2OHであるものである。
例えば、適切なα−ヒドロキシケトン光開始剤は、
α−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、
2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパノン、
2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−イソプロピルフェニル)プロパノン、
2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−ドデシルフェニル)プロパノン、および
2−ヒドロキシ−2−メチル−1−〔(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル〕プロパノン、である。
本α−ヒドロキシケトン光開始剤は、例えばCiba Specialty ChemicalsからIrgacure(登録商標)184として入手できるα−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンである。
ビスアシルホスフィンオキシド光開始剤は、式:
Figure 2006527066
(式中、
50は、非置換であるか、またはハロゲンもしくはC1〜C8アルキル1〜4個によって置換されたC1〜C12アルキル、シクロヘキシルまたはフェニルであり、
51およびR52は、それぞれ他から独立して、C1〜C8アルキルまたはC1〜C8アルコキシであり、
53は、水素またはC1〜C8アルキルであり、および
54は、水素またはメチルである)で示される。
例えば、R50は、非置換であるか、またはC1〜C4アルキル、ClもしくはBr1〜4個によって置換されたC2〜C10アルキル、シクロヘキシルまたはフェニルである。
別の実施形態では、R50は、非置換であるか、または2−、3−、4−もしくは2,5−位がC1〜C4アルキルによって置換されたC3〜C8アルキル、シクロヘキシルまたはフェニルである。
例えば、R50は、C4〜C12アルキルまたはシクロヘキシルであり、R51およびR52は、それぞれ他から独立して、C1〜C8アルキルまたはC1〜C8アルコキシであり、R53は、水素またはC1〜C8アルキルであり、R54は、水素またはメチルである。
例えば、R51およびR52は、C1〜C4アルキルまたはC1〜C4アルコキシであり、R53は、水素またはC1〜C4アルキルである。
別の実施形態では、R51およびR52は、メチルまたはメトキシであり、R53は、水素またはメチルである。
例えば、R51、R52およびR53は、メチルである。
別の実施形態では、R51、R52およびR53は、メチルであり、R54は、水素である。別の実施形態では、R50は、C3〜C8アルキルである。
例えば、R51およびR52は、メトキシであり、R53およびR54は、水素であり、R50は、イソオクチルである。
例えば、R50は、イソブチルである。
例えば、R50は、フェニルである。
本ビスアシルホスフィンオキシド光開始剤は、例えばCiba Specialty Chemicalsから入手できるIrgacure(登録商標)819のビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキシドであり、またはビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−イソオクチルホスフィンオキシドである。
直鎖状または分枝状アルキルは、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、イソペンチル、イソオクチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシルまたはドデシルである。
α−ヒドロキシケトン光開始剤は、本発明のコーティング組成物中に、コーティング組成物の重量に基づいて、約1〜約7重量%存在する。
例えば、α−ヒドロキシケトン光開始剤は、コーティング配合剤の重量に基づいて、約1〜約2重量%、約1〜約3重量%、約1〜約4重量%、約1〜約5重量%、または約1〜約6重量%存在する。例えば、α−ヒドロキシケトン光開始剤は、コーティング組成物の重量に基づいて、約2〜約7重量%、約3〜約7重量%、約4〜約7重量%、約5〜約7重量%、または約6〜約7重量%存在する。例えば、α−ヒドロキシケトン光開始剤は、コーティング組成物の重量に基づいて、約2〜約6重量%または約3〜約5重量%存在する。
本ビスアシルホスフィンオキシド光開始剤は、コーティング組成物の重量に基づいて、約0.1〜約2重量%使用する。
例えば、本ビスアシルホスフィンオキシド光開始剤は、コーティング配合剤の重量に基づいて、約0.1〜約1.5重量%、約0.1〜約1重量%、または約0.1〜約0.5重量%使用する。例えば、本ビスアシルホスフィンオキシド光開始剤は、コーティング組成物の重量に基づいて、約0.2〜約2重量%、約0.5〜約2重量%、または約0.7〜約2重量%使用する。例えば、本ビスアシルホスフィンオキシド光開始剤は、コーティング組成物の重量に基づいて、約0.2〜約1.5重量%または約0.5〜約1重量%使用する。
α−ヒドロキシケトン光開始剤は、例えば過剰のビスアシルホスフィンオキシド光開始剤で用いる。
α−ヒドロキシケトン対ビスアシルホスフィンオキシドの重量比は、例えば約5:1〜約15:1である。
例えば、α−ヒドロキシケトン対ビスアシルホスフィンオキシドの重量比は、約5:1〜約12:1、約5:1〜約10:1、約5:1〜約9:1、約5:1〜約8:1、または約5:1〜約7:1である。例えば、α−ヒドロキシケトン対ビスアシルホスフィンオキシドの重量比は、約7:1〜約15:1、約8:1〜約15:1、約9:1〜約15:1、約10:1〜約15:1、または約12:1〜約15:1である。例えば、α−ヒドロキシケトン対ビスアシルホスフィンオキシドの重量比は、約7:1〜約12:1、または約8:1〜約11:1である。
α−ヒドロキシケトン光開始剤単独によって、本コーティングの効率的な硬化が可能になる。
エチレン性不飽和重合性化合物は、オレフィン性二重結合を1個以上含有することができる。それらは、低分子(モノマー)化合物であってもまたは高分子(オリゴマー)化合物であってもよい。
二重結合を1個含有するモノマーの代表的な例は、アクリル酸アルキルもしくはヒドロキシアルキル、またはメタクリル酸アルキルもしくはヒドロキシアクリル、例えば、アクリル酸メチル、エチル、ブチル、2−エチルヘキシルおよび2−ヒドロキシエチル、アクリル酸イソボルニル、ならびにメタクリル酸メチルおよびエチルである。これらのモノマーの更なる例は、アクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−置換された(メタ)アクリルアミド、酢酸ビニルのようなビニルエステル、イソブチルビニルエーテルのようなビニルエーテル、スチレン、アルキルスチレン、ハロスチレン、N−ビニルピロリドン、塩化ビニルおよび塩化ビニリデンである。
二重結合を1個よりも多く含有するモノマーの例は、ジアクリル酸エチレングリコール、ジアクリル酸プロピレングリコール、ジアクリル酸ネオペンチルグリコール、ジアクリル酸ヘキサメチレングリコール、ジアクリル酸ビスフェノールA、4,4'−ビス(2−アクリロイルオキシエトキシ)ジフェニルプロパン、トリアクリル酸トリメチロールプロパン、トリアクリル酸ペンタエリトリトール、テトラアクリル酸ペンタエリトリトール、ペンタエリトリトールジビニルエーテル、アクリル酸ビニル、ジビニルベンゼン、コハク酸ジビニル、フタル酸ジアリル、リン酸トリアリル、イソシアヌル酸トリアリル、またはイソシアヌル酸トリス(2−アクリロイルエチル)である。高分子量(オリゴマー)多価不飽和化合物の例は、アクリル化エポキシ樹脂、アクリル化ポリエーテル、アクリル化ポリウレタン、およびアクリル化ポリエステルである。不飽和オリゴマーの更なる例は、通常はマレイン酸、フタル酸および1種以上のジオールから製造され、分子量が約500を超える不飽和ポリエステル樹脂である。このタイプの不飽和オリゴマーは、またプレポリマーとしても知られている。
不飽和化合物の代表的な例は、エチレン性不飽和カルボン酸とポリオールまたはポリエポキシドとのエステル、ならびに鎖内または側基内にエチレン性不飽和基を含有するポリマーであり、不飽和ポリエステル、ポリアミドおよびポリウレタン、ならびにそれらのコポリマー、ポリブタジエンおよびブタジエンコポリマー、ポリイソプレンおよびイソプレンコポリマー、側鎖内に(メタ)アクリル基を含有するポリマーおよびコポリマー、ならびにそのようなポリマー1種以上の混合物を含む。
不飽和カルボン酸の例は、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、桂皮酸、リノレン酸またはオレイン酸のような不飽和脂肪酸である。
適切なポリオールは、芳香族、脂肪族および脂環式ポリオールである。芳香族ポリオールは、代表的にはヒドロキノン、4,4'−ジヒドロキシジフェニル、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、並びにノボラックおよびクレゾールである。ポリエポキシドは、引用したポリオール、例えば芳香族ポリオール、およびエピクロロヒドリンに基づくものを含む。更に適切なポリオールは、ポリマー鎖または側基内にヒドロキシル基を含有するポリマーおよびコポリマー、例えばポリビニルアルコールおよびそのコポリマー、またはポリメタクリル酸ヒドロキシアルキルもしくはそれらのコポリマーである。他の適切なポリオールは、ヒドロキシル末端基を保持するオリゴエステルである。
脂肪族および脂環式ポリオールの例は、例えば炭素原子2〜12個を含有するアルキレンジオールであり、エチレングリコール、1,2−または1,3−プロパンジオール、1,2−、1,3−または1,4−ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、オクタンジオール、ドデカンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、分子量が例えば200〜1500のポリエチレングリコール、1,3−シクロペンタンジオール、1,2−、1,3−または1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−ジヒドロキシメチルシクロヘキサン、グリセリン、トリス(β−ヒドロキシエチル)アミン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリトリトール、ジペンタエリトリトールおよびソルビトールである。
1種の不飽和カルボン酸または異なる不飽和カルボン酸で、ポリオールを部分エステル化または完全エステル化してもよく、この場合、部分エステルの遊離ヒドロキシル基を、修飾、例えばエーテル化または他のカルボン酸でエステル化してもよい。
エステルの例は、下記である:トリアクリル酸トリメチロールプロパン、トリアクリル酸トリメチロールエタン、トリメタクリル酸トリメチロールプロパン、トリメタクリル酸トリメチロールエタン、ジメタクリル酸テトラメチレングリコール、ジメタクリル酸トリエチレングリコール、ジアクリル酸テトラエチレングリコール、ジアクリル酸ペンタエリトリトール、トリアクリル酸ペンタエリトリトール、テトラアクリル酸ペンタエリトリトール、ジアクリル酸ジペンタエリトリトール、トリアクリル酸ジペンタエリトリトール、テトラアクリル酸ジペンタエリトリトール、ペンタアクリル酸ジペンタエリトリトール、ヘキサアクリル酸ジペンタエリトリトール、オクタアクリル酸トリペンタエリトリトール、ジメタクリル酸ペンタエリトリトール、トリメタクリル酸ペンタエリトリトール、ジメタクリル酸ジペンタエリトリトール、テトラメタクリル酸ジペンタエリトリトール、オクタメタクリル酸トリペンタエリトリトール、ジイタコン酸ペンタエリトリトール、トリスイタコン酸ジペンタエリトリトール、ペンタイタコン酸ジペンタエリトリトール、ヘキサイタコン酸ジペンタエリトリトール、ジアクリル酸エチレングリコール、ジアクリル酸1,3−ブタンジオール、ジメタクリル酸1,3−ブタンジオール、ジイタコン酸1,4−ブタンジオール、トリアクリル酸ソルビトール、テトラアクリル酸ソルビトール、ペンタエリトリトール変性トリアクリラート、テトラメタクリル酸ソルビトール、ペンタアクリル酸ソルビトール、ヘキサアクリル酸ソルビトール、アクリル酸オリゴエステル、メタクリル酸オリゴエステル、ジアクリル酸グリセリン、トリアクリル酸グリセリン、1,4−シクロヘキサンジアクリラート、分子量200〜1500のポリエチレングリコールのビスアクリラートおよびビスメタクリラート、またはそれらの混合物。多官能性モノマーおよびオリゴマーは、例えばUCB Chemicals, Smyrna, Georgia, and Sartomer, Exton, Pennsylvaniaから入手できる。
また、適切なエチレン性不飽和重合性化合物は、例えばアミノ基を2〜6個、例えば2〜4個含有する芳香族、脂環式および脂肪族ポリアミンの同一または異なる不飽和カルボン酸のアミドである。そのようなポリアミンの例は、エチレンジアミン、1,2−もしくは1,3−プロピレンジアミン、1,2−、1,3−もしくは1,4−ブチレンジアミン、1,5−ペンチレンジアミン、1,6−ヘキシレンジアミン、オクチレンジアミン、ドデシレンジアミン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミン、フェニレンジアミン、ビスフェニレンジアミン、ビス(β−アミノエチル)エーテル、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラアミン、ビス(□−アミノエトキシ)エタンまたはビス(β−アミノプロポキシ)エタンである。他の適切なポリアミンは、側鎖内に追加のアミノ基と、アミノ末端基を含有するオリゴアミドとを含有してよいポリマーおよびコポリマーである。
そのような不飽和アミドの例は、メチレンビスアクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビスアクリルアミド、ジエチレントリアミントリスメタクリルアミド、ビス(メタクリルアミドプロポキシ)エタン、β−メタクリルアミドエチルメタクリラート、N−〔(β−ヒドロキシエトキシ)エチル〕アクリルアミドである。
適切な不飽和ポリエステルおよびポリアミドは、代表的にはマレイン酸と、ジオールまたはジアミンとから誘導される。マレイン酸は、他のジカルボン酸、例えばフマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸またはクロロマレイン酸によって部分置換されることができる。ポリエステルの反応性を制御するため、そして架橋密度、故に生成物の特性に影響を与えるために、不飽和ジカルボン酸に加えて、異なる量の飽和ジカルボン酸、例えばフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロフタル酸、コハク酸またはアジピン酸を使用することが可能である。不飽和ポリエステルを、エチレン性不飽和コモノマー、例えばスチレンと一緒に使用することができる。ポリエステルおよびポリアミドは、また、ジカルボン酸とエチレン性不飽和ジオールまたはジアミンとから、特に、代表的には炭素原子を6〜20個含有する長鎖を有するものから誘導することもできる。ポリウレタンは、代表的には飽和または不飽和ジイソシアナートと不飽和および飽和ジオールとから誘導されるものである。
適切なアクリル酸ポリエステルまたはアクリル化ポリエステルは、オリゴマー、代表的にはエポキシド、ウレタン、ポリエーテルまたはポリエステルを、アクリラート、例えばアクリル酸ヒドロキシエチルまたはアクリル酸ヒドロキシプロピルと反応させることによって得られる。
ポリブタジエンおよびポリイソプレン、ならびにそれらのコポリマーは公知である。適切なコモノマーは、オレフィン、例えばエチレン、プロペン、ブテン、ヘキセン、(メタ)アクリラート、アクリロニトリル、スチレン、または塩化ビニルを含む。側鎖内に(メタ)アクリラート基を含有するポリマーも公知である。それらは、代表的にはノボラックを基にしたエポキシ樹脂と、(メタ)アクリル酸との反応生成物、(メタ)アクリル酸でエステル化したポリビニルアルコール、もしくはそれらのヒドロキシアルキル誘導体のホモポリマーもしくはコポリマー、または(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルでエステル化した(メタ)アクリラートのホモポリマーおよびコポリマーであってもよい。
モノマーは、例えば、アクリル酸アルキルもしくはヒドロキシアルキル、メタクリル酸アルキルもしくはヒドロキシアルキル、スチレン、ジアルキル酸エチレングリコール、ジアクリル酸プロピレングリコール、ジアクリル酸ネオペンチルグリコール、ジアクリル酸ヘキサメチレングリコールもしくはジアクリル酸ビスフェノールA、4,4'−ビス(2−アクリロイルオキシエトキシ)ジフェニルプロパン、トリアクリル酸トリメチロールプロパン、トリアクリル酸ペンタエリトリトール、またはテトラアクリル酸ペンタエリトリトール、例えばアクリラート、スチレン、ジアクリル酸ヘキサメチレングリコール、ジアクリル酸ビスフェノールA、4,4'−ビス(2−アクリロイルオキシエトキシ)ジフェニルプロパン、またはトリアクリル酸トリメチロールプロパンである。
オリゴマー性多価不飽和化合物は、例えば、マレイン酸、フマル酸、フタル酸と、代表的には分子量が約500〜3000のジオール1種以上とから製造されるアクリル酸ポリエステルまたは不飽和ポリエステル樹脂である。
不飽和カルボン酸は、例えば、アクリル酸およびメタクリル酸である。
光重合性化合物は、単独か、または所望の混合物で用いる。ポリオール(メタ)アクリラートの混合物を使用するのが適切である。
不飽和光重合性化合物に結合剤を添加してもよい。結合剤の添加は、光重合性化合物が液体または粘性物質である場合に、特に有用である。結合剤の量は、組成物全体に基づいて、5〜95重量%、例えば10〜90重量%、例えば40〜90重量%であってもよい。結合剤の選択は、使用分野および従って所望の特性、例えば水性溶媒および有機溶剤系で顕色される組成物の能力、基材への接着、ならびに酸素への感受性に依存することになる。
適切な結合剤は、代表的には分子量が約5,000〜2,000,000、例えば10,000〜1,000,000のポリマーである。例は、下記である:アクリラートおよびメタクリラートのホモポリマーおよびコポリマー、メタクリル酸メチル/アクリル酸エチル/メタクリル酸のコポリマー、ポリ(アルキルメタクリラート)、ポリ(アルキルアクリラート)を含む;セルロースエステルおよびエーテル、例えば酢酸セルロース、酢酪酸セルロース、メチルセルロース、エチルセルロース;ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、環化ゴム、ポリエーテル、例えばポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリテトラヒドロフラン;ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリウレタン、塩素化ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル/塩化ビニリデンのコポリマー、塩化ビニリデンとアクリロニトリルとのコポリマー、メタクリル酸メチルと酢酸ビニルとのコポリマー、ポリ酢酸ビニル、コポリ(エチレン/酢酸ビニル)、ポリマー、例えばポリカプロラクタムおよびポリ(ヘキサメチレンアジパミド)、ポリエステル、例えばポリ(テトラフタル酸エチレングリコール)、ならびにポリ(コハク酸ヘキサメチレングリコール)。
不飽和化合物は、また、非光重合性皮膜形成性成分と混和して用いることもできる。これらの成分は、物理的に乾燥性のポリマーまたはそれらの有機溶剤溶液、例えばニトロセルロースまたは酢酪酸セルロースであってもよい。光重合性不飽和モノマーは、フリーラジカルイオン硬化性ブレンド、例えばフリーラジカルカチオン硬化性ブレンドの成分であってもよい。また、粉末コーティング、ラミネート、所定の接着剤およびコンフォーマルコーティング中で使用されるような熱および光誘導性硬化サイクルを受ける系も重要である。
プレポリマーと多価不飽和モノマーとの混合物で追加として更なる不飽和モノマーを含有するものが、塗料系で用いられることがよくある。この場合のプレポリマーは、主として塗料フィルムの性質を決め、当業者は、それを変動させることによって、硬化フィルムの性質に影響を与えることができる。多価不飽和モノマーは、塗料フィルムを不溶性にする架橋剤として作用する。一価不飽和モノマーは、溶剤を使用する必要無しで粘度の低下を助ける反応性希釈剤として作用する。その上、硬化組成物の性質、例えば硬化速度、架橋密度および表面特性は、モノマーの選択に依存する。
不飽和ポリエステル樹脂は、一価不飽和モノマー、例えばスチレンと一緒に二成分系で用いられるのが普通である。
二成分の電子豊富なモノマー系/電子の少ないモノマー系は、厚い着色コーティング中で用いられることがしばしばある。例えば、ビニルエーテル/不飽和ポリエステル系は、粉末コーティング中で用いられ、スチレン/不飽和ポリエステル系は、ゲルコート中で用いられる。
適切な方法は、エチレン性不飽和重合性化合物は、少なくとも1種のオリゴマー性化合物と少なくとも1種のモノマーとの混合物であるものである。
興味深い方法は、エチレン性不飽和重合性化合物が、1)不飽和ポリエステル、特にマレイン酸、フマル酸および/またはフタル酸と1種以上のジオールとから製造される、分子量500〜3,000のものと、2)アクリラート、メタクリラートもしくはスチレン、またはそれらの組合せとの混合物であるものである。
重要な方法は、また、エチレン性不飽和重合性化合物が、1)不飽和ポリエステルと、2)アクリラートもしくはメタクリラート、またはそれらの組合せとの混合物であるものである。
別の興味深い方法は、エチレン性不飽和重合性化合物が、1)不飽和ポリエステルアクリラートと、2)アクリラートもしくはメタクリラート、またはそれらの組合せとの混合物であるものである。
本光重合性コーティング組成物は、追加として更なる添加剤を含んでよい。それらの例は、早期重合を防ぐ意図の熱阻害剤、例えばヒドロキノン、ヒドロキノン誘導体、p−メトキシフェノール、β−ナフトール、または立体障害フェノール、例えば2,6−ジ(tert−ブチル)−p−クレゾールである。暗所保存安定性を高めるために、ナフテン酸銅、ステアリン酸銅、オクチル酸銅を含む銅化合物、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、亜リン酸トリエチル、亜リン酸トリフェニル、または亜リン酸トリベンジルを含むリン化合物、テトラメチルアンモニウムクロリドもしくはトリメチルベンジルアンモニウムクロリドのような第四級アンモニウム化合物、またはN−ジエチルヒドロキシルアミンのようなヒドロキシルアミン誘導体を添加することが可能である。重合する間の大気酸素の除去は、パラフィンまたは同様のワックス様物質を添加することによって実行してもよく、それらは、ポリマーへの溶解性がないために重合の開始時に表面に移動して透明フィルムを形成し、空気が系に侵入することを防ぐ。同様に、酸素不透過性層を適用してもよい。UV吸収体、代表的にはヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、ヒドロキシフェニルベンゾフェノン、オキサニリドもしくはヒドロキシフェニル−s−トリアジン型、またはそれらの組合せのものを、光安定剤として添加してよい。UV光を吸収しない光安定剤、例えば立体障害アミン(HALS)類のものを添加することが有利になり得る。UV吸収体またはHALSの種類から選択される光安定剤は、別個に、または任意の組合せで用いてよい。
そのような標準のUV吸収体および光安定剤の例は、下記である:
1. 2−(2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、例えば2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3,5−ジ−tert−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(5−−tert−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−5−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3,5−ジ−tert−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3−sec−ブチル−5−tert−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3,5−ジ−tert−アミル−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3,5−ビス−(α,α−ジメチルベンジル)−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−5−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3−tert−ブチル−5−〔2−(2−エチルヘキシルオキシ)−カルボニルエチル〕−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−5−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−5−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−5−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3−tert−ブチル−5−〔2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチル〕−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3−ドデシル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−5−(2−イソオクチルオキシカルボニルエチル)フェニルベンゾトリアゾール、2,2'−メチレン−ビス〔4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−ベンゾトリアゾール−2−イルフェノール〕;2−〔3−tert−ブチル−5−(2−メトキシカルボニルエチル)−2−ヒドロキシフェニル〕−2H−ベンゾトリアゾールの、ポリエチレングリコール300によるエステル交換生成物;
Figure 2006527066
式中、R=3'−tert−ブチル−4'−ヒドロキシ−5'−2H−ベンゾトリアゾール−2−イルフェニル、2−〔2−ヒドロキシ−3−(α,α−ジメチルベンジル)−5−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−フェニル〕ベンゾトリアゾール;2−〔2−ヒドロキシ−3−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−5−(α,α−ジメチルベンジル)−フェニル〕ベンゾトリアゾール。
2. 2−ヒドロキシベンゾフェノン、例えば4−ヒドロキシ、4−メトキシ、4−オクチルオキシ、4−デシルオキシ、4−ドデシルオキシ、4−ベンジルオキシ、4,2',4'−トリヒドロキシおよび2’−ヒドロキシ−4,4'−ジメトキシ誘導体。
3. 置換されたおよび非置換の安息香酸のエステル、例えばサリチル酸4−tert−ブチルフェニル、サリチル酸フェニル、サリチル酸オクチルフェニル、ジベンゾイルレソルシノール、ビス(4−tert−ブチルベンゾイル)レソルシノール、ベンゾイルレソルシノール、2,4−ジ−tert−ブチルフェニル、3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンゾアート、3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシル、3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸オクタデシル、3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸2−メチル−4,6−ジ−tert−ブチルフェニル。
4. アクリラート、例えばα−シアノ−β,β−ジフェニルアクリル酸エチル、α−シアノ−β,β−ジフェニルアクリル酸イソオクチル、α−カルボメトキシ桂皮酸メチル、α−シアノ−β−メチル−p−メトキシ桂皮酸メチル、α−シアノ−β−メチル−p−メトキシ桂皮酸ブチル、α−カルボメトキシ−p−メトキシ桂皮酸メチル、およびN−(β−カルボメトキシ−β−シアノビニル)−2−メチルインドリン。
5. 立体障害アミン、例えばセバシン酸ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)、コハク酸ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)、セバシン酸ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)、セバシン酸ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)、n−ブチル−3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロン酸ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)、1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合体、N,N'−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−tert−オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンとの直鎖状もしくは環状縮合体、ニトリロ三酢酸トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタン−テトラカルボキシラート、1,1'−(1,2−エタンジイル)−ビス(3,3,5,5−テトラメチルピペラジノン)、4−ベンゾイル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、マロン酸ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−2−n−ブチル−2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルベンジル)、3−n−オクチル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジオン、セバシン酸(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)、コハク酸ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)、N,N'−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−モルホリノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンとの直鎖状または環状縮合体、2−クロロ−4,6−ビス(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンとの縮合体、2−クロロ−4,6−ジ−(4−n−ブチルアミノ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビス−(3−アミノプロピルアミノ)エタンとの縮合体、8−アセチル−3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジオン、3−ドデシル−1−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオン、3−ドデシル−1−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオン、4−ヘキサデシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンと4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンルとの混合物、N,N'−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−シクロヘキシルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンとの縮合生成物、1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンと2,4,6−トリクロロ−1,3,5−トリアジンとの縮合生成物、並びに4−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン(CAS登録番号〔136504−96−6〕);N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−n−ドデシルスクシンイミド、N−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−n−ドデシルスクシンイミド、2−ウンデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキソ−スピロ〔4.5〕デカン、7,7,9,9−テトラメチル−2−シクロウンデシル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキソスピロ〔4.5〕デカンとエピクロロヒドリンとの反応生成物、1,1−ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルオキシカルボニル)−2−(4−メトキシフェニル)エテン、N,N'−ビス−ホルミル−N,N'−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミン、4−メトキシ−メチレンマロン酸と1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ〔メチルプロピル−3−オキシ−4−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)〕シロキサン、無水マレイン酸−α−オレフィン−コポリマーと、2,2,6,6−テトラメチル−4−アミノピペリジンまたは1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−アミノピペリジンとの反応生成物。
6. ヒドロキシで置換されたアルコキシ基によってN原子上が置換された立体障害アミン、例えば1−(2−ヒドロキシ−2−メチルプロポキシ)−4−オクタデカノイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1−(2−ヒドロキシ−2−メチルプロポキシ)−4−ヘキサデカノイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1−オキシ−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンとt−アミルアルコールからの炭素ラジカルとの反応生成物、1−(2−ヒドロキシ−2−メチルプロポキシ)−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1−(2−ヒドロキシ−2−メチルプロポキシ)−4−オキソ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、セバシン酸ビス(1−(2−ヒドロキシ−2−メチルプロポキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)、アジピン酸ビス(1−(2−ヒドロキシ−2−メチルプロポキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)、コハク酸ビス(1−(2−ヒドロキシ−2−メチルプロポキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)、グルタル酸ビス(1−(2−ヒドロキシ−2−メチルプロポキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)、および2,4−ビス{N−〔1−(2−ヒドロキシ−2−メチルプロポキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル〕−N−ブチルアミノ}−6−(2−ヒドロキシエチルアミノ)−s−トリアジンのような化合物。
7. オキサミド、例えば4,4'−ジオクチルオキシオキサニリド、2,2'−ジエトキシオキサニリド、2,2'−ジオクチルオキシ−5,5'−ジ−tert−ブトキサニリド、2,2'−ジドデシルオキシ−5,5'−ジ−tert−ブトキサニリド、2−エトキシ−2'−エチルオキサニリド、N,N'−ビス(3−ジメチルアミノプロピル)オキサミド、2−エトキシ−5−tert−ブチル−2'−エトキサニリドおよびそれの、2−エトキシ−2'−エチル−5,4'−ジ−tert−ブトキサニリドとの混合物、o−メトキシで二置換されたオキサニリドとp−メトキシで二置換されたオキサニリドとの混合物、ならびにo−エトキシで二置換されたオキサニリドとp−エトキシで二置換されたオキサニリドとの混合物。
8. 2−(2−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、例えば2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキシフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(4−メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−トリデシルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ブチルオキシプロポキシ)フェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−オクチル−オキシプロポキシ)フェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−〔4−ドデシルオキシ/トリデシルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)−2−ヒドロキシ−フェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ドデシルオキシ−プロポキシ)フェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシ)フェニル−4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス〔2−ヒドロキシ−4−(3−ブトキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシフェニル〕−4−(4−メトキシフェニル)−6−フェニル−1,3,5−トリアジン、2−{2−ヒドロキシ−4−〔3−(2−エチルヘキシル−1−オキシ)−2−ヒドロキシプロピルオキシ〕フェニル}−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−2−〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ノニルオキシプロポキシ)−5−(1−メチル−1−フェニルエチル)フェニル〕−1,3,5−トリアジン。
9. ホスファイトおよびホスホナイト、例えば亜リン酸トリフェニル、亜リン酸ジフェニルアルキル、亜リン酸フェニルジアルキル、亜リン酸トリス(ノニルフェニル)、亜リン酸トリラウリル、亜リン酸トリオクタデシル、二亜リン酸ジステアリルペンタエリトリトール、亜リン酸トリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)、二亜リン酸ジイソデシルペンタエリトリトール、二亜リン酸ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ペンタエルトリトール、二亜リン酸ビス(2,6−ジ-tert−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエルトリトール、二亜リン酸ジイソデシルオキシペンタエリトリトール、二亜リン酸ビス(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニル)ペンタエリトリトール、二亜リン酸ビス(2,4,6−トリス(tert−ブチルフェニル)ペンタエリトリトール)、三亜リン酸トリステアリルソルビトール、二亜ホスホン酸テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,4'−ビフェニレン、6−イソオクチルオキシ−2,4,8,10−テトラ−tert−ブチルジベンゾ〔d,f〕〔1,3,2〕ジオキサホスフェピン、6−フルオロ−2,4,8,10−テトラ−tert−ブチル−12−メチルジベンゾ〔d,g〕〔1,3,2〕ジオキサホスホシン、亜リン酸ビス(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニル)メチル、亜リン酸ビス(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニル)エチル、亜リン酸2,2',2''−ニトリロ〔トリエチルトリス(3,3',5,5'−テトラ−tert−ブチル−1,1'−ビフェニル−2,2'−ジイル)、亜リン酸2−エチルヘキシル(3,3',5,5'−テトラ−tert−ブチル−1,1'−ビフェニル−2,2'−ジイル)。
本発明の方法においてエチレン性不飽和部分を含有するヒンダード・アミン安定剤を用いるのが有利となり得る。例えばヒンダード・アミンは、1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジン−4−イルメタクリラート、そのアクリラート類似体、並びにメタクリラートおよびアクリラートの両方のヒンダード・N−HまたはN−メチル型である。
加えて、本発明の方法および組成物において、充填剤、流動補助剤(flow aids)、密着性向上剤、レオロジー改良剤、例えば、とり分けヒュームドシリカ、顔料、染料、蛍光増白剤、湿潤剤および界面活性剤などから選択される添加剤を用いてもよい。
有利には、本ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールの1種よりも多くの混合物を用いてよい。別の具体的な実施形態では、ヒドロキシフェニルトリアジンUV吸収体およびヒンダード・アミン光安定剤からなる群から選択する追加の添加剤を用いる。ヒンダード・アミン光安定剤は、N原子上の任意の置換、例えばアルコキシ基およびヒドロキシルで置換されたアルコキシ基を備えた立体障害アミン添加剤を包含する総称である。
本発明のコーティングフィルムの厚さ(乾燥フィルムの厚さ)は、例えば約5.08μ(0.2mil)〜約127μ(5mil)である。
例えば、本乾燥(硬化された)フィルム厚さは、約0.2mil〜約4mil、約5.08μ(0.2mil)〜約76.2μ(3mil)、約5.08μ(0.2mil)〜約50.8μ(2mil)、または約5.08μ(0.2mil)〜約25.4μ(1mil)である。例えば、本乾燥フィルムの厚さは、約12.7μ(0.5mil)〜約127μ(5mil)、約25.4μ(1mil)〜約127μ(5mil)、約50.8μ(2mil)〜約127μ(5mil)、約76.2μ(3mil)〜約127μ(5mil)、または約101.6μ(4mil)〜約127μ(5mil)である。例えば、本乾燥フィルムの厚さは、約12.7μ(0.5mil)〜約88.9μ(3.5mil)、または約25.4μ(1mil)〜約63.5μ(2.5mil)である。
本発明に従って製造したフィルムは、有利には、例えば、窓用フィルムとして、グラフィック用オーバーコーティング(graphic overcoating)中で、ソーラー制御フィルムとして、バックリットディスプレイフィルムとして、オーバーラミネートフィルム(外装または内装デジタルグラフィックなど)として、サイネージ中で、積層グレージング(laminated glazing)中で、インクジェット媒体コーティング、エレクトロクロミック/フォトクロミック用途で、可視光フィルム、保護眼鏡/ウインドシールドインターレイヤー(windshield interlayers)中で、インモールドフィルム、デカール、落書き防止フィルム、特殊包装、コンパクトディスクコーティング、ポリマー基材用の保護コーティング(例えば、機械および自動車パーツのようなプラスチックパーツ用)中で、そしてその他の高性能薄膜コーティング用途で用いられる。
本フィルムは、基材をUV線の悪影響に対して防ぐ方向に特に有効である。例えば、それらは、下層の基材内に存在する染料または顔料が退色するのを防ぐ方向に特に有効である。
前記基材に液体組成物、溶液または懸濁液を適用することによって、基材表面を塗被することができる。溶媒およびその濃度の選択は、主に用いる配合剤のタイプおよびコーティング法に依存することになる。溶媒は、不活性でなければならず;言い換えれば、成分との何らかの化学反応を受けてはならず、コーティング作業の後に乾燥プロセスで除かれることができるべきである。適切な溶媒の例は、ケトン、エーテルおよびエステル、例えばメチルエチルケトン、イソブチルメチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、N−メチルピロリドン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、1,2−ジメトキシエタン、酢酸エチル、酢酸n−ブチルおよび3−エトキシプロピオン酸エチルである。公知のコーティング技術、例えばスピンコーティング、浸漬コーティング、フローコーティング、ナイフコーティング、はけ塗りまたは吹付けまたはリバースロールコーティングによって、懸濁液を基材に均一に適用する。光感受性層を暫時的な可撓性の支持体に適用し、次いで、積層による多重転写を利用して最終的な基材、例えば銅積層回路板を塗被することも可能である。
本方法は、加えて放射線硬化性粉体コーティング用に採用してもよい。粉体コーティングは、固体樹脂、および反応性二重結合を含有するモノマー、例えばマレアート、ビニルエーテル、アクリラート、アクリルアミドおよびそれらの混合物に基づくことができる。例えば、M. Wittig and Th. Gohmannによる論文"Radiation Curing of Powder Coating", Conference Proceedings, Radtech Europe 1993に記載されるとおりに、不飽和ポリエステル樹脂を、固体アクリルアミド(例えばメタクリルアミドグリコール酸メチル)および発明に従うフリーラジカル光開始剤系と混合することによって、フリーラジカルUV硬化性粉末コーティングを配合することができる。同様に、不飽和ポリエステル樹脂を、固体アクリラート、メタクリラートまたはビニルエーテル、および本発明に従う光開始剤系と混合することによって、フリーラジカルUV硬化性粉末コーティングを配合することができる。粉末コーティングは、また、例えばDE-A-4228514およびEP-A-636669に記載される通りの結合剤も含んでいてよい。UV硬化性粉末コーティングは、また、白色または有色顔料も含んでよい。こうして、例えば良好な被覆力を有する硬化粉末コーティングを得るために、ルチル形二酸化チタンを50重量%までの濃度で用いることができる。方法は、通常、基材、例えば金属または木に粉末を静電吹付けまたは摩擦帯電吹付けし、加熱して粉末を溶融し、滑らかなフィルムが形成された後に、紫外線および/または可視光を用いて、例えば中圧水銀ランプ、ハロゲン化金属ランプまたはキセノンランプを用いてコーティングを放射線硬化することを含む。放射線硬化性粉末コーティングがそれらの熱硬化性の対応品に勝る特別な利点は、滑らかな高光沢コーティングを確実に形成させるために、粉末粒子が溶融した後の流動時間を選択的に延長することができることである。熱硬化性の系とは対照的に、放射線硬化性粉末コーティングは、耐用年数を短縮させる望ましくない影響を受けずに配合させることができるため、それらは比較的低い温度で溶融する。この理由から、それらは、また、熱感受性基材、例えば木またはプラスチック用のコーティングとしても適している。粉末コーティング配合剤は、本発明に従う光開始剤系に加えて、また、UV吸収体を含んでもよい。適切な例を、上記1〜8節に掲記した。
本発明に従う組成物の光感受性は、一般にUV領域(約200nm)〜約600nmまでの範囲である。適切な放射線は、例えば日光または人工光源からの光を含む。それゆえ、多種の非常に異なるタイプの光源を用いることができる。点光源およびフラットラジエータ(ランプカーペット(lamp carpets))の両方が適切である。例は、カーボンアークランプ、キセノンアークランプ、中圧、高圧および低圧水銀ランプで、所望ならハロゲン化金属をドーピングしたもの(金属ハロゲンランプ)、電磁波刺激金属蒸気ランプ、エキシマランプ、スーパーアクチニック蛍光管(superacitinic fluorescent tubes)、蛍光ランプ、白熱アルゴンランプ、電子フラッシュライト、写真用フラッドランプ、電子ビームおよびX線である。例えば、Hgランプ、鉄ドープトHgランプまたはGaドープトHgランプが適している。日光と同等の人工光源、例えば特殊な蛍光ランプ、例えばPhilips TL05またはTL09特殊蛍光ランプのような低強度ランプを用いてよい。ランプと、本発明に従うコーティングする基材との間の距離は、用途、ならびにランプのタイプおよび/または強度に応じて、例えば2cm〜150cmで変えることができる。例えば可視範囲内でのレーザも適している。透明層(例えば、ガラスのパンまたはプラスチックシート)の後ろから硬化を実行してもよい。
低強度の光を発光する光源を用いる場合に、複雑で高価な装置は必要なく、この場合の組成物は、特に特殊な外装用途に用いることができる。日光または日光と同等の光源を利用した硬化は、UV硬化の標準的な移動ベルト法の別法である。日光硬化は、平坦なパーツに特に適した移動ベルト法とは対照的に、静止および固定された物体または建造物の外装コーティング用に用いることができる。これらは、代表的にはビル、ファサード、橋梁、船舶もしくは路面の標識、とりわけEP-A-160723に開示される通りの部位でのコーティングである。
日光または日光と同等の光源を利用した硬化は、省エネルギー方法であり、外装の用途では、揮発性有機成分が環境に放出されることが起きない。しかし、日光または日光と同等の光源を利用した硬化は、また、角張った領域も日光に露光されるように物体を配置させる連続硬化にも適している。これに関連して、鏡または反射器を用いることもできる。
本発明の更なる態様は、上記方法で有用な硬化性組成物そのものである。したがって、更に開示するのは、
前記コーティング組成物が、
a)少なくとも1種のエチレン性不飽和重合性化合物、
b)エチレン性不飽和重合性基を含む少なくとも1種の耐久性および/または赤方偏移反応性ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールUV吸収体、ならびに
c)i)少なくとも1種のα−ヒドロキシケトン光開始剤、および
ii)少なくとも1種のビスアシルホスフィンオキシド光開始剤、
を含む光開始剤の組合せ、
を含む光硬化性コーティング組成物である。
上に挙げた定義および好適性は、硬化性組成物にも適用する。
以下の実施例は、例示の目的のものである。
化合物
C 2−メチル−アクリル酸3−〔5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−3−(5−トリフルオロメチル−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピルエステル、および
D 2−メチル−アクリル酸3−〔3−(5−ベンゼンスルホニル−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル〕−プロピルエステル
を、以下のとおりに製造する:
Figure 2006527066
同様に式:
Figure 2006527066
で示される化合物を、メタクリル酸グリシジルおよび適切なベンゾトリアゾールヒドロ桂皮酸化合物を用いて製造する。
本E3がアルケニルである場合、化合物は、例えばClaisen転位によって製造する。
例えば、化合物5−トリフルオロメチル−2−(2−ヒドロキシ−3−アリル−5−tert−オクチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールを、以下のとおりに製造する:トリフルオロメチル−2−(2−ヒドロキシ−5−tert−オクチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール(13.01g、0.033mol)、水酸化カリウム(2.37g、0.036mol)およびエタノール(60mL)を反応器に入れ、周囲温度で2時間撹拌する。臭化アリル(4.84g、0.039mol)およびヨウ化カリウム(0.34g、0.002mol)を反応混合物に添加して、85℃に加熱する。85℃に4.5時間保持した後、溶媒を除去し、ヘプタン100mLに置き換えた。混合物を水40mLで3回洗浄する。次いで、溶媒を除去して、対応するO−アリルエーテル14.2gをオフホワイトの固形物として生じる。
分析:
Figure 2006527066
上で製造した通りのO−アリル化合物(14.2g)を反応器に入れ、190〜195℃に加熱して、その温度で5時間保持する。シリカゲル、および溶離液としての酢酸エチル/ヘプタン溶剤を用いたフラッシュカラムクロマトグラフィーによって、表題化合物を黄色油として収量12.2gで得る。
分析:
Figure 2006527066
この合成は、例えば2001年8月1日に出願された米国特許出願第09/919,974号に記載されたとおりであり、それらの関連の開示は、参考により本明細書に援用される。
実施例1:溶液中のUV吸収スペクトル
本ベンゾトリアゾールは、ベンゾトリアゾールのベンゾ環の5−位に異なる電子吸引性置換基を有し、フェニル環の3−および5−位に異なる置換基を有する。UV吸収スペクトルを、約20mg/L濃度の酢酸エチル中で測定する。本化合物は、ベンゾ環の5−位に唯一の水素を有する化合物と比較して、明らかに赤方偏移している。
Figure 2006527066
Aは、3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−tert−ブチル−4−ヒドロキシヒドロ桂皮酸オクチルである。
Bは、2−メチル−アクリル酸3−〔3−(3−ベンゾトリアゾール−2−イル−5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−フェニル)プロピオニルオキシ〕−2−ヒドロキシ−プロピルエステルである。
Cは、2−メチルアクリル酸3−〔5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−3−(5−トリフルオロメチル−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕−プロピルエステルである。
Dは、2−メチルアクリル酸3−〔3−(5−ベンゼンスルホニル−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル〕−プロピルエステルである。
実施例2:
UV硬化性配合剤
ウレタンアクリラートオリゴマー(20g、Bomar, BR 5824)、エトキシル化ジアクリル酸ビスフェノールA(20g、Sartomer, SR 601)、プロポキシル化トリアクリル酸トリメチロールプロパン(32g、Sartomer, SR 492)、テトラアクリル酸ジ−トリメチロールプロパン(25g、Sartomer, SR 355)、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキシド(0.33g、Ciba, Irgacure(登録商標)819)、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(2.67g、Ciba、Irgacure(登録商標)184)および場合により、反応性ベンゾトリアゾール(3g、配合剤の重量に基づき3%)を、必要な補助器具を備えた実験用反応器に添加する。混合物を撹拌し、1時間、50〜80℃に緩やかに加熱し、その後、マスを周囲温度に冷却して更に1時間撹拌する。
UV硬化フィルムの製造
Bird Filmアプリケータを用いてアクリラート樹脂をガラスプレートに適用し、その後Fusionコンベアベルトシステム(窒素不活性化能を供えたFusion UV model DRS-10/12コンベアシステム)で、窒素環境下、UV光を露光することによって、2mil(50.8ミクロン)厚フィルムを製造する。ランプは、Dランプ(Feドープト水銀ランプ電球)を備えたFusion VPS/I600(F600シリーズ)照射装置である。微量酸素計(Alpha Omega Instruments, model Series 2000)を用いて、光硬化中のO2レベルを測定する。窒素バージの下、50フィート/分のコンベアベルト速度では、酸素レベルは代表的には<200ppmである。
VPS600装置を可変電圧設定で作動させて、光出力強度に制御を与えた。ベルト速度は、すべての作動の間中ずっと、50フィート/分の速度に維持する。
実施例3
MEK往復摩擦検査(MEK Double Rub Test)
MEK(メチルエチルケトン)往復摩擦検査を利用して、溶剤耐性を測定する。この手順は、Z. Jovanovic et al Verfkroniek 2001, 74(11),29-32に見出される。コーティングの表面を破損または擦傷するのに必要な往復摩擦の数を、Crockmeterを利用して測定する(Am. Assoc. of Textile Chemist Colorants,米国特許第2,114,831号)。
MEK往復摩擦は、溶剤耐性に相関し、硬化度と共に増大する。硬化度は、光開始剤を活性化するのに用いられる光の量に関係する。一般に、MEK往復値は、光の線量の増加関数であり、所定のプラトー値に達する。最大100回のMEK往復摩擦であれば、これらのコーティングが完全に硬化していると判断した、即ち100以上のMEK値が得られれば、溶剤耐性は光線量と無関係であった。
Figure 2006527066
Cは、2−メチル−アクリル酸3−〔5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−3−(5−トリフルオロメチル−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕−プロピルエステルである。
Dは、2−メチル−アクリル酸3−〔3−(5−ベンゼンスルホニル−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル〕プロピルエステルである。
これは、コーティングが赤方偏移したベンゾトリアゾールの存在下で容易に硬化され、それが硬化率または硬化速度に悪影響を及ぼさないことを立証する。
実施例4
母指ねじり検査(Thumb-Twist Test)
母指ねじり検査は、硬化度を評価するために利用し、合否試験である。この検査についての言及は、C. Lowe, Volume VI, Test Methods for UV & EB Curable Systems, p.74(Wiley/SITA Series in Surface Coatings Technology, SITA Technology Limited, 1996)にある。一連のコーティングを、徐々に高くしたUV線量に露光して、該検査を実施する。母指ねじりによって表面に擦傷が生じればコーティングが硬化されていないことが示され、不合格とする。母指ねじりに合格するのに必要な線量は、表面に擦傷が生じない時のものである。
Figure 2006527066
Cは、2−メチルアクリル酸3−〔5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−3−(5−トリフルオロメチル−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕−プロピルエステルである。
Dは、2−メチルアクリル酸3−〔3−(5−ベンゼンスルホニル−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル〕−プロピルエステルである。
これは、コーティングが赤方偏移したベンゾトリアゾールの存在下で容易に硬化され、それが硬化率または硬化速度に悪影響を及ぼさないことが更に立証される。
実施例5
UV安定性および光漂白耐性(Photo-bleaching Resistance)
硬化フィルム(UV吸収体を3重量%含有する)のUV吸収スペクトルを測定し、UV吸収体の光漂白がUV硬化中に生じていたかどうかを決める。光学濃度がほとんど、または全く変動しないことが極めて望ましい。
Figure 2006527066
B(対照)は、2−メチルアクリル酸3−〔3−(3−ベンゾトリアゾール−2−イル−5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−フェニル)プロピオニルオキシ〕−2−ヒドロキシ−プロピルエステルである。
Cは、2−メチルアクリル酸3−〔5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−3−(5−トリフルオロメチル−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕−プロピルエステルである。
Dは、2−メチルアクリル酸3−〔3−(5−ベンゼンスルホニル−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル〕−プロピルエステルである。
対照UV吸収体から生じる吸収(光学濃度)は、高い光線量で約9%低下する。これは、この化合物の光退色が非常に高い露光(>13J/cm2)で生じ、本赤色偏移化合物よりも光安定性が低いことを立証する。
本発明のUV吸収体CおよびDから生じる吸収(光学濃度)は、ほとんど変動せず、線量に無関係である。硬化コーティング中のUV吸収体のUV吸収スペクトルに変動が起きなかったことは、本化合物が、UV露光条件に耐えることができることを立証する。その上に、非常に高い露光(>13J/cm2)でも、これらの化合物の光退色が生じなかったことが見出される。この結果は、本発明の化合物が、現行の研究よりも高い露光を必要とする光硬化性コーティングでも使用することができるであろうことを立証する。
実施例6
更にヒンダード・アミン安定化剤、例えばCiba Specialty Chemicalsから入手できるTinuvin(登録商標)123のビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバカートを1重量%入れて、実施例2〜5を繰り返す。優れた結果が達成される。
実施例7
更なる吸収体を存在させて、実施例2〜6を繰り返す。例えばUV吸収体は、
2−(1−メチル−1−フェニル−エチル)−4−(1,1,3,3−テトラメチル−ブチル)−6−(5−トリフルオロメチル−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール、
2−(1−メチル−1−フェニル−エチル)−4−(1,1,3,3−テトラメチル−ブチル)−6−(ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール、
2−(1−メチル−1−フェニル−エチル)−4−(1,1,3,3−テトラメチル−ブチル)−6−(5−トリフルオロメチル−ベンゾトリアゾール−2−イル)−フェノール、および
2−〔4−(ドデシルオキシ/トリデシルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)−2−ヒドロキシフェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)1,3,5−トリアジン、
から選択する。
優れた結果が達成される。

Claims (17)

  1. コーティング組成物に紫外線、日光または日光と同等な光源を照射することによって前記組成物を硬化させることを含む、保護フィルムコーティングを形成させる方法であって、
    前記コーティング組成物が、
    a)少なくとも1種のエチレン性不飽和重合性化合物、
    b)エチレン性不飽和重合性基を含む少なくとも1種の耐久性および/または赤方偏移反応性ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールUV吸収体、ならびに
    c)i)少なくとも1種のα−ヒドロキシケトン光開始剤、および
    ii)少なくとも1種のビスアシルホスフィンオキシド光開始剤、
    を含む光開始剤の組合せ、
    を含み、
    成分b)のヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールが、式:
    Figure 2006527066

    〔式中、
    1は、水素またはハロゲンであり、
    2は、ハロゲン、ニトロ、シアノ、炭素原子1〜12個のペルフルオロアルキル、−COOG3、−P(O)(C652、−CO−G3、−CO−NH−G3、−CO−N(G32、−N(G3)−CO−G3、E5SO−またはE5SO2−であり、
    3は、水素、炭素原子1〜24個の直鎖状もしく分枝状アルキル、炭素原子2〜18個の直鎖状もしくは分枝状アルケニル、炭素原子5〜12個のシクロアルキル、炭素原子7〜15個のフェニルアルキル、フェニル、またはフェニル環上で炭素原子1〜4個のアルキル1〜4個によって置換された前記フェニルもしくは前記フェニルアルキルであり、
    1は、水素、炭素原子1〜24個の直鎖状もしくは分枝状アルキル、炭素原子2〜24個の直鎖状もしくは分枝状アルケニル、炭素原子5〜12個のシクロアルキル、炭素原子7〜15個のフェニルアルキル、フェニル、またはフェニル環上で炭素原子1〜4個のアルキル1〜4個によって置換された前記フェニルもしくは前記フェニルアルキルであり;あるいはE1は、ヒドロキシ基1または2個によって置換された炭素原子1〜24個のアルキルであり、
    1が、炭素原子7〜15個のフェニルアルキルもしくはフェニル、またはフェニル環上で炭素原子1〜4個のアルキル1〜4個によって置換された前記フェニルもしくは前記フェニルアルキルである場合に、G2は、水素であってもよく、
    2は、炭素原子1〜24個の直鎖状もしくは分枝状アルキル鎖、炭素原子2〜18個の直鎖状もしくは分枝状アルケニル、炭素原子5〜12個のシクロアルキル、炭素原子7〜15個のフェニルアルキル、フェニル、またはフェニル環上で炭素原子1〜4個のアルキル1〜3個によって置換された前記フェニルもしくは前記フェニルアルキルであり;あるいはE2は、−OH、−OCOE6、−OE4、−NCO、−NH2、−NHCOE6、−NHE4もしくは−N(E42、またはそれらの混合の1個以上によって置換された炭素原子1〜24個の前記アルキルまたは炭素原子2〜18個の前記アルケニルであり、ここでE4は、炭素原子1〜24個の直鎖状もしくは分枝状アルキルであり;あるいは前記アルキルまたは前記アルケニルは、−O−、−NH−もしくは−NE4−基またはそれらの混合物の1個以上によって中断されていて、非置換になるか、あるいは−OH、−OE4もしくは−NH2基、またはそれらの混合の1個以上によって置換されることができ、
    3は、炭素原子2〜24個の直鎖状または分枝状アルケニルであり、
    5は、炭素原子1〜20個のアルキル、炭素原子2〜20個のヒドロキシアルキル、炭素原子2〜9個のアルコキシカルボニルによって置換されたアルキル、炭素原子3〜18個のアルケニル、炭素原子5〜12個のシクロアルキル、炭素原子7〜15個のフェニルアルキル、炭素原子6〜10個のアリール、炭素原子1〜4個のアルキル1もしくは2個によって置換された前記アリール、またはペルフルオロアルキル部分が炭素原子6〜16個有する1,1,2,2−テトラヒドロペルフルオロアルキルであり、
    Xは、−O−またはN(E16)−であり、
    Yは、−O−またはN(E17)−であり、
    Zは、C2〜C12アルキレン、窒素原子、酸素原子もしくはそれらの混合の1〜3個によって中断されたC4〜C12アルキレンであるか、またはそれぞれヒドロキシル基で置換されたC3〜C12アルキレン、ブテニレン、ブチニレン、シクロヘキシレンもしくはフェニレンであり、
    mは、0、1または2であり、
    pは、1〜24であり、
    6は、水素、直鎖状もしくは分枝状C1〜C18アルキル、C5〜C12シクロアルキル、直鎖状もしくは分枝状C2〜C18アルケニル、C6〜C14アリールまたはC7〜C15アラルキルであり、
    15は、基:−CO−C(E18)=C(H)E19であるか、またはYが、−N(E17)−である場合に、E17と一緒になって基:−CO−CH=CH−CO−を形成し、ここでE18は、水素またはメチルであり、E19は、水素、メチルまたは−CO−Y−E20であり、ここでE20は、水素、C1〜C12アルキル、または式:
    Figure 2006527066

    (式中、E1、G1、G2、X、Zおよびmは、先に定義したとおりである)で示される基であり、並びに
    16およびE17は、互いに独立して、水素、C1〜C12アルキル、酸素原子1〜3個で中断されたC3〜C12アルキルであるか、またはシクロヘキシルもしくはC7〜C15アラルキルであり、Zがエチレンである場合に、E16は、E17と一緒になってまたエチレンを形成する〕で示される方法。
  2. ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールにおいて、
    1が、水素であり、
    2が、水素、シアノ、クロロ、フルオロ、−CF3、−CO−G3、E5SO−またはE5SO2−であり、
    3が、炭素原子1〜24個の直鎖状もしくは分枝状アルキル、炭素原子2〜18個の直鎖状もしくは分枝状アルケニル、炭素原子5〜12個のシクロアルキル、炭素原子7〜15個のフェニルアルキル、フェニル、またはフェニル環上で炭素原子1〜4個のアルキル1〜4個によって置換された前記フェニルもしくは前記フェニルアルキルであり、
    1が、炭素原子7〜15個のフェニルアルキル、フェニル、またはフェニル環上で炭素原子1〜4個のアルキル1〜4個によって置換された前記フェニルもしくは前記フェニルアルキルであり、
    3が、アリルであり、および
    5が、炭素原子1〜20個のアルキル、炭素原子2〜20個のヒドロキシアルキル、炭素原子3〜18個のアルケニル、炭素原子5〜12個のシクロアルキル、炭素原子7〜15個のフェニルアルキル、炭素原子6〜10個のアリール、もしくは炭素原子1〜4個のアルキル1もしくは2個によって置換された前記アリール、またはペルフルオロアルキル部分が炭素原子6〜16個有する1,1,2,2−テトラヒドロペルフルオロアルキルである、請求項1記載の方法。
  3. ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールにおいて、
    1が、水素であり、
    2が、クロロ、フルオロ、−CF3、E5SO−またはE5SO2−であり、
    1が、水素、または炭素原子1〜24個の直鎖状もしくは分枝状アルキルであり、
    3が、アリルであり、および
    5が、炭素原子1〜7個の直鎖状もしくは分枝状アルキルである、請求項1記載の方法。
  4. ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールにおいて、
    1が、水素であり、
    2が、−CF3またはフルオロであり、
    1が、水素、炭素原子1〜24個の直鎖状もしくは分枝状アルキル、または炭素原子7〜15個のフェニルアルキルであり、
    2が、炭素原子1〜24個の直鎖状もしくは分枝状アルキル、炭素原子2〜18個の直鎖状もしくは分枝状アルケニル、炭素原子5〜12個のシクロアルキル、炭素原子7〜15個のフェニルアルキル、フェニル、またはフェニル環上で炭素原子1〜4個のアルキル1〜3個によって置換された前記フェニルもしくは前記フェニルアルキルであり、
    1が、炭素原子7〜15個のフェニルアルキルである場合、G2が、水素であってもよく、
    3が、アリルであり、
    15が、基:−CO−C(E18)=C(H)E19であるか、またはYが、−N(E17)−である場合に、E17と一緒になって基:−CO−CH=CH−CO−を形成し、ここでE18は、水素またはメチルであり、E19は、水素またはメチルである、請求項1記載の方法。
  5. ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールにおいて、
    1が、水素であり、
    2が、−CF3であり、
    1が、炭素原子7〜15個のフェニルアルキル、フェニル、またはフェニル環上で炭素原子1〜4個のアルキル1〜4個によって置換された前記フェニルもしくは前記フェニルアルキルであり、
    2が、炭素原子1〜24個の直鎖状もしくは分枝状アルキル、炭素原子2〜18個の直鎖状もしくは分枝状アルケニル、炭素原子5〜12個のシクロアルキル、炭素原子7〜15個のフェニルアルキル、フェニル、またはフェニル環上で炭素原子1〜4個のアルキル1〜3個によって置換された前記フェニルもしくは前記フェニルアルキルであり;あるいはE2は、−OH、−OCOE11、−NH2もしくは−NHCOE11、またはそれらの混合物の1個以上によって置換された炭素原子1〜24個の前記アルキルもしくは炭素原子2〜18個の前記アルケニルであるか、または前記アルキルもしくは前記アルケニルが、1個以上の−O−によって中断されていて、非置換になるか、もしくは1個以上の−OHによって置換されることができ、
    3が、アリルである、請求項1記載の方法。
  6. ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールにおいて、
    1が、水素であり、
    2が、−CF3であり、
    1が、水素、炭素原子4〜24個の直鎖状もしくは分枝状アルキル、または炭素原子7〜15個のフェニルアルキルであり、
    3が、アリルである、請求項1記載の方法。
  7. ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールが、式:
    Figure 2006527066

    (式中、
    1は、t−ブチルまたはα−クミルであり、
    2は、フェニルスルホンまたは−CF3である)で示される、請求項1記載の方法。
  8. α−ヒドロキシケトン光開始剤が、式:
    Figure 2006527066

    (式中、
    11およびR12は、互いに独立して、水素、C1〜C6アルキルもしくはフェニルであるか、またはR11およびR12は、それらが結合する炭素原子と一緒になってシクロヘキシル環を形成し;R13は、OHであり;R14は、水素、C1〜C12アルキル、C1〜C12アルコキシ、−OCH2CH2OR15、C(CH3)=CH2)で示されるか、または
    Figure 2006527066

    である、請求項1記載の方法。
  9. α−ヒドロキシケトン光開始剤において、
    11およびR12が、互いに独立して、メチルもしくはエチルであるか、またはR11およびR12が、それらが結合する炭素原子と一緒になってシクロヘキシル環を形成し;R13が、水素であり、R14が、水素、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシまたは−OCH2CH2OHである、請求項8記載の方法。
  10. ビスアシルホスフィンオキシド光開始剤が、式:
    Figure 2006527066

    (式中、
    50は、C4〜C12アルキルまたはシクロヘキシルであり、R51およびR52は、それぞれ他から独立して、C1〜C8アルキルまたはC1〜C8アルコキシであり、R53は、水素またはC1〜C8アルキルであり、R54は、水素またはメチルである)で示される、請求項1記載の方法。
  11. ビスアシルホスフィンオキシド光開始剤が、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシドまたはビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)イソオクチルホスフィンオキシドである、請求項1記載の方法。
  12. ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールが、コーティング組成物の重量に基づいて、約0.5〜約5重量%存在する、請求項1記載の方法。
  13. α−ヒドロキシケトン光開始剤が、コーティング組成物の重量に基づいて、約1〜約7重量%存在する、請求項1記載の方法。
  14. ビスアシルホスフィンオキシド光開始剤が、コーティング組成物の重量に基づいて、約0.1〜約2重量%存在する、請求項1記載の方法。
  15. α−ヒドロキシケトン成分i)対ビスアシルホスフィンオキシド成分ii)の重量比が、約5:1〜約15:1である、請求項1記載の方法。
  16. 保護フィルムコーティングの厚さが、約5.08μ(0.2mil)〜約127μ(5mil)である、請求項1記載の方法。
  17. 光硬化性コーティング組成物であって、
    該コーティング組成物が、下記:
    a)少なくとも1種のエチレン性不飽和重合性化合物、
    b)請求項1記載のエチレン性不飽和重合性基を含む少なくとも1種の耐久性および/または赤方偏移反応性ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールUV吸収体、ならびに
    c)i)少なくとも1種のα−ヒドロキシケトン光開始剤、および
    ii)少なくとも1種のビスアシルホスフィンオキシド光開始剤、
    を含む光開始剤の組合せ
    を含む、光硬化性コーティング組成物。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015086372A (ja) * 2013-09-24 2015-05-07 ソマール株式会社 コーティング組成物及びそれを用いたハードコートフィルム
JP2020513449A (ja) * 2016-11-30 2020-05-14 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se 光硬化性ハードコート組成物、方法、およびその組成物由来の物品

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ATE338034T1 (de) * 2002-10-28 2006-09-15 Ciba Sc Holding Ag Verbesserung bei der haltbarkeit von photoinitiatoren
US20060029729A1 (en) * 2004-07-16 2006-02-09 Myers Jonathan D Application of spray paint on disk media for protection of titling and/or graphics on labels or markings
TWI378127B (en) 2004-10-29 2012-12-01 Dainippon Ink & Chemicals Radiation curable ink for ink-jet recording
KR101225283B1 (ko) * 2005-12-30 2013-01-22 엘지디스플레이 주식회사 평판 표시 장치 및 그 제조 방법
US7556844B2 (en) * 2006-03-09 2009-07-07 Xerox Corporation Radiation curable photochromic inks
US20080193740A1 (en) * 2007-01-31 2008-08-14 Nesbitt Jeffrey E Composite building material and method for making composite building material
US20090004478A1 (en) * 2007-06-29 2009-01-01 3M Innovative Properties Company Flexible hardcoat compositions, articles, and methods
US8858887B2 (en) * 2007-07-19 2014-10-14 Steris, Inc. Integrated chemical indicator device
KR101049257B1 (ko) 2009-09-14 2011-07-14 웅진케미칼 주식회사 투습방수용 코팅조성물, 투습방수직물 및 이의 제조방법
DE102010022219A1 (de) * 2010-05-21 2011-11-24 Thorsten Graf Verfahren zur Herstellung einer Beschichtungszusammensetzung mit reversibler Farbtonänderung für die UV-Licht absorbierende Ausrüstung von Substraten
WO2012176126A1 (en) 2011-06-21 2012-12-27 Basf Se Printing diffraction gratings on paper and board
JP6203253B2 (ja) * 2012-06-14 2017-09-27 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se セキュリティエレメント及びホログラムの製造方法
JP6502733B2 (ja) 2014-05-09 2019-04-17 太陽インキ製造株式会社 ソルダーレジスト形成用硬化性樹脂組成物、ドライフィルムおよびプリント配線板
DE102014119453A1 (de) 2014-12-22 2016-06-23 Endress+Hauser Flowtec Ag Verfahren zur Defekterkennung der Signalleitung zwischen einer Elektrode und einer Mess- und/oder Auswerteeinheit eines magnetisch-induktiven Durchflussmessgerätes
KR102031048B1 (ko) * 2015-02-25 2019-10-15 동우 화인켐 주식회사 하드코팅 조성물 및 이를 이용한 하드코팅 필름
US10184053B2 (en) 2015-05-12 2019-01-22 Zhejiang Namei Material Technology Co., Ltd. Pigment-type ultraviolet light curable coating for window film and preparation method therefor
TW201703879A (zh) 2015-06-02 2017-02-01 西克帕控股有限公司 用於生產光學效應層之製程
DE102015113505A1 (de) * 2015-08-17 2017-02-23 Endress+Hauser Flowtec Ag Durchflussmessgerät und Verfahren zur Herstellung eines Messrohres
JP7007792B2 (ja) 2015-09-30 2022-01-25 太陽インキ製造株式会社 硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物およびプリント配線板
CN108794659A (zh) * 2017-04-26 2018-11-13 常州强力先端电子材料有限公司 含砜结构的光引发剂及其制备方法和应用
CN108957950B (zh) * 2017-05-18 2022-06-07 常州强力先端电子材料有限公司 含芴氨基酮类光引发剂的uv光固化组合物
CN110117338B (zh) * 2018-02-05 2022-03-29 荒川化学工业株式会社 聚合物、组合物、固化物和保护膜
CN112898894B (zh) * 2021-01-19 2022-04-15 广东美涂士建材股份有限公司 一种led固化的高光面漆涂料

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1095788A (ja) * 1996-08-28 1998-04-14 Ciba Specialty Chem Holding Inc 光開始剤としての分子錯化合物
JP2001172308A (ja) * 1999-12-08 2001-06-26 Ciba Specialty Chem Holding Inc 新規なホスフィンオキシド光重合開始剤系及び低着色の硬化性組成物
JP2003522242A (ja) * 2000-02-01 2003-07-22 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 耐久性紫外線吸収剤による内容物の保護方法
JP2004505984A (ja) * 2000-08-03 2004-02-26 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 光に安定なシリル化ベンゾトリアゾールuv吸収剤及びそれにより安定化された組成物

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2114831A (en) 1936-03-16 1938-04-19 American Ass Of Textile Chemis Sample rubbing machine
US4528311A (en) * 1983-07-11 1985-07-09 Iolab Corporation Ultraviolet absorbing polymers comprising 2-hydroxy-5-acrylyloxyphenyl-2H-benzotriazoles
EP0160723B1 (de) 1984-05-09 1988-08-17 Kunststoff- & Lackfabrik Kemper Lösungsmittelfreier Polymerisationslack und seine Verwendung
EP0446175A3 (en) * 1990-03-09 1991-11-21 Ciba-Geigy Ag Mixture of photoinitiators
DE4228514A1 (de) 1992-08-27 1994-03-03 Hoechst Ag Bindemittel für Pulverlacke
ZA941879B (en) 1993-03-18 1994-09-19 Ciba Geigy Curing compositions containing bisacylphosphine oxide photoinitiators
BE1007373A3 (nl) 1993-07-30 1995-05-30 Dsm Nv Stralingsuithardbare bindmiddelsamenstelling voor poederverfformuleringen.
SG46198A1 (en) * 1995-04-04 1998-02-20 Gen Electric U-V curable weather resistant coatings made on a cold-cast process
SE520727C2 (sv) 1996-03-04 2003-08-19 Ciba Sc Holding Ag Alkylfenylbisacylfosfinoxid och fotoinitiatorblandningar
US5977219A (en) 1997-10-30 1999-11-02 Ciba Specialty Chemicals Corporation Benzotriazole UV absorbers having enhanced durability
US6313187B2 (en) 1998-04-15 2001-11-06 Alcon Manufacturing, Ltd. High refractive index ophthalmic device materials prepared using a post-polymerization cross-linking method
JP2002511598A (ja) * 1998-04-15 2002-04-16 アルコン ラボラトリーズ, インコーポレイテッド 重合後架橋法を使用して調製した高屈折率眼用デバイス材料
US6187845B1 (en) 1999-05-03 2001-02-13 Ciba Specialty Chemicals Corporation Stabilized adhesive compositions containing highly soluble, red-shifted, photostable benzotriazole UV absorbers and laminated articles derived therefrom
US6191199B1 (en) 1999-05-03 2001-02-20 Ciba Speciatly Chemicals Corporation Stabilized adhesive compositions containing highly soluble, high extinction photostable hydroxyphenyl-s-triazine UV absorbers and laminated articles derived therefrom
AU2002352087A1 (en) 2001-11-26 2003-06-10 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Curable mixtures comprising uv-absorber acylphosphinoxide and hydroxy ketone photoinitiator

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1095788A (ja) * 1996-08-28 1998-04-14 Ciba Specialty Chem Holding Inc 光開始剤としての分子錯化合物
JP2001172308A (ja) * 1999-12-08 2001-06-26 Ciba Specialty Chem Holding Inc 新規なホスフィンオキシド光重合開始剤系及び低着色の硬化性組成物
JP2003522242A (ja) * 2000-02-01 2003-07-22 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 耐久性紫外線吸収剤による内容物の保護方法
JP2004505984A (ja) * 2000-08-03 2004-02-26 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 光に安定なシリル化ベンゾトリアゾールuv吸収剤及びそれにより安定化された組成物

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015086372A (ja) * 2013-09-24 2015-05-07 ソマール株式会社 コーティング組成物及びそれを用いたハードコートフィルム
JP2020513449A (ja) * 2016-11-30 2020-05-14 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se 光硬化性ハードコート組成物、方法、およびその組成物由来の物品
JP7073369B2 (ja) 2016-11-30 2022-05-23 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 光硬化性ハードコート組成物、方法、およびその組成物由来の物品

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