JP2006523040A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006523040A5 JP2006523040A5 JP2006509899A JP2006509899A JP2006523040A5 JP 2006523040 A5 JP2006523040 A5 JP 2006523040A5 JP 2006509899 A JP2006509899 A JP 2006509899A JP 2006509899 A JP2006509899 A JP 2006509899A JP 2006523040 A5 JP2006523040 A5 JP 2006523040A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pad
- shape
- tapered
- substrate
- contact structure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 33
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 claims 32
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims 9
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 9
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 7
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 claims 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims 3
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 claims 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims 3
- 239000003353 gold alloy Substances 0.000 claims 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229920001721 Polyimide Polymers 0.000 claims 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 claims 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 claims 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 claims 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims 1
Claims (35)
- デバイス基板の端子と接合構成要素との間に電気的接触をなすためのマイクロエレクトロニクス用コンタクトであって、
該基板に接着された底面と、該基板から離れる向きに延設されていて、該基板から遠位の端部領域に向け先細状になっている側面とを有するコンプライアントパッドと、
該デバイスの該端子から延設されていて、該コンプライアントパッドの該側面の一部の上で該端部領域までコイル状に巻回されていることによって、螺旋形を規定しているトレースと、
を備えたマイクロエレクトロニクス用コンタクト。 - 前記コンプライアントパッドが前記端子から離間している、請求項1に記載のマイクロエレクトロニクス用コンタクト。
- 前記コンプライアントパッドが実質的に非導電性である、請求項1に記載のマイクロエレクトロニクス用コンタクト。
- 前記コンプライアントパッドが、角錐形、角錐台形、角柱形、角柱台形、円錐形、円錐台形、および半球形から選択される形状である、請求項1に記載のマイクロエレクトロニクス用コンタクト。
- 前記トレースがニッケル材を備える、請求項1に記載のマイクロエレクトロニクス用コンタクト。
- 前記コンプライアントパッドが、実質的に、シリコーンゴム、ポリエポキシド、ポリイミド、およびポリスチレンから選択される材料からなる、請求項1に記載のマイクロエレクトロニクス用コンタクト。
- 支持基板から延設され先細螺旋の形状でコイル状に巻回された自立型の弾性部であって、導電材料を先細状犠牲パッド上でパターニングすることと、該パッドを除去することとによって形成される弾性部と、
該基板表面と、該基板に近位側の該弾性部の端部とに固着された導電トレースと、
該基板から遠位側の該弾性部の端部にあるコンタクト先端と、
を備えたマイクロエレクトロニクス用コンタクト構造。 - 前記弾性部が、角錐形、角錐台形、角柱形、角柱台形、円錐形、円錐台形、および半球形から選択される形状で先細状になっている、請求項7に記載のマイクロエレクトロニクス用コンタクト。
- 前記コンタクト構造が金または金の合金で被覆されている、請求項7に記載のマイクロエレクトロニクス用コンタクト。
- デバイス基板に接着された底面と、該デバイス基板から離れる向きに延設されていて該デバイス基板から遠位の端部領域に向けて先細状になっている側面とを有する先細状パッドを提供するステップと、
コイル状部分と直線状部分とを有するトレースをパターニングするステップであって、該コイル状部分は、コイルパターンを形成する該基板の端子から該端部領域まで該先細状パッド上でパターニングされ、該直線状部分は、該端子から該先細状パッドから離間した領域まで該基板上でパターニングされる、ステップと
を包含するマイクロエレクトロニクス用コンタクトを製造する方法。 - 前記提供するステップが、さらに、
犠牲基板上に先細状パッドを形成するステップと、
該先細状パッドを前記デバイス基板に移すステップと、
を包含する、請求項10に記載の方法。 - 前記移すステップが、前記先細状パッドを前記デバイス基板の端子から離間した位置ににおいて該デバイス基板に移すステップをさらに包含する、請求項11に記載の方法。
- デバイス基板に接着された底面と、該デバイス基板から離れる向きに延設されていて該デバイス基板から遠位の端部領域に向けて先細状になっている側面とを有する先細状パッドを提供するステップと、
該基板の端子から該先細状パッド上で該端部領域までコイルパターンでトレースをパターニングすることによって、螺旋形を規定するステップと
を包含し、
該トレースをパターニングするステップが、
該デバイス基板および該先細状パッド上に犠牲材料のコンフォーマルな層を堆積するステップと、
該コンフォーマルな層をパターニングして、該端子から該端部領域まで延設されているトレンチを形成するステップと、
該トレンチに金属材料をメッキするステップと、
該コンフォーマルな層を該デバイス基板から除去するステップと、
をさらに包含する、マイクロエレクトロニクス用コンタクトを製造する方法。 - 前記トレースをパターニングするステップが、さらに、化学気相成長法、物理気相成長法、およびスパッタ法から選択される方法で金属材料を堆積するステップを包含する、請求項10に記載の方法。
- 犠牲基板内にピットをエッチングすることと該ピットに液体エラストマー材を充填することとによって先細状パッドを提供するステップであって、該先細状パッドは、デバイス基板に接着された底面と、該デバイス基板から離れる向きに延設されていて該デバイス基板から遠位の端部領域に向けて先細状になっている側面とを有する、ステップと、
該基板の端子からコイルパターンで該先細状パッド上で該端部領域までトレースをパターニングすることによって、螺旋形を規定するステップと
を包含するマイクロエレクトロニクス用コンタクトを製造する方法。 - 前記ピットをエッチングするステップが、角錐形、角錐台形、段付き角錐形、円錐形、半球形、角柱形、および角柱台形から選択される形状を有するピットをエッチングするステップをさらに包含する、請求項15に記載の方法。
- 前記液体エラストマー材の硬化の間において、該液体エラストマー材を前記デバイス基板に接触させるステップをさらに包含する、請求項15に記載の方法。
- エラストマー材を備える先細状パッドを提供するステップであって、該先細状パッドは、デバイス基板に接着された底面と、該デバイス基板から離れる向きに延設されていて該デバイス基板から遠位の端部領域に向けて先細状になっている側面とを有する、ステップと、
該基板の端子からコイルパターンで該先細状パッド上で該端部領域までトレースをパターニングすることによって、螺旋形を規定するステップと
を包含するマイクロエレクトロニクス用コンタクトを製造する方法。 - 前記トレースが、前記遠位側の端部から先細状になっている、請求項7に記載のマイクロエレクトロニクス用コンタクト構造。
- 半導体デバイスの端子への電気的接触をなすためのマイクロエレクトロニクス用コンタクト構造であって、
該半導体デバイスに接着された底面と、該半導体デバイスから離れる向きに延設されていて、該半導体デバイスから遠位の端部領域に向け先細状になっている側面とを有するコンプライアントパッドと、
該半導体デバイスの該端子から該コンプライアントパッドの該側面の一部の上で該端部領域まで延設されていることによって、螺旋形を規定しているトレースと、
を備えたマイクロエレクトロニクス用コンタクト構造。 - 前記コンプライアントパッドが前記端子から離間している、請求項20に記載のマイクロエレクトロニクス用コンタクト構造。
- 前記コンプライアントパッドが実質的に非導電性である、請求項20に記載のマイクロエレクトロニクス用コンタクト構造。
- 前記コンプライアントパッドが、角錐形、角錐台形、角柱形、円錐形、円錐台形、および半球形から選択される形状である、請求項20に記載のマイクロエレクトロニクス用コンタクト構造。
- 半導体デバイスから延設され先細螺旋の形状でコイル状に巻回された自立型の弾性部であって、導電材料を先細状犠牲パッド上でパターニングすることと、該パッドを除去することとによって形成される弾性部と、
該半導体デバイスの導電性端子から、該半導体デバイスの近位側の該弾性部の端部まで固着可能に延設されている導電性トレースと、
該半導体デバイスから遠位側の該弾性部の端部にあるコンタクト先端部と、
を備えたマイクロエレクトロニクス用コンタクト構造。 - 前記弾性部が、角錐形、角錐台形、角柱形、角柱台形、円錐形、円錐台形、および半球形から選択される形状で先細状になっている、請求項24に記載のマイクロエレクトロニクス用コンタクト構造。
- 前記コンタクト構造が金または金の合金で被覆されている、請求項24に記載のマイクロエレクトロニクス用コンタクト構造。
- 前記弾性部が、前記遠位側の端部から先細状になっている、請求項24に記載のマイクロエレクトロニクス用コンタクト構造。
- プローブカードの端子への電気的接触をなすためのマイクロエレクトロニクス用コンタクト構造であって、
該プローブカードに接着された底面と、該プローブカードから離れる向きに延設されていて、該プローブカードから遠位の端部領域に向け先細状になっている側面とを有するコンプライアントパッドと、
該プローブカードの該端子から該コンプライアントパッドの該側面の一部の上で該端部領域まで延設されていることによって、螺旋形を規定しているトレースと、
を備えたマイクロエレクトロニクス用コンタクト構造。 - 前記コンプライアントパッドが前記端子から離間している、請求項28に記載のマイクロエレクトロニクス用コンタクト構造。
- 前記コンプライアントパッドが実質的に非導電性である、請求項28に記載のマイクロエレクトロニクス用コンタクト構造。
- 前記コンプライアントパッドが、角錐形、角錐台形、角柱形、円錐形、円錐台形、および半球形から選択される形状である、請求項28に記載のマイクロエレクトロニクス用コンタクト構造。
- プローブカードから延設され先細螺旋の形状でコイル状に巻回された自立型の弾性部であって、導電材料を先細状犠牲パッド上でパターニングすることと、該パッドを除去することとによって形成される弾性部と、
該プローブカードの導電性端子から、該プローブカードの近位側の該弾性部の端部まで固着可能に延設されている導電性トレースと、
該プローブカードから遠位側の該弾性部の端部にあるコンタクト先端部と、
を備えたマイクロエレクトロニクス用コンタクト構造。 - 前記弾性部が、角錐形、角錐台形、角柱形、角柱台形、円錐形、円錐台形、および半球形から選択される形状で先細状になっている、請求項32に記載のマイクロエレクトロニクス用コンタクト構造。
- 前記コンタクト構造が金または金の合金で被覆されている、請求項32に記載のマイクロエレクトロニクス用コンタクト構造。
- 前記トレースが、前記遠位側の端部から先細状になっている、請求項32に記載のマイクロエレクトロニクス用コンタクト構造。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/411,175 US6948940B2 (en) | 2003-04-10 | 2003-04-10 | Helical microelectronic contact and method for fabricating same |
PCT/US2004/011115 WO2004093189A1 (en) | 2003-04-10 | 2004-04-12 | Helical microelectronic contact and method for fabricating same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006523040A JP2006523040A (ja) | 2006-10-05 |
JP2006523040A5 true JP2006523040A5 (ja) | 2007-06-14 |
Family
ID=33130922
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006509899A Pending JP2006523040A (ja) | 2003-04-10 | 2004-04-12 | 螺旋状マイクロエレクトロニクス用コンタクトおよびその製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6948940B2 (ja) |
EP (1) | EP1616352A1 (ja) |
JP (1) | JP2006523040A (ja) |
KR (1) | KR20060002954A (ja) |
CN (1) | CN1894792A (ja) |
TW (1) | TWI338351B (ja) |
WO (1) | WO2004093189A1 (ja) |
Families Citing this family (48)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8033838B2 (en) | 1996-02-21 | 2011-10-11 | Formfactor, Inc. | Microelectronic contact structure |
SE522031C2 (sv) * | 2001-07-12 | 2004-01-07 | Perlos Ab | Tvåkomponentsantenn samt förfarande för framställning av sådan |
US7412767B2 (en) * | 2003-02-04 | 2008-08-19 | Microfabrica, Inc. | Microprobe tips and methods for making |
US20060053625A1 (en) * | 2002-05-07 | 2006-03-16 | Microfabrica Inc. | Microprobe tips and methods for making |
US7241689B2 (en) * | 2003-02-04 | 2007-07-10 | Microfabrica Inc. | Microprobe tips and methods for making |
US7273812B2 (en) * | 2002-05-07 | 2007-09-25 | Microfabrica Inc. | Microprobe tips and methods for making |
US7265565B2 (en) | 2003-02-04 | 2007-09-04 | Microfabrica Inc. | Cantilever microprobes for contacting electronic components and methods for making such probes |
US20060051948A1 (en) * | 2003-02-04 | 2006-03-09 | Microfabrica Inc. | Microprobe tips and methods for making |
US7363705B2 (en) * | 2003-02-04 | 2008-04-29 | Microfabrica, Inc. | Method of making a contact |
US20080211524A1 (en) * | 2003-02-04 | 2008-09-04 | Microfabrica Inc. | Electrochemically Fabricated Microprobes |
US10416192B2 (en) | 2003-02-04 | 2019-09-17 | Microfabrica Inc. | Cantilever microprobes for contacting electronic components |
US6948940B2 (en) * | 2003-04-10 | 2005-09-27 | Formfactor, Inc. | Helical microelectronic contact and method for fabricating same |
US7114961B2 (en) * | 2003-04-11 | 2006-10-03 | Neoconix, Inc. | Electrical connector on a flexible carrier |
US20080108221A1 (en) * | 2003-12-31 | 2008-05-08 | Microfabrica Inc. | Microprobe Tips and Methods for Making |
DE102004019588A1 (de) * | 2004-04-22 | 2005-11-17 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Verfahren zur Strukturierung von zumindest einer Schicht sowie elektrisches Bauelement mit Strukturen aus der Schicht |
DE102004030140B3 (de) * | 2004-06-22 | 2006-01-19 | Infineon Technologies Ag | Flexible Kontaktierungsvorrichtung |
US7688095B2 (en) * | 2004-07-30 | 2010-03-30 | International Business Machines Corporation | Interposer structures and methods of manufacturing the same |
WO2007001391A2 (en) * | 2004-12-16 | 2007-01-04 | International Business Machines Corporation | Metalized elastomeric electrical contacts |
US7771208B2 (en) | 2004-12-16 | 2010-08-10 | International Business Machines Corporation | Metalized elastomeric electrical contacts |
US7316572B2 (en) * | 2005-02-03 | 2008-01-08 | International Business Machines Corporation | Compliant electrical contacts |
JP2006261565A (ja) * | 2005-03-18 | 2006-09-28 | Alps Electric Co Ltd | 電子機能部品実装体及びその製造方法 |
US7790987B2 (en) * | 2005-04-27 | 2010-09-07 | Sony Computer Entertainment Inc. | Methods and apparatus for interconnecting a ball grid array to a printed circuit board |
KR100852514B1 (ko) * | 2006-07-31 | 2008-08-18 | 한국과학기술연구원 | 반도체 검사용 수직형 프로브 및 이 프로브를 구비한프로브 카드 및 그 제조방법 |
JP2008039502A (ja) * | 2006-08-03 | 2008-02-21 | Alps Electric Co Ltd | 接触子およびその製造方法 |
JP2008060510A (ja) * | 2006-09-04 | 2008-03-13 | Alps Electric Co Ltd | 半導体チップ搭載回路の製造方法および実装回路 |
KR100784753B1 (ko) * | 2006-09-27 | 2007-12-13 | (주)넴스프로브 | 3차원 포토리소그래피를 이용한 접속체 제조방법 |
US7674112B2 (en) * | 2006-12-28 | 2010-03-09 | Formfactor, Inc. | Resilient contact element and methods of fabrication |
US7585173B2 (en) * | 2007-03-30 | 2009-09-08 | Tyco Electronics Corporation | Elastomeric electrical contact |
US8832936B2 (en) * | 2007-04-30 | 2014-09-16 | International Business Machines Corporation | Method of forming metallized elastomeric electrical contacts |
JP2008281519A (ja) * | 2007-05-14 | 2008-11-20 | Alps Electric Co Ltd | プローブカードおよびその製造方法 |
TW200922009A (en) * | 2007-12-07 | 2009-05-16 | Jye Chuang Electronic Co Ltd | Contact terminal |
KR101004911B1 (ko) * | 2008-08-12 | 2010-12-28 | 삼성전기주식회사 | 마이크로 전자기계적 부품 제조방법 |
US8278748B2 (en) | 2010-02-17 | 2012-10-02 | Maxim Integrated Products, Inc. | Wafer-level packaged device having self-assembled resilient leads |
BR112012021787A8 (pt) * | 2010-03-03 | 2016-06-07 | Koninkl Philips Electronics Nv | kit de peças, dispositivo de conexão e dispositivo de iluminação |
US8686560B2 (en) | 2010-04-07 | 2014-04-01 | Maxim Integrated Products, Inc. | Wafer-level chip-scale package device having bump assemblies configured to mitigate failures due to stress |
US10850450B2 (en) * | 2013-05-31 | 2020-12-01 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Modifying a base layer of an object |
CN104370272B (zh) * | 2014-10-30 | 2016-07-06 | 无锡微奥科技有限公司 | 一种mems自对准高低梳齿及其制造方法 |
US9717148B2 (en) | 2015-09-18 | 2017-07-25 | Quartzdyne, Inc. | Methods of forming a microelectronic device structure, and related microelectronic device structures and microelectronic devices |
JP6805690B2 (ja) * | 2016-09-30 | 2020-12-23 | セイコーエプソン株式会社 | Memsデバイス、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、及び、memsデバイスの製造方法 |
US11973301B2 (en) | 2018-09-26 | 2024-04-30 | Microfabrica Inc. | Probes having improved mechanical and/or electrical properties for making contact between electronic circuit elements and methods for making |
US11262383B1 (en) | 2018-09-26 | 2022-03-01 | Microfabrica Inc. | Probes having improved mechanical and/or electrical properties for making contact between electronic circuit elements and methods for making |
US12078657B2 (en) | 2019-12-31 | 2024-09-03 | Microfabrica Inc. | Compliant pin probes with extension springs, methods for making, and methods for using |
US12000865B2 (en) | 2019-02-14 | 2024-06-04 | Microfabrica Inc. | Multi-beam vertical probes with independent arms formed of a high conductivity metal for enhancing current carrying capacity and methods for making such probes |
US11761982B1 (en) | 2019-12-31 | 2023-09-19 | Microfabrica Inc. | Probes with planar unbiased spring elements for electronic component contact and methods for making such probes |
US11867721B1 (en) | 2019-12-31 | 2024-01-09 | Microfabrica Inc. | Probes with multiple springs, methods for making, and methods for using |
US10937752B1 (en) * | 2020-08-03 | 2021-03-02 | Topline Corporation | Lead free solder columns and methods for making same |
US11774467B1 (en) | 2020-09-01 | 2023-10-03 | Microfabrica Inc. | Method of in situ modulation of structural material properties and/or template shape |
FR3119048A1 (fr) * | 2021-01-21 | 2022-07-22 | Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives | Interconnexion avec ame |
Family Cites Families (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3881799A (en) * | 1972-09-11 | 1975-05-06 | George H Elliott | Resilient multi-micro point metallic junction |
US4466184A (en) * | 1981-04-21 | 1984-08-21 | General Dynamics, Pomona Division | Method of making pressure point contact system |
US5829128A (en) * | 1993-11-16 | 1998-11-03 | Formfactor, Inc. | Method of mounting resilient contact structures to semiconductor devices |
US5917707A (en) * | 1993-11-16 | 1999-06-29 | Formfactor, Inc. | Flexible contact structure with an electrically conductive shell |
US5225771A (en) * | 1988-05-16 | 1993-07-06 | Dri Technology Corp. | Making and testing an integrated circuit using high density probe points |
DE3838413A1 (de) * | 1988-11-12 | 1990-05-17 | Mania Gmbh | Adapter fuer elektronische pruefvorrichtungen fuer leiterplatten und dergl. |
US5090118A (en) * | 1990-07-31 | 1992-02-25 | Texas Instruments Incorporated | High performance test head and method of making |
US5187020A (en) * | 1990-07-31 | 1993-02-16 | Texas Instruments Incorporated | Compliant contact pad |
US5092782A (en) * | 1991-02-01 | 1992-03-03 | Beaman Brian S | Integral elastomeric card edge connector |
US5172050A (en) * | 1991-02-15 | 1992-12-15 | Motorola, Inc. | Micromachined semiconductor probe card |
US5177438A (en) * | 1991-08-02 | 1993-01-05 | Motorola, Inc. | Low resistance probe for semiconductor |
JPH0618555A (ja) | 1992-06-30 | 1994-01-25 | Meisei Denshi Kogyo Kk | マイクロスプリングコンタクト、マイクロスプリングコンタクトの集合体、該マイクロスプリングコンタクトの集合体からなる電気的接続用端子及びマイクロスプリングコンタクトの製造方法 |
JP3345948B2 (ja) | 1993-03-16 | 2002-11-18 | ジェイエスアール株式会社 | プローブヘッドの製造方法 |
DE4310349C2 (de) * | 1993-03-30 | 2000-11-16 | Inst Mikrotechnik Mainz Gmbh | Sensorkopf und Verfahren zu seiner Herstellung |
JPH0782027B2 (ja) | 1993-04-30 | 1995-09-06 | フレッシュクエストコーポレーション | テスト用コンタクトピンの製造方法 |
US5802699A (en) * | 1994-06-07 | 1998-09-08 | Tessera, Inc. | Methods of assembling microelectronic assembly with socket for engaging bump leads |
JPH07333232A (ja) | 1994-06-13 | 1995-12-22 | Canon Inc | 探針を有するカンチレバーの形成方法 |
US6499216B1 (en) * | 1994-07-07 | 2002-12-31 | Tessera, Inc. | Methods and structures for electronic probing arrays |
US5476818A (en) * | 1994-08-19 | 1995-12-19 | Motorola, Inc. | Semiconductor structure and method of manufacture |
US5971253A (en) * | 1995-07-31 | 1999-10-26 | Tessera, Inc. | Microelectronic component mounting with deformable shell terminals |
JP2934202B2 (ja) * | 1997-03-06 | 1999-08-16 | 山一電機株式会社 | 配線基板における導電バンプの形成方法 |
US6059982A (en) * | 1997-09-30 | 2000-05-09 | International Business Machines Corporation | Micro probe assembly and method of fabrication |
US6031282A (en) * | 1998-08-27 | 2000-02-29 | Advantest Corp. | High performance integrated circuit chip package |
JP4514855B2 (ja) * | 1999-08-19 | 2010-07-28 | 東京エレクトロン株式会社 | プロービングカードの製造方法 |
DE10016132A1 (de) * | 2000-03-31 | 2001-10-18 | Infineon Technologies Ag | Elektronisches Bauelement mit flexiblen Kontaktierungsstellen und Verfahren zu dessen Herstellung |
JP3440243B2 (ja) * | 2000-09-26 | 2003-08-25 | 株式会社アドバンストシステムズジャパン | スパイラルコンタクタ |
US6439894B1 (en) * | 2001-01-31 | 2002-08-27 | High Connection Density, Inc. | Contact assembly for land grid array interposer or electrical connector |
US6627092B2 (en) * | 2001-07-27 | 2003-09-30 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Method for the fabrication of electrical contacts |
JP4210049B2 (ja) * | 2001-09-04 | 2009-01-14 | 株式会社アドバンストシステムズジャパン | スパイラル状接触子 |
JP3814231B2 (ja) * | 2002-06-10 | 2006-08-23 | 株式会社アドバンストシステムズジャパン | スパイラルコンタクタ及びその製造方法、並びにそれを用いた半導体検査装置、及び電子部品 |
DE10239080A1 (de) * | 2002-08-26 | 2004-03-11 | Infineon Technologies Ag | Integrierte Schaltung |
US6948940B2 (en) * | 2003-04-10 | 2005-09-27 | Formfactor, Inc. | Helical microelectronic contact and method for fabricating same |
-
2003
- 2003-04-10 US US10/411,175 patent/US6948940B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-04-09 TW TW093109969A patent/TWI338351B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-04-12 CN CNA2004800123699A patent/CN1894792A/zh active Pending
- 2004-04-12 KR KR1020057019080A patent/KR20060002954A/ko not_active Application Discontinuation
- 2004-04-12 JP JP2006509899A patent/JP2006523040A/ja active Pending
- 2004-04-12 EP EP04759412A patent/EP1616352A1/en not_active Withdrawn
- 2004-04-12 WO PCT/US2004/011115 patent/WO2004093189A1/en active Application Filing
-
2005
- 2005-09-27 US US11/237,091 patent/US7131848B2/en not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2006523040A5 (ja) | ||
TWI338351B (en) | Helical microelectronic contact and method for fabricating same | |
JP2006525672A5 (ja) | ||
JP4486896B2 (ja) | 微小電子接触構造体 | |
US8383958B2 (en) | Method to build robust mechanical structures on substrate surfaces | |
KR100891066B1 (ko) | 미세 전자 접속체, 미세 전자 접속체의 제조 방법, 반도체 장치 및 접속 구조물 | |
TWI410648B (zh) | 在支撐基板上形成接觸元件的裝置及方法 | |
JP2008518209A (ja) | 心棒上に作成された、他の表面に移動可能な電気鋳造バネ | |
JP2008511007A (ja) | 積層された先端を有する片持ち梁電気コネクタ | |
JP2002286758A (ja) | プローブユニットおよびその製造方法 | |
JP2006189430A (ja) | マイクロマシンプローブを搭載した薄膜回路及びその製造法と応用 | |
TWI553800B (zh) | 部分地埋置於層體結構內之微型彈簧 | |
TWI360871B (en) | Wafer level chip package and a method of fabricati | |
JP2003124396A (ja) | 弾性電気接点 | |
JP2008292500A (ja) | プローブユニットおよびその製造方法 | |
KR20080073841A (ko) | 프로브 헤드 및 그 제조방법 | |
JP5162104B2 (ja) | 相互接続部材の製造方法 | |
Chao et al. | SU-8 flexible ribbon cable for biomedical microsystem interconnection | |
JP2006032105A (ja) | 接触端子およびその製造方法ならびに実装用コネクタおよび検査用ソケット | |
WO2005055252A1 (ja) | シリコン製ばね電極および異方性導電シート | |
KR100978549B1 (ko) | 프로브 구조물 및 프로브 구조물 제조 방법 | |
US20100039129A1 (en) | Probe card | |
KR100823312B1 (ko) | 프로브 카드 제조 방법 및 그에 의한 프로브 카드 | |
JP6548963B2 (ja) | プローブの製造方法、プローブ、プローブ積層体、プローブ組立体およびプローブ組立体の製造方法 | |
KR101301737B1 (ko) | 프로브 카드 제조 방법 |