JP2006517335A - 変圧器結合プラズマソースにおける電力の測定方法 - Google Patents

変圧器結合プラズマソースにおける電力の測定方法 Download PDF

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Abstract

本発明は、TCPソース中のプラズマに伝送される電力の直接的な評価を提供するための方法に関する。TCPソース内のプラズマに伝送される電源の直接的な評価を提供するための装置は、真空チャンバ(410)、電気変圧器(330)を有し、真空チャンバ内(410)に電磁場を誘導する。変圧器(310)が、一次巻線(300)、プラズマループ(320)により形成される二次巻線を有する。この装置はさらに、該プラズマループ(320)を通して電流を計測するために、変流器(330)を有する。

Description

本発明は、プラズマソースの分野に関し、さらに詳しくは、本発明は変圧器結合プラズマソースに関する。
誘導結合プラズマ(ICP)は、材料加工、活性ガスの生産、汚染物質切除などを含む様々な形式の応用分野において日常的に使用される。このような装置では、コイルが真空チャンバ付近、真空チャンバまわり、または真空チャンバ内に配置される。このコイルが、無線周波数(RF)により励起される場合、コイル周りに誘導される電磁場により、ガスプラズマ放電が真空装置内に生成および維持される。このプラズマは、空気または磁心のどちらか一方を通してコイルに接続される。後者の場合、このソースは変圧器結合プラズマ(TCP)ソースと呼ばれる。コイル励起に使用されるこの電源は大抵、RFセクションより前にある直流電流(DC)セクションから構成される。
しばしば、プラズマ放電のために伝送されるRF電力の総量を把握することが望まれる。伝送電力の総量を計算するために、電圧値および電流値が、電圧および電流間の位相角と同様に測定され得る。これらの測定は、プラズマ負荷(plasma load)により直接的に影響されることが典型的である。
それにもかかわらず、一定のTCP適用の電圧および電流の計測は、電源のDCセクションの出力でなされる。この方法論によって、この計測および計算はより容易になるけれども、ここで得られる電源値は、RFセクションのスイッチ損失、およびDCセクションの出力およびプラズマ負荷の両方に配置される回路中の他の損失要素により、プラズマに伝送される電力の正確な評価ではない。
もしくは、いくつかの適用では、電源出力とTCP反応炉の間にある点において、RF計測を実施する。信号の時間的変化のために、これらの計測は一般的に、電源のDCセクションの入力に影響される計測と同様、正確ではない。この種の計測の利点は、この計測が、RF電力発生器の構成要素に起因する損失を除外することである。しかしながら、他の損失は存在し続ける。このように、プラズマに伝送された電力の正確な値は、RF電源の出力点における電流および電圧の計測によっては得難い。
それゆえ、プラズマ放電のために伝送される電力を直接的に評価するためのメカニズムが望まれる。
(発明の要旨)
本発明は、TCPソース中のプラズマに伝送される電力の直接的な評価を提供するための方法に関する。一実施形態により、一装置を説明する。この装置は、真空チャンバおよび電気変圧器を有し、真空チャンバ内に電磁場を誘導する。この変圧器は、プラズマループにより形成される一次巻線、二次巻線、およびプラズマループに沿って電圧測定が実施される分離二次巻線を有する。
本発明は、以下に与えられる詳細な説明および本発明の様々な実施形態が記載された添付図面によりさらに完全に理解され得るが、この実施形態が、特定の実施形態の発明に制限されることを意図せず、これらは本発明の説明および理解のためのものである。
(詳細な説明)
一実施形態では、TCPソース中のプラズマに伝送された電力を評価する方法が記載されている。次の詳細な説明中では、様々な詳細が記載される。しかしながら、これらの特定の説明なしに、本発明が実施され得ることは当業者にとって明らかである。他の実施形態では、既知構造および装置がブロック図形式で示され、これより、詳細に示すよりも本発明のあいまいさを避け得る。
「一実施形態」(「one embodiment」または「an embodiment」)に対する明細書中の言及は、実施形態とともに記載される特定の特徴、構造、または特性が、本発明の少なくとも一つの実施形態を有することを意味する。明細書中の様々な箇所にある「一実施形態における」という表現の出現は、同じ実施形態について言及することを必ずしも必要としているわけではない。
図1は、インピーダンスマッチングネットワーク120を通してRF電力発生器110に接続されたリモートTCPソース140の一実施形態を示す。RF電力発生器110はDCセクション115およびRF出力セクション117を有する電源である。
インピーダンスマッチングネットワーク120はRF電力発生器110に接続される。インピーダンスマッチングネットワーク120は、電力発生器110の出力インピーダンスにTCPソース140のインピーダンス範囲を適合させる。
インピーダンスマッチングネットワークを実施する本実施形態が示されるが、当業者は、インピーダンスマッチングネットワークが、本発明の範囲に影響することなく、除かれ得ることを理解し得る。
プラズマソース140は、インピーダンスマッチング回路120に接続される。一実施形態では、プラズマソース140は変圧器結合(TCP)ソースを介して動作し、プラズマソース140周りには、閉じられた経路をもつ電子ドリフト電流を誘導するために、少なくとも1つのフェライト変圧器(示されてない)を利用する。
図2は、例示のTCP装置の回路表現を示す。この装置は、変圧器の二次巻線に接続されたRF電源、内部(または外部)インダクター、変圧器および抵抗を有する。この変圧器および抵抗の二次巻線はプラズマ負荷を示す。
様々な適用においては、プラズマに伝送される電力の総量を計算するために、プラズマソースユーザーが電流および電圧の計測を行うことが望まれる。TCP装置において、電流または電圧は、RF電源のDCセクションの出力で計測され得る。この計算に使用される電圧信号および電流信号のDC特性により、DC成分の出力における計測値は正確である。しかしながら、DCの計測に基づいて計算された電力値は、電力計測点とプラズマ間の損失回路成分の存在(例えば、RFセクションおよび変圧器コアなど)により、プラズマに伝送されるそれぞれの電力ではない。
もしくは、ある適用においては、電源の出力点でRF計測を実施する。この計測点では、インピーダンス整合によりプラズマ負荷の複雑な値のインピーダンスを、電源のインピーダンス出力を整合する抵抗インピーダンスに変換するので、電圧信号および電流信号は同位相である。それゆえ、電力は電流および電圧の実効値(RMS)から計算され得る。この計測は、時間依存の信号によるDC計測と同様、正確ではない。このタイプの計測は、一定の損失(RF電源発生器中のRFスイッチに起因するもの)を除外するが、他の損失が存在し続ける。このように、プラズマに伝送された電力の正確な評価は、電源成分の出力において電流および電圧を計測することによっては得難い。
しかし、他の可能性としては、マッチングネットワークおよびプラズマ反応炉の両方の計測点において電圧値および電流値を計測することが挙げられる。この計測点においては、電圧信号および電流信号では互いに位相にずれが生じ、電流、電圧および位相のリアルタイム計測が電力計算に必要とされる。これらの計測は、時間依存の信号によるDC計測と同様に正確ではない。さらに、励起変圧器に起因するような損失も依然存在する。このように、プラズマに伝送された電力の正確な評価は、電源成分の出力において電流および電圧を計測することによっては得難い。
結局のところ明らかなのは、プラズマに伝送された電力の正確な評価を得るためには、電気的計測がプラズマ負荷の出来るだけ近くでなければならないということである。
一実施形態に従い、本発明は、プラズマに伝送された電力の正確な評価を提供する。図3は、インピーダンスマッチングネットワーク120を介して電力発生器110に接続されたソース140の一実施形態の回路表現を示す。
図3を参照すると、RF発生器110は、インピーダンスマッチングネットワーク120に接続され、これはプラズマソース140内の変圧器310の一次巻線300に接続状態である。プラズマソース140はさらに、プラズマループ320および1:Mの巻数比をもつ変流器330を有する。プラズマループ320は二次巻線340、変流器330の一次側、およびプラズマ抵抗Rにより示される。多くのプラズマ分野の関係者にとっては、抵抗Rがプラズマループ320のインピーダンス値を決定付ける。一次巻線300および二次巻線340の間の巻数比はN:1である。
一実施形態においては、変流器330のコアがプラズマ320を囲み、この変流器に対する一次の単一巻として作用する。さらに、抵抗器(R)は、プラズマ電流(I)に比例する計測電圧(V)(例えば、V=R*Ip/M;ここでMは変流器330の二次巻数)を提供するために、変流器330の二次側に接続される。
他の実施形態によれば、プラズマソース140内の変圧器310は、N:Lの巻数比をもつ二次巻線350をさらに有する。二次巻線350は、プラズマ320において適用された閉ループの電圧を計測するために誘導される。
一実施形態では、巻線350は、変圧器310のコア360周りにワイヤを一回巻いたものであり、プラズマループ320と同様に、磁束を囲むように配置される。このような構成では、閉ループプラズマ電圧、Vplasmaは、二次巻線350を横切って計測された電圧Vと同じであり、つまり、V=Vplasmaである。他の実施形態では、電圧減少成分(示されてない)は、電圧を電力計測回路(示されてない)に接続するために、規定量だけ電圧を減少させる巻線350に接続され得る。
図4は、プラズマチャンバ410まわりの様々な構成要素の典型的な配列を示すTCPソース140の一実施形態を示す。上述のように、電力は、磁心360および一次巻線300をもつ変圧器を通してプラズマ320に接続される。二次巻線350は、プラズマ電圧を評価するために使用される。変流器330は、プラズマ電流Ipを計測する。
図5は、電力計測回路500の一実施形態を示す。電力計測回路500は、変流器330からリアルタイムの電流値および二次巻線330からリアルタイムの電圧値を受け取る。電力計測回路500は、乗算器510および平均値算出モジュール520を有する。乗算器510は、リアルタイムの電圧値および電流値を受け取り、瞬間電力値を得るために、それぞれ受け取った値の積をとる。各時刻で計算された電力値は平均値算出モジュール520に伝送される。平均値算出モジュール520は、プラズマループ320に伝送された電力の平均値を計算する。
図6は、インピーダンスマッチングネットワーク120を介して電力発生器110に接続されたソース140の他の実施形態の回路表現を示す。この実施形態においては、電圧Vは、変圧器610の入力において計測される。巻数比L:Mをもつ変流器620は、変圧器610の一次側を通って流れる電流Iを計測する。この構成を使用して、プラズマ電圧は、V=V/Nとして評価され、プラズマ電流は、I=VIT*M*N/(R*L)として評価される。
変流器620は、図3を参照して上述した変流器330と同様な方法で作動する。しかしながら、この実施形態では、チャンバに隣接して変圧器を配置する必要がないので、電流を計測するために変流器620を配置することにより、複雑さが緩和される。さらに、この実施形態では、電圧が、変圧器610の入力において計測される。それゆえ、さらなる二次巻線(例えば、図3中の巻線350)は必要とされない。
当業者は、図3または図6中に示された実施形態が組み合わされ得、および適合することを理解し得る。例えば、電圧計測は変圧器610の入力においてなされ得、電流計測は変流器330を使用してなされる。同様に、電流計測は変流器620を使用してなされ得、電圧は二次巻線350を使用して計測される。
上述したメカニズムは、真のプラズマ電流値および電圧値の正確な評価が得られることを可能にする。結果的に、プラズマに伝達された電力の正確な評価が計算され得る。
本発明の多くの代替例および修正例は、この先述の明細書を読んだ後、当業者に対して疑いなく明らかであるがゆえに、説明により示されおよび記載された特定の実施形態のいずれもが、制限を考慮されることがまったく意図されないことが理解される。それゆえ、様々な実施形態の詳細の参照は、本発明の主要部として考慮されるこれらの特徴のみをそれ自体で引用する特許請求の範囲を制限することを意図されない。
このようにして、プラズマ装置に接続される変圧器において電力を計測するためのメカニズムが記載された。
インピーダンスマッチングネットワークを通して無線周波数(RF)電力発生器に接続されたプラズマソースの一実施形態を示す。 RF電力発生器に接続された例示のプラズマソースの回路表現を示す。 インピーダンスマッチングネットワークを通してRF電力発生器に接続されたプラズマソースの一実施形態の回路表現を示す。 プラズマソースチャンバの一実施形態を示す。 電力計測回路の一実施形態を示す。 インピーダンスマッチングネットワークを通してRF電力発生器に接続されたプラズマソースの他の実施形態の回路表現を示す。

Claims (22)

  1. 真空チャンバと該真空チャンバ内に電磁場を誘導するために、該真空チャンバに接続された電気変圧器であって、該変圧器は一次巻線と、該真空チャンバに接続された二次巻線として機能するチャンバ内のプラズマループと、該プラズマループに沿って電圧を計測するために実装される二次巻線とを含む変圧器と、
    該プラズマループを通って流れる電流を計測するための変流器と
    を備える、装置。
  2. 前記変流器から各時刻で得られた電流計測値と、該二次巻線から各時刻で得られた電圧計測値とを受け取るための電力測定回路をさらに備える、請求項1に記載の装置。
  3. 前記プラズマループおよび二次巻線が、前記一次巻線に対して、同じ巻数比を有する、請求項2に記載の装置。
  4. 前記電圧が前記電力計測回路において受け取られる前に、前記二次巻線において計測された電圧を、所定量だけ減少させるために、電力計測回路に接続された電圧減少モジュールをさらに備える、請求項3に記載の装置。
  5. 前記電力計測回路が、
    各時刻で得られた電力計測値を求めるために、各時刻で得られた電流計測値と、各時刻で得られた電圧計測値との積をとる乗算器と、
    各時刻で得られた電力計測値の平均値を計算するための平均値計算モジュールと
    を備える、請求項2に記載の装置。
  6. 前記プラズマループに電力を供給するために、前記変圧器の一次巻線に接続された電源をさらに備える、請求項1に記載の装置。
  7. 前記変圧器のインピーダンス範囲をAC電源の出力インピーダンス範囲に整合させるために、前記電源と前記変圧器の一次巻線との間に接続されるインピーダンスマッチング回路をさらに備える、請求項6に記載の装置。
  8. 前記二次巻線が、前記プラズマループの周りをワイヤで一巻きすることによって実装される、請求項1に記載の装置。
  9. 電源と、
    該電源に接続されたインピーダンスマッチング回路と、
    真空チャンバ内に電磁場を誘導するために、該真空チャンバに接続された電気変圧器であって、該変圧器は、該インピーダンスマッチング回路に接続される一次巻線と、該真空チャンバに接続される二次巻線として機能する該チャンバ内におけるプラズマループと、該プラズマループに沿って電圧を計測するために実装される二次巻線とを含む変圧器と、
    該真空チャンバのプラズマループを通して、各時刻で得られた電流を計測するために、該インピーダンスマッチング回路と該一次巻線との間に接続される変流器と、
    を備える、装置。
  10. 前記インピーダンスマッチング回路の出力において、各時刻で得られた電圧値が計測される、請求項9に記載の装置。
  11. 前記変流器から各時刻で得られた電流計測値と、前記インピーダンスマッチング回路の出力から各時刻で得られた電圧計測値とを受け取るための電力計測回路をさらに備える、請求項10に記載の装置。
  12. 前記電力計測回路が、
    点から点までの電力計測値を得るために、点から点までのそれぞれの電流計測値と各時刻で得られた電圧計測値との積をとるための乗算器と、該点から点までの電力計測値の平均値を計算するための平均値計算モジュールとを備える、請求項11に記載の装置。
  13. 真空チャンバと、
    該真空チャンバ内に電磁場を誘導するために、該真空チャンバに接続される電気変圧器であって、該変圧器は、一次巻線と該真空チャンバに接続される二次巻線として機能する該チャンバ内のプラズマループと、プラズマループに沿って該電圧を計測するために実装される二次巻線とを含む変圧器と、
    該電気変圧器の入力電流を計測するために、該電気変圧器の入力に接続された変流器と
    を備える、装置。
  14. 前記変流器から各時刻で得られた電流計測値と、前記二次巻線から各時刻で得られた電圧計測値とを受け取るための電力計測回路をさらに備える、請求項13に記載の装置。
  15. 電力計測回路において前記電圧値が受け取られる前に、前記二次巻線において計測される前記電圧を、所定量だけ減少させるために、前記電力計測回路に接続される電圧減少モジュールをさらに備える、請求項14に記載の装置。
  16. 前記プラズマループに電力を供給するために、前記変流器、および前記変圧器の一次巻線に接続される電源をさらに備える、請求項13に記載の装置。
  17. 前記変圧器のインピーダンス範囲を、前記AC電源の出力インピーダンスに整合させるために、前記電源、前記変流器と、前記変圧器の一次巻線との間に接続されたインピーダンスマッチング回路をさらに備える、請求項16に記載の装置。
  18. 真空チャンバと、
    該真空チャンバ内に電磁場を誘導するために、該真空チャンバに接続された電気変圧器であって、該変圧器が、一次巻線と、該真空チャンバに接続される二次巻線として機能する該真空チャンバ内にあるプラズマループとを含む変圧器と、
    該プラズマループを介して該電流を計測するために、該プラズマループに接続された変流器と備えた装置であって、
    該電気変圧器の入力において電圧が計測される、装置。
  19. 前記変流器から各時刻で得られる電流計測値と、前記電気変圧器の入力において計測される各時刻で得られる電圧とを受け取るための電力計測回路をさらに備える、請求項18に記載の装置。
  20. 前記電圧が前記電力計測回路において受け取られる前に、前記電気変圧器の入力において計測される電圧を所定量だけ減少させるために、前記電力計測回路に接続される電圧減少モジュールをさらに有する、請求項19に記載の装置。
  21. 前記プラズマループに電力を供給するために、前記変圧器の前記一次巻線に接続される電源をさらに有する、請求項18に記載の装置。
  22. 前記変圧器のインピーダンス範囲を、AC電源の出力インピーダンス範囲に整合させるために、前記電源と前記変圧器の前記一次巻線との間で接続されるインピーダンスマッチング回路をさらに有する、請求項21に記載の装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014229603A (ja) * 2013-05-22 2014-12-08 チェ デギュウ 自己管理機能を持つ遠隔プラズマシステム及びその自己管理方法(remoteplasmasystemhavingself−managementfunctionandselfmanagementmethodofthesame)

Families Citing this family (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6819096B2 (en) * 2003-01-31 2004-11-16 Advanced Energy Industries, Inc. Power measurement mechanism for a transformer coupled plasma source
US7094313B2 (en) * 2004-04-21 2006-08-22 Applied Materials, Inc. Universal mid-frequency matching network
US7666464B2 (en) 2004-10-23 2010-02-23 Applied Materials, Inc. RF measurement feedback control and diagnostics for a plasma immersion ion implantation reactor
KR20070098860A (ko) * 2005-01-11 2007-10-05 이노베이션 엔지니어링, 엘엘씨 로드로 전달된 알에프 파워를 검출하는 방법 및 로드의복소 임피던스
US7821250B2 (en) * 2006-07-31 2010-10-26 Inficon, Inc. RF sensor clamp assembly
US8920600B2 (en) 2006-08-22 2014-12-30 Mattson Technology, Inc. Inductive plasma source with high coupling efficiency
US8992725B2 (en) 2006-08-28 2015-03-31 Mattson Technology, Inc. Plasma reactor with inductie excitation of plasma and efficient removal of heat from the excitation coil
US20090195303A1 (en) * 2008-02-04 2009-08-06 William Joseph Bowhers Method of Reducing Common Mode Current Noise in Power Conversion Applications
US7970562B2 (en) * 2008-05-07 2011-06-28 Advanced Energy Industries, Inc. System, method, and apparatus for monitoring power
US20100252047A1 (en) 2009-04-03 2010-10-07 Kirk Seth M Remote fluorination of fibrous filter webs
US11615941B2 (en) 2009-05-01 2023-03-28 Advanced Energy Industries, Inc. System, method, and apparatus for controlling ion energy distribution in plasma processing systems
US9767988B2 (en) 2010-08-29 2017-09-19 Advanced Energy Industries, Inc. Method of controlling the switched mode ion energy distribution system
US9287092B2 (en) * 2009-05-01 2016-03-15 Advanced Energy Industries, Inc. Method and apparatus for controlling ion energy distribution
US9435029B2 (en) 2010-08-29 2016-09-06 Advanced Energy Industries, Inc. Wafer chucking system for advanced plasma ion energy processing systems
US9287086B2 (en) 2010-04-26 2016-03-15 Advanced Energy Industries, Inc. System, method and apparatus for controlling ion energy distribution
US9309594B2 (en) 2010-04-26 2016-04-12 Advanced Energy Industries, Inc. System, method and apparatus for controlling ion energy distribution of a projected plasma
US9362089B2 (en) 2010-08-29 2016-06-07 Advanced Energy Industries, Inc. Method of controlling the switched mode ion energy distribution system
US8587321B2 (en) * 2010-09-24 2013-11-19 Applied Materials, Inc. System and method for current-based plasma excursion detection
US8624501B2 (en) 2010-12-08 2014-01-07 Mks Instruments, Inc. Measuring and controlling parameters of a plasma generator
US8723423B2 (en) 2011-01-25 2014-05-13 Advanced Energy Industries, Inc. Electrostatic remote plasma source
US8884525B2 (en) 2011-03-22 2014-11-11 Advanced Energy Industries, Inc. Remote plasma source generating a disc-shaped plasma
US10225919B2 (en) 2011-06-30 2019-03-05 Aes Global Holdings, Pte. Ltd Projected plasma source
US10388493B2 (en) * 2011-09-16 2019-08-20 Lam Research Corporation Component of a substrate support assembly producing localized magnetic fields
CN103137408B (zh) * 2011-11-30 2015-07-29 中国科学院微电子研究所 具有精密功率检测器的射频电源
KR102025540B1 (ko) 2012-08-28 2019-09-26 에이이에스 글로벌 홀딩스 피티이 리미티드 넓은 다이내믹 레인지 이온 에너지 바이어스 제어; 고속 이온 에너지 스위칭; 이온 에너지 제어와 펄스동작 바이어스 서플라이; 및 가상 전면 패널
US9685297B2 (en) 2012-08-28 2017-06-20 Advanced Energy Industries, Inc. Systems and methods for monitoring faults, anomalies, and other characteristics of a switched mode ion energy distribution system
US9210790B2 (en) 2012-08-28 2015-12-08 Advanced Energy Industries, Inc. Systems and methods for calibrating a switched mode ion energy distribution system
WO2016149050A1 (en) 2015-03-13 2016-09-22 Advanced Energy Industries, Inc. Plasma source device and methods
IL272671B2 (en) * 2017-08-16 2024-01-01 Nova Plasma Ltd Graft treatment using plasma
TWI792598B (zh) 2017-11-17 2023-02-11 新加坡商Aes 全球公司 用於在空間域和時間域上控制基板上的電漿處理之系統和方法,及相關的電腦可讀取媒體
WO2019099937A1 (en) 2017-11-17 2019-05-23 Advanced Energy Industries, Inc. Improved application of modulating supplies in a plasma processing system
EP3711080B1 (en) 2017-11-17 2023-06-21 AES Global Holdings, Pte. Ltd. Synchronized pulsing of plasma processing source and substrate bias
US10943770B2 (en) 2019-03-04 2021-03-09 Advanced Energy Industries, Inc. Detection of damage in matching networks
TW202109611A (zh) 2019-07-12 2021-03-01 新加坡商Aes全球公司 具有單一控制開關之偏壓供應器
US11670487B1 (en) 2022-01-26 2023-06-06 Advanced Energy Industries, Inc. Bias supply control and data processing
US11942309B2 (en) 2022-01-26 2024-03-26 Advanced Energy Industries, Inc. Bias supply with resonant switching
US11978613B2 (en) 2022-09-01 2024-05-07 Advanced Energy Industries, Inc. Transition control in a bias supply

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4431898A (en) * 1981-09-01 1984-02-14 The Perkin-Elmer Corporation Inductively coupled discharge for plasma etching and resist stripping
KR20020029743A (ko) * 1999-08-06 2002-04-19 로버트 엠. 포터 가스와 재료를 처리하기 위한 유도결합 링-플라즈마소스장치 및 그의 방법
US6819096B2 (en) * 2003-01-31 2004-11-16 Advanced Energy Industries, Inc. Power measurement mechanism for a transformer coupled plasma source

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014229603A (ja) * 2013-05-22 2014-12-08 チェ デギュウ 自己管理機能を持つ遠隔プラズマシステム及びその自己管理方法(remoteplasmasystemhavingself−managementfunctionandselfmanagementmethodofthesame)

Also Published As

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