TW200420888A - Method for measuring power in a transformer coupled plasma source - Google Patents
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Description
200420888 玖、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於電漿源之領域;本發明特別係關於變壓 器耦合電漿(Transformer Coupled Plasma,TCP)源。 【先前技術】 感應耦合電漿(Inductively Coupled Plasma, ICP) 係例行性地使用於許多不同之應用,包含:材質處理,致 動氣體之生產,污染物減少及許多其他應用。於如此之裝 置中,該激勵變壓器之磁心係置放於接近或者環繞一個真 空室處或者於一個真空室之内。當該變壓器之一次繞組係 以射頻激勵時,該磁心周圍所感應之電磁場係於該真空設 備之内維持氣體電漿放電。該電漿係透過空氣或者透過一 該些源係被稱 個磁心而|馬合至該線圈。於後者之情況下, 為變壓器耗合電衆(Transformer Coupled piasma,κρ) 。使用於激勵該線圈之電源係通常由一個直流部分接著一 個射頻部分而構成。 通常,吾人係期望知道傳送至該電漿放電之射 之量。為了計算所傳送之功率之量,係必須測量電壓 流值以及該電壓及該電流之間之相位放 ^ i 地 ’ 14 4b 測 量係直接於該電漿負載上受到影響。 一
用中,電壓及 。雖然此項方 電力之值係不 300 為傳送至該電鑛> φ + ^4gv 電力之一個準確測量值,此係由於在該 射V員口 Μ刀之開關及在位 於5亥直^部刀及該電漿負載之間之 电路中的具有指4 负?貝失之兀件之損失所致。 可替代的1,某些應用係於該電源之輸出及該變壓器 電水反應器之間之某一點處實施射頻測量。由於該些 :號之時間變[這些測量係大致上不如於該電源之該直 /ο:分之輸出處所實施之測量來得準確。該種形式之測量 之乜點係為·其係排除歸因於該射頻電源產生器中之元件 ^貝失。然而,其他損失係持續存在。因此,傳送至該電 k之功率之準確值係難以藉由測量於該射頻電源之輸出端 處之電流及電壓而獲得。 因此’係期望一種提供傳送至該電漿放電之功率之直 接測量的機構。 【發明内容】 本發明係關於一種用於提供傳送至該變壓器耦合電漿 源中之電漿之功率之直接測量的方法。根據一個實施例, 其係敘述一種設備。該設備係包含一個真空室及一個電變 壓裔’該電變壓器係感應於該真空室内之一個電磁場。該 、交壓器係包含:一個一次繞組;一個二次繞組,其係由電 裝迴路所形成;及一個分離的二次繞組,其係實施成與該 電漿迴路測量電壓。該設備亦包含一個電流轉換器,其係 用於測量通過該電漿迴路之電流。 【實施方式】 200420888 根據一個實施例,其係敘述一種用於測量傳送至一個 變壓器耦合電漿源中之電毁之功率之方法。於下列敘述之 中’其係說明許多細節。然❿’熟習該項技術者應瞭解的 是,本發明係可以在無這些特定細節之下而實施。於复他 範例中,熟知之結構及裝置係以方塊之形式顯示,而非詳 細敘述,以避免模糊本發明。 於說明書中參照-個實施例係意謂與該些實施例之敛 述相關之-個特定之特色結構或者特性係包含於本發明之 至少一個實施例之中。於說明書中許多地方中出現之“一 個實施例中”―詞係不必然皆指相同之實施例。 第1圖係顯示一個透過一伽阳4丄 個阻柷匹配網路1 2 0耦合 至個射頻電源產生器工丄0之遠距變壓器搞合電聚源工 4 0之-個實施例。該射頻電源產生器丄丄〇係為一個包 含一個直流部分1 1 5及-個射頻輸出部分i i 7之電源 阻抗匹配網路i 2 〇係輕合至射頻電源產生器工Η 。該阻抗匹配網路i 2 〇係匹配該變壓器輕合電聚源“ 0之該阻抗範圍及該電源產生器i i ◦之該輪出阻抗。 雖然本發明係顯示成實施一個阻抗匹配網路,但是孰 習該項技術者係將可以瞭解:該阻抗匹配網路係可以被移 除而不影響本發明之範圍。 變壓器♦馬合電幾^1 4 Π A h Tv r* 电水源14 0係耦合至阻抗匹配電路工2 0。於-個實施例中’該變壓器,合電聚源14〇係透過 一個變塵器耗合電㈣而操作,且使用至少—個鐵氧體變 200420888 G σσ (未示出),以感應與電漀源1 4 0周圍的閉路路徑 電子漂移電流。 第2圖係顯示一個示範性變壓器耦合電漿設備之電性 表示。該設備係包含一個電源,一個内部(或者外部)電 感器,一個變壓器及一個連接至該變壓器之二次繞組之電 阻器。該變壓器之該二次繞組及該電阻器係代表該電漿負 載。 7 、 於許多應用中,吾人係可能期望一個電漿源之使用者 實施電流及電壓〜則4,以言十算傳&至該電浆 < 功率的量 於個麦I杰輕合電漿之設備之中,電流及電壓係可以 於該射頻電源之該直流部分的輸出端處被測量出。於該直 流元件之輸出端處之測量值係由於使用於計算之電壓及電 流訊號之直流特性而變成準確的。然而,由於該功率測量 點及該電漿之間之具有損失之電路元件的存在,諸如於該 射頻部分及該變壓器心之中之開關,根據直流測量所計算 出之功率之值係不代表傳送至該電漿之功率。 # 可替代的是,某些應用係於該電源之輸出處實施射頻 測量。於此測量處,因為該阻抗匹配係轉換該電漿負載之 複數值的阻抗成.為與該電源之輸出阻抗匹配之電阻性阻抗 ,所以電壓及電流訊號係為同相。以,功率係能夠由二 電流及電壓之均方根值而計算出。這些測量係由於該些訊 號之時間關係而不如直流測量準確。雖然此種形式之測量 係排除某些損1 ’諸士口歸因於該射頻電源產纟器中之射頻 開關之損失,然而,其他損失係持續存在。因此,傳送至 200420888 該電聚之功率的準麵量係難以#由測量於肖冑源元件之 輸出處之電流及電壓而獲得。 又另一個可能性係為測量於該匹配網路及該電漿反應 窃之間之一個點處之電壓及電流。於此測量點處,電壓及 電流訊號係不同相,且即時的電流、電壓及時間之即時測 量係需要的,以計算功率。這些測量係由於該些訊號之時 間關係而不如直流測量準確。此外,諸如歸因於激勵“
Is之損失係持續存在。因此,傳送至該電漿之功率的準確 測量係難以藉由測量於該些電源元件之輸出處之電流及 Φ 壓而獲得。 & 接著,明顯的是’為了獲得傳送至該電漿之功率的準 確測量’電性測量係必須於儘可能接近該電漿負載處實施 根據一個實施例,本發明係提供一種傳送至該電漿之
功率之準確測量。第3圖係顯示一個透 R 丨且抗匹配網 路120耦合至電源產生器11〇之電漿源“〇之 實施例的電性表示。 參照第3圖,射頻產生器丄i 〇係輕合 丨見柷匹配網 路1 2 0,該阻抗匹配網路i 2 〇係耦合至該電漿源工4 〇中之一個變壓器3 1 0的一次繞組3 0 〇。電漿4 〇亦包含-個電漿迴路3 2 〇及一個具有i : “數、比之 電流轉換器3 3 0。電漿迴路3 2 0係由該二次繞組 〇、k壓态3 3 0之一次側及一個電漿電阻器~所矛示 對於許多感興趣之電襞而言,該電阻器Rp係主控該電I迴 10 200420888
一次繞組3 4 Q 路3 2 0之阻抗之值。一次繞組3 〇 〇及 之間之匝數比係為Ν: 1。 0之電纜束線係環
根據另一個實施例,於該電漿源Ί 4 於一個實施例中,電流轉換器3 3 〇 繞該電漿3 2 Γ 者’一個電阻器r係連接至該變壓器3 提供一個正比於電漿電流Ιρ之電壓測量 Ip/M,其中,μ係為該轉換器3 3 Π夕- τ丄斗ϋ内之變壓器3 1 0係包含一個具有匝數比Ν ·· L之額林μ ^ ° 〜頌外的二次繞組3 5 0。二次繞組3 5 0係被實施成測量施加至電漿3 2 〇 閉路電壓。 於一個實施例中,繞組3 5 0係為環繞變壓器3工〇 之電纜束線3 6 0之單匝線,其係設置成使得包圍與該電 漿迴路3 2 0相同之磁通量。於如此之結構中,該閉迴路 電漿電麼Vplasma係與二次繞組3 5 〇處所測量之電壓Vp 相同’亦即,VP= Vplasma。根據另一個實施例,一個電壓 減少元件(未示出)係可以被連接至繞組3 5 〇,以減少 έ亥電Μ —預定ΐ ’以連接該電壓至一個功率測量電路(未 示出)。 第4圖係圖解一個變壓器耦合電漿源1 4 0之一個實 施例,其係顯示環繞該電漿室4 1 0之不同元件之典型設 置。如上文所述’電力係透過一個具有磁心3 6 0及一次 繞組3 0 〇之變壓器而耦合至該電漿3 2 0。二次繞組3 5 0係被使用於測量電漿之電壓。該電流轉換器3 3 〇係 11 測量該電漿電流Ip。 第5圖係顯示一個功率測量 。功率測量電路5"係接收由電=〇之一個實施例 即時電流值及由二次繞組33=轉換器330而來之 測量電路5 0 〇係包含一個乘=時:壓值。功率 5 2 0。乘法器5 i 〇俜接;± 〇及-個平均模組 戽… 接即時電麼及電流值,且將 母一個接收之值相乘,以獲得 且將 ^ ^ 又付& ^時功率。每一個計管屮 之功率值係被傳送至平均模έ 5 ^ ^ M ± b 2 0。平均模組5 2 0係 汁异傳送至該電漿迴路3 2 〇之功t 、 々 〇 z u之功率之一個平均值。 第6圖係顯示-個透過一個阻抗匹配網路 至電源產生器11〇之電漿泝14n+e 一 υ &电水源1 4 〇之另一個實施例的電 性表示。於此實施例中,該電壓~係於該變壓器6丄◦之 該輸入端被測量出。一個具有隨比L: M之電流轉換器 6 2 0係測量流經變壓器6工〇之該—次繞組之電流 使用此結構,該電漿之電壓係被測量為h/N,且該電 漿之電流係被測量為Ip=ViT㈣謂/ (r*l)。 電流轉換器6 2 0係以與上文參照第3圖所敘述之電 流轉換器3 3 0相同之方式操作。然而,於此實施例中, 定位轉換器6 2 0以測量電流係較不複雜,因為其係不需 要定位該轉換器相鄰於該室。再者,於此實施例中,電壓 係於變壓器6 1 0之輸入端被測量。因此,係不需要額外 的二次繞組(例如,於第3圖中之繞組3 5 0 )。 熟習該項技術者將可以瞭解,於第3圖及第6圖所顯 示之實施例係可以被混合及匹配。舉例而言,該電壓測量 12 ^yj\j-rjL\j〇〇〇 係可以於變壓器6 1 〇之輸入 Μ^ 〇 〇 鵠只^,而電流測量係使用 轉換為3 3 0而實施。類似地,雷 哭0 Α _ 電測量係可以使用轉換 口口 6 2 〇貫施,而使用二次繞組 、、 〇 〇 Q測置電壓。 上述之機構係使真實的電漿 電机及電壓之準確測量能 夠被獲侍。因此,傳送至該電漿 被計算出。 ι之功率的準確測量係可以 雖然於閱讀上文之後,本發 钟羽^ 月之許多改變及修改對於 元、> 该項技術者而言無疑係變成 成·、、、員明的,應瞭解的是,於 此用於例示之任何顯示及敘述 .i κ特疋貫施例係不意欲被認 為限制之意圖。因此,參照許多 ^ ^ 夕耳知例之細節係不意欲限 制申請專利範圍之範疇,該此實 丄 > 一耳知例本身係僅敘述被認為 本發明之本質之特色。 因此,上文係已經敘述一個用 用於測1在一個變壓器耦 合電漿設備中之功率之機構。 【圖式簡單說明】 (一)圖式部分 由本發明之實施方式之詳細說明及由本發明之許多實 施例之後附圖<,將可更加瞭解本發明。然而,該些實施 例係不被認為用於限制本發明於該些特定實施例,而是僅 用於解釋及瞭解之用。 第1圖係顯示一個透過一個阻抗匹配網路耦合至一個 射頻電源產生器之電漿源之一個實施例; 第2圖係顯示耦合至一個射頻產生器之一個示範性電 13 200420888 漿源之電性表示; 第3圖係顯示一個透過一個阻抗匹配網路耦合至一個 射頻電源產生器之電漿源之一個實施例的電性表示; 第4圖係顯示一個電漿源室之一個實施例; 第5圖係顯示一個功率測量電路之一個實施例;及 第6圖係顯示一個透過一個阻抗匹配網路耦合至一個 射頻電源產生器之電漿源之另一個實施例的電性表示。 (二)元件代表符號 1 1 0 射頻電源產 生 器 1 1 5 直流部分 1 1 7 射頻輸出部 分 1 2 0 阻抗匹配網 路 1 4 0 變壓器耦合 電 漿源 3 0 0 一次繞組 3 1 0 變壓器 3 2 0 電漿迴路 3 3 0 電流轉換器 3 4 0 二次繞組 3 5 0 二次繞組 3 6 0 電纜束線 4 1 0 電漿室 5 0 0 功率測量電 路 5 1 0 乘法器 14 200420888 5 2 0 平均 模組 6 1 0 變壓 器 6 2 0 電流轉換器 RP 電漿 電阻器 Ip 電漿 電流
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Claims (1)
- 200420888 拾、申請專利範圍: 1 · 一種設備,其係包含·· 一個真空室; J個電變壓器,該電變壓器係耦合至該真空室,以感 應於β亥真二至内之一個電磁場,該變壓器係包含: 一個一次繞組; 一個電漿迴路,苴係於兮貪处〜 /、你於4真空至之内,其係實施 作為一個連接至該真空室之二次繞組丨及 個一人、、Α組,其係貫施成與該電漿迴路測量該_ 電壓;及 一個電流轉換器,其係用於測量通過該電漿迴路 之電流。 __ 2 .如申請專利範圍第1項之設備,其係進-步包含 個功率測置電路,其係用於接收由該電流轉換器而來之 時間決定的電流測量值及由該二次繞組而來之時間決定的 電壓測量值。 f ·如申請專利範圍第2項之設備,其中,該電衆迴· 及Λ人、兀組係具有相對於該一次繞組相同之匝數比。 4 ·如巾請專利範圍第3項之設備,其係進一步包含 一個電壓減少模组,1 、 /、係連接至該功率測量電路,以在該 電壓於該功率測吾齋 '電路處被接收之前減少於該二次繞組處 所測量之電壓一預定量。 5 ·如申請專利範圍第2項之設備,其中,該功率測 量電路係包含: 16 200420888 一個乘法器,其係用於將每一個時間決定的電流測量 值乘上每一個時間決定的電壓測量值,以獲得時間決定 的功率測量,·及 一個平均模組,其係用於平均該時間決定的功率測量 0 6 ·如申請專利範圍第1項之設備,其係進一步包含 一個電源,其係連接至該變壓器之一次繞組,以提供電力 給該電漿迴路。 7 ·如申請專利範圍第1項之設備,其係進一步包含 一個阻抗匹配電路,其係連接於該電源及該變壓器之該一 次繞組之間’以匹配該變壓器之阻抗範圍及交流電源之輸 出阻抗範圍。 8 ·如申請專利範圍第1項之設備,其中,該二次繞 組係藉由將一個單匝線捲繞於該電漿迴路之上而實施。 9 · 一種設備,其係包含: 一個電源; 一個阻抗匹配電路,其係連接至該電源; 一個電變壓器,該電變壓器係耦合至真空室,以感應 於5亥真空至内之一個電磁場,該變壓器係包含: 一個一次繞組,其係連接至該阻抗匹配電路; 一個電漿迴路,其係於該真空室之内,其係實施 作為一個連接至該真空室之二次繞組;及 一個二次繞組,其係實施成與該電漿迴路測量該 電壓;及 17 200420888 一個電流轉換器,其係連接於該阻抗匹配電路及 泫一次繞組之間,以測量通過該真空室電漿迴路之時 間決定的電流。 1 0 ·如申請專利範圍第9項之設備,其中,時間決 定的電壓值係於該阻抗匹配電路之輸出端被測量。 、 1 1 ·如申請專利範圍第i 0項之設備,其係進一步 包含一個功率測量電路,其❹於接收由該電流轉換器而 來之時間決定的電流測量值及由該阻抗匹配電路而來之時間決定的電壓測量值。 2如申睛專利範圍第工工項之設備,#中,該功 測量電路係包含 個點對點的電流測量值 ’以獲得點對點的功率 一個乘法器,其係用於將每一 乘上每一個時間決定的電壓測量值 測量;及 共係用於平均該點對點的 d •一種設備,其係包含: 一個真空室; 個電變壓器,該電變壓器係 應於該真空室内 主β真工至,以感 個電磁場,該變壓器係包含: 一個一次繞組; 作為:水^路’其係於該真空室之内,其係實施 為:個連,至該真空室之二次繞組;及 電壓;及人繞組’其係實施成與該電漿迴路測量該 18 200420888 一個電流轉換器,其係連接至該電變壓器之輸入 端,以測量至該電變壓器之電流。 1 4 ·如申請專利範圍第1 3項之設備,其係進一步 包含一個功率測量電路,其係用於接收由該電流轉換器而 來之時間決定的電流測量值及由該二次繞組而來之時間決 定的電壓測量值。 1 5 ·如申請專利範圍第1 4項之設備,其係進一步 包含一個電壓減少模組,其係連接至該功率測量電路,以 在該電壓於該功率測量電路處被接收之前減少於該二次繞 組處所測量之電壓一預定量。 1 6 ·如申請專利範圍第1 3項之設備,其係進一步 包含一個電源,其係連接至該電流轉換器及該變壓器之一 次繞組,以提供電力給該電漿迴路。 1 7 ·如申請專利範圍第1 6項之設備,其係進一步 包含一個阻抗匹配電路,其係連接於該電源、該電流轉換 器及該變壓器之該一次繞組之間,以匹配該變壓器之阻抗 範圍及交流電源之輸出阻抗範圍。 1 8 · —種設備,其係包含: 一個真空室; 一個電變壓器,該電變壓器係耦合至該真空室,以感 應於該真空室内之一個電磁場,該變壓器係包含: 一個一次繞組; 一個電漿迴路,其係於該真空室之内,其係實施 作為一個連接至該真空室之二次繞組;及 19 200420888 一個電流轉換器,其係連接至該電漿迴路,以測 量經過該電漿迴路之電流; 其中’電壓係於該電變壓器之輸入端測量出。 1 9 ·如申請專利範圍第1 8項之設備,其係進一步 包含〜個功率測量電路,其係用於接收由該電流轉換器而 來之時間決定的電流測量值及於該電變壓器之輸入端所測 量之時間決定的電壓測量值。 2 0 ·如申請專利範圍第1 9項之設備,其係進一步 包含〜個電壓減少模組,其係連接至該功率測量電路,以 在该電壓於該功率測量電路處被接收之前減少於該電變壓 裔之輪入端所測量之電壓一預定量。 2 1 ·如申請專利範圍第1 8項之設備,其係進一步 包合一個電源,其係連接至該變壓器之一次繞組,以提供 電力給該電漿迴路。 2 2 ·如申請專利範圍第2丄項之設備,其係進一步 包含一個阻抗匹配電路,其係連接於該電源及該變壓器之 。亥_人、、組之間,以匹配該變壓器之阻抗範圍及交流電源 之輸出阻抗範圍。 拾壹、圖式: 如次頁 20
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US7821250B2 (en) * | 2006-07-31 | 2010-10-26 | Inficon, Inc. | RF sensor clamp assembly |
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US7970562B2 (en) * | 2008-05-07 | 2011-06-28 | Advanced Energy Industries, Inc. | System, method, and apparatus for monitoring power |
US20100252047A1 (en) | 2009-04-03 | 2010-10-07 | Kirk Seth M | Remote fluorination of fibrous filter webs |
US11615941B2 (en) | 2009-05-01 | 2023-03-28 | Advanced Energy Industries, Inc. | System, method, and apparatus for controlling ion energy distribution in plasma processing systems |
US9767988B2 (en) | 2010-08-29 | 2017-09-19 | Advanced Energy Industries, Inc. | Method of controlling the switched mode ion energy distribution system |
US9287092B2 (en) * | 2009-05-01 | 2016-03-15 | Advanced Energy Industries, Inc. | Method and apparatus for controlling ion energy distribution |
US9435029B2 (en) | 2010-08-29 | 2016-09-06 | Advanced Energy Industries, Inc. | Wafer chucking system for advanced plasma ion energy processing systems |
US9287086B2 (en) | 2010-04-26 | 2016-03-15 | Advanced Energy Industries, Inc. | System, method and apparatus for controlling ion energy distribution |
US9309594B2 (en) | 2010-04-26 | 2016-04-12 | Advanced Energy Industries, Inc. | System, method and apparatus for controlling ion energy distribution of a projected plasma |
US9362089B2 (en) | 2010-08-29 | 2016-06-07 | Advanced Energy Industries, Inc. | Method of controlling the switched mode ion energy distribution system |
US8587321B2 (en) * | 2010-09-24 | 2013-11-19 | Applied Materials, Inc. | System and method for current-based plasma excursion detection |
US8624501B2 (en) | 2010-12-08 | 2014-01-07 | Mks Instruments, Inc. | Measuring and controlling parameters of a plasma generator |
US8723423B2 (en) | 2011-01-25 | 2014-05-13 | Advanced Energy Industries, Inc. | Electrostatic remote plasma source |
US8884525B2 (en) | 2011-03-22 | 2014-11-11 | Advanced Energy Industries, Inc. | Remote plasma source generating a disc-shaped plasma |
US10225919B2 (en) | 2011-06-30 | 2019-03-05 | Aes Global Holdings, Pte. Ltd | Projected plasma source |
US10388493B2 (en) * | 2011-09-16 | 2019-08-20 | Lam Research Corporation | Component of a substrate support assembly producing localized magnetic fields |
CN103137408B (zh) * | 2011-11-30 | 2015-07-29 | 中国科学院微电子研究所 | 具有精密功率检测器的射频电源 |
KR102025540B1 (ko) | 2012-08-28 | 2019-09-26 | 에이이에스 글로벌 홀딩스 피티이 리미티드 | 넓은 다이내믹 레인지 이온 에너지 바이어스 제어; 고속 이온 에너지 스위칭; 이온 에너지 제어와 펄스동작 바이어스 서플라이; 및 가상 전면 패널 |
US9685297B2 (en) | 2012-08-28 | 2017-06-20 | Advanced Energy Industries, Inc. | Systems and methods for monitoring faults, anomalies, and other characteristics of a switched mode ion energy distribution system |
US9210790B2 (en) | 2012-08-28 | 2015-12-08 | Advanced Energy Industries, Inc. | Systems and methods for calibrating a switched mode ion energy distribution system |
KR20140137172A (ko) * | 2013-05-22 | 2014-12-02 | 최대규 | 자기 관리 기능을 갖는 원격 플라즈마 시스템 및 이의 자기 관리 방법 |
WO2016149050A1 (en) | 2015-03-13 | 2016-09-22 | Advanced Energy Industries, Inc. | Plasma source device and methods |
IL272671B2 (en) * | 2017-08-16 | 2024-01-01 | Nova Plasma Ltd | Graft treatment using plasma |
TWI792598B (zh) | 2017-11-17 | 2023-02-11 | 新加坡商Aes 全球公司 | 用於在空間域和時間域上控制基板上的電漿處理之系統和方法,及相關的電腦可讀取媒體 |
WO2019099937A1 (en) | 2017-11-17 | 2019-05-23 | Advanced Energy Industries, Inc. | Improved application of modulating supplies in a plasma processing system |
EP3711080B1 (en) | 2017-11-17 | 2023-06-21 | AES Global Holdings, Pte. Ltd. | Synchronized pulsing of plasma processing source and substrate bias |
US10943770B2 (en) | 2019-03-04 | 2021-03-09 | Advanced Energy Industries, Inc. | Detection of damage in matching networks |
TW202109611A (zh) | 2019-07-12 | 2021-03-01 | 新加坡商Aes全球公司 | 具有單一控制開關之偏壓供應器 |
US11670487B1 (en) | 2022-01-26 | 2023-06-06 | Advanced Energy Industries, Inc. | Bias supply control and data processing |
US11942309B2 (en) | 2022-01-26 | 2024-03-26 | Advanced Energy Industries, Inc. | Bias supply with resonant switching |
US11978613B2 (en) | 2022-09-01 | 2024-05-07 | Advanced Energy Industries, Inc. | Transition control in a bias supply |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4431898A (en) * | 1981-09-01 | 1984-02-14 | The Perkin-Elmer Corporation | Inductively coupled discharge for plasma etching and resist stripping |
KR20020029743A (ko) * | 1999-08-06 | 2002-04-19 | 로버트 엠. 포터 | 가스와 재료를 처리하기 위한 유도결합 링-플라즈마소스장치 및 그의 방법 |
US6819096B2 (en) * | 2003-01-31 | 2004-11-16 | Advanced Energy Industries, Inc. | Power measurement mechanism for a transformer coupled plasma source |
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