JP2006510029A - Mems構造内でプルーフマスの運動を減速させる方法およびシステム - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (42)
- 微小電気機械システム(MEMS)デバイス(10)であって、
少なくとも1つのアンカを備える基板と、
プルーフマス(12)とを備え、前記プルーフマスは、プルーフマスから延びる少なくとも1つの減速伸張部(66)か、プルーフマス内に形成される少なくとも1つの減速くぼみ部(158)のいずれかを備え、
モータドライブコム(18)と、
モータセンスコム(20)と、
前記プルーフマスを、前記基板の上で、かつ、前記モータドライブコムおよび前記モータセンスコムの間に懸垂保持するように構成される複数のサスペンション(14)とを備え、前記サスペンションは前記基板に固定され、
前記基板に取り付けられた本体(60)と、
前記本体から延びる少なくとも1つの減速梁(64)とを備え、前記減速梁は、前記少なくとも1つの減速伸張部か、前記少なくとも1つの減速くぼみ部のいずれかに係合するように構成され、前記プルーフマスが、前記モータドライブコムおよび前記モータセンスコムに接触する前に、前記プルーフマスを減速または停止させるデバイス(10)。 - 前記サスペンション(14)の間に延びる少なくとも1つの横梁(16)をさらに備え、前記本体(60)は、前記横梁に接続され、前記基板に取り付けられる請求項1に記載のデバイス(10)。
- 前記本体(60)を前記横梁(16)に接続するのに利用される固定用伸張部(62)をさらに備える請求項2に記載のデバイス(10)。
- 前記サスペンション(14)の間に延びる少なくとも1つの横梁(122)と、
前記横梁および前記基板に取り付けられたアンカ(124)をさらに備え、前記本体は前記横梁に接続される請求項1に記載のデバイス(10)。 - 前記少なくとも1つの減速伸張部(100)は、
底面(106)と、
前記底面上の少なくとも1つの隆起領域(108)とを備え、前記隆起領域は、前記プルーフマス(102)と、前記プルーフマスの下の、デバイス(10)の部品との間の接触を減らすか、または、なくすように構成される請求項1に記載のデバイス(10)。 - 前記少なくとも1つの減速伸張部(100)は、
上面(114)と、
前記上面上の少なくとも1つの隆起領域(108)とを備え、前記隆起領域は、前記プルーフマス(102)と、前記プルーフマスの上の、デバイスの部品との間の接触を減らすか、または、なくすように構成される請求項1に記載のデバイス(10)。 - 前記プルーフマス(152)は、少なくとも1つの減速くぼみ部(158)を有するように構成され、前記プルーフマスは、
上面と、
底面と、
前記上面と前記底面のいずれか、または、その両方の上の少なくとも1つの隆起領域(108)とをさらに備え、前記隆起領域は、前記プルーフマスと、前記プルーフマスの上および下の、デバイスの部品との間の接触を減らすか、または、なくすように構成される請求項1に記載のデバイス(10)。 - 前記基板(110)は、前記減速伸張部(100)に係合するように構成された少なくとも1つの隆起領域(112)を備え、前記隆起領域は、前記プルーフマス(102)と、前記プルーフマスの下の、デバイスの部品との間の接触を減らすか、または、なくすように構成される請求項1に記載のデバイス(10)。
- 前記減速伸張部(66)および前記減速梁(64)は、係合時に曲がり、前記プルーフマス(12)のための減速機能を提供するように構成される請求項1に記載のデバイス(10)。
- 前記少なくとも1つの減速伸張部(66)および前記少なくとも1つの減速梁(64)は、細長い矩形構造である請求項1に記載のデバイス(10)。
- 前記少なくとも1つの減速くぼみ部(158)は、細長くかつ矩形である請求項1に記載のデバイス(10)。
- 複数の前記プルーフマス(12)を備える請求項1に記載のデバイス(10)。
- ジャイロスコープ、慣性測定ユニット、加速度計、圧力センサ、および温度センサのうちの少なくとも1つを備える請求項1に記載のデバイス(10)。
- 微小電気機械システム(MEMS)デバイス(10)用の減速停止部(50)であって、前記MEMSデバイスは基板(110)および少なくとも1つのプルーフマス(12)を備え、減速停止部(50)は、
プルーフマスから延びる少なくとも1つの減速伸張部(66)か、プルーフマス内に形成される少なくとも1つの減速くぼみ部(158)のいずれかと、
前記基板に固定された複数の減速梁(64)とを備え、前記減速梁は、前記プルーフマスの方に延び、前記減速伸張部と前記減速くぼみ部は、前記減速梁のうちの少なくとも1つに係合するように構成され、前記MEMSデバイスの部品を前記プルーフマスに隣接して接触させる前に、前記プルーフマスを減速または停止させる減速停止部(50)。 - 前記基板(110)に固定された本体(60)をさらに備え、前記減速梁(64)は前記本体から前記プルーフマス(12)の方に延びる請求項14に記載の減速停止部(50)。
- 前記本体(60)を前記MEMSデバイス(10)の横梁(16)に接続するのに利用される固定用伸張部(62)をさらに備える請求項15に記載の減速停止部(50)。
- 前記減衰伸張部(66)は、
上面(114)と、
底面(106)と、
前記底面と前記上面の少なくとも一方の上の少なくとも1つの隆起領域(108)とを備え、前記領域は、前記プルーフマス(12)と、前記プルーフマスの上および下の、前記MEMSデバイス(10)の部品との間の接触を減らすか、または、なくすように構成される請求項14に記載の減速停止部(50)。 - 前記プルーフマス(12)は、
上面と、
底面と、
前記底面と前記上面の少なくとも一方の上の少なくとも1つの隆起領域(108)とを備え、前記領域は、前記プルーフマスと、前記プルーフマスの上および下の、前記MEMSデバイス(10)の部品との間の接触を減らすか、または、なくすように構成される請求項14に記載の減速停止部(50)。 - 前記減速伸張部(66)および前記減速梁(64)は、係合時に曲がるように構成され、前記プルーフマス(12)に減速機能を提供する請求項14に記載の減速停止部(50)。
- 前記減速伸張部(66)および前記減速梁(64)は、細長い矩形構造である請求項14に記載の減速停止部(50)。
- 前記減速くぼみ部(158)は、細長くかつ矩形である請求項14に記載の減速停止部(50)。
- 基板(110)と、
前記基板に固定された少なくとも1つの横梁(16)と、
少なくとも1つのプルーフマス(12)とを備え、それぞれの前記プルーフマスは、少なくとも1つの減速伸張部(66)か、少なくとも1つの減速くぼみ部(158)のうちのいずれかを備え、
前記横梁のうちのそれぞれの1つに接続されており、前記基板の上で前記プルーフマスを懸垂保持するように構成された複数のサスペンション(14)と、
それぞれの前記プルーフマスに隣接するモータドライブコム(18)と、
それぞれの前記プルーフマスに隣接するモータセンスコム(20)と、
それぞれの前記横梁に取り付けられた少なくとも1つの本体(60)と、
前記本体から延びる複数の減速梁(64)とを備え、前記減速伸張部と前記減速くぼみ部は、前記減速梁のうちの少なくとも1つに係合するように構成され、前記モータドライブコムと前記モータセンスコムを接触させる前に、前記プルーフマスを減速または停止させるジャイロスコープ。 - 前記本体(60)は、前記基板(110)に固定される請求項22に記載のジャイロスコープ。
- 前記本体(60)を前記横梁(16)に接続するのに利用される固定用伸張部(62)をさらに備える請求項22に記載のジャイロスコープ。
- 前記減速伸張部(100)は、
上面(114)と、
底面(106)と、
前記底面と前記上面の少なくとも一方の上の少なくとも1つの隆起領域(108)とを備え、前記隆起領域は、前記プルーフマス(12)と、前記プルーフマスの上および下の、前記ジャイロスコープの部品との間の接触を減らすか、または、なくすように構成される請求項22に記載のジャイロスコープ。 - 前記プルーフマス(12)は、
上面と、
底面と、
前記底面と前記上面の少なくとも一方の上の少なくとも1つの隆起領域(108)とを備え、前記隆起領域は、前記プルーフマス(12)と、前記プルーフマスの上および下の、ジャイロスコープの部品との間の接触を減らすか、または、なくすように構成される請求項22に記載のジャイロスコープ。 - 前記減速伸張部(66)および前記減速梁(64)は、係合時に曲がるように構成され、前記プルーフマス(12)に減速を提供する請求項22に記載のジャイロスコープ。
- 前記減速伸張部(66)および前記減速梁(64)は、細長い矩形構造である請求項22に記載のジャイロスコープ。
- 前記減速くぼみ部(158)は、細長くかつ矩形である請求項22に記載のジャイロスコープ。
- 微小電気機械システム(MEMS)デバイス(10)における、プルーフマス(12)と隣接部品の間での衝撃および衝撃速度を低減する方法であって、
前記プルーフマスから延びる少なくとも1つの減速伸張部(66)を有すように前記プルーフマスを構成するステップと、
前記プルーフマスの方に延びる複数の減速梁(64)を設けるステップとを含み、前記減速伸張部は、前記減速梁のうちの少なくとも1つに係合するように構成され、前記MEMSデバイスの任意の部品を前記プルーフマスに隣接して接触させる前に、前記プルーフマスを減速または停止させ、
前記減速梁用のアンカを設けるステップを含む方法。 - 少なくとも1つの隆起領域(108)を有するように、減速伸張部(100)の上面(114)および底面(106)のうちの少なくとも一方を構成するステップをさらに含み、前記隆起領域は、前記プルーフマス(102)と、前記プルーフマスの上または下にある、前記MEMSデバイス(10)の部品との間の接触を減らすか、または、なくすように構成される請求項30に記載の方法。
- 微小電気機械システム(MEMS)デバイス(10)における、プルーフマス(152)と隣接部品の間での衝撃および衝撃速度を低減する方法であって、
前記プルーフマス内に形成された少なくとも1つの減速くぼみ部(158)を有するように前記プルーフマスを構成するステップと、
前記プルーフマスの方に延びる複数の減速梁(154)を設けるステップとを含み、前記減速梁は、前記減速くぼみ部のうちの少なくとも1つに係合するように構成され、前記MEMSデバイスの任意の部品を前記プルーフマスに隣接して接触させる前に、前記プルーフマスを減速または停止させ、
前記減速梁用のアンカを設けるステップを含む方法。 - 少なくとも1つの隆起領域(108)を有するように、前記プルーフマス(152)の上面および底面の少なくとも一方を構成するステップをさらに含み、前記隆起領域は、前記プルーフマスと、前記プルーフマスの上または下にある、MEMSデバイス(10)の部品との間の接触を減らすか、または、なくすように構成される請求項32に記載の方法。
- 微小電気機械システム(MEMS)デバイス(10)における、プルーフマス(12)と隣接部品の間での衝撃および衝撃速度を低減する方法であって、前記プルーフマスは、複数のサスペンション(14)によって基板(110)の上に懸垂保持され、方法は、
前記基板の上に、前記サスペンション用のアンカを設けるステップと、
プルーフマスの方へ延びる本体(60)を形成するステップと、
前記本体を固定するステップと、
前記プルーフマスの方へ延びた複数の減速梁(64)を有するように前記本体を構成するステップと、
前記プルーフマスから延びる少なくとも1つの減速伸張部(66)か、前記プルーフマス内に形成される少なくとも1つの減速くぼみ部(158)のいずれかを有するように前記プルーフマスを構成するステップとを含み、前記減速伸張部と前記減速くぼみ部は、前記減速梁のうちの少なくとも1つに係合するように構成され、前記MEMSデバイスの任意の部品を前記プルーフマスに隣接して接触させる前に、前記プルーフマスを減速または停止させる方法。 - 少なくとも1つの隆起領域(108)を有するように、前記減速伸張部(66)の上面(114)および底面(106)の少なくとも一方を構成するステップをさらに含み、前記隆起領域は、前記プルーフマス(12)と、前記プルーフマスの上または下にある、MEMSデバイス(10)の部品との間の接触を減らすか、または、なくすように構成される請求項34に記載の方法。
- 少なくとも1つの隆起領域(108)を有するように、前記プルーフマス(12)の上面および底面の少なくとも一方を構成するステップをさらに含み、前記隆起領域は、前記プルーフマスと、前記プルーフマスの上または下にある、MEMSデバイス(10)の部品との間の接触を減らすか、または、なくすように構成される請求項34に記載の方法。
- 前記減速伸張部(100)または前記プルーフマス(102)の底面(106)に係合するように構成された少なくとも1つの隆起領域(112)を有するように、前記基板(110)を構成するステップをさらに含み、前記隆起領域と前記底面との係合が、前記プルーフマスと、前記プルーフマスの下にある、MEMSデバイスの部品との間の接触を減らすか、または、なくす請求項34に記載の方法。
- 前記本体(60)を固定することは、前記本体を前記基板(110)に直接固定することを含み、前記本体は、前記サスペンション(14)用の前記アンカも提供する請求項34に記載の方法。
- 前記サスペンション(14)用のアンカを設けることは、
サスペンションの間に横梁(16)を設けるステップと、
前記横梁を前記基板(110)に固定するステップとを含む請求項34に記載の方法。 - 前記本体(60)を固定することは、前記本体を前記横梁(16)に取り付けることを含む請求項39に記載の方法。
- 前記横梁(16)を前記基板(110)に固定することは、前記本体(60)と前記横梁の間で固定用伸張部(62)を接続することを含む請求項40に記載の方法。
- 微小電気機械システム(MEMS)デバイス用の減速停止部(50)であって、前記MEMSデバイス(10)は、基板(110)、前記基板の上に懸垂保持された少なくとも1つのプルーフマス(12)、および前記基板に取り付けられた本体(60)を備え、減速停止部は、
前記プルーフマスから延びる少なくとも1つの減速伸張部(66)と、
前記本体(60)内に形成される少なくとも1つの減速くぼみ部とを備え、前記少なくとも1つの減速伸張部は、前記少なくとも1つの減速くぼみ部に係合するように構成され、前記MEMSデバイスの部品を前記プルーフマスに隣接して接触させる前に、前記プルーフマスを減速または停止させる減速停止部(50)。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010008419A (ja) * | 2008-06-26 | 2010-01-14 | Honeywell Internatl Inc | Mems構造内の多段式のプルーフマス運動の減速 |
Families Citing this family (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7194903B2 (en) * | 2004-12-14 | 2007-03-27 | Honeywell International Inc. | Suspension mechanism for high performance accelerometers |
JP2006214743A (ja) * | 2005-02-01 | 2006-08-17 | Matsushita Electric Works Ltd | 半導体加速度センサ |
JP4919750B2 (ja) * | 2006-09-27 | 2012-04-18 | 富士通株式会社 | マイクロ構造体製造方法およびマイクロ構造体 |
US8187902B2 (en) * | 2008-07-09 | 2012-05-29 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | High performance sensors and methods for forming the same |
DE102009001244A1 (de) * | 2009-02-27 | 2010-09-02 | Sensordynamics Ag | Mikro-Gyroskop zur Ermittlung von Rotationsbewegungen um eine x-, y- oder z-Achse |
US9068834B2 (en) * | 2009-09-09 | 2015-06-30 | Continental Teves Ag & Co. Ohg | Double-axial, shock-resistant rotation rate sensor with nested, linearly oscillating seismic elements |
US9493344B2 (en) | 2010-11-23 | 2016-11-15 | Honeywell International Inc. | MEMS vertical comb structure with linear drive/pickoff |
US8776601B2 (en) | 2010-11-23 | 2014-07-15 | Honeywell International Inc. | MEMS sensor using multi-layer movable combs |
US8748206B2 (en) | 2010-11-23 | 2014-06-10 | Honeywell International Inc. | Systems and methods for a four-layer chip-scale MEMS device |
US9171964B2 (en) | 2010-11-23 | 2015-10-27 | Honeywell International Inc. | Systems and methods for a three-layer chip-scale MEMS device |
US9091539B2 (en) | 2011-06-10 | 2015-07-28 | Honeywell International Inc. | Gyroscope dynamic motor amplitude compensation for enhanced rate estimation during startup |
DE102011085023B4 (de) | 2011-10-21 | 2020-07-09 | Robert Bosch Gmbh | Bauelement und Verfahren zum Betrieb eines Bauelements |
KR102126069B1 (ko) * | 2012-06-13 | 2020-06-23 | 퍼듀 리서치 파운데이션 | 마이크로전기기계 시스템 및 이의 사용 방법들 |
CN102701137B (zh) * | 2012-06-19 | 2015-06-17 | 中国电子科技集团公司第十三研究所 | 具有三维止档结构的抗过载mems器件及其加工方法 |
US20140260613A1 (en) * | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Invensense, Inc. | Elastic bump stops for mems devices |
CN103292798A (zh) * | 2013-05-22 | 2013-09-11 | 同济大学 | 一种抗高强度冲击的音叉式微机械陀螺 |
JP6206651B2 (ja) * | 2013-07-17 | 2017-10-04 | セイコーエプソン株式会社 | 機能素子、電子機器、および移動体 |
US9476712B2 (en) | 2013-07-31 | 2016-10-25 | Honeywell International Inc. | MEMS device mechanism enhancement for robust operation through severe shock and acceleration |
JP2015123526A (ja) * | 2013-12-26 | 2015-07-06 | ソニー株式会社 | 機能素子、加速度センサおよびスイッチ |
JP6448448B2 (ja) * | 2015-04-10 | 2019-01-09 | 株式会社東芝 | ジャイロセンサの角速度の取得方法及び取得装置 |
JP6562878B2 (ja) * | 2016-06-30 | 2019-08-21 | 株式会社東芝 | 角速度取得装置 |
US20180180419A1 (en) * | 2016-10-05 | 2018-06-28 | Freescale Semiconductor, Inc. | Inertial sensor with motion limit structure |
US10247753B2 (en) | 2017-02-14 | 2019-04-02 | Nxp Usa, Inc. | MEMS device with off-axis shock protection |
US10753744B2 (en) * | 2017-03-15 | 2020-08-25 | Honeywell International Inc. | MEMS out of plane actuator |
US10767992B2 (en) * | 2017-03-24 | 2020-09-08 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Gyro sensor system |
CN107607100B (zh) * | 2017-10-19 | 2019-09-27 | 北方电子研究院安徽有限公司 | 一种硅微机械角振动陀螺抗冲击弹性止挡结构 |
US10502759B2 (en) | 2017-10-24 | 2019-12-10 | Nxp Usa, Inc. | MEMS device with two-stage motion limit structure |
IT201900024475A1 (it) * | 2019-12-18 | 2021-06-18 | St Microelectronics Srl | Dispositivo micromeccanico con gruppo elastico a costante elastica variabile |
DE102020203590A1 (de) | 2020-03-20 | 2021-09-23 | Robert Bosch Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Mikromechanisches Bauelement, insbesondere Beschleunigungsensor oder Drehratensensor, mit einer Anschlagsanordnung umfassend eine Biegefederanordnung |
DE102020212998A1 (de) | 2020-10-15 | 2022-04-21 | Robert Bosch Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Mikromechanischer z-Inertialsensor |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05340955A (ja) * | 1992-06-12 | 1993-12-24 | Murata Mfg Co Ltd | 加速度センサ |
JPH0933557A (ja) * | 1995-07-22 | 1997-02-07 | Robert Bosch Gmbh | 回転率センサ |
JPH10267658A (ja) * | 1997-03-24 | 1998-10-09 | Nissan Motor Co Ltd | 振動型角速度センサ |
JP2000338124A (ja) * | 1999-05-26 | 2000-12-08 | Matsushita Electric Works Ltd | 半導体加速度センサ |
US6214243B1 (en) * | 1995-10-20 | 2001-04-10 | Robert Bosch Gmbh | Process for producing a speed of rotation coriolis sensor |
JP2001133268A (ja) * | 1999-11-05 | 2001-05-18 | Denso Corp | 角速度センサ |
WO2002082096A2 (de) * | 2001-04-05 | 2002-10-17 | Robert Bosch Gmbh | Sensor |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0679033B2 (ja) * | 1987-12-21 | 1994-10-05 | 日産自動車株式会社 | 半導体加速度センサ |
US5111693A (en) | 1988-01-13 | 1992-05-12 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Motion restraints for micromechanical devices |
US4882933A (en) | 1988-06-03 | 1989-11-28 | Novasensor | Accelerometer with integral bidirectional shock protection and controllable viscous damping |
US5025346A (en) | 1989-02-17 | 1991-06-18 | Regents Of The University Of California | Laterally driven resonant microstructures |
US5205171A (en) | 1991-01-11 | 1993-04-27 | Northrop Corporation | Miniature silicon accelerometer and method |
US5349855A (en) | 1992-04-07 | 1994-09-27 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Comb drive micromechanical tuning fork gyro |
US5458000A (en) | 1993-07-20 | 1995-10-17 | Honeywell Inc. | Static pressure compensation of resonant integrated microbeam sensors |
US5646348A (en) | 1994-08-29 | 1997-07-08 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Micromechanical sensor with a guard band electrode and fabrication technique therefor |
US5581035A (en) | 1994-08-29 | 1996-12-03 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Micromechanical sensor with a guard band electrode |
US5817942A (en) * | 1996-02-28 | 1998-10-06 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Capacitive in-plane accelerometer |
US5892153A (en) | 1996-11-21 | 1999-04-06 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Guard bands which control out-of-plane sensitivities in tuning fork gyroscopes and other sensors |
US5952574A (en) | 1997-04-29 | 1999-09-14 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Trenches to reduce charging effects and to control out-of-plane sensitivities in tuning fork gyroscopes and other sensors |
FR2763694B1 (fr) | 1997-05-23 | 1999-07-30 | Sextant Avionique | Micro-accelerometre a resonateur capacitif |
US6718605B2 (en) | 1997-09-08 | 2004-04-13 | The Regents Of The University Of Michigan | Single-side microelectromechanical capacitive accelerometer and method of making same |
US6040625A (en) | 1997-09-25 | 2000-03-21 | I/O Sensors, Inc. | Sensor package arrangement |
IL122947A (en) | 1998-01-15 | 2001-03-19 | Armament Dev Authority State O | Micro-electro-opto-mechanical inertial sensor with integrative optical sensing |
WO2000068640A2 (en) | 1999-04-21 | 2000-11-16 | The Regents Of The University Of California | Micro-machined angle-measuring gyroscope |
US6257059B1 (en) | 1999-09-24 | 2001-07-10 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Microfabricated tuning fork gyroscope and associated three-axis inertial measurement system to sense out-of-plane rotation |
US6230566B1 (en) | 1999-10-01 | 2001-05-15 | The Regents Of The University Of California | Micromachined low frequency rocking accelerometer with capacitive pickoff |
EP2136215A3 (en) | 2000-06-21 | 2014-01-01 | ION Geophysical Corporation | Accelerometer with folded beams |
US20020066317A1 (en) | 2000-12-06 | 2002-06-06 | Gang Lin | Micro yaw rate sensors |
SG103276A1 (en) | 2001-01-03 | 2004-04-29 | Inst Materials Research & Eng | Vibratory in-plane tunnelling gyroscope |
US6426538B1 (en) | 2001-01-16 | 2002-07-30 | Honeywell International Inc. | Suspended micromachined structure |
US6619123B2 (en) | 2001-06-04 | 2003-09-16 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Micromachined shock sensor |
-
2002
- 2002-12-16 US US10/320,850 patent/US6865944B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-12-15 KR KR1020057011167A patent/KR20050086918A/ko not_active Application Discontinuation
- 2003-12-15 JP JP2004563737A patent/JP5117665B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2003-12-15 WO PCT/US2003/040317 patent/WO2004059250A2/en active Application Filing
- 2003-12-15 EP EP03814151.1A patent/EP1573272B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-15 AU AU2003301040A patent/AU2003301040A1/en not_active Abandoned
- 2003-12-15 CN CNB2003801097659A patent/CN100520299C/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05340955A (ja) * | 1992-06-12 | 1993-12-24 | Murata Mfg Co Ltd | 加速度センサ |
JPH0933557A (ja) * | 1995-07-22 | 1997-02-07 | Robert Bosch Gmbh | 回転率センサ |
US5721377A (en) * | 1995-07-22 | 1998-02-24 | Robert Bosch Gmbh | Angular velocity sensor with built-in limit stops |
US6214243B1 (en) * | 1995-10-20 | 2001-04-10 | Robert Bosch Gmbh | Process for producing a speed of rotation coriolis sensor |
JPH10267658A (ja) * | 1997-03-24 | 1998-10-09 | Nissan Motor Co Ltd | 振動型角速度センサ |
JP2000338124A (ja) * | 1999-05-26 | 2000-12-08 | Matsushita Electric Works Ltd | 半導体加速度センサ |
JP2001133268A (ja) * | 1999-11-05 | 2001-05-18 | Denso Corp | 角速度センサ |
WO2002082096A2 (de) * | 2001-04-05 | 2002-10-17 | Robert Bosch Gmbh | Sensor |
JP2004531714A (ja) * | 2001-04-05 | 2004-10-14 | ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | センサ |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010008419A (ja) * | 2008-06-26 | 2010-01-14 | Honeywell Internatl Inc | Mems構造内の多段式のプルーフマス運動の減速 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AU2003301040A1 (en) | 2004-07-22 |
EP1573272A2 (en) | 2005-09-14 |
CN100520299C (zh) | 2009-07-29 |
CN1748121A (zh) | 2006-03-15 |
EP1573272B1 (en) | 2018-07-11 |
US20040112133A1 (en) | 2004-06-17 |
KR20050086918A (ko) | 2005-08-30 |
US6865944B2 (en) | 2005-03-15 |
JP5117665B2 (ja) | 2013-01-16 |
WO2004059250A3 (en) | 2004-08-19 |
WO2004059250A2 (en) | 2004-07-15 |
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