JP2006508082A - 2,5−二置換3−アルキルチオフェンの調製方法 - Google Patents
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Abstract
本発明は2,5−二置換3−アルキルチオフェンの調製方法に関し、より詳細には、2−置換3−アルキルチオフェンの5位へのアシル化反応工程を有する、それらの化合物の調製方法に関する。この方法は、取扱いが困難な試薬を必要とせず、無水条件や不活性雰囲気も必要としない。最終生成物は、高い純度で得られる。
Description
本発明は2,5−二置換3−アルキルチオフェンの新規な調製方法に関し、より詳細には、2−置換3−アルキルチオフェンの5位へのアシル化反応工程を有する、それらの化合物の調製方法に関する。
次の一般式の、2,5−二置換3−アルキルチオフェン
例えば、米国特許第6121271号および同第6103708号ならびに国際特許出願WO99/61435およびWO99/58522において、インスリン抵抗性あるいは高血糖に関連する代謝異常の治療用の医薬品の調製における中間体として、化合物(Ia)が使用されている。
前記の公報には、化合物(Ia)の2種類の異なる調製方法についても記述されている。
より詳細には、国際特許出願WO99/61435においては、下記の手順に従う化合物(Ia)の合成法が説明されている。
前記から明らかなように、この合成法は、3−メチルチオフェン−2−カルボキサルデヒドを還元し、2,3−ジメチルチオフェンを得る工程(段階a)、その5位への官能基化(段階b)、次いでアルコール中間体を還元し目的化合物(Ia)を得る工程(段階c)を含む。
しかしこの方法は、可燃性試薬であることがよく知られており、不活性雰囲気下、無水媒体中、低温(−78℃)で反応を行う必要があるn−BuLiを使用するため、産業上利用することが困難である。
看過できない他の難点として、ベンズアルデヒドとの縮合(段階b)において起こりうる副反応を最小限に抑え、それによって良好な全収率(この場合67%程度)で、かつ次の合成に直接使用するために十分な純度の目的生成(Ia)を得るために、高純度の中間体2,3−ジメチルチオフェンの使用を必要とする点が挙げられる。しかし、前記工程の出発物質(すなわち3−メチルチオフェン−2−カルボキサルデヒド)の市販品は純度が比較的低く(通常約90%)、それを還元して得られる低純度の2,3−ジメチルチオフェンは、精製しないままで次の工程に使用することはできず、常に精製を必要とする。特に、油状物であるためクロマトグラフィーにより精製を行うことになるが、産業上の観点からはあまり実用的な方法でないのは明らかである。
同様に、最終化合物(Ia)は高沸点の液体であるため、単離が困難であり、したがって、クロマトグラフィーや蒸留による場合と同レベルの精製を他の精製方法により工業スケールで実現することはかなり困難であろう。
米国特許第6121271号および米国特許第6103708号ならびに国際特許出願WO99/58522に記述された、化合物(Ia)を調製する第2の方法は、次のスキームにより表される。
この場合にも、工業的に利用することが困難なn−BuLiを使用することおよび、中間体である2,3−ジメチルチオフェンおよび最終生成物(Ia)は共に室温で液体であるため、これらの精製のために2段階連続してクロマトグラフィーを使用することという、上述の場合と同様な難点が存在する。
我々は今回、2,5−二置換3−アルキルチオフェン、特に2,3−ジメチル−5−ベンジルチオフェンの新規な調製方法を見いだしたが、この方法は取り扱いが比較的困難なn−BuLi等の試薬を使用せず、無水条件や不活性雰囲気も必要とせず、さらに精製段階をかなり簡略化できるため、産業上の観点からは極めて有利である。とりわけ、この方法によると、市販の工業用グレードの出発物質を直接使用でき、最終生成物(I)を、知られた調製方法と同程度の収率で、しかし、中間体および最終生成物の両者を、クロマトグラフィー法および蒸留法を両方とも用いずに高い純度で得ることが可能になる。これらの最終生成物が、さらに精製することなく直接次の工程に使用することが可能な純度を通常有していることがその理由である。
したがって、本発明の1つの主題は、次式の2,5−二置換3−アルキルチオフェン
Aは、CH3基、R2CH2基、HOCH2基またはR2CH(OH)−基を表し、
Bは、CHOHまたはCH2基を表し、
R1は、HまたはC1〜C5アルキル基を表し、
R2は、C1〜C5アルキル基を表し、
R3は、HまたはC1〜C5アルキル基またはC1〜C5のハロアルキル基(好ましくはCF3基)またはフッ素、塩素、臭素から選択されるハロゲン原子を表す)
の調製方法であって、
(a)次式の化合物
−OCOOR4 (VI)
(式中、
R4は、C1〜C5アルキル基、場合によっては置換ベンジル基、または場合によっては置換アリール基を表し、
R3は、上記の意味を有する)
を表す)
とを反応させ、
次式の化合物
A、R1、R2およびR3は、上記の意味を有する)
を得る工程と、
(b)前記工程で得られた式(IV)の化合物を還元し、式(I)の化合物を得る工程とを含む、
2,5−二置換3−アルキルチオフェンの調製方法である。
本発明の主題である方法は、式IIの化合物のアシル化反応工程(a)と、引き続き、式IVのアシル中間体を還元し目的化合物Iを得る工程(b)とを有する。
通常、式IIの出発化合物は市販されており、あるいは当業者によって知られている方法により調製することができる。例えば、好ましい化合物IIb(R1=A=CH3)を出発化合物として使用したい場合には、上述の従来技術に従い、市販の化合物IIa(R1=CH3、A=CHO)をヒドラジンおよび水酸化カリウムにより還元することにより調製することができる。先に開示したとおり、本方法の特筆すべき利点は、市販の化合物IIa(純度約90%)を、IIbを生成する還元反応あるいは化合物IVa(R1=CH3、A=CHO、R3=H)を生成するアシル化反応(a)に直接使用することができる点である。
工程(a)に記載のアシル化反応は、通常Friedel−Craftsアシル化の標準的な条件下で行われる。
式IIIのアシル化化合物は、カルボン酸(X=OH)、酸ハロゲン化物(X=ハロゲン原子)、好ましくは塩化物(X=Cl)、対称無水物(X=V)または混合無水物(X=VI)であってもよい。
好ましい混合無水物は、R4がメチル基、エチル基、i−ブチル基またはベンジル基を表すものであり、より好ましくは、メチル基またはエチル基で表されるものである。
アシルハロゲン化物は好ましいアシル化剤であり、塩化ベンゾイル(IIIa、X=Cl、R3=H)がさらに好ましい。
この反応に使用することのできる触媒は、通常Lewis酸であり、例えばAlCl3、SbF5、FeCl3、TiCl4またはBF3、好ましくはAlCl3である。
適当な溶媒は、この種の反応について当業者により通常使用される溶媒、すなわち塩化メチレン、クロロホルムもしくはトリクロロエタン等の塩素系溶媒またはニトロベンゼン等の不活性化芳香族溶媒で、好ましくは塩化メチレンである。
アシル化反応(a)において、化合物III/Lewis酸/化合物IIのモル比は、通常0.9〜1.5/0.9〜1.5/1の範囲内であり、好ましくは使用した化合物IIの単位当たり約1/1/1である。
本方法の第2段階(段階b)は、式Iの目的生成物を生成する、式IVの中間体の還元工程を含む。
中間体IVおよび最終化合物Iの構造に応じて、この還元は、1段階の還元処理(b)により行うこともできるし、好ましくは、第1の還元反応(b1)の後に、場合によって第2の還元反応(b2)を伴う還元反応により行うこともできる。
式Iの、完全に還元された化合物を直接得たい場合には、式Iの化合物(式中A=CH3またはR2CH2、B=CH2)を生成する、式IVの化合物に対する1段階の還元処理を行うことができる。
この場合において、還元反応は、C=O基をCH2基に還元する際の標準的な条件下で行うことができる。例えば、強酸(トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸または硫酸等)の存在下で水素化ホウ素化合物を使用する(好ましくは、トリフルオロ酢酸の存在下で水素化ホウ素ナトリウムまたはシアノ水素化ホウ素ナトリウムを使用する)反応またはトリフルオロ酢酸の存在下でヨウ化亜鉛もしくは塩化トリメチルシリルもしくはトリアルキルシランを使用する反応である。
あるいは、この方法は、次式の化合物
を生成する第1の還元反応(b1)および、
場合によっては、その後、上で定義した式Iのヒドロキシル化された中間体から、次式の最終化合物
第1の段階(b1)は、C=O基をCHOH基に還元するのに適当な条件を利用して行うことができる。例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム等の金属水素化物またはボランによる処理(好ましくはアルカリ性媒体中での水素化ホウ素ナトリウムによる処理)、あるいはアルミニウムイソプロポキシドによる処理(Meerwein−Ponndorf−Verley反応)である。
上で定義した式Iの、ヒドロキシル化された中間体の誘導体は、好ましくは化合物Ib(R1=CH3、A=CH2OH、B=CHOH、R3=H)またはIc(R1=A=CH3、B=CHOH、R3=H)であり、直接、あるいは、好ましくは精製後に、次の還元段階(b2)に用いることができる。
前記ヒドロキシル化された中間体は、通常結晶性の固体であるため、この精製は結晶化により行うのが有利である。
適当な結晶化溶媒は、通常、エーテル(例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテルもしくはメチルtert−ブチルエーテル)、芳香族炭化水素(例えば、トルエンもしくはキシレン)、脂肪族炭化水素(例えば、ヘキサン、ヘプタンもしくはシクロヘキサン)等の非極性溶媒またはこれらの混合溶媒である。
ここまで述べたような、第1の還元(CO→CHOH、b1)、ヒドロキシル化された中間体の結晶化およびそれに続く完全な還元(CHOH→CH2、b2)を含む、本方法の好ましい変形例での実施により、産業上の見地からは難点であるクロマトグラフィーによる精製や蒸留を行う必要なく、本発明の全合成手順について全ての反応を行うことができる。
式Iのヒドロキシル化された化合物(好ましくは上述した化合物IbおよびIc)であって、好ましくは精製したものを、CHOH基のCH2基への還元(b2)(例えば、強酸(例えば、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸もしくは硫酸)の存在下での水素化ホウ素化合物による処理(好ましくは、水素化ホウ素ナトリウムまたはシアノ水素化ホウ素ナトリウムおよびトリフルオロ酢酸による処理)またはヨウ化亜鉛による処理または驚くべきことに、接触水素化)により、対応する式Iの完全に還元された化合物(好ましくは化合物Ia)へ変換することができる。
後者の反応は、ヒドロキシル化された化合物Iを、アルコール(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノールで、好ましくはメタノール)や水とアルコールの混合物等の適当な溶媒に溶解し、約1〜10バールの水素圧、約15〜60℃の温度で、パラジウムおよび白金(好ましくは、炭素、アルミナ、シリカあるいはゼオライト等の不活性担体(好ましくは炭素)に担持されたパラジウム)から選択される水素化触媒の存在下、中性または酸性の媒体中で処理させることにより、本方法で調製されるチオフェン誘導体のような、硫黄原子を含む化合物において予想される触媒の被毒を通常起こすことなく容易に行うことができる。
本発明の主題である方法をさらに明確に示すために、一般的なスキームを以下に示す。
このスキームには、本発明に従う方法の範囲内である、還元段階(b、b1、b2)についての可能な変形例を示している。最適な手順およびもっとも有利な還元条件の選択は、当業者の通常有する能力に含まれる。
本発明の1つの好ましい実施形態は、以下のスキームに従う2,3ジ−メチル−5−ベンジルチオフェン(Ia)の調製により示される。
特に、生成物IIbは、市販の低品質の化合物IIaから、ヒドラジンおよび水酸化ナトリウムによる還元により、例えば、国際特許出願WO99/61435に記載されているように調製し、単離精製することなく次の工程に使用することができる。
具体的には、好ましくは塩化ベンゾイルおよびAlCl3により行われる化合物IIbのアシル化反応(a)を、化合物IIaの還元における、有機溶媒による抽出の際の溶液(好ましくは塩化メチレン)を直接使用して行うことができる。
こうして得られた化合物IVbを完全に還元(b)すると、例えば、水素化ホウ素ナトリウムおよびトリフルオロ酢酸による反応または、好ましくは、ヒドロキシル化された中間体Icを生成する連続する2段階の還元反応(b1およびb2)により、化合物Iaが得られる。後者の方法の変形例の方が、中間体Icを結晶化により精製することができる点で特に好ましい。
より詳細には、第1の還元反応(b1)は、好ましくは水素化ホウ素ナトリウムおよび水酸化ナトリウムを用いて行うことができ、第2の還元は、水素化ホウ素ナトリウムおよびトリフルオロ酢酸を用いて、または接触水素化(好ましくは水素化ホウ素ナトリウムおよびトリフルオロ酢酸を用いて)により行うことができる。通常、中間体Icは、エーテル(例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテルもしくはメチルtert−ブチルエーテル)、芳香族炭化水素(例えば、トルエンもしくはキシレン)、脂肪族炭化水素(例えば、ヘキサン、ヘプタンもしくはシクロヘキサン)等の非極性溶媒またはこれらの混合溶媒(好ましくはn−ヘプタン)から結晶化される。
スキーム4に示した好ましい方法、特に、連続する2段階の還元反応b1およびb2およびヒドロキシル化された中間体Icの結晶化を含む好ましい変形例により、化合物Iaを上述の知られた方法と同程度の全収率で、しかし、産業上の利用が困難な従来技術の試薬、反応条件および精製法を用いることなく調製することが可能になる。
さらに、先に述べたように、本方法は、市販の低品質の生成物IIaを使用して実施することができる。特に、ガスクロマトグラフィーによる純度が90%の化合物IIaを使用して、HPLCによる純度が約99%の2,3−ジメチル−5−ベンジルチオフェンIaを、クロマトグラフィーにより精製する必要がなく、単にアルコール中間体Icの簡単な結晶化により得ることが可能である。
最後に、本発明の他の好ましい実施形態は、以下のスキームに従う化合物Iの調製により示される。
この場合、生成物II(式中、AはCHO基またはR2CO−基を表す)を直接アシル化することにより中間体IVを生じ、その後両方のカルボニル基を同時に還元する。
上述したことから類推すると、この変換は1段階の還元反応(b)により行うこともできるが、好ましくは、ヒドロキシル化された中間体化合物を結晶化により精製する可能性を有する、連続する2段階の還元反応(b1およびb2)により行うこともできる。
本方法の特に好ましい1つの実施形態は、3−メチル−2−チオフェンカルボキサルデヒド(IIa、A=CHO、R1=CH3)から、塩化ベンゾイルによるアシル化(a)、化合物IVa(A=CHO、R1=CH3、R3=H)のジオールIb(A=CH2OH、R1=CH3、R3=H)への還元(b1)、該化合物の結晶化による精製および最終化合物Ia(A=R1=CH3、R3=H)を生成するそれに続く還元反応(b2)による、2,3−ジメチル−5−ベンジルチオフェンの調製である。
ここで、本発明をより明確に説明するために、以下に実施例を示す。
2,3−ジメチルチオフェン(IIb、R1=A=CH3)の調製
3−メチル−2−チオフェンカルボキサルデヒド(Aldrich社製、純度(ガスクロマトグラフィー)90%)(40g)をジエチレングリコール(144ml)に溶解し、ヒドラジン水和物(62ml)をゆっくりと加えた。反応混合物を30分間環流(約126℃)した。溶液を30〜40℃に冷却し、水酸化カリウム(46g)を少量ずつ加えた。溶液を、ゆっくりと加熱環流し、この温度で1時間半撹拌した。
3−メチル−2−チオフェンカルボキサルデヒド(Aldrich社製、純度(ガスクロマトグラフィー)90%)(40g)をジエチレングリコール(144ml)に溶解し、ヒドラジン水和物(62ml)をゆっくりと加えた。反応混合物を30分間環流(約126℃)した。溶液を30〜40℃に冷却し、水酸化カリウム(46g)を少量ずつ加えた。溶液を、ゆっくりと加熱環流し、この温度で1時間半撹拌した。
反応混合物を室温まで冷却し、冷水(1L)中に注いだ後、濃塩酸(約150ml)によりpH2の酸性にし、塩化メチレン(2×100ml)で抽出した。有機相をまとめ、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。固体をろ過により取り除き、塩化メチレン(20ml)で洗浄後、得られた2,3−ジメチルチオフェンの溶液は、さらに精製することなく直接使用した(ガスクロマトグラフィーによる純度88.2%)。
2,3−ジメチル−5−ベンゾイルチオフェン(IVb、R1=A=CH3、R3=H)の調製
塩化ベンゾイル(37.2ml)を、2,3−ジメチルチオフェン約35.6gを含む、実施例1により得られた塩化メチレン溶液に溶解した。この溶液を、無水塩化アルミニウム(42.7g)の塩化メチレン(100ml)溶液に、0〜5℃で2〜3時間かけてゆっくりと加えた。反応混合物を20〜25℃で2時間撹拌後、1時間環流した。室温まで冷却後、反応混合物を0℃の水(500ml)に注ぎ、15分間撹拌した。2つの相を分離後、有機相を、最初は水(500ml)で、次いで30%水酸化ナトリウム水溶液(30ml)で洗浄した。有機相から減圧下で溶媒を留去し、64.5gの2,3−ジメチル−5−ベンゾイルチオフェンを得た(2段階分の収率94%)(ガスクロマトグラフィーによる純度88.8%)。
1H−NMR(300 MHz,DMSO)δ:7.78(d,2H)、7.64(t,1H)、7.54(t,2H)、7.43(s,1H)、2.39(s,3H)、2.12(s,3H)
塩化ベンゾイル(37.2ml)を、2,3−ジメチルチオフェン約35.6gを含む、実施例1により得られた塩化メチレン溶液に溶解した。この溶液を、無水塩化アルミニウム(42.7g)の塩化メチレン(100ml)溶液に、0〜5℃で2〜3時間かけてゆっくりと加えた。反応混合物を20〜25℃で2時間撹拌後、1時間環流した。室温まで冷却後、反応混合物を0℃の水(500ml)に注ぎ、15分間撹拌した。2つの相を分離後、有機相を、最初は水(500ml)で、次いで30%水酸化ナトリウム水溶液(30ml)で洗浄した。有機相から減圧下で溶媒を留去し、64.5gの2,3−ジメチル−5−ベンゾイルチオフェンを得た(2段階分の収率94%)(ガスクロマトグラフィーによる純度88.8%)。
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2,3−ジメチル−5−(α−ヒドロキシベンジル)チオフェン(Ic、R1=A=CH3、B=CHOH、R3=H)の調製
水素化ホウ素ナトリウム(7.0g)を水(40ml)および30%水酸化ナトリウム(2ml)に溶解し、この溶液を2,3−ジメチル−5−ベンゾイルチオフェン(64.5g)のメタノール(250ml)および30%水酸化ナトリウム(3.5ml)の溶液に、約1時間かけてゆっくりと加えた。この溶液を35℃で6時間加熱後、2時間環流した。反応混合物を35〜40℃に冷却し、メタノールを減圧下留去した。残渣を、水(150ml)、30%水酸化ナトリウム(20ml)および塩化メチレン(150ml)に溶解した。2つの相を分離後、水相を塩化メチレン(50ml)で抽出した。有機相から減圧下で溶媒を留去し、粗生成物を加熱したn−ヘプタン(700ml)に溶解し結晶化させ、40℃で乾燥後、46.0gの2,3−ジメチル−5−(α−ヒドロキシベンジル)チオフェンが得られた(収率71%)(ガスクロマトグラフィーによる純度99.1%)。
融点=79〜80℃
1H−NMR(300 MHz、DMSO)δ:7.40〜7.23(m,5H)、6.52(s,1H)、6.03(s,1H)、5.72(s,1H)、2.21(s,3H)、1.99(s,3H)
水素化ホウ素ナトリウム(7.0g)を水(40ml)および30%水酸化ナトリウム(2ml)に溶解し、この溶液を2,3−ジメチル−5−ベンゾイルチオフェン(64.5g)のメタノール(250ml)および30%水酸化ナトリウム(3.5ml)の溶液に、約1時間かけてゆっくりと加えた。この溶液を35℃で6時間加熱後、2時間環流した。反応混合物を35〜40℃に冷却し、メタノールを減圧下留去した。残渣を、水(150ml)、30%水酸化ナトリウム(20ml)および塩化メチレン(150ml)に溶解した。2つの相を分離後、水相を塩化メチレン(50ml)で抽出した。有機相から減圧下で溶媒を留去し、粗生成物を加熱したn−ヘプタン(700ml)に溶解し結晶化させ、40℃で乾燥後、46.0gの2,3−ジメチル−5−(α−ヒドロキシベンジル)チオフェンが得られた(収率71%)(ガスクロマトグラフィーによる純度99.1%)。
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2,3−ジメチル−5−ベンジルチオフェンIa、R1=A=CH3、B=CH2、R3=H)の調製
2,3−ジメチル−5−(α−ヒドロキシベンジル)チオフェン(46.0g)をTHF(1100ml)に溶解し、次いで水素化ホウ素ナトリウム(23.9g)を加えた。反応混合物を0℃に冷却し、トリフルオロ酢酸を、0〜5℃で約2時間かけてゆっくりと加えた。反応混合物を0〜5℃で2時間撹拌した。30%水酸化ナトリウム(150ml)水(300ml)溶液を加え、2つの相を分離した。
2,3−ジメチル−5−(α−ヒドロキシベンジル)チオフェン(46.0g)をTHF(1100ml)に溶解し、次いで水素化ホウ素ナトリウム(23.9g)を加えた。反応混合物を0℃に冷却し、トリフルオロ酢酸を、0〜5℃で約2時間かけてゆっくりと加えた。反応混合物を0〜5℃で2時間撹拌した。30%水酸化ナトリウム(150ml)水(300ml)溶液を加え、2つの相を分離した。
有機層から減圧下で溶媒を留去し、残渣を塩化メチレンに溶解した。塩をろ去し、有機溶液を塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、減圧下で溶媒を留去すると、2,3−ジメチル−5−ベンジルチオフェン40.5gが油状物として得られた(収率95%)(HPLCによる純度98.8%)。
1H−NMR(300 MHz、DMSO)δ:7.32〜7.20(m,5H)、6.54(s,1H)、3.99(s,2H)、2.21(s,3H)、2.02(s,3H)
1H−NMR(300 MHz、DMSO)δ:7.32〜7.20(m,5H)、6.54(s,1H)、3.99(s,2H)、2.21(s,3H)、2.02(s,3H)
2,3−ジメチル−5−ベンジルチオフェンIa、R1=A=CH3、B=CH2、R3=H)の調製
2,3−ジメチル−5−(α−ヒドロキシベンジル)チオフェン(46.0g)をメタノール(750ml)に溶解し、水50%を含む5%−パラジウム炭素(乾燥重量7.5g)を加えた。反応混合物を、40〜45℃、6〜7バールで、24時間水素化したところ、26gの2,3−ジメチル−5−チオフェンが得られた(収率61%)。
2,3−ジメチル−5−(α−ヒドロキシベンジル)チオフェン(46.0g)をメタノール(750ml)に溶解し、水50%を含む5%−パラジウム炭素(乾燥重量7.5g)を加えた。反応混合物を、40〜45℃、6〜7バールで、24時間水素化したところ、26gの2,3−ジメチル−5−チオフェンが得られた(収率61%)。
Claims (15)
- 次式の2,5−二置換3−アルキルチオフェン
Aは、CH3基、R2CH2基、HOCH2基またはR2CH(OH)−基を表し、
Bは、CHOH基またはCH2基を表し、
R1は、HまたはC1〜C5アルキル基を表し、
R2は、C1〜C5アルキル基を表し、
R3は、HまたはC1〜C5アルキル基またはC1〜C5のハロアルキル基またはフッ素、塩素、臭素から選択されるハロゲン原子を表す)
の調製方法であって、
(a)次式の化合物
Aは、CHO基、CH3基、R2CH2基またはR2−CO−基を表し、
R1およびR2は、上記の意味を有する)
と、次式の化合物
Xは、OH、ハロゲンまたは次式の基
−OCOOR4 (VI)
(式中、
R4は、C1〜C5アルキル、場合によっては置換されたベンジル、または場合によっては置換されたアリールを表し、
R3は、上記の意味を有する)
を表す)
とを反応させ、
次式の化合物
A、R1、R2およびR3は、上記の意味を有する)
を得る工程と、
(b)このように得られた式IVの化合物を還元して式Iの化合物を得る工程と
を含む、
調製方法。 - 工程(a)に記載の反応が、式IIIの化合物(式中、Xは、ハロゲンを表す)を用いて、Lewis酸の存在下で、塩素化溶媒および不活性化芳香族溶媒から選択される溶媒中で、好ましくは塩化ベンゾイルを用いて、AlCl3の存在下、塩化メチレン中で行われ、化合物III/Lewis酸/化合物IIのモル比が、0.9〜1.5/0.9〜1.5/1であり、好ましくは約1/1/1である請求項1に記載の方法。
- 前記還元処理が、トリフルオロ酢酸の存在下、水素化ホウ素ナトリウムまたはシアノ水素化ホウ素ナトリウムを用いて行われる請求項5に記載の方法。
- 工程(b)に記載の還元が、前記還元反応(b1)および(b2)によって連続的に行われる請求項7に記載の方法。
- 前記第1の還元反応(b1)が、水素化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム等の金属水素化物またはボランを用いた処理、あるいはアルミニウムイソプロポキシドを用いた処理、好ましくは水素化ホウ素ナトリウムを用いた処理によって行われる請求項7に記載の方法。
- 前記第2の還元反応(b2)が、強酸、例えばトリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸または硫酸等の存在下で、水素化ホウ素化合物を用いた処理、あるいはヨウ化亜鉛を用いた処理あるいは接触水素化、好ましくは水素化ホウ素ナトリウムおよびトリフルオロ酢酸を用いた処理により行われる請求項7に記載の方法。
- 前記第2の還元反応(b2)が、式I(B=CHOH)のヒドロキシル化された中間体を、アルコール(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、好ましくはメタノール)または水とアルコールの混合物等の適当な溶媒に溶解し、1〜10バールの水素圧、15〜60℃の温度で、パラジウムおよび白金(好ましくは、炭素、アルミナ、シリカまたはゼオライト等の不活性担体(好ましくは炭素)に担持されたパラジウム)から選択される水素化触媒の存在下、中性または酸性の媒体中での接触水素化により行われる請求項7に記載の方法。
- 工程(a)、(b1)および(b2)に記載の反応が、それぞれ請求項4、9および10に記載の実験条件下で行われる請求項13に記載の方法。
- 式Icのヒドロキシル化された中間体化合物を、(好ましくはn−ヘプタンからの)結晶化により精製する請求項13に記載の方法。
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH093059A (ja) * | 1995-06-16 | 1997-01-07 | Erregierre Spa | α−メチル−2−チオフェン酢酸誘導体の製法 |
US6103708A (en) * | 1998-05-12 | 2000-08-15 | American Home Products Corporation | Furans, benzofurans, and thiophenes useful in the treatment of insulin resistance and hyperglycemia |
JP2002516321A (ja) * | 1998-05-12 | 2002-06-04 | アメリカン・ホーム・プロダクツ・コーポレイション | インスリン耐性および高血糖の治療に有用なベンゾチオフェン、ベンゾフラン、およびインドール |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018226961A1 (en) * | 2017-06-09 | 2018-12-13 | Shanghai Yanfeng Jinqiao Automotive Trim Systems Co. Ltd. | Vehicle interior component |
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