JP2006507686A5 - - Google Patents

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Claims (6)

  1. 板と
    基板を覆うパッシベーション層と
    基板を覆うボンディングパッドとを備え、前記ボンディングパッドは、
    第1ボンディングワイヤを集積回路に接続するための第1ワイヤボンディング領域と
    第2ボンディングワイヤを集積回路に接続するための第2ワイヤボンディング領域とを含み、
    第1ワイヤボンディング領域の少なくとも非周辺部分がパッシベーションの上に位置し、前記ボンディングパッドの下方にあるパッシベーション層はいかなる形状であってもよい開口を有し、かつ、前記基板は配線領域を有し、該配線領域の少なくとも一部は前記パッシベーションの上に位置する前記ボンディングパッドの一部の下に延伸する、集積回路。
  2. 集積回路(20)の製造方法であって、
    基板(26)を設ける工程と、
    パッシベーション層(18)を基板を覆って形成する工程と
    ボンディングパッド(200)を基板を覆って形成する工程とを備え、前記ボンディングパッドを形成する工程では、
    第1ボンディングワイヤを集積回路に接続するための第1ワイヤボンディング領域(202)を形成する工程と、
    第2ボンディングワイヤを集積回路に接続するための第2ワイヤボンディング領域(204)を形成する工程とを備え、
    前記第1ワイヤボンディング領域の少なくとも非周辺部分がパッシベーションの上に位置し、前記ボンディングパッドの下方にあるパッシベーション層はいかなる形状であってもよい開口を有し、かつ、前記基板は配線領域を有し、該配線領域の少なくとも一部は前記パッシベーションの上に位置する前記ボンディングパッドの一部の下に延伸する、方法。
  3. 前記ボンディングパッドを形成する工程はさらに、プローブが接触するためのプローブ領域を形成する工程を備える、請求項2に記載の方法。
  4. マルチチップパッケージであって、
    第1集積回路と、第2集積回路と、第1ワイヤとを含み、
    第1集積回路は、
    基板と、
    基板を覆うパッシベーション層と、
    基板を覆う第1ボンディングパッドとを備え、第1ボンディングパッドは、
    第1ボンディングワイヤを第1集積回路に接続するための第1ワイヤボンディング領域と、
    第2ボンディングワイヤを第1集積回路に接続するための第2ワイヤボンディング領域と、を含み、
    第1ワイヤボンディング領域の少なくとも非周辺部分がパッシベーションの上に位置し、
    第2集積回路は、
    第2ボンディングパッドを含み、
    第1ワイヤは、第1ワイヤボンディング領域と第2ボンディングパッドとを電気的に接続する、マルチチップパッケージ。
  5. 能動回路を有する基板と
    基板を覆うパッシベーション層と
    基板を覆うボンディングパッドとを備え、前記ボンディングパッドは、
    第1ボンディングワイヤを集積回路に接続するための第1ワイヤボンディング領域と
    第2ボンディングワイヤを集積回路に接続するための第2ワイヤボンディング領域とを含み、
    第1ワイヤボンディング領域の少なくとも非周辺部分がパッシベーションの上に位置し、前記能動回路の少なくとも一部が、パッシベーションの上に位置するボンディングパッドの前記部分の下方に横たわる、集積回路(20)。
  6. 能動回路を有する基板を設ける工程と、
    基板を覆うパッシベーション層を形成する工程と、
    基板を覆うボンディングパッドを形成する工程とを備え、該基板を覆うボンディングパッドを形成する工程はさらに、
    第1ボンディングワイヤを集積回路に接続するための第1ワイヤボンディング領域を形成する工程と、
    第2ボンディングワイヤを集積回路に接続するための第2ワイヤボンディング領域を形成する工程とからなり、
    第1ワイヤボンディング領域の少なくとも非周辺部分がパッシベーションの上に位置し、前記能動回路の少なくとも一部が、パッシベーションの上に位置するボンディングパッドの前記部分の下方に横たわる、集積回路の製造方法。
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