JP2006505099A - 日光暴露への安定性が向上した層配置 - Google Patents
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Abstract
[式中、R1及びR2は独立してH、−OH又はアルキルであり、n及びmは独立して1、2又は3である]
に従う化合物;式(II):HO−(CH2)p−S−CH2−S−(CH2)q−OH
[式中、p及びqは独立して2、3又は4である]
に従う化合物;テトロン酸誘導体に加水分解され得る化合物;式(I)に従う化合物に加水分解され得る化合物より成る群から選ばれるポリヒドロキシ−化合物ならびにスルホ−置換2−チア−アルキルベンズイミダゾール化合物より成る群から選ばれる化合物とを含有する層を含んでなる支持体上の層配置。
Description
本発明は、可視及びUV光暴露への安定性が向上した層配置に関する。
ポリチオフェンは、それらの興味深い電気的及び/又は光学的性質の故に広範囲に研究されてきた。ポリチオフェンは化学的もしくは電気化学的に酸化もしくは還元されると電気伝導性となる。
の構造単位を含有するポリチオフェン及び対応するチオフェンの酸化重合によるその製造を開示している。
の構造単位から構築されるポリチオフェンの分散液を開示している。
の繰り返し構造単位を有する中性ポリチオフェンならびにB)ジ−もしくはポリヒドロキシ−及び/又はカルボキシ基又はアミドもしくはラクタム基含有有機化合物の混合物;ならびに好ましくは<300オーム/平方まで抵抗を増すために調質される(tempered)それらからの伝導性コーティングを開示している。特許文献3中に開示されているジ−及びポリヒドロキシ有機化合物の例は、糖及び糖誘導体、例えばサッカロース、グルコース、フルクトース、ラクトース、糖アルコール、例えばソルビトール及びマンニトールならびにアルコール、例えばエチレングリコール、グリセリン、ジエチレングリコール及びトリエチレングリコールである。
に従うモノマーチオフェン誘導体を、水溶液中で酸化剤により重合させることを特徴とする水溶性π−共役ポリマーの製造法を開示している。
として示すことができると記載している。
従って、本発明の側面は、可視及び紫外光に暴露される時に表面抵抗における急速な増加を経ない、ポリ(3,4−ジアルコキシチオフェン)ポリマーをポリアニオンの存在下で含有する電気伝導層を提供することである。
驚くべきことに、ポリリン酸、ポリリン酸塩、チア−アルカンジカルボン酸、シクロヘキサジエン化合物ならびにテトロン酸誘導体;少なくとも1個のスルホ基を有するオルト−ジヒドロキシベンゼン化合物、式(I):
HO−CH2−CH(OH)−(CH2)m−S−CH2−C(R1)(R2)−
CH2−S−(CH2)n−CH(OH)−CH2−OH (I)
[式中、R1及びR2は独立してH、−OH又はアルキルであり、n及びmは独立して1、2又は3である]
に従う化合物;式(II):
HO−(CH2)p−S−CH2−S−(CH2)q−OH (II)
[式中、p及びqは独立して2、3又は4である]
に従う化合物;テトロン酸誘導体に加水分解され得る化合物;式(I)に従う化合物に加水分解され得る化合物より成る群から選ばれるポリヒドロキシ−化合物;及びスルホ−置換2−チア−アルキル−ベンズイミダゾール化合物を導入すると、ポリアニオンの存在下でポリ(3,4−ジアルコキシチオフェン)ポリマーを含有する電気伝導層の可視及びUV光に暴露される時の表面抵抗における増加が実質的に低下することが見出された。
HO−CH2−CH(OH)−(CH2)m−S−CH2−C(R1)(R2)−
CH2−S−(CH2)n−CH(OH)−CH2−OH (I)
[式中、R1及びR2は独立してH、−OH又はアルキルであり、n及びmは独立して1、2又は3である]
に従う化合物;式(II):
HO−(CH2)p−S−CH2−S−(CH2)q−OH (II)
[式中、p及びqは独立して2、3又は4である]
に従う化合物;テトロン酸誘導体に加水分解され得る化合物;式(I)に従う化合物に加水分解され得る化合物より成る群から選ばれるポリヒドロキシ−化合物ならびにスルホ−置換2−チア−アルキル−ベンズイミダゾール化合物より成る群から選ばれる化合物とを含有する層を含んでなる支持体上の層配置により実現される。
発明の詳細な記述
図1は装置2〜10で用いられる層配置及びエレクトロルミネセンスを得るために用いられる回路の側面図及び平面図の略図であり、図中:
Aはポリ(エチレンテレフタレート)支持体を示し;
BはスパッタリングされたITO層を示し;
Cは電子遮断層を示し;
DはZnS:Cuナノ−粒子及び結合剤を含有するエレクトロルミネセント層を示し;
Eは蒸発アルミニウム電極を示し、
Fは接続のための伝導性銀ペースト点を示し、
GはIV−電力源を示し(Delta ElektronicaからのPower Supply ES 030−5)、
Hは電気伝導性銅ワイアを示し、
Iは第1層を示し、
IIは第2層を示し、
IIIは第3層を示す。
アルキルという用語は、アルキル基中の炭素原子のそれぞれの数に関して可能なすべての変形、すなわち3個の炭素原子の場合:n−プロピル及びイソプロピル;4個の炭素原子の場合:n−ブチル、イソブチル及び第3級−ブチル;5個の炭素原子の場合:n−ペンチル、1,1−ジメチル−プロピル、2,2−ジメチルプロピル及び2−メチル−ブチルなどを意味する。
本発明の側面は、2個のアルコキシ基が同一であるかもしくは異なることができるか又は一緒になって場合により置換されていることができるオキシ−アルキレン−オキシ架橋を示す、場合により置換されていることができる3,4−アルキレンジオキシチオフェン構造単位を含有するポリマーならびにポリリン酸、ポリリン酸塩、チア−アルカンジカルボン酸、シクロヘキサジエン化合物及びテトロン酸誘導体;少なくとも1個のスルホ基を有するオルト−ジヒドロキシベンゼン化合物、式(I):
HO−CH2−CH(OH)−(CH2)m−S−CH2−C(R1)(R2)−
CH2−S−(CH2)n−CH(OH)−CH2−OH (I)
[式中、R1及びR2は独立してH、−OH又はアルキルであり、n及びmは独立して1、2又は3である]
に従う化合物;式(II):
HO−(CH2)p−S−CH2−S−(CH2)q−OH (II)
[式中、p及びqは独立して2、3又は4である]
に従う化合物;テトロン酸誘導体に加水分解され得る化合物;式(I)に従う化合物に加水分解され得る化合物より成る群から選ばれるポリヒドロキシ−化合物ならびにスルホ−置換2−チア−アルキル−ベンズイミダゾール化合物より成る群から選ばれる化合物を含有する層を含んでなる支持体上の層配置を用いて実現される。
3,4−アルキレンジオキシチオフェン構造単位を含有するポリマー
本発明に従うポリマーは3,4−アルキレンジオキシチオフェン構造単位を含有し、ここで2個のアルコキシ基は同一であるかもしくは異なることができるか又は一緒になって場合により置換されていることができるオキシ−アルキレン−オキシ架橋を示す。
により示される。
に従うポリチオフェンである。
本発明の側面は、ポリリン酸及び/又はその塩ならびに場合により置換されていることができる3,4−アルキレンジオキシチオフェン構造単位を含有するポリマーを含有する層を含んでなる支持体上の層配置を用いて実現される。
本発明の側面は、チア−アルカンジカルボン酸ならびに場合により置換されていることができる3,4−アルキレンジオキシチオフェン構造単位を含有するポリマーを含有する層を含んでなる支持体上の層配置を用いて実現される。
本発明の側面は、シクロヘキサジエン化合物ならびに場合により置換されていることができる3,4−アルキレンジオキシチオフェン構造単位を含有するポリマーを含有する層を含んでなる支持体上の層配置を用いて実現される。
本発明の側面は、テトロン酸誘導体;少なくとも1個のスルホ基を有するオルト−ジヒドロキシベンゼン化合物、式(I):
HO−CH2−CH(OH)−(CH2)m−S−CH2−C(R1)(R2)−
CH2−S−(CH2)n−CH(OH)−CH2−OH (I)
[式中、R1及びR2は独立してH、−OH又はアルキルであり、n及びmは独立して1、2又は3である]
に従う化合物;式(II):
HO−(CH2)p−S−CH2−S−(CH2)q−OH (II)
[式中、p及びqは独立して2、3又は4である]
に従う化合物より成る群から選ばれるポリヒドロキシ−化合物;ならびに場合により置換されていることができる3,4−アルキレンジオキシ−チオフェン構造単位を含有するポリマーを含有する層を含んでなる支持体上の層配置を用いて実現される。
本発明の側面は、スルホ−置換2−チア−アルキル−ベンズイミダゾール化合物[SSTAB]ならびに場合により置換されていることができる3,4−アルキレンジオキシチオフェン構造単位を含有するポリマーを含有する層を含んでなる支持体上の層配置を用いて実現される。
により示される。
本発明に従う層配置の第14の態様に従うと、層はさらにポリアニオンを含有する。
本発明に従う層配置の第16の態様に従うと、層はさらに非−イオン性界面活性剤、例えばエトキシル化/フルオロアルキル界面活性剤、ポリエトキシル化シリコーン界面活性剤、ポリシロキサン/ポリエーテル界面活性剤、ペルフルオロ−アルキルカルボン酸のアンモニウム塩、ポリエトキシル化界面活性剤及びフッ素−含有界面活性剤を含有する。
界面活性剤番号01=ZONYLTM FSN,DuPontからの水中のイソプロパノールの50重量%溶液中のF(CF2CF2)1−9CH2CH2O(CH2CH2O)XHの40重量%溶液であり、ここでx=0〜約25;
界面活性剤番号02=ZONYLTM FSN−100:DuPontからのF(CF2CF2)1−9CH2CH2O(CH2CH2O)XHであり、ここでx=0〜約25;
界面活性剤番号03=ZONYLTM FS300,DuPontからのフッ素化界面活性剤の40重量%水溶液;
界面活性剤番号04=ZONYLTM FSO,DuPontからの水中のエチレングリコールの50重量%溶液中の式:F(CF2CF2)1−7CH2CH2O(CH2CH2O)yHを有し、ここでy=0〜約15であるエトキシル化非−イオン性フルオロ−界面活性剤の混合物の50重量%溶液;
界面活性剤番号05=ZONYLTM FSO−100,式:F(CF2CF2)1−7CH2CH2O(CH2CH2O)yHを有し、ここでy=0〜約15であるDuPontからのエトキシル化非−イオン性フルオロ−界面活性剤の混合物;
界面活性剤番号06=TegoglideTM 410,Goldschmidtからのポリシロキサン−ポリマーコポリマー界面活性剤;
界面活性剤番号07=TegowetTM,Goldschmidtからのポリシロキサン−ポリエステルコポリマー界面活性剤;
界面活性剤番号08=FLUORADTMFC431:3MからのCF3(CF2)7SO2(C2H5)N−CH2CO−(OCH2CH2)nOH;
界面活性剤番号09=FLUORADTMFC126,3Mからのペルフルオロカルボン酸のアンモニウム塩の混合物;
界面活性剤番号10=ポリオキシエチレン−10−ラウリルエーテル
界面活性剤番号11=FLUORADTMFC430,3Mからの98.5%活性フルオロ脂肪族エステル
が含まれる。
界面活性剤番号12=ZONYLTM 7950,DuPontからのフッ素化界面活性剤;
界面活性剤番号13=ZONYLTM FSA,DuPontからの水中のイソプロパノールの50重量%溶液中のF(CF2CF2)1−9CH2CH2SCH2CH2COOLiの25重量%溶液;
界面活性剤番号14=ZONYLTM FSE,DuPontからの水中のエチレングリコールの70重量%溶液中の[F(CF2CF2)1−7CH2CH2O]xP(O)(ONH4)yの14重量%溶液であり、ここでx=1又は2であり;y=2又は1であり;x+y=3である;
界面活性剤番号15=ZONYLTM FSJ,DuPontからの水中のイソプロパノールの25重量%溶液中の、x=1又は2であり;y=2又は1であり;x+y=3であるF(CF2CF2)1−7CH2CH2O]xP(O)(ONH4)yと炭化水素界面活性剤のブレンドの40重量%溶液;
界面活性剤番号16=ZONYLTM FSP,DuPontからの水中のイソプロパノールの69.2重量%溶液中の、x=1又は2であり;y=2又は1であり、x+y=3である[F(CF2CF2)1−7CH2CH2O]xP(O)(ONH4)yの35重量%溶液;
界面活性剤番号17=ZONYLTM UR:DuPontからの、x=1又は2であり;y=2又は1であり、x+y=3である[F(CF2CF2)1−7CH2CH2O]xP(O)(OH)y;
界面活性剤番号18=ZONYLTM TBS:DuPontからの水中の酢酸の4.5重量%溶液中のF(CF2CF2)3−8CH2CH2SO3Hの33重量%溶液;
界面活性剤番号19=3Mからのペルフルオロ−オクタン酸のアンモニウム塩
が含まれる。
本発明に従う層配置の第18の態様に従うと、層配置はさらにエレクトロルミネセント蛍リン光体の層を含んでなる。
本発明に従う層配置の第23の態様に従うと、層配置はさらに誘電層を含んでなる。
本発明に従う層配置の第24の態様に従うと、支持体は透明又は半透明である。
本発明に従う層配置の第27の態様に従うと、層配置はエレクトロルミネセント装置である。
本発明に従う層配置の第29の態様に従うと、層配置は光起電力装置である。
本発明に従う層配置の第32の態様に従うと、層配置はトランジスタである。
正の電極と正孔の輸送が可能であり、且つ正の電極における正孔−電子再結合を減少させることができる材料との間に層を含んでなる層配置を、広範囲の電子装置、例えば光起電力装置,太陽電池、電池、コンデンサー、発光ダイオード、有機及び無機エレクトロルミネセント装置、スマートウインドウズ(smart windows)、エレクトロクロミック装置、有機及び生物−有機材料のためのセンサー及び電界効果型トランジスタにおいて用いることができる[Handbook of Oligo− and Polythiophenes,D.Fichou編集,Wiley−VCH,Weinheim(1999)の10章も参照されたい]。
ポリヒドロキシ−化合物:
・DEG=ジエチレングリコール(欧州特許出願公開第686662号明細書で開示);
・TEG=トリエチレングリコール(欧州特許出願公開第686662号明細書で開示);
・DHTP=1,5−ジヒドロキシ−3−チア−ペンタン;
・DHDTO=1,8−ジヒドロキシ−3,6−ジチア−オクタン。
調製で用いられるPEDOT/PSS−分散液の調製
1:2.5のPEDOT対PSSの重量比を含有するPEDOT/PSSの1.2重量%を含む水性分散液Aは、欧州特許出願公開第440957号明細書に開示されている通りに調製され、AR1000プレートアンドコーン流動計(plate and cone rheometer)(直径4cm;コーン角2o)を用いて20℃において5秒−1のせん断速度で測定される38mPa.sの典型的な粘度を有し、且つ1.9のpHを有した。水性分散液Aはコーティング分散液の調製において直接用いられたか、あるいは水性分散液Bの場合には洗浄媒体として脱イオン水を用いて、又は水性分散液Cの場合には洗浄媒体としてポリリン酸の0.31重量%溶液を用いて限外濾過に供された。
88%塩化ビニリデン、10%アクリル酸メチル及び2%イタコン酸のコポリマーの30%水性ラテックス;3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ZONYLTM FSO100及びN−メチルピロリジノンを加えることにより、水性分散液A、B及びCからコーティング分散液を調製し、下塗り層1が下塗りされたポリ(エチレンテレフタレート)支持体上にコーティングし、次いで45℃で3分間乾燥し、するとNMPはほとんど蒸発し、それぞれ層配置1、2及び3に関する以下の被覆率を得た:
3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ZONYLTM FSO100及びジエチレングリコールを加えることにより、水性分散液A、B及びCからコーティング分散液を調製し、下塗り層1が下塗りされたポリ(エチレンテレフタレート)支持体上にコーティングし、次いで140℃で1分間乾燥すると、それぞれ層配置4、5及び6に関する以下の被覆率が得られた:
3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ZONYLTM FSO100、ジエチレングリコール及び場合によりポリリン酸を加えることにより、水性分散液Aからコーティング分散液を調製し、下塗り層1が下塗りされたポリ(エチレンテレフタレート)支持体上にコーティングし、次いで140℃で1分間乾燥すると、ジエチレングリコールが少なくとも部分的に蒸発し、それぞれ層配置7、8及び9に関する以下の被覆率が得られた:
層配置1に関して記載した通りに層配置10を製造し、PEDOT/PSS−含有層中に表4において規定される化合物を10mg/m2の被覆率で導入する以外は層配置2に関して記載したとおりに層配置11〜19を製造した。
PEDOT/PSS−含有層中に表5において規定される化合物を10mg/m2又は50mg/cm2の被覆率で導入する以外は層配置1に関して記載した通りに層配置20〜22を製造した。
PEDOT/PSS−含有層中に表6において規定される化合物を10mg/m2の被覆率で導入する以外は層配置1に関して記載したとおりに層配置23〜25を製造した。
PEDOT/PSS−含有層中に表7において規定される化合物を10mg/m2の被覆率で導入する以外は層配置1に関して記載した通りに層配置26を製造した。
層配置4に関して記載した通りに層配置27を製造し、PEDOT/PSS−含有層中に表7において規定される化合物を10mg/m2の被覆率で導入する以外は層配置4に関して記載した通りに層配置28〜33を製造した。
PEDOT/PSS−含有層中に表9において規定される化合物を表9において規定される被覆率で導入する以外は層配置4に関して記載した通りに層配置34〜38を製造した。
PEDOT/PSS−含有層中に表10において規定される化合物を表10において規定される被覆率で導入する以外は層配置4に関して記載した通りに層配置39及び40を製造した。
PEDOT−Sの合成
2−アセトキシメチル−2,3−ジヒドロ−チエノ[3,4−b][1,4]
ジオキシン−5,7−ジカルボン酸ジメチルエステルの合成
ジオキシン−5,7−ジカルボン酸の合成
−メタノールの合成
−2−イル−メトキシ)−ブタン−1−スルホン酸ナトリウム塩の合成
−2−イルメトキシ)−ブタン−1−スルホン酸ナトリウム塩の化学的重合
4−(2,3−ジヒドロ−チエノ[3,4−b][1,4]ジオキシン−2−イルメトキシ)−ブタン−1−スルホン酸ナトリウム塩(0.66g,2.0ミリモル)を酸素−非含有水(20mL)中に溶解した。溶液を80℃に加熱し、その後Fe(OTs)3.6H2O(4.06g,6.0ミリモル)を加えた。溶液の色は直後に暗青色に変わった。反応混合物を80℃にさらに3.5時間保ち、その後それを冷却し、濾過した。カチオン性及びアニオン性樹脂を用いるイオン交換により、最終的に濾液から鉄、ナトリウム及びトシレートイオンを除去し、暗青色のPEDOT−S水溶液を得た。最後に脱イオン水を用いて溶液を1重量%のPEDOT−Sに希釈した。
エレクトロルミネセントZnS:Cu分散液の調製
以下の溶液を調製した:
約80オーム/平方の表面抵抗を有するISTからの175μmの厚さのポリ(エチレンテレフタレート)[PET]上の酸化錫インジウム[ITO]層を正孔−伝導電極として用いた。5x5cm2のITO/PETシートに、3Mからの2cmのマジックテープScotch 810を用いて板の中央部分においてテープを被せた(taped off)。50mLの濃塩酸、50mLの脱イオン水及び4mLの濃硝酸から成る溶液を用い、ITO板の側(sides)をエッチングした。エッチングの後、ITO/PETシートを水で数回洗浄し、続いてヘアドライヤーで乾燥した。乾燥の後、テープを除去し、イソプロパノールを含む容器中にシートを入れ、それを超音波浴中に10分間入れた。後にそれらを50℃で10分間乾燥した。各ITO/PETシートは中央部分に2cmの伝導性ITOのバンドを含有した。
表11に示す溶液/分散液を調製した。
電子遮断層のないパターン化されたITO/PETの上に、エレクトロルミネセントナノZnS:Cu−分散液を1000rpmにおいて6秒間、続いて2000rpmにおいて50秒間スピンコーティングした。エレクトロルミネセントナノZnS:Cu−分散液を装置2〜25の基質に同じ方法で、用いられる特定の遮断層の上に適用した。
続いてスピンコーティングされた二重層上にマスクを用い、1.33x10−4Nm−2Paの真空において、160nmの厚さのアルミニウム電極(陰極)を真空蒸着させた。発出面積(emission area)は25mm2であった。装置の構造を図1に示す。
発光装置2〜10に関する結果を、同時に製造されたがパターン化されたITO−層とエレクトロルミネセント層の間に層を有していない装置1に関する結果と一緒に表12に示す。
Claims (13)
- 2個のアルコキシ基が同一であるかもしくは異なることができるか又は一緒になって場合により置換されていることができるオキシ−アルキレン−オキシ架橋を示す、場合により置換されていることができる3,4−アルキレンジオキシチオフェン構造単位を含有するポリマーと、ポリリン酸、ポリリン酸塩、チア−アルカンジカルボン酸、シクロヘキサジエン化合物及びテトロン酸誘導体;少なくとも1個のスルホ基を有するオルト−ジヒドロキシベンゼン化合物、式(I):
HO−CH2−CH(OH)−(CH2)m−S−CH2−C(R1)(R2)−
CH2−S−(CH2)n−CH(OH)−CH2−OH (I)
[式中、R1及びR2は独立してH、−OH又はアルキルであり、n及びmは独立して1、2又は3である]
に従う化合物;式(II):
HO−(CH2)p−S−CH2−S−(CH2)q−OH (II)
[式中、p及びqは独立して2、3又は4である]
に従う化合物;テトロン酸誘導体に加水分解され得る化合物;式(I)に従う化合物に加水分解され得る化合物より成る群から選ばれるポリヒドロキシ−化合物ならびにスルホ−置換2−チア−アルキル−ベンズイミダゾール化合物より成る群から選ばれる化合物とを含有する層を含んでなる支持体上の層配置。 - 該場合により置換されていることができる3,4−アルキレンジオキシチオフェン構造単位を含有するポリマーがポリ[4−(2,3−ジヒドロ−チエノ[3,4−b][1,4]ジオキシン−2−イルメトキシ)−ブタン−1−スルホン酸]である請求項1〜3のいずれかに従う層配置。
- 該ポリマーがポリ(3,4−メチレンジオキシ−チオフェン)、ポリ(3,4−メチレンジオキシチオフェン)誘導体、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)、ポリ(3,4−エチレンジオキシ−チオフェン)誘導体、ポリ(3,4−プロピレンジオキシチオフェン)、ポリ(3,4−プロピレンジオキシチオフェン)誘導体、ポリ(3,4−ブチレンジオキシチオフェン)、ポリ(3,4−ブチレンジオキシチオフェン)誘導体及びそれらを用いるコポリマーより成る群から選ばれる請求項1〜4のいずれかに従う層配置。
- 該場合により置換されていることができる3,4−アルキレンジオキシチオフェン構造単位を含有するポリマーがポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)である請求項1に従う層配置。
- 該層がさらにポリアニオンを含有する請求項1〜6のいずれかに従う層配置。
- 該ポリアニオンがポリ(スチレンスルホネート)である請求項7に従う層配置。
- 該層配置が発光ダイオードである請求項1〜8のいずれかに従う層配置。
- 該層配置が光起電力装置である請求項1〜8のいずれかに従う層配置。
- 該層配置が太陽電池である請求項1〜8のいずれかに従う層配置。
- 該層配置がトランジスタである請求項1〜8のいずれかに従う層配置。
- 該層配置がエレクトロルミネセント装置である請求項1〜8のいずれかに従う層配置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP02102217 | 2002-08-23 | ||
EP02102217.3 | 2002-08-23 | ||
PCT/EP2003/050347 WO2004018560A1 (en) | 2002-08-23 | 2003-07-29 | Layer configuration with improved stability to sunlight exposure |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006505099A true JP2006505099A (ja) | 2006-02-09 |
JP2006505099A5 JP2006505099A5 (ja) | 2006-09-14 |
JP4825420B2 JP4825420B2 (ja) | 2011-11-30 |
Family
ID=31896948
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004530268A Expired - Lifetime JP4825420B2 (ja) | 2002-08-23 | 2003-07-29 | 日光暴露への安定性が向上した層配置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1551921B1 (ja) |
JP (1) | JP4825420B2 (ja) |
AU (1) | AU2003262551A1 (ja) |
DE (1) | DE60304363T2 (ja) |
WO (1) | WO2004018560A1 (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005226072A (ja) * | 2004-02-10 | 2005-08-25 | Hc Starck Gmbh | 有機発光ダイオードを向上させるためのポリチオフェン組成物 |
JP2009209216A (ja) * | 2008-02-29 | 2009-09-17 | Fujifilm Corp | 導電性ポリマー組成物及び電極材料 |
JP2011184635A (ja) * | 2010-03-10 | 2011-09-22 | Kuraray Co Ltd | π電子系共役ポリマー及びその製造方法 |
JP2011208016A (ja) * | 2009-03-31 | 2011-10-20 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | 導電性高分子/ドーパント分散体、導電性組成物および導電性皮膜 |
US8133581B2 (en) | 2008-05-20 | 2012-03-13 | Fujifilm Corporation | Electroconductive polymer composition, electroconductive polymer material and method for producing electroconductive polymer material |
JPWO2011111683A1 (ja) * | 2010-03-10 | 2013-06-27 | 株式会社クラレ | エレクトロクロミック材料とその製造方法 |
JP5617640B2 (ja) * | 2008-11-19 | 2014-11-05 | 日産化学工業株式会社 | 正孔または電子輸送性薄膜形成用ワニス |
JP2017105982A (ja) * | 2015-12-04 | 2017-06-15 | 東ソー株式会社 | 帯電防止薄膜、及び帯電防止用水溶液 |
JP2019019111A (ja) * | 2017-07-21 | 2019-02-07 | 東ソー株式会社 | チオフェンスルホン酸塩 |
JP2020015967A (ja) * | 2018-07-27 | 2020-01-30 | 三菱マテリアル株式会社 | 剥離液 |
JP2020100744A (ja) * | 2018-12-21 | 2020-07-02 | 信越ポリマー株式会社 | キャパシタ及びその製造方法、並びに導電性高分子分散液 |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4987239B2 (ja) * | 2004-08-30 | 2012-07-25 | 信越ポリマー株式会社 | 導電性組成物 |
US7666326B2 (en) | 2004-08-30 | 2010-02-23 | Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. | Conductive composition and conductive cross-linked product, capacitor and production method thereof, and antistatic coating material, antistatic coating, antistatic film, optical filter, and optical information recording medium |
US7842196B2 (en) | 2004-10-08 | 2010-11-30 | Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. | Conductive composition and production method thereof, antistatic coating material, antistatic coating, antistatic film, optical filter, and optical information recording medium, and capacitors and production method thereof |
JP5283818B2 (ja) * | 2004-10-08 | 2013-09-04 | 信越ポリマー株式会社 | 導電性組成物及びその製造方法 |
JP5124081B2 (ja) * | 2005-03-09 | 2013-01-23 | 住友化学株式会社 | フッ素化シクロペンタン環と芳香環との縮合化合物およびその製造方法 |
JP4823542B2 (ja) * | 2005-03-22 | 2011-11-24 | 信越ポリマー株式会社 | 導電性高分子溶液及び導電性塗膜 |
US20080007518A1 (en) * | 2006-06-23 | 2008-01-10 | Debasis Majumdar | Conductive polymer coating with improved aging stability |
JP4896637B2 (ja) * | 2006-09-05 | 2012-03-14 | 帝人デュポンフィルム株式会社 | 導電性フィルム |
CN101616976B (zh) * | 2006-11-06 | 2013-11-06 | 爱克发-格法特公司 | 对阳光照射具有改进的稳定性的层构造 |
EP3037497A1 (en) * | 2014-12-23 | 2016-06-29 | Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG | Process for producing functionalized polythiophenes |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0678492B2 (ja) * | 1986-11-27 | 1994-10-05 | 昭和電工株式会社 | 高電導性重合体組成物及びその製造方法 |
ATE228545T1 (de) * | 1994-05-06 | 2002-12-15 | Bayer Ag | Leitfähige beschichtungen |
US6333145B1 (en) * | 1998-11-17 | 2001-12-25 | Agfa-Gevaert | Method for preparing a conductive polythiophene layer at low temperature |
DE69919661T2 (de) * | 1998-11-17 | 2005-09-22 | Agfa-Gevaert | Verfahren zur Herstellung einer Schicht aus leitfähigen Polythiophen bei niedriger Temperatur |
EP1079397A1 (en) * | 1999-08-23 | 2001-02-28 | Agfa-Gevaert N.V. | Method of making an electroconductive pattern on a support |
DE10004725A1 (de) * | 2000-02-03 | 2001-08-09 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von wasserlöslichen pi-konjugierten Polymeren |
-
2003
- 2003-07-29 WO PCT/EP2003/050347 patent/WO2004018560A1/en active IP Right Grant
- 2003-07-29 JP JP2004530268A patent/JP4825420B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2003-07-29 EP EP03792428A patent/EP1551921B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-07-29 DE DE60304363T patent/DE60304363T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-07-29 AU AU2003262551A patent/AU2003262551A1/en not_active Abandoned
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005226072A (ja) * | 2004-02-10 | 2005-08-25 | Hc Starck Gmbh | 有機発光ダイオードを向上させるためのポリチオフェン組成物 |
US8334331B2 (en) | 2004-02-10 | 2012-12-18 | Heraeus Precious Metals Gmbh & Co. Kg | Polythiophene compositions for improving organic light-emitting diode |
JP2009209216A (ja) * | 2008-02-29 | 2009-09-17 | Fujifilm Corp | 導電性ポリマー組成物及び電極材料 |
US8133581B2 (en) | 2008-05-20 | 2012-03-13 | Fujifilm Corporation | Electroconductive polymer composition, electroconductive polymer material and method for producing electroconductive polymer material |
JP5617640B2 (ja) * | 2008-11-19 | 2014-11-05 | 日産化学工業株式会社 | 正孔または電子輸送性薄膜形成用ワニス |
JP2011208016A (ja) * | 2009-03-31 | 2011-10-20 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | 導電性高分子/ドーパント分散体、導電性組成物および導電性皮膜 |
JPWO2011111683A1 (ja) * | 2010-03-10 | 2013-06-27 | 株式会社クラレ | エレクトロクロミック材料とその製造方法 |
JP2011184635A (ja) * | 2010-03-10 | 2011-09-22 | Kuraray Co Ltd | π電子系共役ポリマー及びその製造方法 |
JP5638060B2 (ja) * | 2010-03-10 | 2014-12-10 | 株式会社クラレ | エレクトロクロミック材料とその製造方法 |
JP2017105982A (ja) * | 2015-12-04 | 2017-06-15 | 東ソー株式会社 | 帯電防止薄膜、及び帯電防止用水溶液 |
JP2019019111A (ja) * | 2017-07-21 | 2019-02-07 | 東ソー株式会社 | チオフェンスルホン酸塩 |
JP2020015967A (ja) * | 2018-07-27 | 2020-01-30 | 三菱マテリアル株式会社 | 剥離液 |
JP7035883B2 (ja) | 2018-07-27 | 2022-03-15 | 三菱マテリアル株式会社 | 剥離液 |
JP2020100744A (ja) * | 2018-12-21 | 2020-07-02 | 信越ポリマー株式会社 | キャパシタ及びその製造方法、並びに導電性高分子分散液 |
JP7146620B2 (ja) | 2018-12-21 | 2022-10-04 | 信越ポリマー株式会社 | キャパシタ及びその製造方法、並びに導電性高分子分散液 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2004018560A1 (en) | 2004-03-04 |
JP4825420B2 (ja) | 2011-11-30 |
EP1551921B1 (en) | 2006-03-29 |
EP1551921A1 (en) | 2005-07-13 |
DE60304363D1 (de) | 2006-05-18 |
DE60304363T2 (de) | 2006-11-30 |
AU2003262551A1 (en) | 2004-03-11 |
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Legal Events
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